JP6817040B2 - 表示装置及び電子機器 - Google Patents

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Description

本発明の一態様は、表示装置、電子機器、及びそれらの作製方法に関する。
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、電子機器、照明装置、入力装置、入出力装置、それらの駆動方法、またはそれらの製造方法を一例として挙げることができる。
近年、表示装置の大型化が求められている。大型の表示装置の用途としては、例えば、家庭用のテレビジョン装置（テレビまたはテレビジョン受信機ともいう）、デジタルサイネージ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｇｎａｇｅ：電子看板）、ＰＩＤ（Ｐｕｂｌｉｃ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）等が挙げられる。表示装置の表示領域が広いほど、一度に提供できる情報量を増やすことができる。また、表示領域が広いほど、人の目につきやすく、例えば、広告の宣伝効果を高めることが期待される。
エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ、以下ＥＬと記す）現象を利用した発光素子（ＥＬ素子とも記す）は、薄型軽量化が容易である、入力信号に対し高速に応答可能である、直流低電圧電源を用いて駆動可能である等の特徴を有し、表示装置への応用が検討されている。例えば、特許文献１に、有機ＥＬ素子が適用された、可撓性を有する発光装置が開示されている。
特開２０１４−１９７５２２号公報
本発明の一態様は、表示装置の大型化を課題の一とする。本発明の一態様は、継ぎ目が視認されにくい広い表示領域を有する表示装置を提供することを課題の一とする。本発明の一態様は、表示装置の表示ムラまたは輝度ムラの抑制を課題の一とする。本発明の一態様は、表示装置の薄型化または軽量化を課題の一とする。本発明の一態様は、曲面に沿って表示することが可能な表示装置を提供することを課題の一とする。本発明の一態様は、一覧性に優れた表示装置を提供することを課題の一とする。本発明の一態様は、新規な表示装置を提供することを課題の一とする。
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。本発明の一態様は、必ずしも、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。明細書、図面、請求項の記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
本発明の一態様の表示パネルは、第１の基板、第２の基板、第１の接着層、第２の接着層、第１の絶縁層、第２の絶縁層、及び表示素子を有する。該表示パネルは、表示領域と、可視光を透過する領域と、を有する。表示領域は、可視光を透過する領域と隣接する。第１の接着層は、第１の基板と第１の絶縁層の間に位置する。第２の接着層は、第２の基板と第１の絶縁層の間に位置する。表示領域では、第２の絶縁層は、第１の絶縁層に接し、かつ、第１の絶縁層と第２の接着層の間に位置する。表示領域では、表示素子は、第２の絶縁層と第２の接着層の間に位置する。可視光を透過する領域では、第１の絶縁層は第２の接着層に接する。第１の絶縁層は、酸化物絶縁膜であることが好ましい。第２の絶縁層は、窒化物絶縁膜を有することが好ましい。第１の基板及び第２の基板は、それぞれ可撓性を有することが好ましい。第１の基板の屈折率と第１の接着層の屈折率の差は、０．２０以下であることが好ましい。同様に、第１の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、第２の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、及び、第２の基板の屈折率と第２の接着層の屈折率の差も、それぞれ０．２０以下であることが好ましい。
本発明の一態様の表示パネルは、第１の基板、第２の基板、第１の接着層、第２の接着層、第３の接着層、第１の絶縁層、第２の絶縁層、第３の絶縁層、第４の絶縁層、及び表示素子を有する。該表示パネルは、表示領域と、可視光を透過する領域と、を有する。表示領域は、可視光を透過する領域と隣接する。第１の接着層は、第１の基板と第１の絶縁層の間に位置する。第２の接着層は、第２の基板と第３の絶縁層の間に位置する。第３の接着層は、第１の絶縁層と第３の絶縁層の間に位置する。表示領域では、第２の絶縁層が第１の絶縁層に接し、第４の絶縁層が第３の絶縁層に接し、かつ、第３の接着層は、第２の絶縁層と第４の絶縁層の間に位置する。表示領域では、表示素子は、第２の絶縁層と第３の接着層の間に位置する。可視光を透過する領域では、第３の接着層が、第１の絶縁層及び第３の絶縁層に接する。第１の絶縁層及び第３の絶縁層は、それぞれ酸化物絶縁膜であることが好ましい。第２の絶縁層及び第４の絶縁層は、それぞれ窒化物絶縁膜を有することが好ましい。第１の基板及び第２の基板は、それぞれ可撓性を有することが好ましい。第１の基板の屈折率と第１の接着層の屈折率の差は、０．２０以下であることが好ましい。同様に、第１の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、第３の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、第２の基板の屈折率と第２の接着層の屈折率の差、第２の接着層の屈折率と第３の絶縁層の屈折率の差、及び、第３の接着層の屈折率と第３の絶縁層の屈折率の差も、それぞれ０．２０以下であることが好ましい。
上記各構成の表示パネルにおいて、第１の絶縁層は、表示領域及び可視光を透過する領域に設けられ、第２の絶縁層は、表示領域に設けられ、かつ、可視光を透過する領域に設けられない。トランジスタのゲート絶縁層は、表示領域に設けられ、かつ、可視光を透過する領域に設けられていないことが好ましい。トランジスタを覆う無機絶縁膜は、表示領域に設けられ、かつ、可視光を透過する領域に設けられていないことが好ましい。トランジスタを覆う有機絶縁膜は、表示領域に設けられ、かつ、可視光を透過する領域に設けられていないことが好ましい。
本発明の一態様の表示装置は、第１の表示パネル及び第２の表示パネルを有する。第１の表示パネルは、第１の表示領域と、可視光を透過する領域と、を有する。第２の表示パネルは、第２の表示領域と、可視光を遮る領域と、を有する。第１の表示領域は、可視光を透過する領域と隣接する。第２の表示領域は、表示を行う面側で、可視光を透過する領域と重なる。可視光を遮る領域は、第１の表示領域と重なる。第１の表示パネルは、第１の基板、第２の基板、第１の接着層、第２の接着層、第１の絶縁層、第２の絶縁層、及び表示素子を有する。第１の接着層は、第１の基板と第１の絶縁層の間に位置する。第２の接着層は、第２の基板と第１の絶縁層の間に位置する。第１の表示領域では、第２の絶縁層は、第１の絶縁層に接し、かつ、第１の絶縁層と第２の接着層の間に位置する。第１の表示領域では、表示素子は、第２の絶縁層と第２の接着層の間に位置する。可視光を透過する領域では、第１の絶縁層が、第２の接着層に接する。第１の絶縁層は、酸化物絶縁膜であることが好ましい。第２の絶縁層は、窒化物絶縁膜を有することが好ましい。第１の基板及び第２の基板は、それぞれ可撓性を有することが好ましい。第１の基板の屈折率と第１の接着層の屈折率の差は、０．２０以下であることが好ましい。同様に、第１の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、第２の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、及び第２の基板の屈折率と第２の接着層の屈折率の差は、それぞれ０．２０以下であることが好ましい。
本発明の一態様の表示装置は、第１の表示パネル及び第２の表示パネルを有する。第１の表示パネルは、第１の表示領域と、可視光を透過する領域と、を有する。第２の表示パネルは、第２の表示領域と、可視光を遮る領域と、を有する。第１の表示領域は、可視光を透過する領域と隣接する。第２の表示領域は、表示を行う面側で、可視光を透過する領域と重なる。可視光を遮る領域は、第１の表示領域と重なる。第１の表示パネルは、第１の基板、第２の基板、第１の接着層、第２の接着層、第３の接着層、第１の絶縁層、第２の絶縁層、第３の絶縁層、第４の絶縁層、及び表示素子を有する。第１の接着層は、第１の基板と第１の絶縁層の間に位置する。第２の接着層は、第２の基板と第３の絶縁層の間に位置する。第３の接着層は、第１の絶縁層と第３の絶縁層の間に位置する。第１の表示領域では、第２の絶縁層が第１の絶縁層に接し、第４の絶縁層が第３の絶縁層に接し、かつ、第３の接着層は、第２の絶縁層と第４の絶縁層の間に位置する。第１の表示領域では、表示素子は、第２の絶縁層と第３の接着層の間に位置する。可視光を透過する領域では、第３の接着層が、第１の絶縁層及び第３の絶縁層に接する。第１の絶縁層及び第３の絶縁層は、それぞれ酸化物絶縁膜であることが好ましい。第２の絶縁層及び第４の絶縁層は、それぞれ窒化物絶縁膜を有することが好ましい。第１の基板及び第２の基板は、それぞれ可撓性を有することが好ましい。第１の基板の屈折率と第１の接着層の屈折率の差は、０．２０以下であることが好ましい。同様に、第１の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、第３の接着層の屈折率と第１の絶縁層の屈折率の差、第２の基板の屈折率と第２の接着層の屈折率の差、第２の接着層の屈折率と第３の絶縁層の屈折率の差、及び、第３の接着層の屈折率と第３の絶縁層の屈折率の差は、それぞれ０．２０以下であることが好ましい。
上記各構成の表示装置は、さらに、円偏光板を有することが好ましい。第１の表示領域及び第２の表示領域が、表示を行う面側で、円偏光板と重なるように、円偏光板を配置する。第１の基板及び第２の基板は、それぞれ光学等方性が高い基板であることが好ましい。
上記各構成の表示装置において、第１の表示パネル及び第２の表示パネルは、それぞれ可撓性を有することが好ましい。
なお、上記各構成の表示装置は、第１の表示パネル及び第２の表示パネルを、それぞれ、フレキシブルプリント回路基板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ ｐｒｉｎｔｅｄ ｃｉｒｃｕｉｔ、以下、ＦＰＣと記す）もしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ Ｃａｒｒｉｅｒ Ｐａｃｋａｇｅ）等のコネクタが取り付けられたモジュール、またはＣＯＧ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｇｌａｓｓ）方式もしくはＣＯＦ（Ｃｈｉｐ Ｏｎ Ｆｉｌｍ）方式等により集積回路（ＩＣ）が実装されたモジュール等のモジュールの一部として、有していてもよい。
本発明の一態様は、上記のいずれかの表示装置と、アンテナ、バッテリ、筐体、カメラ、スピーカ、マイク、または操作ボタンの少なくともいずれか一と、を有する電子機器である。
本発明の一態様の剥離方法は、基板上に剥離層を形成する第１の工程と、剥離層上に第１の絶縁層を形成する第２の工程と、第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成する第３の工程と、剥離層、第１の絶縁層、及び第２の絶縁層を加熱する第４の工程と、第２の絶縁層の一部を除去する第５の工程と、基板と第１の絶縁層を分離する第６の工程と、を有する。第１の工程と第２の工程の間に、剥離層の表面にプラズマ処理を行うことが好ましい。プラズマ処理は、亜酸化窒素を含む雰囲気下で行うことが好ましく、亜酸化窒素及びシランを含む雰囲気下で行うことがより好ましい。
本発明の一態様の剥離方法は、第１の作製基板上に第１の剥離層を形成する第１の工程と、第１の剥離層上に第１の絶縁層を形成する第２の工程と、第１の絶縁層上に第２の絶縁層を形成する第３の工程と、第１の剥離層、第１の絶縁層、及び第２の絶縁層を加熱する第４の工程と、第２の絶縁層の一部を除去する第５の工程と、第２の作製基板上に第２の剥離層を形成する第６の工程と、第２の剥離層上に第３の絶縁層を形成する第７の工程と、第３の絶縁層上に第４の絶縁層を形成する第８の工程と、第２の剥離層、第３の絶縁層、及び第４の絶縁層を加熱する第９の工程と、第４の絶縁層の一部を除去する第１０の工程と、接着剤を用いて、第１の作製基板と第２の作製基板を貼り合わせる第１１の工程と、第１の作製基板と第１の絶縁層を分離する第１２の工程と、接着剤を用いて、第１の絶縁層と第１の基板を貼り合わせる第１３の工程と、第２の作製基板と第３の絶縁層を分離する第１４の工程と、接着剤を用いて、第３の絶縁層と第２の基板を貼り合わせる第１５の工程と、を有する。第１の工程と第２の工程の間に、第１の剥離層の表面にプラズマ処理を行うことが好ましい。第６の工程と第７の工程の間に、第２の剥離層の表面にプラズマ処理を行うことが好ましい。プラズマ処理は、亜酸化窒素を含む雰囲気下で行うことが好ましく、亜酸化窒素及びシランを含む雰囲気下で行うことがより好ましい。
本発明の一態様により、表示装置の大型化が可能となる。本発明の一態様により、継ぎ目が視認されにくい広い表示領域を有する表示装置を提供することができる。本発明の一態様により、表示装置の表示ムラまたは輝度ムラの抑制が可能となる。本発明の一態様により、表示装置の薄型化または軽量化が可能となる。本発明の一態様により、曲面に沿って表示することが可能な表示装置を提供することができる。本発明の一態様により、一覧性に優れた表示装置を提供することができる。本発明の一態様により、新規な表示装置を提供することができる。
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。明細書、図面、請求項の記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
表示パネルの一例を示す上面図及び断面図。 表示装置の一例を示す上面図及び断面図。 表示パネルの作製方法の一例を示す断面図。 表示パネルの作製方法の一例を示す断面図。 表示パネルの作製方法の一例を示す断面図。 表示パネルの作製方法の一例を示す断面図。 表示装置の一例を示す上面図及び断面図。 表示装置の一例及び光学部材の一例を示す断面図。 表示パネルの一例を示す上面図及び表示装置の一例を示す斜視図。 表示装置の一例を示す上面図。 表示装置の一例を示す断面図。 表示装置の一例を示す断面図。 表示パネルの一例を示す上面図及び断面図。 表示パネルの一例を示す上面図及び断面図。 表示装置の一例を示す上面図。 表示パネルの一例を示す上面図及び断面図。 表示装置の一例を示す断面図。 表示パネルの一例を示す断面図。 表示パネルの一例を示す断面図。 タッチパネルの一例を示す斜視図。 タッチパネルの一例を示す断面図。 タッチパネルの一例を示す断面図、並びに、トランジスタの上面図及び断面図。 タッチパネルの一例を示す断面図。 タッチパネルの一例を示す斜視図。 タッチパネルの一例を示す断面図。 タッチパネルの一例を示す断面図。 表示パネルの一例を示す断面図。 表示パネルの一例を示す断面図。 電子機器及び照明装置の一例を示す図。 電子機器の一例を示す図。 実施例１の表示パネル及び表示装置を説明する図。 実施例１の表示装置を説明する断面図。 実施例１の表示装置の重なり部の写真。 実施例１の表示装置の可視光を透過する領域の透過率の測定結果。 実施例１の表示パネル及び表示装置の表示写真、並びに、表示装置の側面図。 可視光を透過する領域の反射率の計算結果。 可視光を透過する領域の透過率の測定結果。 重なり部と重なり部でない部分の反射率の測定結果。
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
なお、以下に説明する発明の構成において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。また、同様の機能を指す場合には、ハッチパターンを同じくし、特に符号を付さない場合がある。
また、図面において示す各構成の、位置、大きさ、範囲などは、理解の簡単のため、実際の位置、大きさ、範囲などを表していない場合がある。このため、開示する発明は、必ずしも、図面に開示された位置、大きさ、範囲などに限定されない。
なお、「膜」という言葉と、「層」という言葉とは、場合によっては、または、状況に応じて、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜」という用語に変更することが可能である。または、例えば、「絶縁膜」という用語を、「絶縁層」という用語に変更することが可能である。
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置について図１〜図１５を用いて説明する。
複数の表示パネルを一以上の方向（例えば、一列またはマトリクス状等）に並べることで、広い表示領域を有する表示装置を作製することができる。
複数の表示パネルを用いて大型の表示装置を作製する場合、１つの表示パネルの大きさは大型である必要がない。したがって、該表示パネルを作製するための製造装置を大型化しなくてもよく、省スペース化が可能である。また、中小型の表示パネルの製造装置を用いることができ、表示装置の大型化のために新規な製造装置を利用しなくてもよいため、製造コストを抑えることができる。また、表示パネルの大型化に伴う歩留まりの低下を抑制できる。
表示パネルの大きさが同じである場合、１つの表示パネルを有する表示装置に比べ、複数の表示パネルを有する表示装置の方が、表示領域が広く、一度に表示できる情報量が多い等の効果を有する。
しかし、各表示パネルは表示領域を囲むように非表示領域を有する。したがって、例えば、複数の表示パネルの出力画像を合わせて一つの画像を表示する場合、当該一つの画像は、表示装置の使用者にとって分離したように視認されてしまう。
各表示パネルの非表示領域を狭くする（狭額縁な表示パネルを用いる）ことで、各表示パネルの表示が分離して見えることを抑制できるが、表示パネルの非表示領域を完全になくすことは困難である。
また、表示パネルの非表示領域の面積が狭いと、表示パネルの端部と表示パネル内の素子との距離が短くなり、表示パネルの外部から侵入する不純物によって、素子が劣化しやすくなる場合がある。
そこで、本発明の一態様では、複数の表示パネルの一部が重なるように配置する。重ねた２つの表示パネルのうち、少なくとも表示面側（上側）に位置する表示パネルは、可視光を透過する領域を表示領域と隣接して有する。本発明の一態様では、下側に配置される表示パネルの表示領域と、上側に配置される表示パネルの可視光を透過する領域とが重なる。したがって、重ねた２つの表示パネルの表示領域の間の非表示領域を縮小すること、さらには無くすことができる。これにより、使用者から表示パネルの継ぎ目が認識されにくい、大型の表示装置を実現することができる。
上側に位置する表示パネルの非表示領域の少なくとも一部は、可視光を透過する領域であり、下側に位置する表示パネルの表示領域と重ねることができる。また、下側に位置する表示パネルの非表示領域の少なくとも一部は、上側に位置する表示パネルの表示領域、または可視光を遮る領域と重ねることができる。これらの部分については、表示装置の狭額縁化（表示領域以外の面積の縮小化）に影響しないため、面積の縮小化をしなくてもよい。
表示パネルの非表示領域が広いと、表示パネルの端部と表示パネル内の素子との距離が長くなり、表示パネルの外部から侵入する不純物によって、素子が劣化することを抑制できる。例えば、表示素子として有機ＥＬ素子を用いる場合は、表示パネルの端部と有機ＥＬ素子との距離を長くするほど、表示パネルの外部から水分または酸素等の不純物が有機ＥＬ素子に侵入しにくくなる（または到達しにくくなる）。本発明の一態様の表示装置では、表示パネルの非表示領域の面積を十分に確保できるため、有機ＥＬ素子等を用いた表示パネルを適用しても、信頼性が高い大型の表示装置を実現できる。
しかし、可視光を透過する領域は、可視光（例えば４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の波長の光）の一部を、反射または吸収する。可視光を透過する領域が外光を反射することで、表示装置の使用者は、２つ以上の表示パネルが重なっている部分（以下、重なり部ともいう）を視認しやすくなる。特に、下側に配置される表示パネルが表示を行っていないとき、及び黒表示を行っているときに、使用者は、重なり部を視認しやすくなる。また、下側に配置される表示パネルの表示は、可視光を透過する領域を介して視認される部分と、該領域を介さずに視認される部分とで、輝度（明るさ）に差が生じてしまう。
そこで、本発明の一態様では、可視光を透過する領域に含まれる、屈折率の差が大きい界面の数を減らす。つまり、互いに接する２つの層の屈折率の差を小さくする。これにより、可視光を透過する領域における外光の反射を抑制し、重なり部を、表示装置の使用者から視認されにくくすることができる。したがって、継ぎ目が視認されにくい広い表示領域を有する表示装置を実現できる。
また、可視光を透過する領域に含まれる、屈折率の差が大きい界面の数を減らすことで、可視光を透過する領域の可視光の透過率を高めることができる。これにより、下側に配置される表示パネルの表示における、可視光を透過する領域を介して視認される部分と、該領域を介さずに視認される部分との輝度（明るさ）の差を、小さくすることができる。したがって、表示装置の表示ムラもしくは輝度ムラを抑制することができる。
＜表示パネルの構成例１＞
図１（Ａ）に、表示パネル１００の上面図を示す。
表示パネル１００は、表示領域１０１及び領域１０２を有する。ここで、領域１０２は、表示パネル１００の上面図における、表示領域１０１以外の部分を指す。領域１０２は、非表示領域と呼ぶこともできる。
領域１０２は、可視光を透過する領域１１０及び可視光を遮る領域１２０を有する。可視光を透過する領域１１０及び可視光を遮る領域１２０は、それぞれ、表示領域１０１と隣接する。
可視光を透過する領域１１０及び可視光を遮る領域１２０は、それぞれ、表示領域１０１の外周の一部に沿って設けることができる。図１（Ａ）に示す表示パネル１００では、可視光を透過する領域１１０が、表示領域１０１の１辺に沿って配置されている。可視光を透過する領域１１０は、表示領域１０１の２辺以上に沿って配置されていてもよい。可視光を透過する領域１１０は、図１（Ａ）に示すように、表示領域１０１と接して、表示パネルの端部にまで設けられていることが好ましい。
図１（Ａ）に示す表示パネル１００では、可視光を遮る領域１２０が、表示領域１０１の２辺に沿って配置されている。可視光を遮る領域１２０は、表示パネルの端部近傍にまで設けられていてもよい。
なお、図１（Ａ）に示す領域１０２のうち、可視光を透過する領域１１０及び可視光を遮る領域１２０以外の領域における、可視光の透過性は問わない。
表示領域１０１は、マトリクス状に配置された複数の画素を含み、画像を表示することができる。各画素には一つ以上の表示素子が設けられている。表示素子としては、例えば、ＥＬ素子などの発光素子、電気泳動素子、ＭＥＭＳ（マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム）を用いた表示素子、または液晶素子等を用いることができる。
可視光を透過する領域１１０には、可視光を透過する材料を用いる。例えば、表示パネル１００を構成する基板、接着層等を含んでいてもよい。可視光を透過する領域１１０の可視光の透過率は高いほど、下に重なる表示パネルの光取り出し効率を高められるため、好ましい。可視光を透過する領域１１０において、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲の光の透過率の平均値は７０％以上であると好ましく、８０％以上であるとより好ましく、９０％以上であるとさらに好ましい。
可視光を遮る領域１２０には、例えば、表示領域１０１に含まれる画素（具体的には、トランジスタまたは表示素子等）に電気的に接続する配線が設けられている。また、このような配線に加え、画素を駆動するための駆動回路（走査線駆動回路または信号線駆動回路等）を設けることができる。
表示パネルは、走査線駆動回路及び信号線駆動回路のうち少なくとも一方を有することができる。または、表示パネルは、走査線駆動回路及び信号線駆動回路の双方を有さない構成とすることができる。例えば、走査線駆動回路及び信号線駆動回路のうち少なくとも一方として機能するＩＣを、表示パネルに電気的に接続させることができる。ＩＣは、ＣＯＧ方式またはＣＯＦ方式により表示パネルに実装することができる。または、ＩＣが実装されたＦＰＣ、ＴＡＢ（Ｔａｐｅ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｂｏｎｄｉｎｇ）、またはＴＣＰ等を表示パネルに接続させることができる。
可視光を遮る領域１２０には、ＦＰＣ等と電気的に接続する端子（接続端子ともいう）、及び当該端子と電気的に接続する配線等を含む。なお、端子及び配線等が、可視光を透過する場合には、これら端子及び配線等を、可視光を透過する領域１１０にまで延在するように設けることができる。
ここで、図１（Ａ）に示す可視光を透過する領域１１０の幅Ｗは、０．５ｍｍ以上１５０ｍｍ以下であると好ましく、１ｍｍ以上１００ｍｍ以下がより好ましく、２ｍｍ以上５０ｍｍ以下がさらに好ましい。可視光を透過する領域１１０の幅Ｗが表示パネルによって異なる場合、または１つの表示パネルの中でも場所によって異なる場合には、最も短い長さが上記の範囲であると好ましい。可視光を透過する領域１１０は封止領域としての機能を有するため、可視光を透過する領域１１０の幅Ｗが大きいほど表示パネル１００の端部と表示領域１０１との距離を長くすることができ、外部から水などの不純物が表示領域１０１にまで侵入することを抑制することが可能となる。なお、可視光を透過する領域１１０の幅Ｗは、表示領域１０１から表示パネル１００の端部までの最短距離に相当する場合がある。
例えば、表示素子として有機ＥＬ素子を用いた場合には可視光を透過する領域１１０の幅Ｗを１ｍｍ以上とすることで、有機ＥＬ素子の劣化を効果的に抑制することができ、信頼性を高めることができる。なお、可視光を透過する領域１１０以外の部分においても、表示領域１０１の端部と表示パネル１００の端部との距離が上述の範囲になるように設定することが好ましい。
図１（Ａ）における一点鎖線Ｘ１−Ｙ１間の断面図を図１（Ｂ）、（Ｃ）に示す。
図１（Ｂ）に示す表示パネル１００は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、絶縁層２０８、素子層２０９、基板２１１、接着層２２１、及び接続端子２２３を有する。
接着層２０３は、基板２０１と第１の絶縁層２０５の間に位置する。接着層２２１は、基板２１１と第１の絶縁層２０５の間に位置する。
表示領域１０１において、第２の絶縁層２０７は、第１の絶縁層２０５に接し、かつ、第１の絶縁層２０５と接着層２２１の間に位置する。
表示領域１０１は、素子層２０９を有する。素子層２０９は、表示素子を有する。表示素子は、第２の絶縁層２０７と接着層２２１の間に位置する。表示素子は、絶縁層２０８に覆われている。
可視光を透過する領域１１０において、第１の絶縁層２０５は、接着層２２１に接する。
可視光を遮る領域１２０において、接続端子２２３が、第２の絶縁層２０７上に位置する。接続端子２２３は、接着層２２１及び基板２１１と重ならない、露出した部分を有する。
図１（Ｂ）では、第２の絶縁層２０７が、表示領域１０１に設けられており、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。また、図１（Ｂ）では、表示素子を覆う絶縁層２０８が、表示領域１０１に設けられており、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。
図１（Ｃ）に示す表示パネル１００は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、素子層２０９、基板２１１、接着層２１３、第３の絶縁層２１５、第４の絶縁層２１７、機能層２１９、接着層２２１、及び接続端子２２３を有する。
接着層２０３は、基板２０１と第１の絶縁層２０５の間に位置する。接着層２１３は、基板２１１と第３の絶縁層２１５の間に位置する。接着層２２１は、第１の絶縁層２０５と第３の絶縁層２１５の間に位置する。
表示領域１０１では、第２の絶縁層２０７は、第１の絶縁層２０５に接し、第４の絶縁層２１７は、第３の絶縁層２１５に接し、かつ、接着層２２１は、第２の絶縁層２０７と第４の絶縁層２１７の間に位置する。
表示領域１０１は、素子層２０９及び機能層２１９を有する。
素子層２０９は、表示素子を有する。表示素子は、第２の絶縁層２０７と接着層２２１の間に位置する。
機能層２１９は、着色層（カラーフィルタなど）、遮光層（ブラックマトリクスなど）、及びセンサ（タッチセンサなど）のうち、少なくとも一つを有する。機能層２１９は、第４の絶縁層２１７と接着層２２１の間に位置する。
可視光を透過する領域１１０では、接着層２２１は、第１の絶縁層２０５及び第３の絶縁層２１５に接する。
可視光を遮る領域１２０では、接続端子２２３が、第２の絶縁層２０７上に位置する。接続端子２２３は、接着層２２１、第４の絶縁層２１７、第３の絶縁層２１５、接着層２１３、及び基板２１１と重ならない、露出した部分を有する。
図１（Ｃ）では、第２の絶縁層２０７及び第４の絶縁層２１７が、表示領域１０１に設けられており、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。
図１（Ｂ）、（Ｃ）に示す表示パネルでは、可視光を透過する領域１１０が有する絶縁層の数が、表示領域１０１が有する絶縁層の数に比べて、少ない。このように、可視光を透過する領域１１０に含まれる絶縁層の層数を減らすことで、可視光を透過する領域１１０における屈折率の差が大きい界面の数を減らすことができる。
第１の絶縁層２０５及び第３の絶縁層２１５は、それぞれ、酸化物絶縁膜であることが好ましい。後述する表示パネルの作製方法では、剥離層と酸化物絶縁膜の界面で剥離を行う。剥離工程の歩留まりを高めるため、酸化物絶縁膜は、表示パネルの一面全体に形成されていることが好ましい。例えば、酸化物絶縁膜として、酸化シリコン膜を用いることが好ましい。酸化シリコン膜は、屈折率が約１．５であり、表示パネルに用いる基板及び接着層との屈折率の差が小さい。よって、第１の絶縁層２０５または第３の絶縁層２１５として、可視光を透過する領域１１０に設けても、第１の絶縁層２０５または第３の絶縁層２１５と、他の層と、の界面での光の反射を少なくすることができる。
図１（Ｂ）では、第２の絶縁層２０７と絶縁層２０８の間に表示素子が位置する。図１（Ｃ）では、第２の絶縁層２０７と第４の絶縁層２１７の間に表示素子が位置する。第２の絶縁層２０７、絶縁層２０８、及び第４の絶縁層２１７は、それぞれ、窒化物絶縁膜を有することが好ましい。窒化物絶縁膜は、防湿性の高い絶縁膜である。一対の防湿性の高い絶縁膜の間に、表示素子を配置することで、表示素子に水分等の不純物が侵入することを抑制できる。これにより、信頼性の高い表示パネルを実現することができる。例えば、窒化物絶縁膜として、窒化シリコン膜を用いることが好ましい。窒化シリコン膜は、屈折率が約２．０であり、表示パネルに用いる基板及び接着層との屈折率の差が大きくなりやすい。よって、第２の絶縁層２０７と、絶縁層２０８または第４の絶縁層２１７と、を、表示領域１０１に設け、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けない構成とすることが好ましい。これにより、表示素子への不純物の侵入を抑制でき、かつ、可視光を透過する領域１１０における光の反射を抑制することができる。
可視光を透過する領域１１０を構成する各層の屈折率の差が小さいほど、可視光を透過する領域１１０における光の反射を抑制することができる。
可視光を透過する領域１１０において、互いに接する２層の屈折率の差は、０．２０以下が好ましく、０．１５以下がより好ましく、０．１０以下がさらに好ましい。例えば、図１（Ｂ）における、基板２０１の屈折率と接着層２０３の屈折率の差、接着層２０３の屈折率と第１の絶縁層２０５の屈折率の差、第１の絶縁層２０５の屈折率と接着層２２１の屈折率の差、及び、接着層２２１の屈折率と基板２１１の屈折率の差、は、それぞれ、０．２０以下であることが好ましい。例えば、図１（Ｃ）における、基板２０１の屈折率と接着層２０３の屈折率の差、接着層２０３の屈折率と第１の絶縁層２０５の屈折率の差、第１の絶縁層２０５の屈折率と接着層２２１の屈折率の差、接着層２２１の屈折率と第３の絶縁層２１５の屈折率の差、第３の絶縁層２１５の屈折率と接着層２１３の屈折率の差、接着層２１３の屈折率と基板２１１の屈折率の差は、それぞれ、０．２０以下であることが好ましい。可視光を透過する領域１１０を構成する各層の屈折率の差を小さくすると、屈折率の差による光の反射を抑制することができ、好ましい。可視光を透過する領域１１０を構成する各層の屈折率の差は０．２０以下が好ましく、０．１５以下がより好ましく、０．１０以下がさらに好ましい。
可視光を透過する領域１１０は、素子層２０９及び機能層２１９が有する絶縁層を有さないことが好ましい。例えば、素子層２０９がトランジスタを有する場合、トランジスタのゲート絶縁層は、表示領域１０１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていないことが好ましい。トランジスタを覆う無機絶縁膜は、表示領域１０１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていないことが好ましい。トランジスタを覆う有機絶縁膜は、表示領域１０１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていないことが好ましい。
なお、本発明の一態様は、可視光を透過する領域１１０の少なくとも一部に、第２の絶縁層２０７、素子層２０９、及び第４の絶縁層２１７が設けられていない構成である。可視光を透過する領域１１０は、部分的に、第２の絶縁層２０７、素子層２０９、及び第４の絶縁層２１７を有していてもよい。例えば、可視光を透過する領域１１０と表示領域１０１の境界近傍に、これらの膜が設けられていてもよい。
基板２０１及び基板２１１は、それぞれ可撓性を有することが好ましい。可撓性を有する基板を用いることで、表示パネルの可撓性を高めることができる。
基板２０１及び基板２１１の厚さは、それぞれ、１μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、１μｍ以上５０μｍ以下がより好ましく、１μｍ以上２５μｍ以下がさらに好ましい。基板を薄くすることで、表示パネルを重ねた際の段差を低減することができる。
基板２０１及び基板２１１の波長４５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲の光の透過率の平均値は、それぞれ、７０％以上であると好ましく、８０％以上であるとより好ましく、９０％以上であるとさらに好ましい。基板の可視光の透過率が高いほど、可視光を透過する領域１１０の可視光の透過率を高めることができ、表示装置の光の取り出し効率を高めることができる。
基板２０１及び基板２１１のガラス転移温度は、それぞれ、１５０℃以上が好ましく、２００℃以上がより好ましく、２５０℃以上がさらに好ましい。基板の耐熱性が高いほど、高温環境下での保存、及びＦＰＣ圧着工程等による表示パネルの不良を抑制できる。
基板２０１及び基板２１１の熱膨張係数は、それぞれ、６０ｐｐｍ／℃以下が好ましく、３０ｐｐｍ／℃以下がより好ましく、１５ｐｐｍ／℃以下がさらに好ましい。基板の熱膨張係数が低いほど、表示パネルが保存される環境の温度変化の影響を受けにくい。例えば、保存環境の温度が変化しても、表示パネルにシワが発生すること、及び無機膜にクラックが発生することを抑制できる。
基板２０１及び基板２１１の湿度膨張係数は、それぞれ、１００ｐｐｍ／％ＲＨ以下が好ましく、５０ｐｐｍ／％ＲＨ以下がより好ましく、２０ｐｐｍ／％ＲＨ以下がさらに好ましい。基板の湿度膨張係数が低いほど、表示パネルが保存される環境の湿度変化の影響を受けにくい。例えば、保存環境の湿度が変化しても、表示パネルにシワが発生すること、及び無機膜にクラックが発生することを抑制できる。
＜表示装置の構成例１＞
図２（Ａ）に、表示装置１２の上面図を示す。図２（Ａ）に示す表示装置１２は、図１（Ａ）に示す表示パネル１００を一方向（横方向）に３つ有する。図２（Ａ）では、各表示パネルがＦＰＣと電気的に接続されている例を示す。
なお、本実施の形態では、各々の表示パネル同士、各々の表示パネルに含まれる構成要素同士、または各々の表示パネルに関連する構成要素同士を区別するために、符号の後にアルファベットを付記して説明することがある。特に説明のない限り、最も下側（表示面側とは反対側）に配置される表示パネルまたは構成要素に対して「ａ」を付記し、その上側に配置される一以上の表示パネル及びその構成要素に対しては、下側から順に「ｂ」、「ｃ」、とアルファベット順に付記することとする。また、特に説明のない限り、複数の表示パネルを備える構成を説明する場合であっても、各々の表示パネルまたは構成要素に共通する事項を説明する場合には、アルファベットを省略して説明する。
図２（Ａ）に示す表示装置１２は、表示パネル１００ａ、１００ｂ、１００ｃを備える。
表示パネル１００ｂは、その一部が表示パネル１００ａの上側（表示面側）に重ねて配置されている。具体的には、表示パネル１００ａの表示領域１０１ａ上に表示パネル１００ｂの可視光を透過する領域１１０ｂが重なるように配置されている。また、表示パネル１００ａの表示領域１０１ａ上に表示パネル１００ｂの可視光を遮る領域１２０ｂが重ならないように配置されている。また、表示パネル１００ａの領域１０２ａ上及び可視光を遮る領域１２０ａ上に表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂが重なるように配置されている。
同様に、表示パネル１００ｃは、その一部が表示パネル１００ｂの上側（表示面側）に重ねて配置されている。具体的には、表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂ上に表示パネル１００ｃの可視光を透過する領域１１０ｃが重なるように配置されている。また、表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂ上に表示パネル１００ｃの可視光を遮る領域１２０ｃが重ならないように配置されている。また、表示パネル１００ｂの領域１０２ｂ上及び可視光を遮る領域１２０ｂ上に表示パネル１００ｃの表示領域１０１ｃが重なるように配置されている。
表示領域１０１ａ上には可視光を透過する領域１１０ｂが重なるため、表示パネル１００ｂが表示パネル１００ａの表示面上に重なっていても、表示装置１２の使用者は、表示領域１０１ａの表示全体を視認することが可能となる。同様に、表示領域１０１ｂも可視光を透過する領域１１０ｃが重なるため、表示パネル１００ｃが表示パネル１００ｂの表示面上に重なっていても、表示装置１２の使用者は、表示領域１０１ｂの表示全体を視認することが可能となる。
また、領域１０２ａ及び可視光を遮る領域１２０ａの上側に、表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂが重なることで、表示領域１０１ａ及び表示領域１０１ｂの間に非表示領域が存在しない。同様に、領域１０２ｂ及び可視光を遮る領域１２０ｂの上側に、表示パネル１００ｃの表示領域１０１ｃが重なることで、表示領域１０１ｂ及び表示領域１０１ｃの間に非表示領域が存在しない。したがって、表示領域１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃが継ぎ目なく配置された領域を表示装置１２の表示領域１３とすることが可能となる。
図２（Ａ）における一点鎖線Ｘ２−Ｙ２間の断面図を図２（Ｂ）に示す。
図２（Ｂ）に示す表示パネル１００ａ、１００ｂは、図１（Ｃ）に示す構成と同様である。
上述の通り、本発明の一態様の表示パネルは、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制されている。そのため、可視光を透過する領域１１０ｂによる外光の反射を抑制し、表示装置１２の使用者から、可視光を透過する領域１１０ｂと表示領域１０１ａが重なっている部分（重なり部）を視認されにくくすることができる。また、表示パネル１００ａの表示における、可視光を透過する領域１１０ｂを介して視認される部分と、該領域を介さずに視認される部分との輝度（明るさ）の差を、小さくできる。
隣接する２つの表示パネル１００間の段差を軽減するため、表示パネル１００の厚さは薄い方が好ましい。例えば表示パネル１００の厚さを１ｍｍ以下、好ましくは３００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以下とすることが好ましい。また、表示パネルが薄いと、表示装置全体の薄型化または軽量化にもつながるため、好ましい。
上側に位置する表示パネルの可視光を透過する領域と、下側に位置する表示パネルの表示領域との間に空気が存在すると、表示領域から取り出される光の一部は、表示領域と大気の界面、並びに、大気と可視光を透過する領域の界面で、それぞれ反射し、表示の輝度の低下の原因となる場合がある。これにより、複数の表示パネルが重なっている領域の光取り出し効率が低下してしまう。また、上側に位置する表示パネルの可視光を透過する領域と重なる部分と、重ならない部分とで、下側に位置する表示パネルの表示領域の輝度に差が出てしまい、使用者から表示パネルの継ぎ目が認識されやすくなる場合がある。
図２（Ｂ）に示すように、表示装置１２は、表示領域１０１ａと可視光を透過する領域１１０ｂの間に透光層１０３を有する。透光層１０３は、空気よりも屈折率が高く、可視光を透過する。これにより、表示領域１０１ａと可視光を透過する領域１１０ｂの間に空気が入ることを抑制でき、屈折率の差による界面での反射を低減することができる。そして、表示装置における表示ムラまたは輝度ムラの抑制が可能となる。
なお、透光層１０３の可視光の透過率が高いほど、表示装置の光取り出し効率を高められるため、好ましい。透光層１０３において、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲の光の透過率の平均値は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
また、透光層と、透光層と接する層は、屈折率の差が小さいほど、光の反射を抑制することができるため、好ましい。例えば、透光層の屈折率は、空気よりも高ければよく、１．３以上１．８以下であると好ましい。透光層と、透光層と接する層（例えば、表示パネルを構成する基板）は、屈折率の差が０．３０以下であると好ましく、０．２０以下であるとより好ましく、０．１５以下であるとさらに好ましい。
透光層は、下側の表示パネル及び上側の表示パネルのうち少なくとも一方と、着脱自在に接することが好ましい。表示装置を構成する表示パネルをそれぞれ独立に取り外しできると、例えば、一つの表示パネルの表示に不具合が生じた場合、当該表示不良となった表示パネルのみを、新しい表示パネルに交換することができる。他の表示パネルは継続して使用することで、表示装置をより長く、低いコストで使用することができる。
なお、表示パネルが着脱自在である必要がない場合は、透光層に接着性を有する材料（接着剤等）を用いて表示パネル同士を固定してもよい。
透光層には、無機材料または有機材料のいずれも用いることができる。透光層には、液状物質、ゲル状物質、または固体状物質を用いることができる。
透光層には、例えば、水、水溶液、フッ素系不活性液体、屈折液、シリコーンオイル等の液状物質を用いることができる。
表示装置を、水平面（重力が働く方向に垂直な面）に傾けて配置する場合、または水平面と垂直になるように配置する場合等において、液状物質の粘度は、１ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１Ｐａ・ｓ以上がより好ましく、１０Ｐａ・ｓ以上がさらに好ましく、１００Ｐａ・ｓ以上が特に好ましい。なお、表示装置を水平面と平行になるように配置する場合等においては、これに限られない。
透光層は不活性であると、表示装置を構成する他の層にダメージ等を与えることを抑制でき、好ましい。
透光層に含まれる材料は不揮発性であることが好ましい。これにより、透光層に用いた材料が揮発することで界面に空気が入ってしまうことを抑制することができる。
透光層には、高分子材料を用いることができる。例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、イミド樹脂、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）樹脂、ＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）樹脂等の樹脂が挙げられる。また、二液混合型の樹脂を用いてもよい。これら樹脂のいずれか一以上を含む、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、反応硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、嫌気型接着剤などの各種硬化型接着剤または接着シート等を用いてもよい。表示パネル同士を固定したくない場合等は、接着剤は硬化させなくてもよい。
透光層は、被着体に対する自己吸着性が高い層であると好ましい。また、透光層は、被着体に対する剥離性が高い層であると好ましい。表示パネルに貼り付けた透光層を剥離した後、表示パネルと再び貼り合わせられることが好ましい。
透光層は粘着性を有さない、または粘着性が低いことが好ましい。これにより被着体の表面を傷つける、または汚すことなく、被着体への透光層の吸着、及び、被着体からの透光層の剥離を、繰り返すことができる。
透光層には、例えば、吸着性を有するフィルムまたは粘着性を有するフィルムを用いることができる。吸着層または粘着層と、基材と、の積層構造を有する吸着フィルムを用いる場合、吸着層または粘着層が、表示装置における透光層として機能し、基材が、表示パネルを構成する基板として機能してもよい。なお、表示装置が吸着フィルムの基材とは別に基板を有していてもよい。吸着フィルムは、アンカー層を、吸着層または粘着層と、基材との間に有していてもよい。アンカー層は、吸着層または粘着層と、基材との接着力を向上させる機能を有する。また、アンカー層は、基材の吸着層または粘着層の塗工面を平滑にする機能を有する。これにより、被着体と透光層の間の気泡を発生しにくくすることができる。例えば、表示装置には、ポリエステルフィルムと、吸着性を有するシリコーン樹脂層とが積層されたフィルムを好適に用いることができる。
透光層の厚さに特に限定はない。例えば、１μｍ以上５０μｍ以下としてもよい。透光層の厚さは５０μｍより厚くてもよいが、可撓性を有する表示装置を作製する場合には、表示装置の可撓性を損なわない程度の厚さとすることが好ましい。例えば、透光層の厚さは、１０μｍ以上３０μｍ以下が好ましい。また、透光層の厚さは、１μｍ未満であってもよい。
表示領域１０１ａは、透光層１０３を介して、可視光を透過する領域１１０ｂと重なる。したがって、表示領域１０１ａと可視光を透過する領域１１０ｂの間に空気が入ることを抑制でき、屈折率の差による界面での反射を低減することができる。
これにより、可視光を透過する領域１１０ｂと重なる部分と重ならない部分とで、表示領域１０１ａの輝度に差が生じることを抑制し、表示装置の使用者に表示パネルの継ぎ目が認識されにくくすることができる。また、表示装置における表示ムラまたは輝度ムラの抑制が可能となる。
可視光を遮る領域１２０ａ及びＦＰＣ１１２ａは、それぞれ、表示領域１０１ｂと重なる。したがって、非表示領域の面積を十分に確保し、かつ、継ぎ目のない表示領域の大型化を図ることができ、信頼性が高い大型の表示装置を実現できる。
＜表示パネルの作製方法例１＞
図３及び図４を用いて図１（Ｂ）に示す表示パネルの作製方法の一例を説明する。
まず、図３（Ａ）に示すように、作製基板２３１上に剥離層２３３を形成する。そして、剥離層２３３の表面にプラズマ処理を行う（図３（Ａ）の点線で示す矢印参照）。なお、本明細書中では、剥離層上に形成される層を被剥離層と記す場合がある。
作製基板２３１には、少なくとも作製工程中の処理温度に耐えうる耐熱性を有する基板を用いる。作製基板２３１としては、例えばガラス基板、石英基板、サファイア基板、半導体基板、セラミック基板、金属基板、プラスチック基板などを用いることができる。
なお、量産性を向上させるため、作製基板２３１として大型のガラス基板を用いることが好ましい。例えば、第３世代（５５０ｍｍ×６５０ｍｍ）以上第１０世代（２９５０ｍｍ×３４００ｍｍ）以下のガラス基板、またはこれよりも大型のガラス基板を用いることが好ましい。
作製基板２３１にガラス基板を用いる場合、作製基板２３１と剥離層２３３との間に、下地膜を形成すると、ガラス基板からの汚染を防止でき、好ましい。下地膜としては、例えば、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化シリコン膜、及び窒化酸化シリコン膜等の絶縁膜が挙げられる。
剥離層２３３には、無機材料を用いることができる。無機材料としては、タングステン、モリブデン、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、コバルト、ジルコニウム、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、シリコンから選択された元素を含む金属、該元素を含む合金、または該元素を含む化合物等が挙げられる。シリコンを含む層の結晶構造は、非晶質、微結晶、多結晶のいずれでもよい。剥離層２３３に、タングステン、チタン、モリブデンなどの高融点金属材料を用いると、被剥離層の形成工程の自由度が高まるため好ましい。
剥離層２３３が単層構造の場合、タングステン層、モリブデン層、またはタングステンとモリブデンの混合物を含む層を形成することが好ましい。なお、タングステンとモリブデンの混合物とは、例えば、タングステンとモリブデンの合金に相当する。
剥離層２３３は、例えばスパッタリング法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法（プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌ Ｏｒｇａｎｉｃ ＣＶＤ）法など）、ＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、塗布法（スピンコーティング法、液滴吐出法、ディスペンス法等を含む）、印刷法、蒸着法等により形成できる。
剥離層２３３の厚さは、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以上２００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下とする。
また、剥離層２３３として、タングステンを含む層とタングステンの酸化物を含む層の積層構造を形成する場合、タングステンを含む層を形成し、その上に酸化物絶縁膜を形成することで、タングステン層と絶縁膜との界面に、タングステンの酸化物を含む層が形成されることを活用してもよい。
また、タングステンを含む層の表面を、熱酸化処理、酸素プラズマ処理、亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）プラズマ処理、オゾン水等の酸化力の強い溶液での処理等を行ってタングステンの酸化物を含む層を形成してもよい。プラズマ処理または加熱処理は、酸素、窒素、亜酸化窒素単独、あるいは該ガスとその他のガスとの混合気体雰囲気下で行うことができる。
プラズマ処理または加熱処理により、剥離層２３３の表面状態を変えることで、剥離層２３３と後に形成される絶縁膜との密着性を制御することが可能である。本実施の形態では、プラズマ処理を行う場合を例に挙げて説明する。
プラズマ処理は、亜酸化窒素を含む雰囲気下で行うことが好ましく、亜酸化窒素及びシランを含む雰囲気下で行うことがより好ましい。これにより、剥離層２３３の表面に、剥離層２３３を構成する材料の酸化物層を形成することができる。特に、シランを含む雰囲気下で行うと、とても薄い厚さの酸化物層を形成することができる。酸化物層が極めて薄い場合には、断面観察像で確認が困難である。
酸化物層は、剥離層に含まれる材料の酸化物を含む層である。剥離層２３３が金属を含む場合、酸化物層は、剥離層２３３に含まれる金属の酸化物を含む層である。酸化物層は、タングステン酸化物、チタン酸化物、またはモリブデン酸化物を含むことが好ましい。
次に、図３（Ｂ）に示すように、剥離層２３３上に第１の絶縁層２０５を形成し、第１の絶縁層２０５上に第２の絶縁層２０７を形成する。
第１の絶縁層２０５及び第２の絶縁層２０７は、それぞれ、窒化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化シリコン膜、または窒化酸化シリコン膜等を用いて、単層または多層で形成することができる。
なお、本明細書中において「酸化窒化シリコン」とは、その組成として、窒素よりも酸素の含有量が多いものをいう。また、本明細書中において、「窒化酸化シリコン」とは、その組成として、酸素よりも窒素の含有量が多いものをいう。
第１の絶縁層２０５は、酸素及びシリコンを含むことが好ましい。第１の絶縁層２０５を酸化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜の単層構造とすることが好ましい。
第１の絶縁層２０５は、さらに水素を含むことが好ましい。第１の絶縁層２０５は、後の加熱工程において、水素を放出する機能を有する。加熱により、第１の絶縁層２０５から水素が放出されることで、酸化物層に水素が供給される。また、第１の絶縁層２０５は、後の加熱工程において、水素及び窒素を放出する機能を有していてもよい。加熱により、第１の絶縁層２０５から窒素が放出されることで、酸化物層に窒素が供給される。
第１の絶縁層２０５は、二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ：Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）により検出される水素濃度が１．０×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、好ましくは５．０×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５．０×１０２１ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である領域を含むことが好ましい。
第１の絶縁層２０５は、ＳＩＭＳにより検出される窒素濃度が５．０×１０２０ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上１．０×１０２３ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下、好ましくは１．０×１０２１ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上５．０×１０２２ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である領域を含むことが好ましい。
第１の絶縁層２０５として、酸化シリコン膜または酸化窒化シリコン膜を、シランガス及び亜酸化窒素ガスを含む成膜ガスを用いたプラズマＣＶＤ法により成膜することで、多量の水素及び窒素を膜中に含有させることができるため好ましい。また、成膜ガス中のシランガスの割合を大きくするほど、後の加熱工程において水素の放出量が多くなるため好ましい。
第２の絶縁層２０７は、窒素及びシリコンを含むことが好ましい。第２の絶縁層２０７を窒化シリコン膜または窒化酸化シリコン膜の単層構造、または窒化シリコン膜または窒化酸化シリコン膜を含む積層構造とすることが好ましい。第２の絶縁層２０７が積層構造の場合、第２の絶縁層２０７は、さらに酸化シリコン膜及び酸化窒化シリコン膜の少なくとも一方を有することが好ましい。
第２の絶縁層２０７は、後の加熱工程において、第１の絶縁層２０５から放出された水素をブロックする機能を有する。第２の絶縁層２０７は、水素及び窒素をブロックすることができる層であってもよい。第２の絶縁層２０７により、第１の絶縁層２０５から素子層に水素（及び窒素）が供給されることを抑制することができるとともに、酸化物層に水素（及び窒素）を効率よく供給することができる。なお、第１の絶縁層２０５と第２の絶縁層２０７の間に他の層を有していてもよい。
第２の絶縁層２０７に含まれる窒化シリコン膜を、シランガス、窒素ガス及びアンモニアガスを含む成膜ガスを用いたプラズマＣＶＤ法により成膜することが好ましい。
第１の絶縁層２０５及び第２の絶縁層２０７は、それぞれ、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法、塗布法、印刷法等を用いて形成することが可能であり、例えば、プラズマＣＶＤ法によって成膜温度を２５０℃以上４００℃以下として形成することで、緻密で非常に防湿性の高い膜とすることができる。なお、第１の絶縁層２０５及び第２の絶縁層２０７の厚さは、それぞれ１０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下、さらには２００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下が好ましい。
次に、剥離層２３３、第１の絶縁層２０５、及び第２の絶縁層２０７を加熱する。なお、加熱処理は、素子層２０９の少なくとも一部を形成した後に行ってもよい。例えば、トランジスタを形成した後、表示素子を形成する前に、加熱処理を行ってもよい。素子層２０９の作製工程に加熱工程がある場合、該加熱工程が、該加熱処理を兼ねていてもよい。
加熱処理を行うことにより、第１の絶縁層２０５から水素（及び窒素）が放出され、酸化物層に供給される。このとき、第２の絶縁層２０７が放出された水素（及び窒素）をブロックするため、酸化物層に水素（及び窒素）を効率よく供給することができる。
酸化物層内に供給された水素により、酸化物層内の酸化物が還元され、酸化物層中に酸素の組成の異なる複数の酸化物が混在した状態となる。例えば、剥離層にタングステンを含む場合には、プラズマ処理により形成されたＷＯ３が還元され、ＷＯ３よりも酸素の組成の少ないＷＯｘ（２＜ｘ＜３）やＷＯ２が生成され、これらが混在した状態となる。このような混合金属酸化物は酸素の組成に応じて異なる結晶構造を示すため、酸化物層内の機械的強度が脆弱化する。その結果、酸化物層の内部で崩壊しやすい状態が実現され、後の剥離工程における剥離性を向上させることができる。
さらに、酸化物層に供給された窒素により、剥離層に含まれる材料と窒素を含む化合物も生成される。このような化合物の存在により、酸化物層の機械的強度をより脆弱化させることができ、剥離性を高めることができる。剥離層に金属を含む場合、酸化物層に金属と窒素を含む化合物（金属窒化物）が生成される。例えば、剥離層にタングステンを含む場合には、タングステン窒化物が酸化物層に生成される。
酸化物層内に供給する水素が多いほど、ＷＯ３が還元されやすく、酸化物層中に酸素の組成の異なる複数の酸化物が混在した状態となりやすいため、剥離に要する力を少なくすることができる。酸化物層内に供給する窒素が多いほど、酸化物層の機械的強度を脆弱化させることができ、剥離に要する力を少なくすることができる。第１の絶縁層２０５が厚いほど、水素（及び窒素）の放出量を多くすることができるため好ましい。一方、第１の絶縁層２０５が薄いほど、生産性が高くなり好ましい。
加熱処理は、第１の絶縁層２０５から水素（及び窒素）が脱離する温度以上、作製基板２３１の軟化点以下で行えばよい。また、酸化物層内の金属酸化物の水素による還元反応が生じる温度以上で加熱を行うことが好ましい。加熱処理の温度が高いほど、第１の絶縁層２０５からの水素（及び窒素）の脱離量が高まるため、その後の剥離性を向上させることができる。なお、加熱時間、加熱温度によっては、剥離性が高くなりすぎ、意図しないタイミングで剥離が生じる場合がある。したがって、剥離層２３３にタングステンを用いる場合には、３００℃以上７００℃未満、好ましくは４００℃以上６５０℃未満、より好ましくは４００℃以上５００℃以下の温度で加熱する。
加熱処理を行う雰囲気は特に限定されず、大気雰囲気下で行ってもよいが、窒素や希ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
次に、図３（Ｃ）に示すように、可視光を透過する領域１１０における第２の絶縁層２０７を除去する。第２の絶縁層２０７の除去には、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等を用いることができる。なお、素子層２０９及び絶縁層２０８の作製工程等に含まれるエッチング工程のいずれかが、第２の絶縁層２０７の除去工程を兼ねていてもよい。
本発明の一態様では、加熱処理を行うまでは、剥離層２３３の表面全体に第２の絶縁層２０７を設けておく。そして、加熱処理後に、可視光を透過する領域１１０における第２の絶縁層２０７を除去する。これにより、可視光を透過する領域１１０の剥離性が、他の部分よりも低くなることを抑制できる。したがって、表示パネル全体の剥離性を均一にすることができる。可視光を透過する領域１１０の構成が、表示パネルの作製工程の歩留まりに与える影響を抑制することができる。
次に、図３（Ｄ）に示すように、第２の絶縁層２０７上に、素子層２０９、絶縁層２０８、及び接続端子２２３を形成する。絶縁層２０８は、素子層２０９に含まれる表示素子を覆うように形成する。素子層２０９に含まれる絶縁層及び絶縁層２０８は、可視光を透過する領域１１０に含まれないことが好ましい。
続いて、作製基板２３１と基板２１１とを接着層２２１により貼り合わせる（図４（Ａ））。
基板２１１としては、作製基板２３１に用いることができる各種基板を適用できる。また、可撓性を有する基板を用いてもよい。また、基板２１１として、トランジスタなどの半導体素子、有機ＥＬ素子などの発光素子、液晶素子、検知素子などの機能素子やカラーフィルタ等があらかじめ形成された基板を用いてもよい。
接着層２２１としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、反応硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、嫌気型接着剤などの各種硬化型接着剤を用いることができる。また、接着層２２１として、水溶性樹脂、有機溶媒に可溶な樹脂、紫外線などの照射により可塑化させることが可能である樹脂等、必要時に基板２１１と第１の絶縁層２０５とを分離することが可能な接着剤を用いてもよい。
そして、剥離層２３３と第１の絶縁層２０５を分離する（図４（Ｂ））。
剥離の方法としては、例えば作製基板２３１または基板２１１を吸着ステージに固定し、剥離層２３３と第１の絶縁層２０５の間に剥離の起点を形成する。例えば、これらの間に刃物などの鋭利な形状の器具を差し込むことで剥離の起点を形成してもよい。また、レーザ光を照射し剥離層２３３の一部を溶解させることで剥離の起点を形成してもよい。また、液体（例えばアルコールや水、二酸化炭素を含む水など）を例えば剥離層２３３や第１の絶縁層２０５の端部に滴下し、毛細管現象を利用して該液体を剥離層２３３と第１の絶縁層２０５の境界に浸透させることにより剥離の起点を形成してもよい。
次いで、剥離の起点が形成された部分において、密着面に対して概略垂直方向に、緩やかに物理的な力を加えること（人間の手や治具で引き剥がす処理や、ローラーを回転させながら分離する処理等）により、被剥離層を破損することなく剥離することができる。例えば、作製基板２３１または基板２１１にテープ等を貼り付け、当該テープを上記方向に引っ張ることで剥離を行ってもよいし、鉤状の部材を作製基板２３１または基板２１１の端部に引っかけて剥離を行ってもよい。また、粘着性の部材や真空吸着が可能な部材を作製基板２３１または基板２１１の裏面に吸着させて引っ張ることにより、剥離を行ってもよい。
ここで、剥離時に、剥離界面に水や水溶液など、水を含む液体を添加し、該液体が剥離界面に浸透するように剥離を行うことで、剥離性を向上させることができる。また、剥離時に生じる静電気が、被剥離層に含まれる機能素子に悪影響を及ぼすこと（半導体素子が静電気により破壊されるなど）を抑制できる。
以上の方法により、作製基板２３１から被剥離層を歩留まりよく剥離することができる。
その後、第１の絶縁層２０５に接着層２０３を介して基板２０１を貼り付ける（図４（Ｃ））。接着層２０３には、接着層２２１に用いることができる材料を適用できる。基板２０１には、基板２１１に用いることができる材料を適用できる。
基板２０１及び基板２１１にそれぞれ可撓性を有する基板を用いることで、フレキシブルな表示パネルを作製することができる。なお、基板２１１が仮支持基板として機能する場合、基板２１１と被剥離層とを分離し、被剥離層と別の基板（例えば可撓性を有する基板）を貼り合わせてもよい。
以上のように、本発明の一態様の表示パネルの作製方法では、第１の絶縁層２０５及び第２の絶縁層２０７を剥離層２３３の表面全体に形成した状態で加熱処理を行うことで、表示パネル全体の剥離性を均一に高めることができる。そして、加熱処理後に、可視光を透過する領域１１０における第２の絶縁層２０７を除去することで、可視光を透過する領域１１０の反射率を低減することができる。
また、本発明の一態様の表示パネルの作製方法では、作製基板上に機能素子を形成した後に機能素子を作製基板から剥離し、他の基板に転置する。そのため、機能素子の形成工程にかかる熱に対する制限がほとんど無い。高温プロセスにて作製した極めて信頼性の高い機能素子を、耐熱性の劣る可撓性を有する基板上に歩留まりよく作製することができる。これにより、信頼性が高く、フレキシブルな表示パネルを実現することができる。
＜表示パネルの作製方法例２＞
図５及び図６を用いて図１（Ｃ）に示す表示パネルの作製方法の一例を説明する。なお、表示パネルの作製方法例１と同様の部分については、詳細な説明を省略する。
まず、図５（Ａ）に示すように、作製基板２３１上に剥離層２３３を形成する。そして、剥離層２３３の表面にプラズマ処理を行う（図５（Ａ）の点線で示す矢印参照）。
次に、図５（Ｂ）に示すように、剥離層２３３上に第１の絶縁層２０５を形成し、第１の絶縁層２０５上に第２の絶縁層２０７を形成し、第２の絶縁層２０７上に素子層２０９及び接続端子２２３を形成する。
なお、加熱処理を、第２の絶縁層２０７を形成した後、かつ、第２の絶縁層２０７の一部を除去する前に行う。素子層２０９及び接続端子２２３を形成する前に、剥離層２３３、第１の絶縁層２０５、及び第２の絶縁層２０７を加熱してもよい。または、加熱処理は、素子層２０９の少なくとも一部を形成した後に行ってもよい。例えば、トランジスタを形成した後、表示素子を形成する前に、加熱処理を行ってもよい。素子層２０９の作製工程に加熱工程がある場合、該加熱工程が、該加熱処理を兼ねていてもよい。
加熱処理を行うことにより、後の剥離工程における剥離性を向上させることができる。
次に、図５（Ｃ）に示すように、可視光を透過する領域１１０における第２の絶縁層２０７を除去する。第２の絶縁層２０７の除去には、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等を用いることができる。なお、素子層２０９の作製工程に含まれるエッチング工程のいずれかが、第２の絶縁層２０７の除去工程を兼ねていてもよい。
本発明の一態様では、加熱処理を行うまでは、剥離層２３３の表面全体に第２の絶縁層２０７を設けておく。そして、加熱処理後に、可視光を透過する領域１１０における第２の絶縁層２０７を除去する。これにより、表示パネル全体の剥離性を均一にすることができる。可視光を透過する領域１１０の構成が、表示パネルの作製工程の歩留まりに与える影響を抑制することができる。
また、図５（Ｄ）に示すように、作製基板２３５上に剥離層２３７を形成する。そして、剥離層２３７の表面にプラズマ処理を行う（図５（Ｄ）の点線で示す矢印参照）。
次に、図５（Ｅ）に示すように、剥離層２３７上に第３の絶縁層２１５を形成し、第３の絶縁層２１５上に第４の絶縁層２１７を形成し、第４の絶縁層２１７上に機能層２１９を形成する。
なお、加熱処理を、第４の絶縁層２１７を形成した後、かつ、第４の絶縁層２１７の一部を除去する前に行う。機能層２１９を形成する前に、剥離層２３７、第３の絶縁層２１５、及び第４の絶縁層２１７を加熱してもよい。または、加熱処理は、機能層２１９の少なくとも一部を形成した後に行ってもよい。機能層２１９の作製工程に加熱工程がある場合、該加熱工程が、該加熱処理を兼ねていてもよい。
加熱処理を行うことにより、後の剥離工程における剥離性を向上させることができる。
次に、図５（Ｆ）に示すように、可視光を透過する領域１１０における第４の絶縁層２１７を除去する。第４の絶縁層２１７の除去には、ドライエッチング法、ウェットエッチング法等を用いることができる。なお、機能層２１９の作製工程に含まれるエッチング工程のいずれかが、第４の絶縁層２１７の除去工程を兼ねていてもよい。
本発明の一態様では、加熱処理を行うまでは、剥離層２３７の表面全体に第４の絶縁層２１７を設けておく。そして、加熱処理後に、可視光を透過する領域１１０における第４の絶縁層２１７を除去する。これにより、表示パネル全体の剥離性を均一にすることができる。可視光を透過する領域１１０の構成が、表示パネルの作製工程の歩留まりに与える影響を抑制することができる。
続いて、作製基板２３１と作製基板２３５とを接着層２２１により貼り合わせる（図６（Ａ））。
そして、剥離層２３３と第１の絶縁層２０５を分離する。その後、第１の絶縁層２０５に接着層２０３を介して基板２０１を貼り付ける（図６（Ｂ））。
同様に、剥離層２３７と第３の絶縁層２１５を分離する。その後、第３の絶縁層２１５に接着層２１３を介して基板２１１を貼り付ける（図６（Ｃ））。
基板２０１及び基板２１１にそれぞれ可撓性を有する基板を用いることで、フレキシブルな表示パネルを作製することができる。
なお、作製基板２３１と作製基板２３５はどちらから剥離を行ってもよい。
その後、接続端子２２３と重なる部分の絶縁層及び接着層等を除去し、接続端子２２３を露出することで、図１（Ｃ）に示す表示パネルを作製することができる。
以上のように、本発明の一態様の表示パネルの作製方法では、第１の絶縁層２０５及び第２の絶縁層２０７を剥離層２３３の表面全体に形成した状態で加熱処理を行う。同様に、第３の絶縁層２１５及び第４の絶縁層２１７を剥離層２３７の表面全体に形成した状態で加熱処理を行う。これにより、表示パネル全体の剥離性を均一に高めることができる。そして、加熱処理後に、可視光を透過する領域１１０における第２の絶縁層２０７及び第４の絶縁層２１７をそれぞれ除去することで、可視光を透過する領域１１０の反射率を低減することができる。
本発明の一態様では、表示領域と可視光を透過する領域とで、剥離界面の構成を同一とすることで、剥離の歩留まりを高めることができる。なお、本実施の形態では、それぞれ無機材料を用いた剥離層と絶縁層との界面で剥離を行う例を示すが、本発明の一態様はこれに限られず、様々な剥離方法を適用することができる。例えば、剥離層または絶縁層に有機材料を用いることもできる。
また、本発明の一態様の表示パネルの作製方法では、表示パネルを構成する機能素子等を、全て作製基板上で形成するため、精細度の高い表示パネルを作製する場合においても、表示パネルを構成する基板には、高い位置合わせ精度が要求されない。よって、表示パネルに可撓性を有する基板を用いても、簡便に当該基板を貼り付けることができる。また、高温をかけて機能素子等を作製できるため、信頼性の高い表示パネルを実現できる。
＜表示装置の構成例２＞
図７（Ａ）に、表示装置１２の上面図を示す。図７（Ａ）における一点鎖線Ｘ３−Ｙ３間の断面図を図７（Ｂ）に示す。
図７（Ａ）、（Ｂ）に示す表示装置１２は、図２（Ａ）、（Ｂ）に示す表示装置１２の最表面に光学部材２４０を配置した構成である。それ以外の構成は、図２（Ａ）、（Ｂ）と同様であるため、詳細な説明は省略する。
光学部材２４０は、少なくとも表示領域１３に設けられる。図７（Ａ）では、表示パネルの一面全体に光学部材２４０が重なる例を示す。光学部材２４０と各表示パネルは密着していることが好ましい。光学部材２４０と各表示パネルは少なくとも一部が接着剤等により固定されていてもよいし、全く固定されていなくてもよい。例えば、光学部材２４０と各表示パネルは、それぞれ独立に、表示装置１２または電子機器が有する筐体に固定されていてもよい。
光学部材２４０として、偏光部材、位相差部材、及び反射防止部材などのうち一つ以上を用いることができる。また、光学部材２４０の最表面は、ハードコート処理がなされていてもよい。
偏光部材としては、偏光板、偏光フィルム、偏光膜等が挙げられる。
位相差部材としては、位相差板、位相差フィルム、位相差膜等が挙げられる。
反射防止部材としては、反射防止フィルム（ＡＲ（Ａｎｔｉ‐Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルムとも呼ばれる）、低反射フィルム（ＬＲ（Ｌｏｗ‐Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルムとも呼ばれる）、及びアンチグレアフィルム（ＡＧ（Ａｎｔｉ‐Ｇｌａｒｅ）フィルム、ノングレアフィルムとも呼ばれる）等が挙げられる。また、これらのフィルムのいずれかと同等の機能を有する反射防止板や反射防止膜も、反射防止部材の一例である。
図８（Ａ）〜（Ｇ）を用いて、光学部材２４０の構成例を説明する。
図８（Ａ）に示す光学部材２４０は、反射防止部材２９１からなる。
ＡＲフィルム、ＬＲフィルム、及びＡＧフィルム等は、それぞれ、表示パネルに直接貼りつけることができる。
反射防止部材２９１として、ＡＲフィルムまたはＬＲフィルムを用いることで、表示装置１２の表面における外光の反射を抑制することができる。
反射防止部材２９１として、ＡＧフィルムを用いることで、外光を散乱させ、表示装置の表面に、表示装置１２の周囲の景色が映り込むことを抑制することができる。
図８（Ｂ）に示す光学部材２４０は、反射防止部材２９１と支持材２９２からなる。支持材２９２は、反射防止部材２９１よりも表示パネル側に配置する。
光学部材２４０は、可視光を透過する支持材２９２に、偏光部材、位相差部材、及び反射防止部材などのうち一つ以上を貼り付けた構成であることが好ましい。
複数の表示パネルを重ねることで、表示パネル間には段差が生じる。そのため、１つの光学部材２４０を複数の表示パネルにわたって貼りつける場合、光学部材２４０と表示パネルの界面に空気が混入しやすい。また、１つの光学部材２４０と複数の表示パネルを貼り合わせてしまうことで、表示パネルを取り外せなくなることがある。また、表示パネルごとに、光学部材２４０を１つずつ貼り付けると、手間が増え、作製に長い時間を要する場合がある。
支持材２９２を用いることで、光学部材２４０の強度を高める、厚みを増やす、または取扱い（ハンドリング）を容易とする等が可能となる。そのため、光学部材２４０を表示パネルに十分に密着させることができ、光学部材２４０と表示パネルの界面に存在する空気を最小限とすることができる。光学部材２４０を表示パネルに十分に密着させることで、複数の表示パネル間の段差の低減、及び表示パネル自体のシワの低減も可能となる。光学部材２４０と表示パネルは十分に密着させた状態で固定することが好ましい。光学部材２４０と表示パネルの固定箇所を最低限とすることで、表示装置の作製工程の簡略化、及び表示装置の歩留まりの向上が可能となる。
支持材２９２としては、例えば、アクリル板、ポリカーボネート板などのプラスチック板、またはガラス板などを用いることができる。
図８（Ｃ）に示す光学部材２４０は、反射防止部材２９１、２９３と支持材２９２とからなる。表示パネルに最も近い層が、反射防止部材２９３であり、表示パネルから最も遠い層が、反射防止部材２９１である。
反射防止部材２９１として、ＡＲフィルムを用いることで、表示装置の表面における外光の反射を低減することができる。または、反射防止部材２９１として、ＡＧフィルムを用いることで、表示装置の表面に表示装置の周囲の景色が映り込むことを抑制することができる。
光学部材２４０と表示パネルの間には空気が存在する。反射防止部材２９３として、ＡＲフィルムを用いることで、光学部材２４０と空気の間での光の反射を抑制できる。
または、反射防止部材２９３として、ＡＧフィルムを用いることで、周囲の景色が映り込みにくくなり、表示装置の使用者が、表示を視認しやすくなる。
図８（Ｄ）に光学部材２４０として、円偏光板２９５を用いる例を示す。
円偏光板２９５は、直線偏光板と位相差板とを有する。直線偏光板は、例えば、一対の基板間に直線偏光層を有する。位相差板としては、１／４λ板等が挙げられる。直線偏光板と位相差板は、接着層によって貼り合わされる。
円偏光板を用いることで、表示パネルの表面及び内部における光の反射に起因し、表示装置の使用者が、重なり部を視認することを抑制できる。
図８（Ｄ）に示すように、円偏光板２９５は、複数の表示パネルと重なることが好ましい。この構成により、表示パネルの側面（図８（Ｄ）の点線で囲った部分参照）における光の反射に起因し、表示装置の使用者が、表示領域の継ぎ目を視認することを抑制できる。
光学部材２４０に、円偏光板を用いる場合、表示パネルが有する基板には、光学等方性の高い基板を用いることが好ましい。
図８（Ｄ）では、下側の表示パネルが、それぞれ光学等方性の高い基板２０２ａ及び基板２１２ａを有し、上側の表示パネルが、それぞれ光学等方性の高い基板２０２ｂ及び基板２１２ｂを有する例を示す。基板２０２ａと基板２１２ａとの間には、表示素子を含む領域１５５ａ、及び、表示素子と電気的に接続する配線を含む領域１５６ａが設けられている。同様に、基板２０２ｂと基板２１２ｂとの間には、表示素子を含む領域１５５ｂ、及び、表示素子と電気的に接続する配線を含む領域１５６ｂが設けられている。
光学等方性が高い基板は、複屈折が低い（複屈折量が小さい、ともいえる）。
光学等方性が高い基板のリタデーション（位相差）値の絶対値は、３０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。
光学等方性が高いフィルムとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ、セルローストリアセテートともいう）フィルム、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）フィルム、及びアクリルフィルム等が挙げられる。
図８（Ｅ）に示す光学部材２４０は、円偏光板２９５と支持材２９２からなる。支持材２９２と円偏光板２９５は、どちらがより表示パネル側に配置されていてもよい。円偏光板２９５よりも支持材２９２が表示パネル側に配置される場合、該支持材２９２は光学等方性が高いことが好ましい。支持材２９２よりも円偏光板２９５が表示パネル側に配置される場合、支持材２９２の光学等方性は問われないため、支持材２９２に用いることができる材料の選択の幅が広がる。
図８（Ｆ）、（Ｇ）に示す光学部材２４０は、それぞれ、円偏光板２９５、反射防止部材２９６、及び支持材２９２とからなる。図８（Ｆ）に示す光学部材２４０では、表示パネルに最も近い層が支持材２９２であり、表示パネルから最も遠い層が反射防止部材２９６である。図８（Ｇ）に示す光学部材２４０では、表示パネルに最も近い層が円偏光板２９５であり、表示パネルから最も遠い層が反射防止部材２９６である。
反射防止部材２９６としては、ＡＲフィルムを用いることが好ましい。これにより、表示装置の表面における外光の反射を低減することができる。
＜表示パネルの構成例２＞
図９（Ａ）に、表示パネル１００の上面図を示す。図９（Ｂ）は、図９（Ａ）の点線で囲った領域Ｎの拡大図である。
表示パネル１００は、表示領域１０１及び領域１０２を有する。領域１０２は、可視光を透過する領域１１０及び可視光を遮る領域１２０を有する。可視光を透過する領域１１０及び可視光を遮る領域１２０は、それぞれ、表示領域１０１と隣接する。図９（Ａ）に示す表示パネル１００では、可視光を透過する領域１１０が、表示領域１０１の２辺に沿って配置されている。表示領域１０１の１辺に沿った可視光を透過する領域１１０の幅Ｗと、他の１辺に沿った可視光を透過する領域１１０の幅Ｗは、同一であっても、異なっていてもよい。図９（Ａ）では、同一である例を示す。
基板の耐熱性が低い場合、ＦＰＣの圧着時に、基板が熱によって変形することがある。例えば、図９（Ｂ）の点線で囲った部分は、配線が配置されていなく、圧着ヘッドがあたると、表示パネルにシワが発生しやすい。そのため、図９（Ｃ）に示すように、ＦＰＣを圧着する領域の近傍に、ダミー配線１２１を形成することが好ましい。ダミー配線１２１を圧着ヘッドがあたる領域に配置することで、表示パネルにシワが発生することを抑制できる。ダミー配線１２１は、表示パネルが有する導電層と同一の材料、同一の工程で作製することが好ましい。これにより、ダミー配線１２１を形成することによる作製工程の増加を防止できる。
＜表示装置の構成例３＞
図９（Ｄ）、（Ｅ）に、図２（Ａ）とは異なる表示装置１２の斜視図を示す。図９（Ｄ）、（Ｅ）に示す表示装置１２は、図９（Ａ）に示す表示パネル１００を２×２のマトリクス状に（縦方向及び横方向にそれぞれ２つずつ）計４つ有する。図９（Ｄ）は、表示装置１２の表示面側の斜視図であり、図９（Ｅ）は、表示装置１２の表示面側とは反対側の斜視図である。
図９（Ｄ）、（Ｅ）では、各表示パネルがＦＰＣと電気的に接続されている例を示す。
図９（Ｄ）、（Ｅ）に示す表示装置１２は、表示パネル１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄを備える。
図９（Ｄ）、（Ｅ）において、表示パネル１００ａ、１００ｂの短辺同士が重なり、表示領域１０１ａの一部と、可視光を透過する領域１１０ｂの一部が重なっている。また、表示パネル１００ａ、１００ｃの長辺同士が重なり、表示領域１０１ａの一部と、可視光を透過する領域１１０ｃの一部が重なっている。
図９（Ｄ）、（Ｅ）において、表示領域１０１ｂの一部は、可視光を透過する領域１１０ｃの一部、及び可視光を透過する領域１１０ｄの一部と重なっている。また、表示領域１０１ｃの一部は、可視光を透過する領域１１０ｄの一部と重なっている。
したがって、図９（Ｄ）に示すように、表示領域１０１ａ〜１０１ｄが継ぎ目なく配置された領域を表示装置１２の表示領域１３とすることが可能となる。
表示装置１２の中央部では、表示パネル１００ａ上に表示パネル１００ｂが重なり、表示パネル１００ｂ上に表示パネル１００ｃが重なり、表示パネル１００ｃ上に表示パネル１００ｄが重なっている。
ここで、表示パネル１００が可撓性を有していることが好ましい。例えば、表示パネル１００を構成する一対の基板は可撓性を有することが好ましい。
これにより、例えば、図９（Ｄ）、（Ｅ）に示すように、表示パネル１００ａのＦＰＣ１１２ａの近傍を湾曲させ、ＦＰＣ１１２ａに隣接する表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂの下側に、表示パネル１００ａの一部、及びＦＰＣ１１２ａの一部を配置することができる。その結果、ＦＰＣ１１２ａを表示パネル１００ｂの裏面と物理的に干渉することなく配置することができる。また、表示パネル１００ａと表示パネル１００ｂとを重ねて固定する場合に、ＦＰＣ１１２ａの厚さを考慮する必要がないため、可視光を透過する領域１１０ｂの上面と、表示パネル１００ａの上面との高さの差を低減できる。その結果、表示領域１０１ａ上に位置する表示パネル１００ｂの端部を目立たなくすることができる。
さらに、各表示パネル１００に可撓性を持たせることで、表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂにおける上面の高さを、表示パネル１００ａの表示領域１０１ａにおける上面の高さと一致するように、表示パネル１００ｂを緩やかに湾曲させることができる。そのため、表示パネル１００ａと表示パネル１００ｂとが重なる領域近傍を除き、各表示領域の高さを揃えることが可能で、表示装置１２の表示領域１３に表示する画像の表示品位を高めることができる。
上記では、表示パネル１００ａと表示パネル１００ｂの関係を例に説明したが、他の隣接する２つの表示パネル間でも同様である。
図１０（Ａ）は、図９（Ｄ）、（Ｅ）に示す表示装置１２を表示面側から見た上面図である。
表示領域１０１に重なる表示パネル１００の枚数に応じて、表示する画像の輝度（明るさ）は低下する。例えば、図１０（Ａ）中の領域Ａでは、表示パネル１００ａの表示領域１０１ａ上に、１枚の表示パネル１００ｃが重なっている。また、領域Ｂでは、表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂ上に、表示パネル１００ｃ、１００ｄの計２枚の表示パネル１００が重なっている。そして、領域Ｃでは、表示パネル１００ａの表示領域１０１ａ上に、表示パネル１００ｂ、１００ｃ、１００ｄの計３枚の表示パネル１００が重なっている。
このような場合に、表示領域１０１上に重なる表示パネル１００の枚数に応じて、画素の階調を局所的に高めるような補正を、表示させる画像データに対して施すことが好ましい。こうすることで、表示装置１２の表示領域１３に表示される画像の表示品位の低下を抑制することが可能となる。または、駆動回路から供給するデータ電圧を調整することで、画素の輝度を調整することができる。また、表示領域１０１の表示パネル１００と重ならない部分においても画素の輝度を調整することができる。例えば、重なり部に向かって徐々に輝度が低下するように調整し、重なり部と重なり部でない部分とで輝度が概略一致するよう補正してもよい。または、表示領域１０１において、重なり部に向かって徐々に色度を変化させてもよい。
また、上部に配置する表示パネル１００の端部の位置を他の表示パネル１００の端部とずらすことで、下部の表示パネル１００の表示領域１０１上に重なる表示パネル１００の枚数を減らすことができる。
図１０（Ｂ）では、表示パネル１００ａ、１００ｂ上に配置する表示パネル１００ｃ、１００ｄを一方向にずらして配置した場合を示す。具体的には、表示パネル１００ａ、１００ｂに対して表示パネル１００ｃ、１００ｄをＸ方向の正方向に可視光を透過する領域１１０の幅Ｗの距離だけ相対的にずらした場合を示している。このとき、表示領域１０１上に１つの表示パネル１００が重ねられた領域Ｄと、表示領域１０１上に２つの表示パネル１００が重ねられた領域Ｅとが存在する。
また、表示パネルをＸ方向に対して直交する方向（Ｙ方向）にずらして配置してもよい。図１０（Ｃ）では、表示パネル１００ａ、１００ｃに対して、表示パネル１００ｂ、１００ｄを、Ｙ方向の正方向に可視光を透過する領域１１０の幅Ｗの距離だけずらして配置した場合を示している。
なお、上部に位置する表示パネル１００を下部に位置する表示パネル１００に対してずらして配置する場合には、各表示パネル１００の表示領域１０１を組み合わせた領域の輪郭が矩形形状とは異なる形状となる。そのため、図１０（Ｂ）、（Ｃ）に示すように表示装置１２の表示領域１３を矩形にする場合には、これよりも外側に位置する表示パネル１００の表示領域１０１に画像を表示しないように駆動することが好ましい。表示パネル１００の表示領域１０１には、画像を表示しない領域における画素の数を考慮し、表示領域１３の全画素数を表示パネル１００の枚数で割った数よりも多くの画素を設けることが好ましい。
なお、上記では、各々の表示パネル１００を相対的にずらす場合の距離を、可視光を透過する領域１１０の幅Ｗの整数倍としたがこれに限られず、表示パネル１００の形状、またはこれを組み合わせた表示装置１２の表示領域１３の形状などを考慮して適宜設定することができる。
図１１及び図１２は、それぞれ、２つの表示パネルを貼り合わせた際の断面図の一例である。
図１１（Ａ）〜（Ｅ）の各図において、下側の表示パネルは、表示領域１０１ａ、可視光を透過する領域１１０ａ、及び可視光を遮る領域１２０ａを有する。下側の表示パネルには、ＦＰＣ１１２ａが電気的に接続されている。上側（表示面側）の表示パネルは、表示領域１０１ｂ、可視光を透過する領域１１０ｂ、及び可視光を遮る領域１２０ｂを有する。上側の表示パネルには、ＦＰＣ１１２ｂが電気的に接続されている。
図１１（Ａ）では、ＦＰＣ１１２ａが下側の表示パネルの表示面（おもて面）側に接続され、ＦＰＣ１１２ｂが上側の表示パネルの表示面側に接続されている例を示す。
図１１（Ｂ）では、上述の透光層１０３を用いて２つの表示パネルが部分的に貼り合わされている例を示す。図１１（Ｂ）では、可視光を透過する領域１１０ｂの幅と、透光層１０３の幅が等しい例を示す。
図１１（Ｃ）では、ＦＰＣ１１２ａが下側の表示パネルの表示面とは反対側の面（裏面）側に接続され、ＦＰＣ１１２ｂが上側の表示パネルの表示面とは反対側の面（裏面）側に接続されている例を示す。
図１１（Ｃ）では、透光層１０３は、下側の表示パネルの可視光を遮る領域１２０ａと上側の表示パネルの表示領域１０１ｂとの間にまで設けられている。
ＦＰＣが表示パネルの裏面側に接続される構成とすることで、下側の表示パネルの端部を上側の表示パネルの裏面に貼り付けることが可能なため、これらの接着面積を大きくでき、貼り合わせ部分の機械的強度を高めることができる。
図１１（Ｄ）では、表示領域１０１ａの、上側の表示パネルと重ならない領域と、透光層１０３とが重なっている。さらに、可視光を透過する領域１１０ａと透光層１０３とが重なっている。
透光層の材質によっては、大気中のほこりなど細かなゴミが吸着してしまう場合がある。このような場合は、表示領域１０１ａの、上側の表示パネルと重ならない領域と、透光層１０３とが重ならない方が好ましい。これにより、透光層１０３に付着したゴミ等により、表示装置の表示が不鮮明になることを抑制できる。
また、図１１（Ｅ）では、上側の表示パネルの、表示領域１０１ａと重ならない領域と、透光層１０３とが重なっている。
図１１（Ｅ）の構成では、表示装置の表示面側の最表面に透光層が位置しないため、透光層１０３に付着したゴミ等により、表示装置の表示が不鮮明になることを防止できる。また、表示装置の裏面に吸着性を有する透光層を配置すると、表示パネルと接していない面を用いて、表示装置を所望の位置に着脱自在に貼り付けることができる。
また、図１２（Ａ）では、樹脂層１３１が、表示パネル１００ａ及び表示パネル１００ｂのおもて面を覆っている。表示パネル１００ａ及び表示パネル１００ｂの各々の表示領域と、表示パネル１００ａと表示パネル１００ｂとが重畳する領域とを覆って、樹脂層１３１を設けることが好ましい。
樹脂層１３１を複数の表示パネル１００にわたって設けることで、表示装置１２の機械的強度を高めることができる。また、樹脂層１３１の表面が平坦になるように形成すると、表示領域１３に表示される画像の表示品位を高めることができる。例えば、スリットコータ、カーテンコータ、グラビアコータ、ロールコータ、スピンコータなどのコーティング装置を用いると、平坦性の高い樹脂層１３１を形成することができる。
また、樹脂層１３１の屈折率は、表示パネル１００の表示面側に用いる基板の屈折率の０．８倍以上１．２倍以下であると好ましく、０．９倍以上１．１倍以下であるとより好ましく、０．９５倍以上１．１５倍以下であるとさらに好ましい。表示パネル１００と樹脂層１３１の屈折率の差が小さいほど、光を効率よく外部に取り出すことができる。また、このような屈折率を有する樹脂層１３１を表示パネル１００ａと表示パネル１００ｂとの段差部を覆うように設けることで、当該段差部が視認されにくくなるため、表示領域１３に表示される画像の表示品位を高めることができる。
樹脂層１３１は、可視光を透過する層である。樹脂層１３１には、例えば、エポキシ樹脂、アラミド樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の有機樹脂を用いることができる。
また、図１２（Ｂ）に示すように、樹脂層１３１を介して表示装置１２上に保護基板１３２を設けることが好ましい。このとき、樹脂層１３１は表示装置１２と保護基板１３２とを接着する接着層としての機能を有していてもよい。
保護基板１３２により、表示装置１２の表面を保護するだけでなく、表示装置１２の機械的強度を高めることができる。保護基板１３２としては、少なくとも表示領域１３と重なる領域に透光性を有する材料を用いる。また、保護基板１３２は表示領域１３と重なる領域以外の領域が視認されないように、遮光性を備えていてもよい。
保護基板１３２は、タッチパネルとしての機能を有していてもよい。また、表示パネル１００が可撓性を有し、湾曲可能な場合には、保護基板１３２も同様に可撓性を有していることが好ましい。
また、保護基板１３２は、表示パネル１００の表示面側に用いる基板、または樹脂層１３１との屈折率の差が２０％以下であると好ましく、１０％以下であるとより好ましく、５％以下であるとさらに好ましい。
保護基板１３２としては、フィルム状のプラスチック基板を用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリアミド樹脂（ナイロン、アラミド等）、ポリシクロオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリスルホン（ＰＳＦ）樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）樹脂、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）樹脂、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。また、繊維体に樹脂を含浸した基板（プリプレグともいう）、または無機フィラーを有機樹脂に混ぜて線膨張係数を下げた基板を使用することもできる。また、保護基板１３２は、樹脂フィルムに限定されず、パルプを連続シートに加工した透明な不織布、フィブロインと呼ばれるたんぱく質を含む人工くも糸繊維を含むシート、これらと樹脂とを混合させた複合体、繊維幅が４ｎｍ以上１００ｎｍ以下のセルロース繊維からなる不織布と樹脂膜の積層体、または人工くも糸繊維を含むシートと樹脂膜の積層体を用いてもよい。
なお、本発明の一態様の表示装置または表示パネルをアクリル板、ガラス板、木板、金属板等に貼り付けて用いてもよい。表示装置または表示パネルは、これらの板に、表示面側を貼り付けてもよい（この場合は可視光を透過する板を用いる）し、表示面と対向する面側を貼り付けてもよい。また、表示装置または表示パネルは、これらの板に着脱自在に貼り付けてあることが好ましい。
また、保護基板１３２として、偏光板、円偏光板、位相差板、または光学フィルム等の少なくとも一つを用いることができる。上述の光学部材２４０を、保護基板１３２として用いることができる。
表示パネルを板に貼り付けた状態で保存する場合、表示パネルだけでなく、当該板も温度変化による変形が小さいことが好ましい。例えば、板の熱膨張係数は、６０ｐｐｍ／℃以下が好ましく、３０ｐｐｍ／℃以下がより好ましい。例えば、アルミニウム板等の金属板またはガラスエポキシ板を好適に用いることができる。
空輸を想定した保存試験の結果の一例を説明する。アルミニウム板、ガラスエポキシ板、及びアクリル板のそれぞれに、本発明の一態様の表示パネルを貼り付け、４０℃で１２時間保存した後、０℃で１２時間保存し、その後室温に戻した。アルミニウム板及びガラスエポキシ板のそれぞれに貼り付けた表示パネルは、保存試験後にシワが入っていないことが確認された。一方、アクリル板に貼り付けた表示パネルは、保存試験後に、シワの存在が確認された。
また、板の４辺のみに表示パネルを固定する場合に比べて、板の一面全体に表示パネルを固定する方が、保存試験における表示パネルのシワの発生を抑制できることがわかった。表示パネルの中央部に、板に固定されていない部分が存在すると、温度変化によって、表示パネルが歪みやすいことが示唆される。
また、図１２（Ｃ）に示すように、表示パネル１００ａ及び表示パネル１００ｂの表示面とは反対側の面に樹脂層１３３及び保護基板１３４を設けることができる。表示パネルの裏面に、表示パネルを支持する基板を配置することで、表示パネルに意図しない反りまたは曲げが生じることを抑制し、表示面を平滑に保つことで、表示領域１３に表示される画像の表示品位を高めることができる。
なお、表示面とは反対側に設けられる樹脂層１３３及び保護基板１３４は、必ずしも透光性を有している必要はなく、可視光を吸収または反射する材料を用いてもよい。
また、図１２（Ｄ）に示すように、表示パネルのおもて面に、樹脂層１３１及び保護基板１３２を、裏面に、樹脂層１３３及び保護基板１３４を設けてもよい。このように、表示パネル１００ａ及び表示パネル１００ｂを２枚の保護基板によって挟むことで、表示装置１２の機械的強度をさらに高めることができる。
また、樹脂層１３１及び保護基板１３２の厚さの合計と、樹脂層１３３及び保護基板１３４の厚さの合計と、が、概略同一であると好ましい。例えば、樹脂層１３１及び樹脂層１３３を同等の厚さとし、保護基板１３２及び保護基板１３４に同一の厚さの材料を用いることが好ましい。これにより、複数の表示パネル１００をこれら積層体の厚さ方向における中央部に配置することができる。例えば、表示パネル１００を含む積層体を湾曲させる際には、表示パネル１００が厚さ方向における中央部に位置することで、湾曲に伴って表示パネル１００にかかる横方向の応力が緩和され、表示パネル１００の破損を防止することができる。
なお、樹脂層及び保護基板の厚さが、表示装置の端部と中央部とで異なる場合などは、平均の厚さ、最大の厚さ、最小の厚さ等を適宜選択し、同じ条件で、樹脂層１３１及び保護基板１３２の厚さの合計と、樹脂層１３３及び保護基板１３４の厚さの合計を比較することが好ましい。
図１２（Ｄ）において、樹脂層１３１と樹脂層１３３に同一の材料を用いると、作製コストを低減でき、好ましい。同様に、保護基板１３２と保護基板１３４に同一の材料を用いると、作製コストを低減でき、好ましい。
また、図１２（Ｃ）、（Ｄ）に示すように、表示パネル１００ａ及び表示パネル１００ｂの裏面側に配置される樹脂層１３３及び保護基板１３４には、ＦＰＣ１１２ａを取り出すための開口部を設けることが好ましい。特に、図１２（Ｄ）に示すように、ＦＰＣ１１２ａの一部を覆うように樹脂層１３３を設けると、表示パネル１００ａとＦＰＣ１１２ａとの接続部における機械的強度を高めることができ、ＦＰＣ１１２ａが剥がれてしまうなどの不具合を抑制できる。同様に、ＦＰＣ１１２ｂの一部を覆うように樹脂層１３３を設けることが好ましい。
次に、表示パネル１００の構成例について説明する。図１３（Ａ）は、図９（Ａ）における領域Ｐを拡大した上面図の一例であり、図１３（Ｂ）は、図９（Ａ）における領域Ｑを拡大した上面図の一例である。
図１３（Ａ）に示すように、表示領域１０１には複数の画素１４１がマトリクス状に配置されている。赤色、青色、緑色の３色を用いてフルカラー表示が可能な表示パネル１００とする場合では、複数の画素１４１は、それぞれ、上記３色のうちいずれかを表示することのできる副画素に対応する。また、上記３色に加えて白色または黄色を表示することのできる副画素を設けてもよい。画素１４１を含む領域が表示領域１０１に相当する。
一つの画素１４１には配線１４２ａ及び配線１４２ｂが電気的に接続されている。複数の配線１４２ａのそれぞれは配線１４２ｂと交差し、回路１４３ａと電気的に接続されている。また、複数の配線１４２ｂは回路１４３ｂと電気的に接続されている。回路１４３ａ及び回路１４３ｂのうち一方が走査線駆動回路として機能する回路であり、他方が信号線駆動回路として機能する回路である。なお、回路１４３ａまたは回路１４３ｂのいずれか一方、または両方を設けない構成としてもよい。
図１３（Ａ）では、回路１４３ａまたは回路１４３ｂに電気的に接続する複数の配線１４５が設けられている。配線１４５は、図示しない領域でＦＰＣ１２３と電気的に接続され、外部からの信号を回路１４３ａ及び回路１４３ｂに供給する機能を有する。
図１３（Ａ）において、回路１４３ａ、回路１４３ｂ、複数の配線１４５等を含む領域が、可視光を遮る領域１２０に相当する。
図１３（Ｂ）において、最も端に設けられる画素１４１よりも外側の領域が可視光を透過する領域１１０に相当する。可視光を透過する領域１１０は、画素１４１、配線１４２ａ及び配線１４２ｂ等の可視光を遮る部材を有していない。なお、画素１４１の一部、配線１４２ａまたは配線１４２ｂが可視光を透過する場合には、可視光を透過する領域１１０にまで延在して設けられていてもよい。
可視光を透過する領域１１０の幅が表示パネルによって異なる場合、または１つの表示パネルの中でも場所によって異なる場合には、最も短い長さを幅Ｗとすることができる。なお、図１３（Ｂ）では画素１４１から基板の端部までの距離（すなわち可視光を透過する領域１１０の幅Ｗ）が、図面縦方向と横方向とで同一である場合を示しているが、本発明の一態様はこれに限られない。
図１３（Ｃ）は、図１３（Ｂ）中の切断線Ａ１−Ａ２における断面図である。表示パネル１００は、それぞれ可視光を透過する一対の基板（基板１５１、基板１５２）を有する。また、基板１５１と基板１５２は接着層１５４によって接着されている。ここで、画素１４１及び配線１４２ｂ等が形成されている側の基板を基板１５１とする。
図１３（Ｂ）、（Ｃ）に示すように、画素１４１が表示領域１０１の最も端に位置する場合には、可視光を透過する領域１１０の幅Ｗは、基板１５１または基板１５２の端部から画素１４１の端部までの長さとなる。
なお、画素１４１の端部とは、画素１４１に含まれる可視光を遮る部材のうち、最も端に位置する部材の端部を指す。または、画素１４１として一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層を備える発光素子（有機ＥＬ素子ともいう）を用いた場合には、画素１４１の端部は下部電極の端部、発光性の有機化合物を含む層の端部、上部電極の端部のいずれかであってもよい。
図１４（Ａ）は、領域Ｑを拡大した上面図の一例であり、配線１４２ａの位置が図１３（Ｂ）とは異なる。また、図１４（Ａ）中の切断線Ｂ１−Ｂ２における断面図を図１４（Ｂ）、切断線Ｃ１−Ｃ２における断面図を図１４（Ｃ）に示す。
図１４（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、表示領域１０１の最も端に配線１４２ａが位置する場合には、可視光を透過する領域１１０の幅Ｗは、基板１５１または基板１５２の端部から配線１４２ａの端部までの長さとなる。なお、配線１４２ａが可視光を透過する場合、配線１４２ａが設けられる領域は可視光を透過する領域１１０に含まれていてもよい。
ここで、表示パネル１００の表示領域１０１に設けられる画素の密度が高い場合、２つの表示パネル１００を貼り合わせた際に、位置ずれが生じてしまう場合がある。
図１５（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、下部に設けられる表示パネル１００ａの表示領域１０１ａと、上部に設けられる表示パネル１００ｂの表示領域１０１ｂとの、表示面側から見たときの位置関係を示す図である。図１５（Ａ）〜（Ｃ）では、表示領域１０１ａ及び表示領域１０１ｂのそれぞれの角部近傍を示している。表示領域１０１ａの一部が、可視光を透過する領域１１０ｂによって覆われている。
図１５（Ａ）では、隣接する画素１４１ａと画素１４１ｂとが相対的に一方向（Ｙ方向）にずれた場合を示している。図中に示す矢印は、表示パネル１００ａが表示パネル１００ｂに対してずれた方向を示している。
図１５（Ｂ）では、隣接する画素１４１ａと画素１４１ｂとが相対的に縦方向及び横方向（Ｘ方向及びＹ方向）の両方にずれた場合を示している。
図１５（Ａ）、（Ｂ）に示す例では、横方向にずれた距離と縦方向にずれた距離がそれぞれ１画素分よりも小さい。このような場合は、表示領域１０１ａ及び表示領域１０１ｂのうち少なくとも一方に表示する画像に対応する画像データに対し、当該ずれの距離に応じた補正をかけることで表示品位を保つことが可能となる。具体的には、画素間の距離が小さくなるずれの場合には画素の階調（輝度）を低くするように補正することが好ましい。一方、画素間の距離が大きくなるずれの場合には、画素の階調（輝度）を高めるように補正することが好ましい。また、表示領域１０１ａ上に表示領域１０１ｂが１画素分以上重なるようなずれの場合には、画素１４１ｂの下部に位置する画素１４１ａを駆動しないように画像データを一列分シフトさせるように補正することが好ましい。
図１５（Ｃ）では、本来隣接するはずであった画素１４１ａと画素１４１ｂとが、相対的に一方向（Ｙ方向）に１画素分以上の距離でずれた例を示している。このように、１画素分の距離以上のずれが生じた場合には、突出した画素（ハッチングを付加した画素）を表示しないように駆動することが好ましい。なお、ずれの方向がＸ方向の場合でも同様である。
なお、複数の表示パネル１００を貼り合わせる際の位置ずれを抑制するために、各表示パネル１００に位置合わせのためのマーカー等を設けることが好ましい。または、表示パネル１００の表面に凸部及び凹部を形成し、２つの表示パネル１００が重なる領域で当該凸部と凹部とを嵌合させる構成としてもよい。
また、位置ずれの精度を考慮して、表示パネル１００の表示領域１０１にはあらかじめ使用する画素よりも多くの画素を配置しておくことが好ましい。例えば走査線に沿った画素列、または信号線に沿った画素列のうち、少なくとも一方を、１列以上、好ましくは３列以上、より好ましくは５列以上、表示に用いる画素列よりも余分に設けておくことが好ましい。
以上のように、本発明の一態様の表示装置では、可視光を透過する領域における外光の反射が抑制されているため、重なり部を、該表示装置の使用者から視認されにくくすることができる。したがって、継ぎ目が視認されにくい広い表示領域を有する表示装置を提供することができる。また、可視光を透過する領域の光の透過率が高く、下側に配置される表示パネルの表示の輝度（明るさ）が高いため、表示装置の表示ムラもしくは輝度ムラの抑制が可能となる。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
（実施の形態２）
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置に用いることができる表示パネルについて、図を用いて説明する。
本実施の形態では、表示素子としてＥＬ素子が適用された表示パネルを例に説明する。
表示パネルには、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の副画素で１つの色を表現する構成、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の４色の副画素で１つの色を表現する構成、またはＲ、Ｇ、Ｂ、Ｙ（黄）の４色の副画素で１つの色を表現する構成等を適用できる。色要素に限定はなく、ＲＧＢＷＹ以外の色（例えば、シアンまたはマゼンタ等）を用いてもよい。
＜構成例１＞
図１６（Ａ）、（Ｂ）に、表示パネル３７０の上面図を示す。
図１６（Ａ）、（Ｂ）に示す表示パネル３７０は、それぞれ、可視光を透過する領域１１０、表示部３８１、及び駆動回路部３８２を有する。図１６（Ａ）では、可視光を透過する領域１１０が、表示部３８１に隣接し、表示部３８１の２辺に沿って配置されている例を示す。図１６（Ｂ）では、可視光を透過する領域１１０が、表示部３８１に隣接し、表示部３８１の３辺に沿って配置されている例を示す。
図１６（Ｃ）に、カラーフィルタ方式が適用されたトップエミッション構造の表示パネル３７０の断面図を示す。図１６（Ｃ）は、図１６（Ａ）、（Ｂ）における一点鎖線Ａ１−Ａ２間及びＡ３−Ａ４間の断面図に相当する。
表示パネル３７０は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、複数のトランジスタ、容量素子３０５、導電層３０７、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、絶縁層３１５、発光素子３０４、導電層３５５、スペーサ３１６、接着層３１７、着色層３２５、遮光層３２６、基板２１１、接着層２１３、第３の絶縁層２１５、及び第４の絶縁層２１７を有する。可視光を透過する領域１１０に含まれる各層は、可視光を透過する。
駆動回路部３８２はトランジスタ３０１を有する。表示部３８１は、トランジスタ３０２及びトランジスタ３０３を有する。
各トランジスタは、ゲート、ゲート絶縁層３１１、半導体層、ソース、及びドレインを有する。ゲートと半導体層は、ゲート絶縁層３１１を介して重なる。ゲート絶縁層３１１の一部は、容量素子３０５の誘電体としての機能を有する。トランジスタ３０２のソースまたはドレインとして機能する導電層は、容量素子３０５の一方の電極を兼ねる。
図１６（Ｃ）では、ボトムゲート構造のトランジスタを示す。駆動回路部３８２と表示部３８１とで、トランジスタの構造が異なっていてもよい。駆動回路部３８２及び表示部３８１は、それぞれ、複数の種類のトランジスタを有していてもよい。
容量素子３０５は、一対の電極と、その間の誘電体とを有する。容量素子３０５は、トランジスタのゲートと同一の材料、及び同一の工程で形成した導電層と、トランジスタのソース及びドレインと同一の材料、及び同一の工程で形成した導電層と、を有する。
絶縁層３１２、絶縁層３１３、及び絶縁層３１４は、それぞれ、トランジスタ等を覆って設けられる。トランジスタ等を覆う絶縁層の数は特に限定されない。絶縁層３１４は、平坦化層としての機能を有する。絶縁層３１２、絶縁層３１３、及び絶縁層３１４のうち、少なくとも一層には、水または水素などの不純物が拡散しにくい材料を用いることが好ましい。外部から不純物がトランジスタに拡散することを効果的に抑制することが可能となり、表示パネルの信頼性を高めることができる。
表示パネル３７０は、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制された構成である。可視光を透過する領域１１０は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、接着層３１７、第３の絶縁層２１５、接着層２１３、及び基板２１１をこの順で積層して有する。
第２の絶縁層２０７、第４の絶縁層２１７、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、及び絶縁層３１５は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。これら絶縁層の端部は、それぞれ、表示部３８１の、可視光を透過する領域１１０との境界近傍に位置することが好ましい（図１８（Ａ）参照）。また、各絶縁層の端部は、遮光層３２６と重なることが好ましい。これにより、可視光を透過する領域１１０の面内における、反射率及び透過率のばらつきを小さくできる。
第１の絶縁層２０５と基板２０１は接着層２０３によって貼り合わされている。また、第３の絶縁層２１５と基板２１１は接着層２１３によって貼り合わされている。本発明の一態様の表示パネルの作製方法において、第１の絶縁層２０５及び第３の絶縁層２１５は、それぞれ作製基板との剥離界面に位置する層であり、かつ、表示パネル３７０の一面全体に設けられている。そのため、表示パネル３７０は高い歩留まりで作製が可能である。
表示部３８１では、第２の絶縁層２０７と第４の絶縁層２１７との間に、発光素子３０４が位置する。表示パネル３７０の厚さ方向から、発光素子３０４に、不純物が侵入することが抑制されている。同様に、表示部３８１では、トランジスタを覆う絶縁層が複数設けられており、トランジスタに不純物が侵入することが抑制されている。
一対の防湿性の高い絶縁膜の間に発光素子３０４及びトランジスタ等を配置することで、これらの素子に水等の不純物が侵入することを抑制でき、表示パネルの信頼性が高くなるため好ましい。
防湿性の高い絶縁膜としては、窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜等の窒素と珪素を含む膜、及び、窒化アルミニウム膜等の窒素とアルミニウムを含む膜等が挙げられる。また、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜等を用いてもよい。
例えば、防湿性の高い絶縁膜の水蒸気透過量は、１×１０−５［ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）］以下、好ましくは１×１０−６［ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）］以下、より好ましくは１×１０−７［ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）］以下、さらに好ましくは１×１０−８［ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）］以下とする。
絶縁層３１４として有機材料を用いる場合、表示パネルの端部に露出した絶縁層３１４を通って発光素子３０４等に表示パネルの外部から水分等の不純物が侵入する恐れがある。不純物の侵入により、発光素子３０４が劣化すると、表示パネルの劣化につながる。そのため、図１６（Ｃ）の接続部３０６近傍に示すように、絶縁層３１４に無機膜（ここでは絶縁層３１３）に達する開口を設け、表示パネルの外部から水分等の不純物が侵入しても、発光素子３０４に到達しにくい構造とすることが好ましい。
図１８（Ａ）に、接続部３０６近傍の絶縁層３１４に上記の開口を設けていない場合を示す。図１８（Ａ）の構成のように、絶縁層３１４が表示パネル全面にわたって設けられていると、剥離工程の歩留まりを高めることができるため、好ましい。
図１８（Ｂ）の接続部３０６近傍では、絶縁層３１４が、表示パネルの端部に位置しない場合を示す。図１８（Ｂ）の構成では、有機材料を用いた絶縁層が表示パネルの端部に位置しないため、発光素子３０４に不純物が侵入することを抑制できる。
発光素子３０４は、電極３２１、ＥＬ層３２２、及び電極３２３を有する。発光素子３０４は、光学調整層３２４を有していてもよい。発光素子３０４は、着色層３２５側に光を射出する。
トランジスタ、容量素子、及び配線等を、発光素子３０４の発光領域と重ねて配置することで、表示部３８１の開口率を高めることができる。
電極３２１及び電極３２３のうち、一方は、陽極として機能し、他方は、陰極として機能する。電極３２１及び電極３２３の間に、発光素子３０４の閾値電圧より高い電圧を印加すると、ＥＬ層３２２に陽極側から正孔が注入され、陰極側から電子が注入される。注入された電子と正孔はＥＬ層３２２において再結合し、ＥＬ層３２２に含まれる発光物質が発光する。
電極３２１は、トランジスタ３０３のソースまたはドレインと電気的に接続される。これらは、直接接続されるか、他の導電層を介して接続される。電極３２１は、画素電極として機能し、発光素子３０４ごとに設けられている。隣り合う２つの電極３２１は、絶縁層３１５によって電気的に絶縁されている。
ＥＬ層３２２は、発光材料を含む層である。発光素子３０４には、発光材料として有機化合物を用いた有機ＥＬ素子を好適に用いることができる。
ＥＬ層３２２は少なくとも１層の発光層を有する。
発光材料としては量子ドットも用いることができる。量子ドットは、数ｎｍサイズの半導体ナノ結晶であり、１×１０３個から１×１０６個程度の原子から構成されている。量子ドットはサイズに依存してエネルギーシフトするため、同じ物質から構成される量子ドットであっても、サイズによって発光波長が異なり、用いる量子ドットのサイズを変更することによって容易に発光波長を調整することができる。
量子ドットは、発光スペクトルのピーク幅が狭いため、色純度のよい発光を得ることができる。さらに、量子ドットの理論的な内部量子効率はほぼ１００％であると言われており、量子ドットを発光材料として用いることによって発光効率の高い発光素子を得ることができる。その上、無機化合物である量子ドットはその本質的な安定性にも優れているため、寿命の観点からも好ましい発光素子を得ることができる。
量子ドットを構成する材料としては、周期表第１４族元素、周期表第１５族元素、周期表第１６族元素、複数の周期表第１４族元素からなる化合物、周期表第４族から周期表第１４族に属する元素と周期表第１６族元素との化合物、周期表第２族元素と周期表第１６族元素との化合物、周期表第１３族元素と周期表第１５族元素との化合物、周期表第１３族元素と周期表第１７族元素との化合物、周期表第１４族元素と周期表第１５族元素との化合物、周期表第１１族元素と周期表第１７族元素との化合物、酸化鉄類、酸化チタン類、カルコゲナイドスピネル類、各種半導体クラスターなどを挙げることができる。
量子ドットを構成する材料としては、例えば、セレン化カドミウム、硫化カドミウム、テルル化カドミウム、硫化亜鉛、リン化インジウム、セレン化鉛、硫化鉛、セレンと亜鉛とカドミウムの化合物、カドミウムとセレンと硫黄の化合物などが挙げられる。また、組成が任意の比率で表される、いわゆる合金型量子ドットを用いてもよい。例えば、カドミウムとセレンと硫黄の合金型量子ドットは、元素の含有比率を変化させることで発光波長を変えることができるため、青色発光を得るには有効な手段の一つである。
量子ドットの構造としては、コア型、コア−シェル型、コア−マルチシェル型などがあり、そのいずれを用いてもよい。発光の量子効率が大きく改善するため、コア−シェル型またはコア−マルチシェル型の量子ドットを用いることが好ましい。シェルの材料の例としては、硫化亜鉛や酸化亜鉛が挙げられる。
量子ドットは、表面原子の割合が高いことから、反応性が高く、凝集が起こりやすい。そのため、量子ドットの表面には保護剤が付着しているまたは保護基が設けられていることが好ましい。これにより、量子ドットの凝集を防ぎ、溶媒への溶解性を高めることができる。また、反応性を低減させ、電気的安定性を向上させることもできる。
量子ドットのサイズ（直径）は０．５ｎｍ以上２０ｎｍ以下、好ましくは１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の範囲のものが通常よく用いられる。なお、量子ドットはそのサイズ分布が狭いほど、発光スペクトルがより狭線化し、色純度の良好な発光を得ることができる。また、量子ドットの形状は特に限定されず、球状、棒状、円盤状、その他の形状であってもよい。
量子ドットはホスト材料を用いずに量子ドットのみで発光層を構成しても発光効率を保つことができるため、この点でも寿命という観点から好ましい発光素子を得ることができる。量子ドットのみで発光層を形成する場合には、量子ドットはコア−シェル構造（コア−マルチシェル構造を含む）であることが好ましい。
電極３２３は、共通電極として機能し、複数の発光素子３０４にわたって設けられている。電極３２３には、定電位が供給される。
発光素子３０４は、接着層３１７を介して着色層３２５と重なる。スペーサ３１６は、接着層３１７を介して遮光層３２６と重なる。図１６（Ｃ）では、発光素子３０４と遮光層３２６との間に隙間がある場合を示しているが、これらが接していてもよい。図１６（Ｃ）では、スペーサ３１６を基板２０１側に設ける構成を示したが、基板２１１側（例えば遮光層３２６よりも基板２０１側）に設けてもよい。
カラーフィルタ（着色層３２５）とマイクロキャビティ構造（光学調整層３２４）との組み合わせにより、表示パネルからは、色純度の高い光を取り出すことができる。光学調整層３２４の膜厚は、各画素の色に応じて変化させる。
着色層は特定の波長帯域の光を透過する有色層である。例えば、赤色、緑色、青色、または黄色の波長帯域の光を透過するカラーフィルタなどを用いることができる。着色層に用いることのできる材料としては、金属材料、樹脂材料、または、顔料もしくは染料が含まれた樹脂材料などが挙げられる。
なお、本発明の一態様は、カラーフィルタ方式に限られず、塗り分け方式、色変換方式、または量子ドット方式等を適用してもよい。
遮光層は、隣接する着色層の間に設けられている。遮光層は隣接する発光素子からの光を遮り、隣接する発光素子間における混色を抑制する。ここで、着色層の端部を、遮光層と重なるように設けることにより、光漏れを抑制することができる。遮光層としては、発光素子の光を遮る材料を用いることができ、例えば、金属材料、または、顔料もしくは染料を含む樹脂材料等を用いてブラックマトリクスを形成することができる。なお、遮光層は、駆動回路などの画素部以外の領域に設けると、導波光などによる意図しない光漏れを抑制できるため好ましい。
接続部３０６は、導電層３０７及び導電層３５５を有する。導電層３０７と導電層３５５は、電気的に接続されている。導電層３０７は、トランジスタのソース及びドレインと同一の材料、及び同一の工程で形成することができる。導電層３５５は、駆動回路部３８２に外部からの信号や電位を伝達する外部入力端子と電気的に接続する。ここでは、外部入力端子としてＦＰＣ３７３を設ける例を示している。接続体３１９を介してＦＰＣ３７３と導電層３５５は電気的に接続する。
接続体３１９としては、様々な異方性導電フィルム（ＡＣＦ：Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ）及び異方性導電ペースト（ＡＣＰ：Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｐａｓｔｅ）などを用いることができる。
図１８（Ａ）に示すトランジスタ３０１、３０２、３０３は、２つのゲート、ゲート絶縁層３１１、半導体層、ソース、及びドレインを有する。図１８（Ａ）では、各トランジスタに、半導体層を２つのゲートで挟持する構成を適用した例を示している。このようなトランジスタは他のトランジスタと比較して電界効果移動度を高めることができ、オン電流を増大させることができる。その結果、高速動作が可能な回路を作製することができる。さらには、回路の占有面積を縮小することができる。オン電流の大きなトランジスタを適用することで、表示パネルを大型化または高精細化し配線数が増大しても、各配線における信号遅延を低減することができ、表示の輝度のばらつきを低減することができる。図１８（Ａ）では、絶縁層３１３と絶縁層３１４の間に、一方のゲートを作製する例を示す。
図１８（Ａ）に示すように、表示パネルは、オーバーコート３２９を有することが好ましい。オーバーコート３２９は、着色層３２５に含有された不純物等の発光素子３０４への拡散を防止することができる。オーバーコート３２９は、発光素子３０４の光を透過する材料から構成される。例えば、窒化シリコン膜、酸化シリコン膜等の無機絶縁膜、または、アクリル膜、ポリイミド膜等の有機絶縁膜を用いることができ、有機絶縁膜と無機絶縁膜との積層構造としてもよい。図１８（Ａ）では、オーバーコート３２９が表示パネルの一面全体に位置する例を示す。オーバーコート３２９は、可視光を透過する領域１１０に設けられていなくてもよい。
また、接着層３１７の材料を着色層３２５及び遮光層３２６上に塗布する場合、オーバーコート３２９の材料として接着層３１７の材料に対して濡れ性の高い材料を用いることが好ましい。例えば、オーバーコート３２９として、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）膜などの酸化物導電膜、または透光性を有する程度に薄いＡｇ膜等の金属膜を用いることが好ましい。
オーバーコート３２９に、接着層３１７の材料に対して濡れ性の高い材料を用いることで、接着層３１７の材料を均一に塗布することができる。これにより、一対の基板を貼り合わせた際に気泡が混入することを抑制でき、表示不良を抑制できる。
基板２０１及び基板２１１としては、可撓性を有する基板を用いることが好ましい。例えば、可撓性を有する程度の厚さのガラス、石英、樹脂、金属、合金、半導体などの材料を用いることができる。発光素子からの光を取り出す側の基板は、該光を透過する材料を用いる。例えば、基板の厚さは、１μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、１μｍ以上１００μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がさらに好ましく、１０μｍ以上２５μｍ以下がさらに好ましい。可撓性を有する基板の厚さ及び硬さは、機械的強度及び可撓性を両立できる範囲とする。可撓性を有する基板は単層構造であっても積層構造であってもよい。
ガラスに比べて樹脂は比重が小さいため、可撓性を有する基板として樹脂を用いると、ガラスを用いる場合に比べて表示パネルを軽量化でき、好ましい。
基板には、靱性が高い材料を用いることが好ましい。これにより、耐衝撃性に優れ、破損しにくい表示パネルを実現できる。例えば、樹脂基板、または、厚さの薄い金属基板もしくは合金基板を用いることで、ガラス基板を用いる場合に比べて、軽量であり、破損しにくい表示パネルを実現できる。
金属材料及び合金材料は熱伝導性が高く、基板全体に熱を容易に伝導できるため、表示パネルの局所的な温度上昇を抑制することができ、好ましい。金属材料または合金材料を用いた基板の厚さは、１０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。
金属基板または合金基板を構成する材料としては、特に限定はないが、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、または、アルミニウム合金もしくはステンレス等の金属の合金などを好適に用いることができる。半導体基板を構成する材料としては、シリコン等が挙げられる。
また、基板に、熱放射率が高い材料を用いると表示パネルの表面温度が高くなることを抑制でき、表示パネルの破壊、及び信頼性の低下を抑制できる。例えば、基板を金属基板と熱放射率の高い層（例えば、金属酸化物またはセラミック材料を用いることができる）の積層構造としてもよい。
可撓性及び透光性を有する材料としては、例えば、ＰＥＴ、ＰＥＮ等のポリエステル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ＰＣ樹脂、ＰＥＳ樹脂、ポリアミド樹脂（ナイロン、アラミド等）、ポリシロキサン樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ＰＴＦＥ樹脂、ＡＢＳ樹脂等が挙げられる。特に、線膨張係数の低い材料を用いることが好ましく、例えば、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ＰＥＴ等を好適に用いることができる。また、繊維体に樹脂を含浸した基板、及び、無機フィラーを樹脂に混ぜて線膨張係数を下げた基板等を使用することもできる。
可撓性を有する基板としては、上記材料を用いた層が、装置の表面を傷などから保護するハードコート層（例えば、窒化シリコン層など）、押圧を分散可能な材質の層（例えば、アラミド樹脂層など）等の少なくとも一と積層されて構成されていてもよい。また、保護基板１３２として用いることができる基板を用いてもよい。
可撓性を有する基板は、ガラス層を有する構成とすると、水及び酸素に対するバリア性を向上させ、信頼性の高い表示パネルとすることができる。
接着層には、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、反応硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、嫌気型接着剤などの各種硬化型接着剤を用いることができる。また、接着シート等を用いてもよい。
また、接着層には乾燥剤を含んでいてもよい。例えば、アルカリ土類金属の酸化物（酸化カルシウム、酸化バリウム等）のように、化学吸着によって水分を吸着する物質を用いることができる。または、ゼオライトまたはシリカゲル等のように、物理吸着によって水分を吸着する物質を用いてもよい。乾燥剤が含まれていると、水分などの不純物が機能素子に侵入することを抑制でき、表示パネルの信頼性が向上するため好ましい。
また、接着層に屈折率の高いフィラーまたは光散乱部材を含ませることで、発光素子からの光取り出し効率を向上させることができる。例えば、酸化チタン、酸化バリウム、ゼオライト、ジルコニウム等を用いることができる。
発光素子としては、自発光が可能な素子を用いることができ、電流または電圧によって輝度が制御される素子をその範疇に含んでいる。例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、有機ＥＬ素子、無機ＥＬ素子等を用いることができる。なお、本発明の一態様の表示パネルには、様々な表示素子を用いることができる。例えば、液晶素子、電気泳動素子、ＭＥＭＳを用いた表示素子等を適用してもよい。
発光素子は、トップエミッション型、ボトムエミッション型、デュアルエミッション型のいずれであってもよい。光を取り出す側の電極には、可視光を透過する導電膜を用いる。また、光を取り出さない側の電極には、可視光を反射する導電膜を用いることが好ましい。
可視光を透過する導電膜は、例えば、酸化インジウム、ＩＴＯ、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、ガリウムを添加したＺｎＯなどを用いて形成することができる。また、金、銀、白金、マグネシウム、ニッケル、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、パラジウム、もしくはチタン等の金属材料、これら金属材料を含む合金、またはこれら金属材料の窒化物（例えば、窒化チタン）等も、透光性を有する程度に薄く形成することで用いることができる。また、上記材料の積層膜を導電膜として用いることができる。例えば、銀とマグネシウムの合金とＩＴＯの積層膜などを用いると、導電性を高めることができるため好ましい。また、グラフェン等を用いてもよい。
可視光を反射する導電膜は、例えば、アルミニウム、金、白金、銀、ニッケル、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、もしくはパラジウム等の金属材料、またはこれら金属材料を含む合金を用いることができる。また、上記金属材料または合金に、ランタン、ネオジム、またはゲルマニウム等が添加されていてもよい。また、アルミニウムとチタンの合金、アルミニウムとニッケルの合金、アルミニウムとネオジムの合金、アルミニウム、ニッケル、及びランタンの合金（Ａｌ−Ｎｉ−Ｌａ）等のアルミニウムを含む合金（アルミニウム合金）、銀と銅の合金、銀とパラジウムと銅の合金（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ、ＡＰＣとも記す）、銀とマグネシウムの合金等の銀を含む合金を用いてもよい。銀と銅を含む合金は、耐熱性が高いため好ましい。さらに、アルミニウム合金膜に接する金属膜または金属酸化物膜を積層することで、アルミニウム合金膜の酸化を抑制することができる。該金属膜、金属酸化物膜の材料としては、チタン、酸化チタンなどが挙げられる。また、上記可視光を透過する導電膜と金属材料からなる膜とを積層してもよい。例えば、銀とＩＴＯの積層膜、銀とマグネシウムの合金とＩＴＯの積層膜などを用いることができる。
電極は、それぞれ、蒸着法またはスパッタリング法を用いて形成することができる。そのほか、インクジェット法などの吐出法、スクリーン印刷法などの印刷法、またはメッキ法を用いて形成することができる。
ＥＬ層３２２は少なくとも発光層を有する。ＥＬ層３２２は、複数の発光層を有していてもよい。ＥＬ層３２２は、発光層以外の層として、正孔注入性の高い物質、正孔輸送性の高い物質、正孔ブロック材料、電子輸送性の高い物質、電子注入性の高い物質、またはバイポーラ性の物質（電子輸送性及び正孔輸送性が高い物質）等を含む層をさらに有していてもよい。
ＥＬ層３２２には低分子系化合物及び高分子系化合物のいずれを用いることもでき、無機化合物を含んでいてもよい。ＥＬ層３２２を構成する層は、それぞれ、蒸着法（真空蒸着法を含む）、転写法、印刷法、インクジェット法、塗布法等の方法で形成することができる。
発光素子３０４は、２種類以上の発光物質を含んでいてもよい。これにより、例えば、白色発光の発光素子を実現することができる。例えば２種類以上の発光物質の各々の発光が補色の関係となるように、発光物質を選択することにより白色発光を得ることができる。例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、Ｙ（黄）、またはＯ（橙）等の発光を示す発光物質、またはＲ、Ｇ、Ｂのうち２以上の色のスペクトル成分を含む発光を示す発光物質を用いることができる。
また、発光素子３０４は、ＥＬ層を１つ有するシングル素子であってもよいし、電荷発生層を介して積層されたＥＬ層を複数有するタンデム素子であってもよい。
表示パネルが有するトランジスタの構造は特に限定されない。例えば、プレーナ型のトランジスタとしてもよいし、スタガ型のトランジスタとしてもよいし、逆スタガ型のトランジスタとしてもよい。また、トップゲート型またはボトムゲート型のいずれのトランジスタ構造としてもよい。または、チャネルの上下にゲート電極が設けられていてもよい。
トランジスタに用いる半導体材料の結晶性についても特に限定されず、非晶質半導体、結晶性を有する半導体（微結晶半導体、多結晶半導体、単結晶半導体、または一部に結晶領域を有する半導体）のいずれを用いてもよい。結晶性を有する半導体を用いると、トランジスタ特性の劣化を抑制できるため好ましい。
トランジスタに用いる半導体材料は特に限定されず、例えば、第１４族の元素、化合物半導体または酸化物半導体を半導体層に用いることができる。代表的には、シリコンを含む半導体、ガリウムヒ素を含む半導体、またはインジウムを含む酸化物半導体などを適用できる。
特に、トランジスタのチャネルが形成される半導体に、酸化物半導体を適用することが好ましい。特にシリコンよりもバンドギャップの大きな酸化物半導体を適用することが好ましい。シリコンよりもバンドギャップが広く、且つキャリア密度の小さい半導体材料を用いると、トランジスタのオフ状態における電流を低減できるため好ましい。
例えば、上記酸化物半導体として、少なくともインジウム（Ｉｎ）もしくは亜鉛（Ｚｎ）を含むことが好ましい。より好ましくは、Ｉｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｌａ、Ｃｅ、ＨｆまたはＮｄ等の金属）で表記される酸化物を含む。
トランジスタに用いる半導体材料として、ＣＡＡＣ−ＯＳ（Ｃ Ａｘｉｓ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）を用いることが好ましい。ＣＡＡＣ−ＯＳは非晶質とは異なり、欠陥準位が少なく、トランジスタの信頼性を高めることができる。また、ＣＡＡＣ−ＯＳは結晶粒界が確認されないという特徴を有するため、大面積に安定で均一な膜を形成することが可能で、また可撓性を有する表示パネルを湾曲させたときの応力によってＣＡＡＣ−ＯＳ膜にクラックが生じにくい。
ＣＡＡＣ−ＯＳは、膜面に対して、結晶のｃ軸が概略垂直配向した結晶性酸化物半導体のことである。酸化物半導体の結晶構造としては他にナノスケールの微結晶集合体であるナノ結晶（ｎｃ：ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌ）など、単結晶とは異なる多彩な構造が存在することが確認されている。ＣＡＡＣ−ＯＳは、単結晶よりも結晶性が低く、ｎｃに比べて結晶性が高い。
また、ＣＡＡＣ−ＯＳは、ｃ軸配向性を有し、かつａ−ｂ面方向において複数のペレット（ナノ結晶）が連結し、歪みを有した結晶構造となっている。よって、ＣＡＡＣ−ＯＳを、ＣＡＡ ｃｒｙｓｔａｌ（ｃ−ａｘｉｓ−ａｌｉｇｎｅｄ ａ−ｂ−ｐｌａｎｅ−ａｎｃｈｏｒｅｄ ｃｒｙｓｔａｌ）を有する酸化物半導体と称することもできる。
表示パネルが有する絶縁層には、有機絶縁材料または無機絶縁材料を用いることができる。樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミドアミド樹脂、シロキサン樹脂、ベンゾシクロブテン系樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。無機絶縁膜としては、酸化シリコン膜、酸化窒化シリコン膜、窒化酸化シリコン膜、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜、酸化ハフニウム膜、酸化イットリウム膜、酸化ジルコニウム膜、酸化ガリウム膜、酸化タンタル膜、酸化マグネシウム膜、酸化ランタン膜、酸化セリウム膜、及び酸化ネオジム膜等が挙げられる。
表示パネルが有する導電層には、それぞれ、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、銅、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、銀、タンタル、もしくはタングステンなどの金属、またはこれを主成分とする合金を単層構造または積層構造として用いることができる。または、酸化インジウム、ＩＴＯ、タングステンを含むインジウム酸化物、タングステンを含むインジウム亜鉛酸化物、チタンを含むインジウム酸化物、チタンを含むＩＴＯ、インジウム亜鉛酸化物、ＺｎＯ、ガリウムを添加したＺｎＯ、またはシリコンを含むインジウム錫酸化物等の透光性を有する導電性材料を用いてもよい。また、不純物元素を含有させるなどして低抵抗化させた、多結晶シリコンもしくは酸化物半導体等の半導体、またはニッケルシリサイド等のシリサイドを用いてもよい。また、グラフェンを含む膜を用いることもできる。グラフェンを含む膜は、例えば膜状に形成された酸化グラフェンを含む膜を還元して形成することができる。また、不純物元素を含有させた酸化物半導体等の半導体を用いてもよい。または、銀、カーボン、もしくは銅等の導電性ペースト、またはポリチオフェン等の導電性ポリマーを用いて形成してもよい。導電性ペーストは、安価であり、好ましい。導電性ポリマーは、塗布しやすく、好ましい。
図１６（Ｃ）に示す表示パネル３７０を２枚重ねて有する表示装置の断面図の一例を、図１７に示す。
図１７では、下側の表示パネルの表示領域１０１ａ（図１６（Ｃ）に示す表示部３８１と対応）及び可視光を遮る領域１２０ａ（図１６（Ｃ）に示す駆動回路部３８２等に対応）、並びに、上側の表示パネルの表示領域１０１ｂ（図１６（Ｃ）に示す表示部３８１と対応）及び可視光を透過する領域１１０ｂ（図１６（Ｃ）に示す可視光を透過する領域１１０に対応）を示す。
図１７に示す表示装置において、表示面側（上側）に位置する表示パネルは、可視光を透過する領域１１０ｂを表示領域１０１ｂと隣接して有する。下側の表示パネルの表示領域１０１ａは、上側の表示パネルの可視光を透過する領域１１０ｂと重なっている。したがって、重ねた２つの表示パネルの表示領域の間の非表示領域を縮小すること、さらには無くすことができる。これにより、使用者から表示パネルの継ぎ目が認識されにくい、大型の表示装置を実現することができる。
また、図１７に示す表示装置は、表示領域１０１ａと可視光を透過する領域１１０ｂの間に、空気よりも屈折率が高く、可視光を透過する透光層１０３を有する。これにより、表示領域１０１ａと可視光を透過する領域１１０ｂの間に空気が入ることを抑制でき、屈折率の差による界面での反射を低減することができる。そして、表示装置における表示ムラまたは輝度ムラの抑制が可能となる。
透光層１０３は、下側の表示パネルの基板２１１または上側の表示パネルの基板２０１の表面全体に重なっていてもよいし、表示領域１０１ａ及び可視光を透過する領域１１０ｂのみと重なっていてもよい。また、透光層１０３は、可視光を遮る領域１２０ａと重なっていてもよい。
例えば、透光層１０３としては、基材の両面に吸着層を有する吸着フィルムを適用することができる。
可視光を透過する領域１１０ｂは、光の反射が抑制された構成である。そのため、表示装置の使用者から、２枚の表示パネルが重なっている部分（重なり部）が視認されにくい。また、表示領域１０１ａの表示における、可視光を透過する領域１１０ｂを介して視認される部分と、該領域を介さずに視認される部分との輝度の差を小さくすることができる。
＜構成例２＞
図１９（Ａ）に、カラーフィルタ方式が適用された表示パネルの断面図を示す。なお、以降の構成例では、先の構成例と同様の構成については、詳細な説明を省略する。
図１９（Ａ）に示す表示パネルは、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、複数のトランジスタ、導電層３０７、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、絶縁層３１５、発光素子３０４、絶縁層２０８、導電層３５５、接着層３１７、着色層３２５、及び基板２１１を有する。
駆動回路部３８２は、トランジスタ３０１を有する。表示部３８１は、トランジスタ３０３を有する。
各トランジスタは、２つのゲート、ゲート絶縁層３１１、半導体層、ソース、及びドレインを有する。図１９（Ａ）では、電極３２１と同一の材料、及び同一の工程で、一方のゲートを作製する例を示す。
発光素子３０４は、着色層３２５側に光を射出する。発光素子３０４は、絶縁層３１４を介して着色層３２５と重なる。着色層３２５は、発光素子３０４と基板２０１の間に配置される。図１９（Ａ）では、着色層３２５を絶縁層３１３上に配置する例を示す。図１９（Ａ）では、遮光層及びスペーサを設けない例を示す。
絶縁層２０８は、発光素子３０４の封止層として機能する。絶縁層２０８には、防湿性の高い絶縁膜を用いることが好ましい。
表示部３８１では、第２の絶縁層２０７と絶縁層２０８との間に、発光素子３０４が位置する。表示パネル３７０の厚さ方向から、発光素子３０４に、不純物が侵入することが抑制されている。同様に、表示部３８１では、トランジスタを覆う絶縁層が複数設けられており、トランジスタに不純物が侵入することが抑制されている。
図１９（Ａ）に示す表示パネルは、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制された構成である。可視光を透過する領域１１０は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、接着層３１７、及び基板２１１をこの順で積層して有する。
第２の絶縁層２０７、絶縁層２０８、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、及び絶縁層３１５は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。
第１の絶縁層２０５と基板２０１は接着層２０３によって貼り合わされている。本発明の一態様の表示パネルの作製方法において、第１の絶縁層２０５は、作製基板との剥離界面に位置する層であり、かつ、表示パネル３７０の一面全体に設けられている。そのため、表示パネル３７０は高い歩留まりで作製が可能である。
＜構成例３＞
図１９（Ｂ）に、塗り分け方式が適用された表示パネルの断面図を示す。
図１９（Ｂ）に示す表示パネルは、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、複数のトランジスタ、導電層３０７、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、絶縁層３１５、スペーサ３１６、発光素子３０４、絶縁層２０８、接着層３１７、及び基板２１１を有する。
駆動回路部３８２はトランジスタ３０１を有する。表示部３８１は、トランジスタ３０２、トランジスタ３０３、及び容量素子３０５を有する。
各トランジスタは、２つのゲート、ゲート絶縁層３１１、半導体層、ソース、及びドレインを有する。図１９（Ｂ）では、各トランジスタに、半導体層を２つのゲートで挟持する構成を適用した例を示している。図１９（Ｂ）では、絶縁層３１３と絶縁層３１４の間に、一方のゲートを作製する例を示す。
発光素子３０４は、基板２１１側に光を射出する。図１９（Ｂ）では、発光素子３０４が光学調整層を有さない例を示す。
図１９（Ｂ）に示す表示パネルは、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制された構成である。具体的には、第２の絶縁層２０７、絶縁層２０８、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、及び絶縁層３１３は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。また、図１９（Ｂ）では、絶縁層３１４及び絶縁層３１５の端部が、可視光を透過する領域１１０に位置する例を示す。同様に、第２の絶縁層２０７、絶縁層２０８、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、及び絶縁層３１３の端部も、それぞれ、可視光を透過する領域１１０に位置する場合もある。つまり、各絶縁層は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０の少なくとも一部に設けられていない構成、とすることができる。
接続部３０６は、導電層３０７を有する。導電層３０７は接続体３１９を介してＦＰＣ３７３と電気的に接続する。
＜タッチパネル＞
本発明の一態様では、タッチセンサが搭載された表示パネル（入出力装置、タッチパネルともいう）を作製することができる。
本発明の一態様のタッチパネルが有する検知素子（センサ素子ともいう）に限定は無い。指もしくはスタイラスなどの被検知体の近接または接触を検知することのできる様々なセンサを、検知素子として適用することができる。
例えばセンサの方式としては、静電容量方式、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、光学方式、感圧方式など様々な方式を用いることができる。
本実施の形態では、静電容量方式の検知素子を有するタッチパネルを例に挙げて説明する。
静電容量方式としては、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等がある。また、投影型静電容量方式としては、自己容量方式、相互容量方式等がある。相互容量方式を用いると、同時多点検出が可能となるため好ましい。
本発明の一態様のタッチパネルは、別々に作製された表示パネルと検知素子とを貼り合わせる構成、表示素子を支持する基板及び対向基板の一方または双方に検知素子を構成する電極等を設ける構成等、様々な構成を適用することができる。
＜構成例４＞
図２０（Ａ）は、タッチパネル３００の斜視概略図である。図２０（Ｂ）は、図２０（Ａ）を展開した斜視概略図である。なお明瞭化のため、代表的な構成要素のみを示している。図２０（Ｂ）では、一部の構成要素（基板２６１、基板２１１等）を破線で輪郭のみ明示している。
タッチパネル３００は、入力装置３１０と、表示パネル３７０とを有し、これらが重ねて設けられている。タッチパネル３００は、可視光を透過する領域１１０を有する。可視光を透過する領域１１０は、表示部３８１に隣接し、表示部３８１の２辺に沿って配置されている。
入力装置３１０は、基板２６１、電極３３１、電極３３２、複数の配線３４１、及び複数の配線３４２を有する。ＦＰＣ３５０は、複数の配線３４１及び複数の配線３４２の各々と電気的に接続する。ＦＰＣ３５０にはＩＣ３５１が設けられている。
表示パネル３７０は、対向して設けられた基板２０１と基板２１１とを有する。表示パネル３７０は、表示部３８１及び駆動回路部３８２を有する。基板２０１上には、配線３８３等が設けられている。ＦＰＣ３７３は、配線３８３と電気的に接続される。ＦＰＣ３７３にはＩＣ３７４が設けられている。
配線３８３は、表示部３８１及び駆動回路部３８２に信号及び電力を供給する機能を有する。当該信号及び電力は、それぞれ、外部またはＩＣ３７４から、ＦＰＣ３７３を介して、配線３８３に入力される。
図２１に、タッチパネル３００の断面図の一例を示す。図２１では、表示部３８１、駆動回路部３８２、可視光を透過する領域１１０、ＦＰＣ３７３を含む領域、及びＦＰＣ３５０を含む領域等の断面構造を示す。さらに、図２１では、トランジスタのゲートと同一の導電層を加工して形成された配線と、トランジスタのソース及びドレインと同一の導電層を加工して形成された配線とが交差する交差部３８７の断面構造を示している。
基板２０１と基板２１１とは、接着層３１７によって貼り合わされている。基板２１１と基板２６１とは、接着層３９６によって貼り合わされている。ここで、基板２０１から基板２１１までの各層が、表示パネル３７０に相当する。また、基板２６１から電極３３４までの各層が入力装置３１０に相当する。つまり、接着層３９６は、表示パネル３７０と入力装置３１０を貼り合わせているといえる。または、基板２０１から第３の絶縁層２１５までの各層が、表示パネル３７０に相当する。そして、基板２６１から基板２１１までの各層が入力装置３１０に相当する。つまり、接着層２１３が、表示パネル３７０と入力装置３１０を貼り合わせているともいえる。
図２１に示す表示パネル３７０の構成は、図１６に示す表示パネルと同様の構成であるため、詳細な説明は省略する。
＜入力装置３１０＞
基板２６１の基板２１１側には、電極３３１及び電極３３２が設けられている。ここでは、電極３３１が、電極３３３及び電極３３４を有する場合の例を示している。図２１中の交差部３８７に示すように、電極３３２と電極３３３は同一平面上に形成されている。絶縁層３９５は、電極３３２及び電極３３３を覆うように設けられている。電極３３４は、絶縁層３９５に設けられた開口を介して、電極３３２を挟むように設けられる２つの電極３３３と電気的に接続している。
基板２６１の端部に近い領域には、接続部３０８が設けられている。接続部３０８は、配線３４２と、電極３３４と同一の導電層を加工して得られた導電層とを積層して有する。接続部３０８は、接続体３０９を介してＦＰＣ３５０が電気的に接続されている。
入力装置３１０は、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制された構成である。第６の絶縁層２６７及び絶縁層３９５は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。
タッチパネル３００の可視光を透過する領域１１０は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、接着層３１７、第３の絶縁層２１５、接着層２１３、基板２１１、接着層３９６、第５の絶縁層２６５、接着層２６３、及び基板２６１をこの順で積層して有する。
タッチパネル３００を２枚以上重ねた場合でも、タッチパネルの使用者から、複数のタッチパネル３００が重なっている部分（重なり部）が視認されにくい。また、表示部３８１の表示における、可視光を透過する領域１１０を介して視認される部分と、該領域を介さずに視認される部分との輝度の差を小さくすることができる。
基板２６１は、接着層２６３によって第５の絶縁層２６５と貼り合わされている。表示パネル３７０と同様に、入力装置３１０も、作製基板上で素子を作製し、作製基板を剥離した後、基板２６１に素子を転置することで作製することができる。本発明の一態様の入力装置の作製方法において、第５の絶縁層２６５は、作製基板との剥離界面に位置する層であり、かつ、入力装置３１０の一面全体に設けられている。そのため、入力装置３１０は高い歩留まりで作製が可能である。
または、基板２６１上に直接、絶縁層及び素子等を形成してもよい（図２２（Ａ）参照）。
＜構成例５＞
図２２（Ａ）に示すタッチパネルは、接着層２６３、第５の絶縁層２６５、及び第６の絶縁層２６７を有していない点、絶縁層３９３を有する点、及び、トランジスタ３０１、３０２、３０３、及び容量素子３０５の構成が異なる点で、図２１に示すタッチパネルと異なる。
図２２（Ａ）では、タッチパネルに、トップゲート構造のトランジスタを適用する例を示す。
各トランジスタは、ゲート、ゲート絶縁層３１１、半導体層、ソース、及びドレインを有する。ゲートと半導体層は、ゲート絶縁層３１１を介して重なる。半導体層は、低抵抗化された領域３４８を有していてもよい。低抵抗化された領域３４８は、トランジスタのソース及びドレインとして機能する。
絶縁層３１３上に設けられた導電層は引き回し配線として機能する。該導電層は、絶縁層３１３、絶縁層３１２、及びゲート絶縁層３１１に設けられた開口を介して、領域３４８と電気的に接続している。
図２２（Ａ）では、容量素子３０５が、半導体層と同一の半導体層を加工して形成した層と、ゲート絶縁層３１１と、ゲートと同一の導電層を加工して形成した層の積層構造を有する。ここで、容量素子３０５の半導体層の一部には、トランジスタのチャネルが形成される領域３４７よりも導電性の高い領域３４９が形成されていることが好ましい。
領域３４８及び領域３４９は、それぞれ、トランジスタのチャネルが形成される領域３４７よりも不純物を多く含む領域、キャリア濃度の高い領域、または結晶性が低い領域などとすることができる。
本発明の一態様の表示パネルには、図２２（Ｂ）〜（Ｄ）に示すトランジスタ８４８を適用することもできる。
図２２（Ｂ）に、トランジスタ８４８の上面図を示す。図２２（Ｃ）は、本発明の一態様の表示パネルの、トランジスタ８４８のチャネル長方向の断面図である。図２２（Ｃ）に示すトランジスタ８４８は、図２２（Ｂ）における一点鎖線Ｘ１−Ｘ２間の断面に相当する。図２２（Ｄ）は、本発明の一態様の表示パネルの、トランジスタ８４８のチャネル幅方向の断面図である。図２２（Ｄ）に示すトランジスタ８４８は、図２２（Ｂ）における一点鎖線Ｙ１−Ｙ２間の断面に相当する。
トランジスタ８４８はバックゲートを有するトップゲート型のトランジスタの一種である。
トランジスタ８４８では、絶縁層７７２に設けた凸部上に半導体層７４２が形成されている。絶縁層７７２に設けた凸部上に半導体層７４２を設けることによって、半導体層７４２の側面もゲート７４３で覆うことができる。すなわち、トランジスタ８４８は、ゲート７４３の電界によって、半導体層７４２を電気的に取り囲むことができる構造を有している。このように、導電膜の電界によって、チャネルが形成される半導体膜を電気的に取り囲むトランジスタの構造を、ｓｕｒｒｏｕｎｄｅｄ ｃｈａｎｎｅｌ（ｓ−ｃｈａｎｎｅｌ）構造とよぶ。また、ｓ−ｃｈａｎｎｅｌ構造を有するトランジスタを、「ｓ−ｃｈａｎｎｅｌ型トランジスタ」もしくは「ｓ−ｃｈａｎｎｅｌトランジスタ」ともいう。
ｓ−ｃｈａｎｎｅｌ構造では、半導体層７４２の全体（バルク）にチャネルを形成することもできる。ｓ−ｃｈａｎｎｅｌ構造では、トランジスタのドレイン電流を大きくすることができ、さらに大きいオン電流を得ることができる。また、ゲート７４３の電界によって、半導体層７４２に形成されるチャネル形成領域の全領域を空乏化することができる。したがって、ｓ−ｃｈａｎｎｅｌ構造では、トランジスタのオフ電流をさらに小さくすることができる。
バックゲート７２３は第２の絶縁層２０７上に設けられている。
絶縁層７２９上に設けられた導電層７４４ａは、ゲート絶縁層３１１、絶縁層７２８、及び絶縁層７２９に設けられた開口７４７ｃにおいて、半導体層７４２と電気的に接続されている。また、絶縁層７２９上に設けられた導電層７４４ｂは、ゲート絶縁層３１１、絶縁層７２８、及び絶縁層７２９に設けられた開口７４７ｄにおいて、半導体層７４２と電気的に接続されている。
ゲート絶縁層３１１上に設けられたゲート７４３は、ゲート絶縁層３１１及び絶縁層７７２に設けられた開口７４７ａ及び開口７４７ｂにおいて、バックゲート７２３と電気的に接続されている。よって、ゲート７４３とバックゲート７２３には、同じ電位が供給される。また、開口７４７ａ及び開口７４７ｂは、どちらか一方を設けなくてもよい。また、開口７４７ａ及び開口７４７ｂの両方を設けなくてもよい。開口７４７ａ及び開口７４７ｂの両方を設けない場合は、バックゲート７２３とゲート７４３に異なる電位を供給することができる。
なお、ｓ−ｃｈａｎｎｅｌ構造を有するトランジスタに用いる半導体としては、酸化物半導体、または、多結晶シリコン、もしくは単結晶シリコン基板等から転置された単結晶シリコン等のシリコンなどが挙げられる。
入力装置３１０は、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制された構成である。具体的には、絶縁層３９５は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。さらに、可視光を透過する領域１１０は、絶縁層３９３を有していなくてもよい。
＜構成例６＞
図２３は、一対の基板（基板２０１及び基板２１１）の間に、タッチセンサ及び発光素子３０４を有する例である。基板を２枚とすることで、タッチパネルの薄型化、軽量化、さらにはフレキシブル化が可能となる。
図２３の構成は、表示パネルの作製方法において、作製基板上に形成する被剥離層の構成を変えることで、作製することができる。
図１６（Ｃ）の構成は、作製基板上の被剥離層として、第３の絶縁層２１５、第４の絶縁層２１７、着色層３２５、及び遮光層３２６を形成することで作製できる。
一方、図２３に示す構成を作製する場合は、第３の絶縁層２１５及び第４の絶縁層２１７を形成した後、第４の絶縁層２１７上に電極３３２、電極３３３、及び配線３４２を形成する。次に、これら電極を覆う絶縁層３９５を形成する。次に、絶縁層３９５上に電極３３４を形成する。次に、電極３３４を覆う絶縁層３２７を形成する。そして、絶縁層３２７上に、着色層３２５及び遮光層３２６を形成する。そして、作製基板２３１と貼り合わせ、各作製基板を剥離し、可撓性を有する基板を貼り合わせることで、図２３に示す構成のタッチパネルを作製することができる。
図２３に示すタッチパネルは、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制された構成である。具体的には、第２の絶縁層２０７、第４の絶縁層２１７、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、絶縁層３１５、絶縁層３９５、及び絶縁層３２７は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。
＜構成例７＞
図２４（Ａ）、（Ｂ）は、タッチパネル３２０の斜視概略図である。
タッチパネル３２０は、可視光を透過する領域１１０を有する。可視光を透過する領域１１０は、表示部３８１に隣接し、表示部３８１の２辺に沿って配置されている。
図２４（Ａ）、（Ｂ）において、入力装置３１８は、表示パネル３７９が有する基板２１１に設けられている。また、入力装置３１８の配線３４１及び配線３４２等は、表示パネル３７９に設けられたＦＰＣ３５０と電気的に接続する。
このような構成とすることで、タッチパネル３２０に接続するＦＰＣを１つの基板側（ここでは基板２０１側）にのみ配置することができる。図２４（Ａ）、（Ｂ）では、タッチパネル３２０に２つのＦＰＣを取り付けた構成を示す。タッチパネル３２０は、複数のＦＰＣを取り付ける構成に限られない。タッチパネル３２０に１つのＦＰＣを設け、該ＦＰＣから、表示パネル３７９と入力装置３１８の両方に信号を供給する構成とすると、より構成を簡略化できる。
ＩＣ３７４は表示パネル３７９を駆動する機能を有する。ＩＣ３５１は、入力装置３１８を駆動する機能を有する。
図２５に、タッチパネル３２０の断面図の一例を示す。図２５では、表示部３８１、駆動回路部３８２、接続部３８５、可視光を透過する領域１１０、及びＦＰＣ３７３を含む領域等の断面構造を示す。さらに、図２５では、トランジスタのゲートと同一の導電層を加工して形成された配線と、トランジスタのソース及びドレインと同一の導電層を加工して形成された配線とが交差する交差部３８７の断面構造を示している。
接続部３８５では、配線３４２（または配線３４１）の１つと、導電層３０７の１つとが、接続体３８６を介して電気的に接続している。
接続体３８６としては、例えば導電性の粒子を用いることができる。導電性の粒子としては、有機樹脂またはシリカなどの粒子の表面を金属材料で被覆したものを用いることができる。金属材料としてニッケルまたは金を用いると接触抵抗を低減できるため好ましい。またニッケルをさらに金で被覆するなど、２種類以上の金属材料を層状に被覆させた粒子を用いることが好ましい。また接続体３８６として弾性変形もしくは塑性変形する材料を用いることが好ましい。このとき導電性の粒子は図２５に示すように上下方向に潰れた形状となる場合がある。こうすることで接続体３８６と、これと電気的に接続する導電層との接触面積が増大し、接触抵抗が低減できるほか、接続不良などの不具合の発生を抑制できる。
接続体３８６は接着層３１７に覆われるように配置することが好ましい。例えば硬化前の接着層３１７に、接続体３８６を分散させておけばよい。接着層３１７が設けられる部分に接続部３８５を配置することで、図２５のように接着層３１７を発光素子３０４上にも配置する構成（固体封止構造ともいう）だけでなく、例えば中空封止構造の発光パネル、または液晶表示パネル等、接着層３１７を周辺に用いる構成であれば同様に適用することができる。
図２５では、光学調整層３２４が電極３２１の端部を覆わない例を示す。図２５では、スペーサ３１６が駆動回路部３８２にも設けられている例を示す。
図２５に示すタッチパネルは、可視光を透過する領域１１０における光の反射が抑制された構成である。具体的には、第２の絶縁層２０７、第４の絶縁層２１７、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、絶縁層３１５、絶縁層３９５、及び絶縁層３２７は、表示部３８１に設けられ、かつ、可視光を透過する領域１１０に設けられていない。
＜構成例８＞
図２６（Ａ）に示すタッチパネルは、タッチセンサを構成する電極等と、基板２１１との間に遮光層３２６が設けられている。具体的には、第４の絶縁層２１７と絶縁層３２８の間に遮光層３２６が設けられている。基板２１１側からみて、絶縁層３２８上には、電極３３２、電極３３３、配線３４２等の導電層と、これらを覆う絶縁層３９５と、絶縁層３９５上の電極３３４等が設けられている。また、電極３３４及び絶縁層３９５上に、絶縁層３２７が設けられ、絶縁層３２７上に着色層３２５が設けられている。
絶縁層３２７及び絶縁層３２８は、平坦化膜としての機能を有する。なお、絶縁層３２７及び絶縁層３２８は、それぞれ不要であれば設けなくてもよい。
このような構成とすることで、タッチセンサを構成する電極等よりも基板２１１側に設けられた遮光層３２６によって、当該電極等が使用者から視認されてしまうことを抑制することができる。したがって、厚さが薄いだけでなく、表示品位が向上したタッチパネルを実現することができる。
また、図２６（Ｂ）に示すように、タッチパネルは、第４の絶縁層２１７と絶縁層３２８の間に遮光層３２６ａを有し、かつ、絶縁層３２７と接着層３１７の間に遮光層３２６ｂを有していてもよい。遮光層３２６ｂを設けることで、光漏れをより確実に抑制することができる。
以上のように、本実施の形態の表示パネルは、可視光を透過する領域に含まれる、屈折率の差が大きい界面が少ない構成である。これにより、可視光を透過する領域における外光の反射を抑制することができる。また、可視光を透過する領域の光の透過率を高めることができる。したがって、本発明の一態様の表示装置に適用することで、継ぎ目が視認されにくい広い表示領域を有する表示装置を提供することができる。また、表示装置の表示ムラもしくは輝度ムラの抑制が可能となる。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
（実施の形態３）
本実施の形態では、本発明の一態様の表示装置に用いることができる表示パネルについて、図を用いて説明する。なお、実施の形態２と同様の構成については、詳細な説明を省略する。
本発明の一態様の表示パネルにおける、表示部３８１と可視光を透過する領域１１０の境界の断面構成例について、図２７（Ａ）、（Ｂ）、及び図２８を用いて説明する。
図２７（Ａ）、（Ｂ）、及び図２８に示す表示部３８１の左側の部分は、共通の構造である。
表示部３８１は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、トランジスタ３０２、トランジスタ３０３、容量素子３０５、導電層３４５、絶縁層３１２、絶縁層３１３、絶縁層３１４、絶縁層３１５、発光素子３０４、スペーサ３１６、接着層３１７、着色層３２５、遮光層３２６、基板２１１、接着層２１３、第３の絶縁層２１５、及び第４の絶縁層２１７を有する。
発光素子３０４は、電極３２１、光学調整層３２４、ＥＬ層３２２、及び電極３２３を有する。
図２７（Ａ）、（Ｂ）では、第２の絶縁層２０７の端部、トランジスタのゲート絶縁層の端部、絶縁層３１２の端部、及び絶縁層３１３の端部を、絶縁層３１４が覆っている。そして、絶縁層３１４の端部よりも内側に絶縁層３１５の端部が位置し、絶縁層３１５の端部は、絶縁層３１４上に位置する。ＥＬ層３２２の端部は、絶縁層３１４に接している。
一方、図２８では、第２の絶縁層２０７の端部、トランジスタのゲート絶縁層の端部、絶縁層３１２の端部、絶縁層３１３の端部、絶縁層３１４の端部、及び絶縁層３１５の端部が全て揃っている。ＥＬ層３２２の端部は第１の絶縁層２０５に接している。
図２７（Ａ）、（Ｂ）の構成は、絶縁層３１４の端部が、絶縁層３１５の端部よりも外側に位置するため、図２８の構成に比べ、段差が小さく、ＥＬ層３２２及び電極３２３の被覆性を高めることができる。
ここで、第１の絶縁層２０５は無機絶縁膜であることが好ましく、絶縁層３１４は有機絶縁膜であることが好ましい。この場合、図２８の構成では、第１の絶縁層２０５とＥＬ層３２２の界面と、ＥＬ層３２２と電極３２３の界面の２か所で、有機膜と無機膜が接する。一方、図２７（Ａ）、（Ｂ）の構成では、ＥＬ層３２２が、第１の絶縁層２０５でなく、絶縁層３１４と接するため、有機膜と無機膜が接する界面の数を減らすことができる。有機膜と無機膜の界面は、有機膜どうしの界面に比べて、密着性が低いことがある。図２８の構成に比べて図２７（Ａ）、（Ｂ）の構成は、密着性の低い界面が少なく、表示パネルの作製工程における歩留まりの低下を抑制できる。
図２７（Ａ）では、ＥＬ層３２２と電極３２３の端部が揃っている例を示す。図２７（Ｂ）では、ＥＬ層３２２の端部と絶縁層３１４の端部を電極３２３が覆っており、電極３２３の端部が第１の絶縁層２０５に接している例を示す。電極３２３が絶縁層３１４の端部を覆うことで、表示パネルの信頼性を高めることができる。電極３２３が可視光を透過する導電層である場合、図２７（Ｂ）に示すように、可視光を透過する領域１１０に電極３２３が含まれていてもよい。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
（実施の形態４）
本実施の形態では、本発明の一態様の電子機器及び照明装置について図を用いて説明する。
電子機器としては、例えば、テレビジョン装置、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置ともいう）、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。
また、本発明の一態様の電子機器または照明装置は可撓性を有するため、家屋もしくはビルの内壁もしくは外壁、または、自動車の内装もしくは外装の曲面に沿って組み込むことも可能である。
また、本発明の一態様の電子機器は、二次電池を有していてもよく、非接触電力伝送を用いて、二次電池を充電することができると好ましい。
二次電池としては、例えば、ゲル状電解質を用いるリチウムポリマー電池（リチウムイオンポリマー電池）等のリチウムイオン二次電池、ニッケル水素電池、ニカド電池、有機ラジカル電池、鉛蓄電池、空気二次電池、ニッケル亜鉛電池、銀亜鉛電池などが挙げられる。
本発明の一態様の電子機器は、アンテナを有していてもよい。アンテナで信号を受信することで、表示部で映像または情報等の表示を行うことができる。また、電子機器がアンテナ及び二次電池を有する場合、アンテナを、非接触電力伝送に用いてもよい。
本発明の一態様の表示装置は、表示パネルの数を増やすことにより、表示領域の面積を上限なく大きくすることが可能である。したがって、本発明の一態様の表示装置はデジタルサイネージまたはＰＩＤなどに好適に用いることができる。また、本発明の一態様の表示装置は、表示パネルの配置方法を変えることで、表示領域の外形を様々な形状にすることができる。
図２９（Ａ）では、柱１５及び壁１６に、それぞれ、本発明の一態様の表示装置１０を適用した例を示している。表示装置１０に用いる表示パネルとして、可撓性を有する表示パネルを用いることで、曲面に沿って表示装置１０を設置することが可能となる。
ここで特に、デジタルサイネージまたはＰＩＤに本発明の一態様の表示装置を用いる場合には、表示パネルにタッチパネルを適用することで、表示領域に画像または動画を表示するだけでなく観察者が直感的に操作することが可能となるため好ましい。また、路線情報または交通情報などの情報を提供するための用途に用いる場合には、直感的な操作によりユーザビリティを高めることができる。なお、ビルまたは公共施設などの壁面に設置する場合などは、表示パネルにタッチパネルを適用しなくてもよい。
図２９（Ｂ）〜（Ｅ）に、湾曲した表示部７０００を有する電子機器の一例を示す。表示部７０００はその表示面が湾曲して設けられ、湾曲した表示面に沿って表示を行うことができる。なお、表示部７０００は可撓性を有していてもよい。
図２９（Ｂ）〜（Ｅ）に示す各電子機器が有する表示部７０００は、本発明の一態様の表示装置を用いて作製される。
図２９（Ｂ）に携帯電話機の一例を示す。携帯電話機７１００は、筐体７１０１、表示部７０００、操作ボタン７１０３、外部接続ポート７１０４、スピーカ７１０５、マイク７１０６等を有する。
図２９（Ｂ）に示す携帯電話機７１００は、表示部７０００にタッチセンサを備える。電話を掛ける、或いは文字を入力するなどのあらゆる操作は、指またはスタイラスなどで表示部７０００に触れることで行うことができる。
また、操作ボタン７１０３の操作により、電源のＯＮ、ＯＦＦ動作、または表示部７０００に表示される画像の種類を切り替えることができる。例えば、メール作成画面から、メインメニュー画面に切り替えることができる。
図２９（Ｃ）にテレビジョン装置の一例を示す。テレビジョン装置７２００は、筐体７２０１に表示部７０００が組み込まれている。ここでは、スタンド７２０３により筐体７２０１を支持した構成を示している。
図２９（Ｃ）に示すテレビジョン装置７２００の操作は、筐体７２０１が備える操作スイッチ、または別体のリモコン操作機７２１１により行うことができる。または、表示部７０００にタッチセンサを備えていてもよく、指等で表示部７０００に触れることで操作してもよい。リモコン操作機７２１１は、当該リモコン操作機７２１１から出力する情報を表示する表示部を有していてもよい。リモコン操作機７２１１が備える操作キーまたはタッチパネルにより、チャンネルまたは音量の操作を行うことができ、表示部７０００に表示される映像を操作することができる。
なお、テレビジョン装置７２００は、受信機またはモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができる。また、モデムを介して有線または無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向（送信者から受信者）または双方向（送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など）の情報通信を行うことも可能である。
図２９（Ｄ）に携帯情報端末の一例を示す。携帯情報端末７３００は、筐体７３０１及び表示部７０００を有する。さらに、操作ボタン、外部接続ポート、スピーカ、マイク、アンテナ、またはバッテリ等を有していてもよい。表示部７０００にはタッチセンサを備える。携帯情報端末７３００の操作は、指またはスタイラスなどで表示部７０００に触れることで行うことができる。
図２９（Ｄ）は、携帯情報端末７３００の斜視図であり、図２９（Ｅ）は携帯情報端末７３００の上面図である。
本実施の形態で例示する携帯情報端末は、例えば、電話機、手帳または情報閲覧装置等から選ばれた一つまたは複数の機能を有する。具体的には、スマートフォンとしてそれぞれ用いることができる。本実施の形態で例示する携帯情報端末は、例えば、移動電話、電子メール、文章閲覧及び作成、音楽再生、インターネット通信、コンピュータゲームなどの種々のアプリケーションを実行することができる。
携帯情報端末７３００は、文字または画像をその複数の面に表示することができる。例えば、図２９（Ｄ）に示すように、３つの操作ボタン７３０２を一の面に表示し、矩形で示す情報７３０３を他の面に表示することができる。図２９（Ｄ）、（Ｅ）では、携帯情報端末の上側に情報が表示される例を示す。または、携帯情報端末の横側に情報が表示されてもよい。また、携帯情報端末の３面以上に情報を表示してもよい。
なお、情報の例としては、ＳＮＳ（ソーシャル・ネットワーキング・サービス）の通知、電子メールまたは電話などの着信を知らせる表示、電子メールなどの題名もしくは送信者名、日時、時刻、バッテリの残量、アンテナ受信の強度などがある。または、情報が表示されている位置に、情報の代わりに、操作ボタン、アイコンなどを表示してもよい。
例えば、携帯情報端末７３００の使用者は、洋服の胸ポケットに携帯情報端末７３００を収納した状態で、その表示（ここでは情報７３０３）を確認することができる。
具体的には、着信した電話の発信者の電話番号または氏名等を、携帯情報端末７３００の上方から観察できる位置に表示する。使用者は、携帯情報端末７３００をポケットから取り出すことなく、表示を確認し、電話を受けるか否かを判断できる。
図２９（Ｆ）に、湾曲した発光部を有する照明装置の一例を示している。
図２９（Ｆ）に示す照明装置が有する発光部は、本発明の一態様の表示装置を用いて作製される。
図２９（Ｆ）に示す照明装置７４００は、波状の発光面を有する発光部７４０２を備える。したがってデザイン性の高い照明装置となっている。
また、照明装置７４００の備える各々の発光部は可撓性を有していてもよい。発光部を可塑性の部材または可動なフレームなどの部材で固定し、用途に合わせて発光部の発光面を自在に湾曲可能な構成としてもよい。
照明装置７４００は、操作スイッチ７４０３を備える台部７４０１と、台部７４０１に支持される発光部を有する。
なおここでは、台部によって発光部が支持された照明装置について例示したが、発光部を備える筐体を天井に固定する、または天井からつり下げるように用いることもできる。発光面を湾曲させて用いることができるため、発光面を凹状に湾曲させて特定の領域を明るく照らす、または発光面を凸状に湾曲させて部屋全体を明るく照らすこともできる。
図３０（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ）〜（Ｉ）に、可撓性を有する表示部７００１を有する携帯情報端末の一例を示す。
表示部７００１は、本発明の一態様の表示装置を用いて作製される。例えば、曲率半径０．０１ｍｍ以上１５０ｍｍ以下で曲げることができる表示パネルを有する表示装置を適用できる。また、表示部７００１はタッチセンサを備えていてもよく、指等で表示部７００１に触れることで携帯情報端末を操作することができる。
図３０（Ａ１）は、携帯情報端末の一例を示す斜視図であり、図３０（Ａ２）は、携帯情報端末の一例を示す側面図である。携帯情報端末７５００は、筐体７５０１、表示部７００１、引き出し部材７５０２、操作ボタン７５０３等を有する。
携帯情報端末７５００は、筐体７５０１内にロール状に巻かれた可撓性を有する表示部７００１を有する。
また、携帯情報端末７５００は内蔵された制御部によって映像信号を受信可能で、受信した映像を表示部７００１に表示することができる。また、携帯情報端末７５００にはバッテリが内蔵されている。また、筐体７５０１にコネクタを接続する端子部を備え、映像信号または電力を有線により外部から直接供給する構成としてもよい。
また、操作ボタン７５０３によって、電源のＯＮ、ＯＦＦ動作または表示する映像の切り替え等を行うことができる。なお、図３０（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ）では、携帯情報端末７５００の側面に操作ボタン７５０３を配置する例を示すが、これに限られず、携帯情報端末７５００の表示面と同じ面（おもて面）または裏面に配置してもよい。
図３０（Ｂ）には、表示部７００１を引き出した状態の携帯情報端末７５００を示す。この状態で表示部７００１に映像を表示することができる。表示部７００１は、引き出し部材７５０２を用いて引き出すことができる。また、表示部７００１の一部がロール状に巻かれた図３０（Ａ１）の状態と表示部７００１を引き出した図３０（Ｂ）の状態とで、携帯情報端末７５００が異なる表示を行う構成としてもよい。例えば、図３０（Ａ１）の状態のときに、表示部７００１のロール状に巻かれた部分を非表示とすることで、携帯情報端末７５００の消費電力を下げることができる。
なお、表示部７００１を引き出した際に表示部７００１の表示面が平面状となるように固定するため、表示部７００１の側部に補強のためのフレームを設けていてもよい。
なお、この構成以外に、筐体にスピーカを設け、映像信号と共に受信した音声信号によって音声を出力する構成としてもよい。
図３０（Ｃ）〜（Ｅ）に、折りたたみ可能な携帯情報端末の一例を示す。図３０（Ｃ）では、展開した状態、図３０（Ｄ）では、展開した状態または折りたたんだ状態の一方から他方に変化する途中の状態、図３０（Ｅ）では、折りたたんだ状態の携帯情報端末７６００を示す。携帯情報端末７６００は、折りたたんだ状態では可搬性に優れ、展開した状態では、継ぎ目のない広い表示領域により一覧性に優れる。
表示部７００１はヒンジ７６０２によって連結された３つの筐体７６０１に支持されている。ヒンジ７６０２を介して２つの筐体７６０１間を屈曲させることにより、携帯情報端末７６００を展開した状態から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。
図３０（Ｆ）、（Ｇ）に、折りたたみ可能な携帯情報端末の一例を示す。図３０（Ｆ）では、表示部７００１が内側になるように折りたたんだ状態、図３０（Ｇ）では、表示部７００１が外側になるように折りたたんだ状態の携帯情報端末７６５０を示す。携帯情報端末７６５０は表示部７００１及び非表示部７６５１を有する。携帯情報端末７６５０を使用しない際に、表示部７００１が内側になるように折りたたむことで、表示部７００１の汚れまたは傷つきを抑制できる。
図３０（Ｈ）に、可撓性を有する携帯情報端末の一例を示す。携帯情報端末７７００は、筐体７７０１及び表示部７００１を有する。さらに、入力手段であるボタン７７０３ａ、７７０３ｂ、音声出力手段であるスピーカ７７０４ａ、７７０４ｂ、外部接続ポート７７０５、マイク７７０６等を有していてもよい。また、携帯情報端末７７００は、可撓性を有するバッテリ７７０９を搭載することができる。バッテリ７７０９は例えば表示部７００１と重ねて配置してもよい。
筐体７７０１、表示部７００１、及びバッテリ７７０９は可撓性を有する。そのため、携帯情報端末７７００を所望の形状に湾曲させること、または携帯情報端末７７００に捻りを加えることが容易である。例えば、携帯情報端末７７００は、表示部７００１が内側または外側になるように折り曲げて使用することができる。または、携帯情報端末７７００をロール状に巻いた状態で使用することもできる。このように、筐体７７０１及び表示部７００１を自由に変形することが可能であるため、携帯情報端末７７００は、落下した場合、または意図しない外力が加わった場合であっても、破損しにくいという利点がある。
また、携帯情報端末７７００は軽量であるため、筐体７７０１の上部をクリップ等で把持してぶら下げて使用する、または、筐体７７０１を磁石等で壁面に固定して使用するなど、様々な状況において利便性良く使用することができる。
図３０（Ｉ）に腕時計型の携帯情報端末の一例を示す。携帯情報端末７８００は、バンド７８０１、表示部７００１、入出力端子７８０２、操作ボタン７８０３等を有する。バンド７８０１は、筐体としての機能を有する。また、携帯情報端末７８００は、可撓性を有するバッテリ７８０５を搭載することができる。バッテリ７８０５は例えば表示部７００１またはバンド７８０１と重ねて配置してもよい。
バンド７８０１、表示部７００１、及びバッテリ７８０５は可撓性を有する。そのため、携帯情報端末７８００を所望の形状に湾曲させることが容易である。
操作ボタン７８０３は、時刻設定のほか、電源のオン、オフ動作、無線通信のオン、オフ動作、マナーモードの実行及び解除、省電力モードの実行及び解除など、様々な機能を持たせることができる。例えば、携帯情報端末７８００に組み込まれたオペレーティングシステムにより、操作ボタン７８０３の機能を自由に設定することもできる。
また、表示部７００１に表示されたアイコン７８０４に指等で触れることで、アプリケーションを起動することができる。
また、携帯情報端末７８００は、通信規格された近距離無線通信を実行することが可能である。例えば無線通信可能なヘッドセットと相互通信することによって、ハンズフリーで通話することもできる。
また、携帯情報端末７８００は入出力端子７８０２を有していてもよい。入出力端子７８０２を有する場合、他の情報端末とコネクタを介して直接データのやりとりを行うことができる。また入出力端子７８０２を介して充電を行うこともできる。なお、本実施の形態で例示する携帯情報端末の充電動作は、入出力端子を介さずに非接触電力伝送により行ってもよい。
本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
本実施例では、本発明の一態様の表示装置を作製した結果について説明する。本実施例で作製した表示装置は、ｋａｗａｒａ−ｔｙｐｅ ｍｕｌｔｉｄｉｓｐｌａｙである。
＜表示パネル＞
まず、本実施例の表示装置に用いた表示パネルの詳細を示す。
図３１（Ａ）に本実施例の表示パネルの概略図を示す。図３１（Ａ）に示す表示パネルは、発光部２５０のサイズが対角１３．５インチ、有効画素数が１２８０×７２０、精細度が１０８ｐｐｉ、開口率が６１．０％である、アクティブマトリクス型の有機ＥＬディスプレイである。表示パネルには、デマルチプレクサ（ＤｅＭＵＸ）２５３が内蔵されており、ソースドライバとして機能する。また、表示パネルには、スキャンドライバ２５５も内蔵されている。発光部２５０の２辺は、可視光を透過する領域２５１と接する。残りの２辺の周りには、引き回し配線２５７が設けられている。
トランジスタには、ＣＡＡＣ−ＯＳを用いたチャネルエッチ型のトランジスタを適用した。酸化物半導体には、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ系酸化物を用いた。
発光素子には、白色の光を呈するタンデム（積層）型の有機ＥＬ素子を用いた。発光素子は、トップエミッション構造であり、発光素子の光は、カラーフィルタを通して表示パネルの外部に取り出される。
図３１（Ｂ）に、表示パネルを２×２のマトリクス状に４枚重ねた場合の表示装置の概略図を示す。また、図３１（Ｂ）に示す表示装置の一点鎖線Ｘ−Ｙ断面の模式図を図３１（Ｃ）に示す。
本実施例の表示装置は、複数の表示パネルを、互いの表示領域の間の非表示領域が小さくなるように重ねることで構成されている。具体的には、上側の表示パネルにおける可視光を透過する領域２５１と、下側の表示パネルにおける発光部２５０の間には、透光層１０３が設けられている。
表示パネルの２辺においては、発光部２５０の端部から表示パネルの端部までに、引き回し配線やドライバ等の可視光を遮る構造は全く配置されていなく、可視光を透過する領域２５１となっている。表示パネルの可視光を透過する領域２５１の幅は約２ｍｍとした。可視光を透過する領域２５１の厚さＴ（１枚の表示パネルの厚さともいえる）は約１１０μｍと非常に薄い。そのため、本実施例の表示装置では、最大４つの表示パネルが重なる部分があるが、表示面側に生じる段差は非常に小さく、継ぎ目が目立ちにくい構成となっている。
４つの表示パネルは可撓性を有する。例えば、図３１（Ｃ）に示すように、下側の表示パネルのＦＰＣ３７３ａの近傍を湾曲させ、ＦＰＣ３７３ａに隣接する上側の表示パネルの発光部２５０の下側に、下側の表示パネルの一部及びＦＰＣ３７３ａの一部を配置することができる。その結果、ＦＰＣ３７３ａを上側の表示パネルの裏面と物理的に干渉することなく配置することができる。これにより、表示パネルの四方に他の表示パネルを並べられ、大面積化が容易となる。
本実施例では、基材の両面に吸着層を有する吸着フィルムを透光層１０３として用いた。該吸着フィルムを用いることで、表示装置を構成する２つの表示パネルを着脱自在に貼り合わせることができる。透光層１０３の一方の面の吸着層は、基板２１１ａに吸着しており、透光層１０３の他方の面の吸着層は、基板２０１ｂに吸着している。
図３１（Ｂ）において、透光層１０３は、可視光を透過する領域２５１と重なる部分だけでなく、発光部２５０と重なる部分も有する。図３１（Ｃ）では、透光層１０３は、基板２０１ｂの端部から可視光を透過する領域２５１全体に重なり、さらには表示素子を含む領域１５５ｂの一部にまで重なる。なお、図３１（Ｃ）におけるＦＰＣ３７３ａが接続されている部分の近傍の、表示パネルの曲がっている部分には、透光層１０３を設けていない。ただし、透光層１０３の厚さや可撓性の高さによっては、透光層１０３を設けても構わない。
各表示パネルは、基板と素子層を接着層で貼り合わせることで作製した。例えば、図３１（Ｃ）に示すように、基板２０１ａと素子層１５３ａ、基板２１１ａと素子層１５３ａ、基板２０１ｂと素子層１５３ｂ、並びに、基板２１１ｂと素子層１５３ｂが、それぞれ接着層１５７で貼り合わされている。素子層１５３ａは、表示素子を含む領域１５５ａと、表示素子と電気的に接続する配線を含む領域１５６ａとを有する。同様に、素子層１５３ｂは、表示素子を含む領域１５５ｂと、表示素子と電気的に接続する配線を含む領域１５６ｂとを有する。
図３２に、２つの表示パネルの重なり部を含む、表示装置の断面図を示す。
図３２を用いて、本実施例で用いた表示パネルの発光部２５０及び可視光を透過する領域２５１の構成を説明する。発光部２５０ａと発光部２５０ｂの構成は同様であるため、発光部２５０としてまとめて説明する。発光部２５０及び可視光を透過する領域２５１は、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、第３の絶縁層２１５、及び第４の絶縁層２１７を有する。絶縁層３１３、絶縁層３１４、及び絶縁層３１５は、発光部２５０に設けられており、可視光を透過する領域２５１には設けられていない。本実施例の表示パネルは、可視光を透過する領域２５１の構成以外は、実施の形態２で説明した図１８（Ａ）の構成と同様である。
＜重なり部＞
本実施例では、試料ａ、試料ｂ、試料ｃ、及び試料ｄの４つの試料について、重なり部の視認されにくさを確認した。各試料は、表示パネルを２枚有する表示装置である。上側の表示パネルの可視光を透過する領域２５１と、下側の表示パネルの発光部２５０が重なるように配置した。
試料ａは、一対の基板（基板２０１及び基板２１１）に、光学異方性が高いフィルムを用いた表示パネルを２枚用いた。
試料ｂは、一対の基板（基板２０１及び基板２１１）に、光学等方性が高いフィルムを用いた表示パネルを２枚用いた。
試料ｃは、試料ａに、図８（Ｆ）に示す光学部材２４０を重ねた構成である。光学部材２４０は、アクリル板である支持材２９２と、円偏光板２９５と、ＡＲフィルムである反射防止部材２９６と、を有する。光学部材２４０は、支持材２９２が最も表示パネル側に位置するように配置されている。
試料ｄは、試料ｂに、図８（Ｆ）に示す光学部材２４０を重ねた構成である。なお、光学部材２４０の構成は、試料ｃと同様である。
試料ａ〜試料ｄにおける、表示装置を駆動していないときの重なり部の写真を図３３（Ａ）〜（Ｄ）に示す。撮影は室内の蛍光灯下で行っており、照度は約４００ｌｘであった。各試料において、重なり部の幅Ｗは約２ｍｍである。左側の表示パネルが、右側の表示パネルの上側に位置する。
図３３（Ａ）、（Ｂ）に示すように、試料ａ及び試料ｂでは、フィルムの種類によらず、重なり部が視認できる結果となった。図３２に示すように、可視光を透過する領域２５１は、第２の絶縁層２０７、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、及び第４の絶縁層２１７を有する。そのため、重なり部と、重なり部でない部分と、で、反射率に差が生じ、重なり部が視認されやすくなっていると考えられる。
図３３（Ｃ）、（Ｄ）を比較すると、光学異方性が高いフィルムを用いた試料ｃでは、重なり部が視認できるが、光学等方性が高いフィルムを用いた試料ｄでは、重なり部が目立たず、ほとんど視認できない結果となった。
重なり部と重なり部ではない部分との反射率と、その差を表１に示す。反射率の測定には、Ｐｈｏｔｏｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ ｔｕｂｅ（ＰＭＴ）を用いた。この測定では、視感度補正がなされている。
重なり部と重なり部ではない部分との反射率の差は、試料ａで最も大きく、試料ｂ、試料ｃ、試料ｄの順により小さくなっている。これは、図３３（Ａ）〜（Ｄ）に示した実際の重なり部の見え方と同じ傾向である。このことから、光学等方性が高いフィルムと、円偏光板を使用することで、外光の反射を抑制できていると示唆された。重なり部と、重なり部でない部分と、の反射率の差により重なり部が視認されやすくなることを、光学等方性が高いフィルムと、円偏光板とを使用することで、抑制できると考えられる。
＜可視光を透過する領域の透過率＞
また、試料ａと試料ｂに用いた表示パネルにおける、可視光を透過する領域１１０の光の透過率の測定結果を図３４に示す。光の透過率は分光光度計を用いて測定した。
図３４に示すように、試料ａに用いた表示パネルよりも試料ｂに用いた表示パネルの方が、可視光を透過する領域１１０の光の透過率が高かった。このことから、試料ｂに用いた光学等方性が高いフィルムは、試料ａに用いた光学異方性が高いフィルムよりも、可視光の透過率が高いことがわかった。
＜表示装置＞
図３５（Ａ）に、試料ｂに用いた表示パネル１枚の表示写真を示す。図３５（Ａ）から、光学等方性が高いフィルムを用いて作製した表示パネルは、正常に発光できていることがわかる。
図３５（Ｂ）に、表示パネルを４（２×２）枚使用して作製した、対角２７インチ、ｗｉｄｅ ｑｕａｄ ｈｉｇｈ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ（ＷＱＨＤ）マルチディスプレイの表示写真を示す。
図３５（Ｂ）は、試料ｂに用いた表示パネルを４枚使用し、光学部材２４０を重ねた構成である（つまり、試料ｄに対応する）。光学部材２４０と表示パネルが密着した状態で、光学部材２４０は筐体にねじ止めされている。光学部材２４０は表示パネルに接着されていない。
図３５（Ｃ）に、当該マルチディスプレイの側面図を示す。表示パネル１００は支持体３７６（アルミニウム板）の一方の面に貼り付けられている。支持体３７６は曲率半径Ｒ＝５ｍｍの曲面を有し、表示パネル１００は該曲面に沿って曲げられている。表示パネル１００は、支持体３７６から延在する部分を有する。当該部分は、隣接する表示パネル１００と重なる。支持体３７６の他方の面には、駆動回路３７５がねじで固定されている。表示パネル１００と駆動回路３７５は、ＦＰＣ３７３によって電気的に接続されている。光学部材２４０は、反射防止部材２９６、円偏光板２９５、及び支持材２９２を有する。
図３５（Ｂ）に示すように、本実施例で作製した表示装置は、周囲の景色の映り込みが少ない。また、重なり部が目立たず、視認されにくい。このことから、表示装置の表面における光の反射が抑制されていることがわかる。
以上のように、本実施例では、光学等方性が高いフィルムを用いた表示パネルと、円偏光板を用いることで、重なり部が視認されにくい表示装置を作製することができた。
本実施例では、本発明の一態様の表示パネルの可視光を透過する領域に適用することができる構成について説明する。
実施例１で用いた表示パネルの可視光を透過する領域２５１（図３２参照）は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、第２の絶縁層２０７、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、接着層３１７、第４の絶縁層２１７、第３の絶縁層２１５、接着層２１３、及び基板２１１を有する構成（以下の条件１に相当する）であった。当該可視光を透過する領域２５１は、絶縁層として、屈折率約１．５の酸化シリコン膜と、屈折率約２．０の窒化シリコン膜と、をそれぞれ複数層有するため、屈折率の差が大きい界面を複数有する。
実施例１で用いた表示パネルにおいて、第１の絶縁層２０５及び第３の絶縁層２１５は、それぞれ、屈折率約１．５の酸化シリコン膜の単層構造である。これらの絶縁層は、表示パネルの作製工程の歩留まりを高くするために、可視光を透過する領域２５１に設けられていることが好ましい。
実施例１で用いた表示パネルにおいて、第２の絶縁層２０７、ゲート絶縁層３１１、及び絶縁層３１２の積層構造、並びに第４の絶縁層２１７には、屈折率約１．５の酸化シリコン膜と、屈折率約２．０の窒化シリコン膜と、が含まれ、屈折率の差が大きい界面が含まれる。
本実施例では、可視光を透過する領域２５１が、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、接着層３１７、第３の絶縁層２１５、接着層２１３、及び基板２１１のみを有し、第２の絶縁層２０７、ゲート絶縁層３１１、絶縁層３１２、及び第４の絶縁層２１７を有さない構成（以下の条件２に相当する）である場合の可視領域の反射率について、シミュレーションを行った。
シミュレーションには、薄膜計算ソフト「Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ Ｍａｃｌｅｏｄ」（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｃｅｎｔｅｒ Ｉｎｃ．）を用いた。基板と接着層の屈折率は、１．５とした。
図３６に条件１及び条件２における可視領域の反射率の計算結果を示す。計算結果には、基板２０１及び基板２１１の表面における反射は含んでいない。
条件１は、実施例１の表示パネルにおける可視光を透過する領域２５１の構成に相当する。条件２は、基板２０１、接着層２０３、第１の絶縁層２０５、接着層３１７、第３の絶縁層２１５、接着層２１３、及び基板２１１からなる積層構造に相当する。
図３６の結果から、条件１に比べて、条件２は可視領域の反射率が極めて小さい。このことから、可視光を透過する領域の構成を変更し、屈折率の差の大きい界面の数を減らすことで、外光の反射を抑制できることが示唆された。
可視光を透過する領域における屈折率の差の大きい界面の数を減らすことで、円偏光板を用いることなく、外光の反射を抑制することができ、円偏光板による光取り出し効率の低下を抑制できると考えられる。本発明の一態様を適用することで、光取り出し効率が高く、かつ、継ぎ目が視認されにくい表示装置を作製できることが示唆された。
次に、可視光を透過する領域に、条件２に相当する積層構造を適用した表示パネルを作製した。図３７に、可視光を透過する領域における、可視領域の透過率を測定した結果を示す。なお、測定結果には、基板２０１及び基板２１１の表面における反射の影響が含まれる。
実施例１で作製した表示パネルの可視光を透過する領域（条件１）に比べて、本実施例で作製した表示パネルの可視光を透過する領域（条件２）では、可視領域の透過率が高い結果が得られた。可視光を透過する領域における屈折率の差の大きい界面の数を減らすことで、外光の反射を抑制できることが確認できた。
さらに、条件２の構成の可視光を透過する領域を、別の表示パネルの発光部に重ねて配置し、重なり部と、重なり部でない部分で、それぞれ、反射率を測定した。図３８に反射率の測定結果を示す。図３８に示すように、重なり部と、重なり部でない部分と、で、反射率にほとんど差が無いことが確認できた。
以上のように、可視光を透過する領域における屈折率の差の大きい界面の数を減らすことで、円偏光板を用いることなく、外光の反射を抑制できることがわかった。円偏光板を用いないことで、円偏光板による光取り出し効率の低下を抑制できる。本発明の一態様を適用することで、光取り出し効率が高く、かつ、継ぎ目が視認されにくい表示装置を作製できることがわかった。
１０ 表示装置
１２ 表示装置
１３ 表示領域
１５ 柱
１６ 壁
１００ 表示パネル
１００ａ 表示パネル
１００ｂ 表示パネル
１００ｃ 表示パネル
１００ｄ 表示パネル
１０１ 表示領域
１０１ａ 表示領域
１０１ｂ 表示領域
１０１ｃ 表示領域
１０１ｄ 表示領域
１０２ 領域
１０２ａ 領域
１０２ｂ 領域
１０３ 透光層
１１０ 可視光を透過する領域
１１０ａ 可視光を透過する領域
１１０ｂ 可視光を透過する領域
１１０ｃ 可視光を透過する領域
１１０ｄ 可視光を透過する領域
１１２ａ ＦＰＣ
１１２ｂ ＦＰＣ
１２０ 可視光を遮る領域
１２０ａ 可視光を遮る領域
１２０ｂ 可視光を遮る領域
１２０ｃ 可視光を遮る領域
１２１ ダミー配線
１２３ ＦＰＣ
１３１ 樹脂層
１３２ 保護基板
１３３ 樹脂層
１３４ 保護基板
１４１ 画素
１４１ａ 画素
１４１ｂ 画素
１４２ａ 配線
１４２ｂ 配線
１４３ａ 回路
１４３ｂ 回路
１４５ 配線
１５１ 基板
１５２ 基板
１５３ａ 素子層
１５３ｂ 素子層
１５４ 接着層
１５５ａ 表示素子を含む領域
１５５ｂ 表示素子を含む領域
１５６ａ 配線を含む領域
１５６ｂ 配線を含む領域
１５７ 接着層
２０１ 基板
２０１ａ 基板
２０１ｂ 基板
２０２ａ 基板
２０２ｂ 基板
２０３ 接着層
２０５ 第１の絶縁層
２０７ 第２の絶縁層
２０８ 絶縁層
２０９ 素子層
２１１ 基板
２１１ａ 基板
２１１ｂ 基板
２１２ａ 基板
２１２ｂ 基板
２１３ 接着層
２１５ 第３の絶縁層
２１７ 第４の絶縁層
２１９ 機能層
２２１ 接着層
２２３ 接続端子
２３１ 作製基板
２３３ 剥離層
２３５ 作製基板
２３７ 剥離層
２４０ 光学部材
２５０ 発光部
２５０ａ 発光部
２５０ｂ 発光部
２５１ 可視光を透過する領域
２５５ スキャンドライバ
２５７ 配線
２６１ 基板
２６３ 接着層
２６５ 絶縁層
２６７ 絶縁層
２９１ 反射防止部材
２９２ 支持材
２９３ 反射防止部材
２９５ 円偏光板
２９６ 反射防止部材
３００ タッチパネル
３０１ トランジスタ
３０２ トランジスタ
３０３ トランジスタ
３０４ 発光素子
３０５ 容量素子
３０６ 接続部
３０７ 導電層
３０８ 接続部
３０９ 接続体
３１０ 入力装置
３１１ ゲート絶縁層
３１２ 絶縁層
３１３ 絶縁層
３１４ 絶縁層
３１５ 絶縁層
３１６ スペーサ
３１７ 接着層
３１８ 入力装置
３１９ 接続体
３２０ タッチパネル
３２１ 電極
３２２ ＥＬ層
３２３ 電極
３２４ 光学調整層
３２５ 着色層
３２６ 遮光層
３２６ａ 遮光層
３２６ｂ 遮光層
３２７ 絶縁層
３２８ 絶縁層
３２９ オーバーコート
３３１ 電極
３３２ 電極
３３３ 電極
３３４ 電極
３４１ 配線
３４２ 配線
３４５ 導電層
３４７ 領域
３４８ 領域
３４９ 領域
３５０ ＦＰＣ
３５１ ＩＣ
３５５ 導電層
３７０ 表示パネル
３７３ ＦＰＣ
３７３ａ ＦＰＣ
３７４ ＩＣ
３７５ 駆動回路
３７６ 支持体
３７９ 表示パネル
３８１ 表示部
３８２ 駆動回路部
３８３ 配線
３８５ 接続部
３８６ 接続体
３８７ 交差部
３９３ 絶縁層
３９５ 絶縁層
３９６ 接着層
７２３ バックゲート
７２８ 絶縁層
７２９ 絶縁層
７４２ 半導体層
７４３ ゲート
７４４ａ 導電層
７４４ｂ 導電層
７４７ａ 開口
７４７ｂ 開口
７４７ｃ 開口
７４７ｄ 開口
７７２ 絶縁層
８４８ トランジスタ
７０００ 表示部
７００１ 表示部
７１００ 携帯電話機
７１０１ 筐体
７１０３ 操作ボタン
７１０４ 外部接続ポート
７１０５ スピーカ
７１０６ マイク
７２００ テレビジョン装置
７２０１ 筐体
７２０３ スタンド
７２１１ リモコン操作機
７３００ 携帯情報端末
７３０１ 筐体
７３０２ 操作ボタン
７３０３ 情報
７４００ 照明装置
７４０１ 台部
７４０２ 発光部
７４０３ 操作スイッチ
７５００ 携帯情報端末
７５０１ 筐体
７５０２ 部材
７５０３ 操作ボタン
７６００ 携帯情報端末
７６０１ 筐体
７６０２ ヒンジ
７６５０ 携帯情報端末
７６５１ 非表示部
７７００ 携帯情報端末
７７０１ 筐体
７７０３ａ ボタン
７７０３ｂ ボタン
７７０４ａ スピーカ
７７０４ｂ スピーカ
７７０５ 外部接続ポート
７７０６ マイク
７７０９ バッテリ
７８００ 携帯情報端末
７８０１ バンド
７８０２ 入出力端子
７８０３ 操作ボタン
７８０４ アイコン
７８０５ バッテリ

Claims (13)

  1. 第１の表示パネル及び第２の表示パネルを有し、
    前記第１の表示パネルは、第１の表示領域と、可視光を透過する領域と、を有し、
    前記第２の表示パネルは、第２の表示領域と、可視光を遮る領域と、を有し、
    前記第１の表示領域は、前記可視光を透過する領域と隣接し、
    前記第２の表示領域は、表示を行う面側で、前記可視光を透過する領域と重なり、
    前記可視光を遮る領域は、前記第１の表示領域と重なり、
    前記第１の表示パネルは、第１の基板、第２の基板、第１の接着層、第２の接着層、第１の絶縁層、第２の絶縁層、及び表示素子を有し、
    前記第１の接着層は、前記第１の基板と前記第１の絶縁層の間に位置し、
    前記第２の接着層は、前記第２の基板と前記第１の絶縁層の間に位置し、
    前記第１の表示領域では、前記第２の絶縁層は、前記第１の絶縁層に接し、かつ、前記第１の絶縁層と前記第２の接着層の間に位置し、
    前記第１の表示領域では、前記表示素子は、前記第２の絶縁層と前記第２の接着層の間に位置し、
    前記可視光を透過する領域では、前記第１の絶縁層が、前記第２の接着層に接する、表示装置。
  2. 請求項１において、
    前記第１の絶縁層は、酸化物絶縁膜である、表示装置。
  3. 請求項１または２において、
    前記第２の絶縁層は、窒化物絶縁膜を有する、表示装置。
  4. 請求項１乃至３のいずれか一において、
    前記第１の基板の屈折率と前記第１の接着層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第１の接着層の屈折率と前記第１の絶縁層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第２の接着層の屈折率と前記第１の絶縁層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第２の基板の屈折率と前記第２の接着層の屈折率の差は、０．２０以下である、表示装置。
  5. 第１の表示パネル及び第２の表示パネルを有し、
    前記第１の表示パネルは、第１の表示領域と、可視光を透過する領域と、を有し、
    前記第２の表示パネルは、第２の表示領域と、可視光を遮る領域と、を有し、
    前記第１の表示領域は、前記可視光を透過する領域と隣接し、
    前記第２の表示領域は、表示を行う面側で、前記可視光を透過する領域と重なり、
    前記可視光を遮る領域は、前記第１の表示領域と重なり、
    前記第１の表示パネルは、第１の基板、第２の基板、第１の接着層、第２の接着層、第３の接着層、第１の絶縁層、第２の絶縁層、第３の絶縁層、第４の絶縁層、及び表示素子を有し、
    前記第１の接着層は、前記第１の基板と前記第１の絶縁層の間に位置し、
    前記第２の接着層は、前記第２の基板と前記第３の絶縁層の間に位置し、
    前記第３の接着層は、前記第１の絶縁層と前記第３の絶縁層の間に位置し、
    前記第１の表示領域では、前記第２の絶縁層が前記第１の絶縁層に接し、前記第４の絶縁層が前記第３の絶縁層に接し、かつ、前記第３の接着層は、前記第２の絶縁層と前記第４の絶縁層の間に位置し、
    前記第１の表示領域では、前記表示素子は、前記第２の絶縁層と前記第３の接着層の間に位置し、
    前記可視光を透過する領域では、前記第３の接着層が、前記第１の絶縁層及び前記第３の絶縁層に接する、表示装置。
  6. 請求項５において、
    前記第１の絶縁層及び前記第３の絶縁層は、それぞれ酸化物絶縁膜である、表示装置。
  7. 請求項５または６において、
    前記第２の絶縁層及び前記第４の絶縁層は、それぞれ窒化物絶縁膜を有する、表示装置。
  8. 請求項５乃至７のいずれか一において、
    前記第１の基板の屈折率と前記第１の接着層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第１の接着層の屈折率と前記第１の絶縁層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第３の接着層の屈折率と前記第１の絶縁層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第２の基板の屈折率と前記第２の接着層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第２の接着層の屈折率と前記第３の絶縁層の屈折率の差は、０．２０以下であり、
    前記第３の接着層の屈折率と前記第３の絶縁層の屈折率の差は、０．２０以下である、表示装置。
  9. 請求項１乃至８のいずれか一において、
    前記第１の基板及び前記第２の基板は、それぞれ可撓性を有する、表示装置。
  10. 請求項１乃至９のいずれか一において、
    円偏光板を有し、
    前記第１の表示領域及び前記第２の表示領域は、表示を行う面側で、前記円偏光板と重なる、表示装置。
  11. 請求項１０において、
    前記第１の基板及び前記第２の基板は、それぞれ光学等方性が高い基板である、表示装置。
  12. 請求項１乃至１１のいずれか一において、
    前記第１の表示パネル及び前記第２の表示パネルは、それぞれ可撓性を有する、表示装置。
  13. 請求項１乃至１２のいずれか一に記載の表示装置と、
    アンテナ、バッテリ、筐体、カメラ、スピーカ、マイク、または操作ボタンと、を有する、電子機器。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106537486B (zh) 2014-07-31 2020-09-15 株式会社半导体能源研究所 显示装置及电子装置
CN109952814B (zh) 2016-11-30 2022-12-20 株式会社半导体能源研究所 显示装置及电子装置
WO2019025910A1 (en) * 2017-08-04 2019-02-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. DISPLAY PANEL, DISPLAY DEVICE, DISPLAY MODULE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP7114601B2 (ja) * 2017-08-25 2022-08-08 株式会社半導体エネルギー研究所 表示パネル及び表示装置
CN107564446A (zh) * 2017-09-30 2018-01-09 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种面板点灯机、面板点灯测试***及测试方法
TWI840337B (zh) 2017-11-30 2024-05-01 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示面板、顯示裝置、顯示模組、電子裝置及顯示面板的製造方法
US11183674B2 (en) 2018-02-27 2021-11-23 Sakai Display Products Corporation Method for manufacturing flexible OLED device and support substrate
JP6564555B1 (ja) * 2018-02-27 2019-08-21 堺ディスプレイプロダクト株式会社 フレキシブルｏｌｅｄデバイス、その製造方法及び支持基板
US10950685B2 (en) * 2018-03-29 2021-03-16 Innolux Corporation Tiled electronic device
KR102567096B1 (ko) * 2018-04-03 2023-08-17 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그것의 제조 방법
KR102649331B1 (ko) * 2018-08-14 2024-03-20 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
US11450694B2 (en) 2018-08-21 2022-09-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display apparatus and electronic device
KR102586636B1 (ko) * 2018-10-11 2023-10-11 삼성디스플레이 주식회사 폴더블 표시장치
US20200132904A1 (en) * 2018-10-30 2020-04-30 Sharp Kabushiki Kaisha Thin circular polarizer for display applications
KR102633441B1 (ko) 2018-12-03 2024-02-06 삼성디스플레이 주식회사 표시 유닛, 이를 포함하는 전자 장치, 및 전자 장치의 제조 방법
JP6772348B2 (ja) * 2019-07-26 2020-10-21 堺ディスプレイプロダクト株式会社 フレキシブルｏｌｅｄデバイス、その製造方法及び支持基板
CN111028757B (zh) * 2019-12-25 2022-07-22 武汉天马微电子有限公司 显示装置及其驱动方法
JP7419821B2 (ja) 2020-01-06 2024-01-23 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置および電子機器
JP7415561B2 (ja) * 2020-01-06 2024-01-17 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置および電子機器
CN111710770B (zh) 2020-06-29 2021-12-07 京东方科技集团股份有限公司 一种显示面板及其制备方法和显示装置
KR20220105701A (ko) * 2021-01-20 2022-07-28 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN113921539A (zh) * 2021-09-30 2022-01-11 上海天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09311344A (ja) 1996-03-18 1997-12-02 Toshiba Corp 画像表示装置
US5801797A (en) 1996-03-18 1998-09-01 Kabushiki Kaisha Toshiba Image display apparatus includes an opposite board sandwiched by array boards with end portions of the array boards being offset
SG118118A1 (en) 2001-02-22 2006-01-27 Semiconductor Energy Lab Organic light emitting device and display using the same
JP4027740B2 (ja) 2001-07-16 2007-12-26 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
US8415208B2 (en) 2001-07-16 2013-04-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and peeling off method and method of manufacturing semiconductor device
GB0127090D0 (en) 2001-11-10 2002-01-02 Image Portal Ltd Display
JP2004251981A (ja) * 2003-02-18 2004-09-09 Seiko Epson Corp 複合型表示装置
JP2006010811A (ja) 2004-06-23 2006-01-12 Sony Corp 表示装置
JP4650703B2 (ja) 2008-12-25 2011-03-16 ソニー株式会社 表示パネルおよびモジュール並びに電子機器
TWI394999B (zh) 2009-01-09 2013-05-01 Prime View Int Co Ltd 多螢幕電子裝置
JP2010266777A (ja) 2009-05-18 2010-11-25 Victor Co Of Japan Ltd 折り畳み式ディスプレイ
JP5509703B2 (ja) 2009-07-15 2014-06-04 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置および電子機器
US8593061B2 (en) 2009-08-25 2013-11-26 Seiko Epson Corporation Electro-optical device and electronic apparatus
US8305294B2 (en) 2009-09-08 2012-11-06 Global Oled Technology Llc Tiled display with overlapping flexible substrates
WO2011068158A1 (ja) 2009-12-03 2011-06-09 シャープ株式会社 画像表示装置、パネルおよびパネルの製造方法
EP2529409B1 (en) 2010-01-29 2019-08-28 Nederlandse Organisatie voor toegepast- natuurwetenschappelijk onderzoek TNO Assembly and method of assembling
JP2011192567A (ja) 2010-03-16 2011-09-29 Rohm Co Ltd 有機ｅｌ装置
JP2012028638A (ja) 2010-07-26 2012-02-09 Dainippon Printing Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンスパネル、有機エレクトロルミネッセンス装置および有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法
KR101720588B1 (ko) * 2010-12-07 2017-03-30 삼성전자주식회사 접이식 유기 발광 다이오드 디스플레이
JP5979218B2 (ja) 2012-02-29 2016-08-24 コニカミノルタ株式会社 発光パネルおよびその製造方法
KR102079188B1 (ko) 2012-05-09 2020-02-19 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 장치 및 전자 기기
GB2511549B (en) 2013-03-07 2020-04-22 Plastic Logic Ltd Tiled Displays
WO2014208271A1 (ja) * 2013-06-28 2014-12-31 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、その製造方法、及び有機エレクトロルミネッセンスデバイス
TWI803431B (zh) * 2014-02-11 2023-05-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示裝置及電子裝置

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