JP6802691B2 - インプリント装置および物品製造方法 - Google Patents
インプリント装置および物品製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6802691B2 JP6802691B2 JP2016225377A JP2016225377A JP6802691B2 JP 6802691 B2 JP6802691 B2 JP 6802691B2 JP 2016225377 A JP2016225377 A JP 2016225377A JP 2016225377 A JP2016225377 A JP 2016225377A JP 6802691 B2 JP6802691 B2 JP 6802691B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mold
- peripheral member
- holding portion
- mode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70925—Cleaning, i.e. actively freeing apparatus from pollutants, e.g. using plasma cleaning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Public Health (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
Claims (11)
- 基板の上のインプリント材に型を接触させて該インプリント材を硬化させることによって該基板の上にパターンを形成するインプリント装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
型を保持する型保持部と、
前記型保持部の周辺に配置された型周辺部材と、
前記基板保持部と前記型周辺部材との間に電圧を供給する電源と、を備え、
前記基板保持部は、基板を吸着する基板吸着部と、前記基板吸着部の周辺に配置された基板周辺部とを含み、
前記インプリント装置は、前記基板保持部をクリーニングする第1モードと、前記型周辺部材をクリーニングする第2モードとを有し、
前記第1モードにおいて前記電源が前記型周辺部材と前記基板保持部との間に供給する電圧の極性と、前記第2モードにおいて前記電源が前記型周辺部材と前記基板保持部との間に供給する電圧の極性とが反対である、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 前記第1モードでは、前記基板保持部に付着していたパーティクルが前記型周辺部材に吸着され、
前記第2モードでは、前記型周辺部材に付着していたパーティクルが前記型周辺部材から引き離される、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記基板保持部を駆動する駆動機構を更に備え、
前記第2モードのクリーニングを実行する前に、前記基板保持部の基板保持領域が前記型周辺部材に対向するように前記基板保持部が前記駆動機構によって位置決めされる、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリント装置。 - 前記型周辺部材を含む複数の型周辺部材を備え、
前記第2モードのクリーニングを実行する前に、前記基板保持部の基板保持領域が前記複数の型周辺部材のうちクリーニング対象の型周辺部材に対向するように前記基板保持部が前記駆動機構によって位置決めされる、
ことを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。 - 前記第2モードのクリーニングを実行する前に、前記基板保持部にクリーニング用の基板が搬送されるように搬送機構を制御する制御部を更に備える、
ことを特徴とする請求項3又は4に記載のインプリント装置。 - 前記基板吸着部と前記基板周辺部とが導通している、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記基板吸着部および前記基板周辺部が接地されている、
ことを特徴とする請求項6に記載のインプリント装置。 - 前記型周辺部材は、導電板と、前記導電板の表面を被覆する絶縁膜とを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記電源が前記基板保持部と前記型周辺部材との間に供給する電圧は、交流成分を含む直流電圧である、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 前記電源が前記基板保持部と前記型周辺部材との間に供給する電圧の波形は、矩形波、三角波、正弦波、台形波および階段波の少なくとも1つを含む、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 請求項1乃至10のいずれか1項に記載のインプリント装置により基板の上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016225377A JP6802691B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | インプリント装置および物品製造方法 |
KR1020170149266A KR102206846B1 (ko) | 2016-11-18 | 2017-11-10 | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016225377A JP6802691B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | インプリント装置および物品製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018082128A JP2018082128A (ja) | 2018-05-24 |
JP6802691B2 true JP6802691B2 (ja) | 2020-12-16 |
Family
ID=62199100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016225377A Active JP6802691B2 (ja) | 2016-11-18 | 2016-11-18 | インプリント装置および物品製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6802691B2 (ja) |
KR (1) | KR102206846B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7154839B2 (ja) * | 2018-06-26 | 2022-10-18 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および、物品製造方法 |
JP7495814B2 (ja) * | 2020-05-13 | 2024-06-05 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
US11150564B1 (en) * | 2020-09-29 | 2021-10-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | EUV wafer defect improvement and method of collecting nonconductive particles |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007017895A (ja) | 2005-07-11 | 2007-01-25 | Fujifilm Holdings Corp | 露光装置 |
JP2011040464A (ja) * | 2009-08-07 | 2011-02-24 | Canon Inc | 異物除去装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP6171412B2 (ja) | 2013-03-06 | 2017-08-02 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法、インプリント用のモールドおよびインプリント装置 |
JP6123396B2 (ja) | 2013-03-18 | 2017-05-10 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
JP6244742B2 (ja) * | 2013-08-26 | 2017-12-13 | 大日本印刷株式会社 | 膜検査方法、インプリント方法、パターン構造体の製造方法、インプリント用のモールド、インプリント用の転写基板、および、インプリント装置 |
JP2014017534A (ja) * | 2013-10-31 | 2014-01-30 | Fujikura Ltd | 配線板の製造方法 |
JP2015149390A (ja) * | 2014-02-06 | 2015-08-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、型、および物品の製造方法 |
JP6661397B2 (ja) * | 2015-04-22 | 2020-03-11 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
WO2016170729A1 (en) * | 2015-04-22 | 2016-10-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, method of imprinting, and method of manufacturing article |
JP6789772B2 (ja) * | 2016-02-29 | 2020-11-25 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 |
-
2016
- 2016-11-18 JP JP2016225377A patent/JP6802691B2/ja active Active
-
2017
- 2017-11-10 KR KR1020170149266A patent/KR102206846B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102206846B1 (ko) | 2021-01-25 |
KR20180056372A (ko) | 2018-05-28 |
JP2018082128A (ja) | 2018-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI649183B (zh) | 壓印裝置,壓印方法,及製造物品的方法 | |
JP6789772B2 (ja) | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 | |
JP6802691B2 (ja) | インプリント装置および物品製造方法 | |
JP6643135B2 (ja) | リソグラフィ装置および物品製造方法 | |
JP7261000B2 (ja) | 容器、処理装置、異物除去方法、および物品の製造方法 | |
WO2016170729A1 (en) | Imprint apparatus, method of imprinting, and method of manufacturing article | |
US10777443B2 (en) | Imprint apparatus, imprinting method, and method for manufacturing article | |
JP6942562B2 (ja) | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
JP2017139452A (ja) | インプリント装置および物品の製造方法 | |
US11036149B2 (en) | Imprint apparatus, method of operating the same, and method of manufacturing article | |
JP2019067916A (ja) | リソグラフィ装置、および物品の製造方法 | |
WO2017145924A1 (ja) | インプリント装置およびその動作方法ならびに物品製造方法 | |
JP2021002626A (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP6732475B2 (ja) | インプリント装置、物品の製造方法、保持装置および露光装置 | |
JP6884048B2 (ja) | インプリント装置、および物品製造方法 | |
WO2017149992A1 (ja) | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 | |
JP2020013890A (ja) | インプリント装置およびその制御方法、ならびに物品製造方法 | |
JP7089420B2 (ja) | 基板処理装置、および物品製造方法 | |
WO2017134989A1 (ja) | インプリント装置および物品の製造方法 | |
JP2019091818A (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191114 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201022 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201030 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201127 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6802691 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |