JP6848746B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- 窒化物半導体層と、
前記窒化物半導体層の一方の主面上に設けられている絶縁ゲート部と、
前記窒化物半導体層の前記主面上に設けられているp型ゲート部と、を備えており、
前記窒化物半導体層は、
n型のドリフト領域と、
前記ドリフト領域上に設けられているn型の電流狭窄領域と、
前記ドリフト領域上に設けられており、前記電流狭窄領域を間に置いて配置されているp型のp型埋設領域と、
前記電流狭窄領域及び前記p型埋設領域上に設けられており、ヘテロ接合を有するヘテロ接合領域と、
前記p型埋設領域上に設けられており、前記ヘテロ接合領域によって前記電流狭窄領域から隔てられているn型のソース領域と、を有しており、
前記絶縁ゲート部は、前記ヘテロ接合領域上に設けられており、前記p型ゲート部よりも前記ソース領域側に配置されており、
前記p型ゲート部は、前記ヘテロ接合領域に接するp型のp型ゲート領域を有しており、
前記p型ゲート領域は、前記窒化物半導体層の前記主面に直交する方向から観測したときに、少なくとも前記p型埋設領域と重複する位置に配置されている部分を有する、半導体装置。 - 前記p型ゲート部の前記p型ゲート領域は、前記窒化物半導体層の前記主面に直交する方向から観測したときに、前記電流狭窄領域に重複する位置から前記p型埋設領域と重複する位置まで延在して設けられている、請求項1に記載の半導体装置。
- オン状態のときに、前記絶縁ゲート部に第1駆動電圧を印加するとともに前記p型ゲート部に第2駆動電圧を印加するように構成されている駆動部をさらに備えており、
前記第1駆動電圧が前記第2駆動電圧よりも大きい、請求項1又は2に記載の半導体装置。
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