JP6750520B2 - Ceramic scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection apparatus - Google Patents
Ceramic scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP6750520B2 JP6750520B2 JP2017015527A JP2017015527A JP6750520B2 JP 6750520 B2 JP6750520 B2 JP 6750520B2 JP 2017015527 A JP2017015527 A JP 2017015527A JP 2017015527 A JP2017015527 A JP 2017015527A JP 6750520 B2 JP6750520 B2 JP 6750520B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scintillator
- ceramic scintillator
- ceramic
- light output
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
本発明は、セラミックシンチレータ、シンチレータアレイ、放射線検出器、及び放射線検査装置に存する。 The present invention resides in a ceramic scintillator, a scintillator array, a radiation detector, and a radiation inspection apparatus.
医療診断や工業用非破壊検査を目的として、Ｘ線透過撮影による画像診断やＸ線ＣＴ（Computed Tomography）撮影による画像診断が利用されている。これらの画像診断装置では、Ｘ線を可視光に変換するために、プラセオジム賦活の酸硫化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｐｒ）（ＧＯＳ）等の希土類酸硫化物の焼結体からなるセラミックシンチレータを複数並べアレイ化したもの（シンチレータアレイ）が用いられている。
これらＸ線の診断画像の解像度は、シンチレータアレイが具備する各セラミックシンチレータを小型化することで向上するが、一方でＸ線に対する感度が低下するといった課題があった。そこで、近年、より高感度なセラミックシンチレータが望まれており、例えば、特許文献１では、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｐｒ焼結体の不純物金属酸化物または不純物金属硫化物の量を調整することでシンチレータアレイの光出力の低下を抑制できることが開示されている。また、特許文献２や特許文献３では、種々の雰囲気内でセラミックシンチレータを熱処理することにより、焼結体の着色を取り除くことで光出力を高める技術が開示されている。
Image diagnosis by X-ray transmission imaging and image diagnosis by X-ray CT (Computed Tomography) imaging are used for the purpose of medical diagnosis and industrial nondestructive inspection. In these image diagnostic apparatuses, a ceramic scintillator made of a sintered body of a rare earth oxysulfide such as praseodymium activated gadolinium oxysulfide (Gd 2 O 2 S:Pr) (GOS) in order to convert X-rays into visible light. An array of a plurality of (scintillator array) is used.
The resolution of these X-ray diagnostic images is improved by miniaturizing each ceramic scintillator included in the scintillator array, but there is a problem that the sensitivity to X-rays is reduced. Therefore, in recent years, a more sensitive ceramic scintillator has been desired. For example, in
しかしながら、特許文献１〜３では、セラミックシンチレータの光学特性の検討は十分になされておらず、光出力はさらに改良の余地があった。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、光出力の高いセラミックシンチレータを提供することを目的とする。
また、本発明は、上記シンチレータを含む、光出力の高いシンチレータアレイを提供することを目的とする。
また、本発明は、光検出器と、上記シンチレータ又はシンチレータアレイを含む、Ｘ線に対する感度が高い放射線検出器を提供することを目的とする。
更に本発明は、Ｓ／Ｎ比の優れたＸ線像の撮像が可能な放射線検査装置を提供する。
However, in
The present invention has been made in view of the above, and an object thereof is to provide a ceramic scintillator having a high light output.
It is another object of the present invention to provide a scintillator array having a high light output, which includes the above scintillator.
Another object of the present invention is to provide a radiation detector including a photodetector and the scintillator or scintillator array, which has high sensitivity to X-rays.
Furthermore, the present invention provides a radiation inspection apparatus capable of capturing an X-ray image having an excellent S/N ratio.
本発明者等は鋭意検討を行った結果、セラミックシンチレータの光学特性が特定の条件を満たすものを用いることにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明に到達した。
上記構成により、セラミックシンチレータ中での光伝播とセラミックシンチレータ中から光検出への光取出し効率のバランスを最適化することで、光出力の高いセラミックシンチレータを提供することができたものと推測される。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a ceramic scintillator whose optical characteristics satisfy a specific condition, and arrived at the present invention.
With the above configuration, it is presumed that it was possible to provide a ceramic scintillator having a high light output by optimizing the balance between the light propagation in the ceramic scintillator and the light extraction efficiency from the ceramic scintillator to the light detection. ..
即ち、本発明の要旨は、セラミックシンチレータであって、１ｍｍΦの開口を有する白色基板上に、該セラミックシンチレータの光出力面が該白色基板の開口部に接するように固定し、開口部側から該セラミックシンチレータの光出力面に対して、該セラミックシンチレータの最大発光波長に対応する波長の光線を入射させた際に測定される反射率Ｒと透過率Ｔの比Ｔ／Ｒが下記式（１）を満たすセラミックシンチレータに存する。
３．５−０．２×ｔ ＜ Ｔ／Ｒ ＜ ４．１−０．２×ｔ (１)
（上記式中、ｔは光出力面に垂直な方向のセラミックシンチレータの厚み（ｍｍ）である。）
また、本発明の他の要旨は、前記のセラミックシンチレータと反射層を含むシンチレータアレイに存する。
また、本発明の他の要旨は、前記のセラミックシンチレータ又は前記のセラミックシンチレータアレイを含む放射線検出器に存する。
また、本発明の他の要旨は、前記の放射線検出器を備えた放射線検査装置に存する。
That is, the gist of the present invention is a ceramic scintillator, which is fixed on a white substrate having an opening of 1 mmΦ so that the light output surface of the ceramic scintillator is in contact with the opening of the white substrate, and from the opening side, The ratio T/R of the reflectance R and the transmittance T, which is measured when a light beam having a wavelength corresponding to the maximum emission wavelength of the ceramic scintillator is incident on the light output surface of the ceramic scintillator, is represented by the following formula (1). It exists in a ceramic scintillator that satisfies the requirements.
3.5-0.2xt <T/R <4.1-0.2xt (1)
(In the above formula, t is the thickness (mm) of the ceramic scintillator in the direction perpendicular to the light output surface.)
Another aspect of the present invention lies in a scintillator array including the above-mentioned ceramic scintillator and a reflective layer.
Another aspect of the present invention resides in a radiation detector including the ceramic scintillator or the ceramic scintillator array.
Further, another gist of the present invention resides in a radiation inspection apparatus including the radiation detector.
本発明により、光出力の高いセラミックシンチレータを提供することが可能になる。
また、本発明は、上記シンチレータを含む、光出力の高いシンチレータアレイを提供することが可能になる。
また、本発明は、光検出器と、上記シンチレータ又はシンチレータアレイを含む、Ｘ線に対する感度が高い放射線検出器を提供することが可能になる。
更に本発明は、Ｓ／Ｎ比のＸ線像の撮像が可能な放射線検査装置を提供することが可能になる。
According to the present invention, it becomes possible to provide a ceramic scintillator having a high light output.
Further, the present invention can provide a scintillator array having a high optical output, which includes the above scintillator.
Further, the present invention makes it possible to provide a radiation detector including the photodetector and the scintillator or scintillator array, which has high sensitivity to X-rays.
Furthermore, the present invention can provide a radiation inspection apparatus capable of capturing an X-ray image having an S/N ratio.
以下、本発明について実施形態や例示物を示して説明するが、本発明は以下の実施形態や例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変形して実施することができる。
尚、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to the embodiments and examples, but the present invention is not limited to the following embodiments and examples, and may be arbitrarily modified without departing from the scope of the present invention. It can be carried out.
In addition, in this specification, the numerical range represented using "-" means the range which includes the numerical values described before and after "-" as a lower limit and an upper limit.
＜セラミックシンチレータ＞
本願の第一の発明のセラミックシンチレータは、セラミックシンチレータであって、１ｍｍΦの開口を有する白色基板上に、該セラミックシンチレータの光出力面が該白色基板の開口部に接するように固定し、開口部側から該セラミックシンチレータの光出力面に対して、該セラミックシンチレータの最大発光波長に対応する波長の光線を入射させた際に測定される反射率Ｒと透過率Ｔの比Ｔ／Ｒが下記式（１）を満たすものである。
３．５−０．２×ｔ ＜ Ｔ／Ｒ ＜ ４．１−０．２×ｔ (１)
（上記式中、ｔは光出力面に垂直な方向のセラミックシンチレータの厚み（ｍｍ）である。）
<Ceramic scintillator>
The ceramic scintillator of the first invention of the present application is a ceramic scintillator, which is fixed on a white substrate having an opening of 1 mmΦ so that the light output surface of the ceramic scintillator is in contact with the opening of the white substrate. The ratio T/R of the reflectance R and the transmittance T, which is measured when a light beam having a wavelength corresponding to the maximum emission wavelength of the ceramic scintillator is incident on the light output surface of the ceramic scintillator from the side, It satisfies (1).
3.5-0.2xt <T/R <4.1-0.2xt (1)
(In the above formula, t is the thickness (mm) of the ceramic scintillator in the direction perpendicular to the light output surface.)
上記式（１）は、後述のシミュレーションと実施例の結果に基づき定めたものであり、高い光出力を得るのに最適な光散乱性の範囲が存在することを意味する。
Ｔ／Ｒが、４．１−０．２×ｔを超える場合は、焼結体内部での光散乱性が弱く、焼結体内部で全反射を繰り返す光の割合が増えて、光出力面からの光取出し効率が低下するため、十分な光出力を得ることができない。また、Ｔ／Ｒが３．５−０．２×ｔより小さい場合は、焼結体内部での光散乱性が強く、光出力面まで伝播する光の割合が低下するため、十分な光出力を得ることができない。
The above formula (1) is determined based on the results of simulations and examples described later, and means that there is a range of optimum light scattering properties for obtaining a high light output.
When T/R exceeds 4.1-0.2×t, the light scattering property inside the sintered body is weak, and the proportion of light that repeats total reflection inside the sintered body increases, resulting in a light output surface. Since the light extraction efficiency from the optical fiber is reduced, a sufficient light output cannot be obtained. Further, when T/R is smaller than 3.5-0.2×t, the light scattering property inside the sintered body is strong, and the proportion of light propagating to the light output surface is reduced, resulting in sufficient light output. Can't get
また、本発明のセラミックシンチレータは、下記式（２）より求められる吸収率Ａが３５％以下であることが好ましく、より好ましくは３０％以下である。また、通常０％以上である。上記範囲であれば、焼結体内部で発光した光の再吸収によるロスを防ぐことが可能となるため、光出力を高めることができる。
Ａ ＝ １００％−（Ｒ＋Ｔ） （２）
Further, in the ceramic scintillator of the present invention, the absorptance A determined by the following formula (2) is preferably 35% or less, more preferably 30% or less. Further, it is usually 0% or more. Within the above range, loss due to reabsorption of light emitted inside the sintered body can be prevented, so that the light output can be increased.
A = 100%-(R+T) (2)
（反射率Ｒ、透過率Ｔ及び吸収率Ａの測定方法）
本発明のセラミックシンチレータの反射率Ｒ、透過率Ｔ及び吸収率Ａの詳細な測定方法を次に示す
（１）反射率Ｒ（％）の測定方法
セラミックシンチレータを直径１ｍｍΦの開口を有する白色基板上に、該セラミックシンチレータの光出力面が開口部に接するように固定し、開口部側から該セラミックシンチレータの光出力面に対して垂直な方向から４°傾けて、該セラミックシンチレータの最大発光波長に対応する波長の光線を入射させる。入射光線はレンズなどを用いて、集光角が２°以下になるようにコリメートした光線を用いる。該セラミックシンチレータの光出力面は、表面を番手７００番以上の研磨材で研磨して測定を行う。この時、白色基板のセラミックシンチレータを固定した面と反対の面側に反射した全光線の強度を、６インチ以上の直径を有する積分球に取り付けた分光光度計などの光検出器で計測し、該セラミックシンチレータの代わりにスペクトラロン(商品名、Labsphere)製標準白板を設置して計測した反射光線の強度で除算することにより、反射率Ｒを求める。白色基板の測定波長における反射率は９５％以上とする。
(Method of measuring reflectance R, transmittance T, and absorption A)
The detailed measuring method of the reflectance R, the transmittance T and the absorptance A of the ceramic scintillator of the present invention will be described below. (1) Measuring method of the reflectance R(%) The ceramic scintillator is placed on a white substrate having an opening with a diameter of 1 mmΦ. The optical output surface of the ceramic scintillator is fixed so as to be in contact with the opening, and the optical output surface of the ceramic scintillator is tilted by 4° from the direction perpendicular to the optical output surface of the ceramic scintillator to obtain the maximum emission wavelength of the ceramic scintillator. A ray of a corresponding wavelength is made incident. A lens or the like is used as an incident light beam, and a light beam collimated so that the light collection angle is 2° or less is used. The light output surface of the ceramic scintillator is measured by polishing the surface with an abrasive having a count of 700 or more. At this time, the intensity of all the light rays reflected on the surface opposite to the surface of the white substrate on which the ceramic scintillator is fixed is measured by a photodetector such as a spectrophotometer attached to an integrating sphere having a diameter of 6 inches or more, Instead of the ceramic scintillator, a standard white plate made of Spectralon (trade name, Labsphere) is installed and divided by the intensity of the reflected light beam to obtain the reflectance R. The reflectance of the white substrate at the measurement wavelength is 95% or more.
（２）透過率Ｔ（％）の測定方法
セラミックシンチレータを直径１ｍｍΦの開口を有する白色基板上に、該セラミックシンチレータの光出力面が開口部に接するように固定し、開口部側から該セラミックシンチレータの光出力面に対して垂直な方向から４°傾けて、該セラミックシンチレータの最大発光波長に対応する波長の光線を入射させる。入射光線はレンズなどを用いて、集光角が２°以下になるようにコリメートした光線を用いる。該セラミックシンチレータの光出力面は、表面を番手７００番以上の研磨材で研磨して測定を行う。この時、白色基板のセラミックシンチレータ側に透過した全光線の強度を、６インチ以上の直径を有する積分球に取り付けた分光光度計などの光検出器で計測し、セラミックシンチレータを設置しない場合の透過光線の強度で除算することにより、透過率Ｔを求める。白色基板の測定波長における反射率は９５％以上とする。
(2) Method of measuring transmittance T (%) A ceramic scintillator is fixed on a white substrate having an opening with a diameter of 1 mmΦ so that the light output surface of the ceramic scintillator is in contact with the opening, and the ceramic scintillator is opened from the opening side. The light having a wavelength corresponding to the maximum emission wavelength of the ceramic scintillator is made incident at an angle of 4° from the direction perpendicular to the light output surface. A lens or the like is used as an incident light beam, and a light beam collimated so that the light collection angle is 2° or less is used. The light output surface of the ceramic scintillator is measured by polishing the surface with an abrasive having a count of 700 or more. At this time, the intensity of all light rays transmitted to the ceramic scintillator side of the white substrate is measured by a photodetector such as a spectrophotometer attached to an integrating sphere having a diameter of 6 inches or more, and the transmission when the ceramic scintillator is not installed is measured. The transmittance T is obtained by dividing the light intensity. The reflectance of the white substrate at the measurement wavelength is 95% or more.
（３）吸収率Ａ（％）の測定方法
反射率Ｒ（％）と透過率Ｔ（％）より、以下の式（２）に従って計算する。
Ａ ＝ １００％−（Ｒ＋Ｔ） （２）
(3) Method of measuring absorptance A (%) It is calculated from the reflectance R (%) and the transmittance T (%) according to the following equation (2).
A = 100%-(R+T) (2)
（セラミックシンチレータの組成）
本発明のセラミックシンチレータは、光出力が高く、Ｘ線照射後のアフターグローも小さい点から、その組成が
一般式：（Ｇｄ1-aＸa）2Ｏ2Ｓ
(式中ＸはＰｒ、Ｔｂ及びＣｅからなる群より選ばれる少なくとも１つの希土類元素であり、ａは０．０００１＜ａ＜０．０１を満足する数である)
であることが好ましい（本発明ではＧＯＳともいう）。
(Composition of ceramic scintillator)
The ceramic scintillator of the present invention has a high light output and a small afterglow after X-ray irradiation. Therefore, its composition is represented by the general formula: (Gd 1-a X a ) 2 O 2 S.
(In the formula, X is at least one rare earth element selected from the group consisting of Pr, Tb and Ce, and a is a number satisfying 0.0001<a<0.01.)
Is preferred (also referred to as GOS in the present invention).
上記一般式のａは、通常０．０００１より大きく、好ましくは０．０００２以上、より好ましくは０．０００５以上、通常０．０１より小さく以下、好ましくは０．００５以下、より好ましくは０．００２以下である。
上記範囲内であれば、光出力に優れたシンチレータを得ることができる。
A in the above general formula is usually larger than 0.0001, preferably 0.0002 or more, more preferably 0.0005 or more, usually smaller than 0.01, or less, preferably 0.005 or less, more preferably 0.002. It is the following.
Within the above range, a scintillator excellent in light output can be obtained.
本発明のセラミックシンチレータは、本発明の課題を奏する範囲でフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン元素を含有していても良い。 The ceramic scintillator of the present invention may contain a halogen element such as fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc. within a range that achieves the object of the present invention.
（セラミックシンチレータの密度）
本発明のセラミックシンチレータは、密度が通常９９．０％以上、好ましくは９９．２％以上、より好ましくは９９．４％以上、更に好ましくは９９．５％以上、特に好ましくは９９．６％以上である。
密度が上記範囲であれば、ボイドによる散乱が抑制されセラミックシンチレータ内での吸収が低減されるため好ましい。
なお、本発明においてセラミックシンチレータの密度は、島津製作所社製分析天びんＡＵＷ２２０Ｄと比重測定キットＳＭＫ−４０１を用いて、６×６×３ｍｍの焼結体を４回測定し２〜４回目を平均して算出できる。
(Density of ceramic scintillator)
The ceramic scintillator of the present invention has a density of usually 99.0% or more, preferably 99.2% or more, more preferably 99.4% or more, still more preferably 99.5% or more, particularly preferably 99.6% or more. Is.
When the density is in the above range, scattering due to voids is suppressed and absorption in the ceramic scintillator is reduced, which is preferable.
In the present invention, the density of the ceramic scintillator is measured using a Shimadzu analytical balance AUW220D and a specific gravity measuring kit SMK-401 four times for a 6×6×3 mm sintered body and averaging the second to fourth times. Can be calculated.
（セラミックシンチレータの厚み）
本発明のセラミックシンチレータの光出力面に垂直な方向の厚みは、好ましくは１ｍｍ以上、更に好ましくは２ｍｍ以上、好ましくは５ｍｍ以下、更に好ましくは４ｍｍ以下であることが好ましい。厚みが上記より小さい場合には、セラミックシンチレータと相互作用するＸ線の割合が減少するために光出力が低下し、厚みが上記より厚い場合には、セラミックシンチレータの光出力面から出力される前に、セラミックシンチレータ内部で吸収される光の割合が増加するため光出力が低下する。
なお、本発明においてセラミックシンチレータの厚みは、光出力面に垂直な方向のセラミックシンチレータの長さをノギスなどを用いて測定する。
(Ceramic scintillator thickness)
The thickness of the ceramic scintillator of the present invention in the direction perpendicular to the light output surface is preferably 1 mm or more, more preferably 2 mm or more, preferably 5 mm or less, more preferably 4 mm or less. When the thickness is smaller than the above, the light output decreases because the proportion of X-rays that interact with the ceramic scintillator decreases, and when the thickness is larger than the above, before the light is output from the light output surface of the ceramic scintillator. In addition, since the proportion of light absorbed inside the ceramic scintillator increases, the light output decreases.
In the present invention, the thickness of the ceramic scintillator is measured by using a caliper or the like to measure the length of the ceramic scintillator in the direction perpendicular to the light output surface.
＜セラミックシンチレータの製造方法＞
セラミックシンチレータの製造方法は特に制限されず、公知の方法により製造することができる。本発明のセラミックシンチレータを得るには、反射率Ｒと透過率Ｔの比Ｔ／Ｒが上記式（１）を満たすよう調整する必要があり、セラミックシンチレータのボイドの量、原料の粉末の形状や焼結条件、熱処理条件を調整することで所望の光学特性を有するセラミックシンチレータを得ることができる。また、セラミックシンチレータの厚さを調整することによって、上記式（１）の範囲を調整しても良く、安定して光出力が高いセラミックシンチレータを供給することが可能となる。
以下、本発明の好ましい態様である、ＧＯＳのセラミックシンチレータの製造方法について説明する。
ＧＯＳのセラミックシンチレータはＧＯＳ粉末を焼結させて、前記ＧＯＳの焼結体を作製する焼結工程と、不活性ガス雰囲気において９００℃以上１１００℃以下で熱処理するアニール工程を含む製造方法で製造することが好ましい。
<Ceramic scintillator manufacturing method>
The manufacturing method of the ceramic scintillator is not particularly limited, and it can be manufactured by a known method. In order to obtain the ceramic scintillator of the present invention, it is necessary to adjust the ratio T/R of the reflectance R and the transmittance T so as to satisfy the above formula (1). A ceramic scintillator having desired optical characteristics can be obtained by adjusting sintering conditions and heat treatment conditions. Further, the range of the above formula (1) may be adjusted by adjusting the thickness of the ceramic scintillator, and it becomes possible to stably supply the ceramic scintillator having a high optical output.
Hereinafter, a method for manufacturing a GOS ceramic scintillator, which is a preferred embodiment of the present invention, will be described.
The ceramic scintillator of GOS is manufactured by a manufacturing method including a sintering step of sintering GOS powder to produce a sintered body of the GOS and an annealing step of heat treatment at 900° C. or more and 1100° C. or less in an inert gas atmosphere. It is preferable.
（焼結工程）
焼結工程は、ＧＯＳ粉末を焼結させて、前記ＧＯＳの焼結体を作製する焼結工程である。
原料に用いるＧＯＳ粉末は、特に制限されず、市販のものでも良いし、特開平０３−１９２１８７号公報や特開平９−６３１２２号公報等に記載のものを用いても良く、単独または混合使用することができる。
(Sintering process)
The sintering step is a sintering step of sintering GOS powder to produce a sintered body of the GOS.
The GOS powder used as a raw material is not particularly limited, and may be a commercially available product, or those described in JP-A No. 03-192187, JP-A No. 9-63122, etc., which may be used alone or in combination. be able to.
原料に用いるＧＯＳ粉末の体積基準の平均粒子径は、通常０．１μｍ以上、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１．０μｍ以上、更に好ましくは１．５．μｍ以上、特に好ましくは２．５μｍ以上、また通常３０μｍ以下、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以下、更に好ましくは１０μｍ以下である。
上記範囲内であると、焼結後のボイドが低減される点で好ましい。
The volume-based average particle size of the GOS powder used as a raw material is usually 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.0 μm or more, and further preferably 1.5. μm or more, particularly preferably 2.5 μm or more, and usually 30 μm or less, preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, further preferably 10 μm or less.
Within the above range, voids after sintering are reduced, which is preferable.
次に、上記したＧＯＳ粉末を焼結して、セラミックシンチレータの構成材料となるＧＯＳの焼結体（ＧＯＳ焼結体）を作製する。ＧＯＳ粉末を焼結するにあたっては、ホットプレスやＨＩＰなどの公知の焼結法（特開２００２−２７５４６５号公報や国際公開第２０１６／０４７１３９号等参照）、反応焼結などを適用することができるが、特に高密度のガドリニウム酸硫化物焼結体を容易に得ることが可能であることから、ＨＩＰ法を適用して焼結工程を実施することが好ましい。 Next, the above-mentioned GOS powder is sintered to produce a sintered body of GOS (GOS sintered body) which is a constituent material of the ceramic scintillator. In sintering the GOS powder, a known sintering method such as hot pressing or HIP (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-275465 or International Publication No. 2016/047139), reaction sintering, or the like can be applied. However, since it is possible to easily obtain a gadolinium oxysulfide sintered body having a particularly high density, it is preferable to apply the HIP method to carry out the sintering step.
ＨＩＰ法を適用した焼結工程は、まずＧＯＳ粉末を適当な形に成形した後、金属容器などに充填封入してＨＩＰ処理を施すことにより実施する。
ＨＩＰの温度は、通常２０００℃以下、好ましくは１８００℃以下、より好ましくは１６００℃以下、更に好ましくは１５００℃以下、特に好ましくは１４００℃以下であり、一方通常８００℃以上、好ましくは９００℃以上、より好ましくは９５０℃以上、更に好ましくは１０００℃以上、特に好ましくは１０５０℃以上である。
ＨＩＰの圧力は通常２００ＭＰａ以下、好ましくは１８０ＭＰａ以下、より好ましくは１６０ＭＰａ以下、更に好ましくは１５０ＭＰａ以下、特に好ましくは１４０ＭＰａ以下であり、一方通常５０ＭＰａ以上、好ましくは６０ＭＰａ以上、より好ましくは７０ＭＰａ以上、更に好ましくは８０ＭＰａ以上、特に好ましくは９０ＭＰａ以上である。
ＨＩＰの時間は通常４８時間以下、好ましくは３６時間以下、より好ましくは２４時間以下、更に好ましくは１２時間以下、特に好ましくは１０時間以下であり、一方通常０．５時間以上、好ましくは０．８時間以上、より好ましくは。１時間以上、更に好ましくは１．５時間以上、特に好ましくは２時間以上である。
上記条件でＨＩＰ処理を行うことによって、ＧＯＳ焼結体が得られる。
The sintering process to which the HIP method is applied is carried out by first molding the GOS powder into an appropriate shape, then filling and enclosing it in a metal container or the like and performing the HIP process.
The temperature of HIP is usually 2000°C or lower, preferably 1800°C or lower, more preferably 1600°C or lower, further preferably 1500°C or lower, particularly preferably 1400°C or lower, while usually 800°C or higher, preferably 900°C or higher. , More preferably 950° C. or higher, further preferably 1000° C. or higher, particularly preferably 1050° C. or higher.
The HIP pressure is usually 200 MPa or less, preferably 180 MPa or less, more preferably 160 MPa or less, further preferably 150 MPa or less, particularly preferably 140 MPa or less, while usually 50 MPa or more, preferably 60 MPa or more, more preferably 70 MPa or more, further It is preferably 80 MPa or more, and particularly preferably 90 MPa or more.
The HIP time is usually 48 hours or less, preferably 36 hours or less, more preferably 24 hours or less, further preferably 12 hours or less, particularly preferably 10 hours or less, while usually 0.5 hours or more, preferably 0. 8 hours or more, more preferably. It is 1 hour or longer, more preferably 1.5 hours or longer, and particularly preferably 2 hours or longer.
By performing the HIP process under the above conditions, a GOS sintered body can be obtained.
なお、焼結工程では、前処理工程（洗浄、乾燥、真空脱気などを行う工程）、後処理工程（洗浄、乾燥などを行う工程）等を任意に含んでいてもよい The sintering step may optionally include a pretreatment step (a step of performing cleaning, drying, vacuum deaeration, etc.), a post-treatment step (a step of performing cleaning, drying, etc.) and the like.
（アニール工程）
アニール工程は、上記焼結工程で得られたＧＯＳ焼結体を、不活性ガス雰囲気において９００℃以上１１００℃以下で熱処理する工程である。
ＧＯＳ焼結体の表面に硫酸塩ができないように、アニール工程の温度、時間、空気量を調整することで、本発明の好適な光学特性を有するセラミックシンチレータを得ることが可能となる。
なお、アニール工程前にＧＯＳ焼結体をブレードソーやワイヤーソーなどにより所望の形状および寸法に切り出しておくことが好ましい。
(Annealing process)
The annealing step is a step of heat-treating the GOS sintered body obtained in the above sintering step at 900° C. or higher and 1100° C. or lower in an inert gas atmosphere.
By adjusting the temperature, the time, and the amount of air in the annealing step so that the surface of the GOS sintered body will not be sulfated, it becomes possible to obtain a ceramic scintillator having suitable optical characteristics of the present invention.
It is preferable to cut the GOS sintered body into a desired shape and size with a blade saw, a wire saw, or the like before the annealing step.
アニール工程は、アルゴンガス、窒素等の不活性ガス雰囲気にて行う。これらの中でも生産コスト抑制の点から工業用アルゴンないしは窒素ガス下で行うことが好ましい。
不活性ガスの流量としては、０．１Ｌ／分以上、２０Ｌ／分以下が好ましい。
熱処理温度は、通常９００℃以上、好ましくは９５０℃以上、より好ましくは１０００℃以上、更に好ましくは１０５０℃以上であり、一方、通常１１５０℃以下、好ましくは１１４０℃以下、更に好ましくは１１００℃以下である。
上記範囲は６×６×３ｍｍの焼結体に対して有効であって、焼結体の大きさによってはその限りではない。
The annealing process is performed in an inert gas atmosphere such as argon gas or nitrogen. Among these, industrial argon or nitrogen gas is preferably used from the viewpoint of suppressing production costs.
The flow rate of the inert gas is preferably 0.1 L/min or more and 20 L/min or less.
The heat treatment temperature is usually 900° C. or higher, preferably 950° C. or higher, more preferably 1000° C. or higher, even more preferably 1050° C. or higher, while usually 1150° C. or lower, preferably 1140° C. or lower, further preferably 1100° C. or lower. Is.
The above range is effective for a sintered body of 6×6×3 mm, and is not limited to this depending on the size of the sintered body.
また、熱処理時間は、通常８時間以上、好ましくは８．５時間以上、より好ましくは９時間以上、更に好ましくは９．５時間以上、通常１９時間以下、好ましくは１７時間以下、更に好ましくは１５時間以下である。
上記範囲は６×６×３ｍｍの焼結体に対して有効であって、焼結体の大きさによってはその限りではない。
The heat treatment time is usually 8 hours or longer, preferably 8.5 hours or longer, more preferably 9 hours or longer, still more preferably 9.5 hours or longer, usually 19 hours or shorter, preferably 17 hours or shorter, further preferably 15 hours. Less than an hour.
The above range is effective for a sintered body of 6×6×3 mm, and is not limited to this depending on the size of the sintered body.
（その他の工程）
本発明のセラミックシンチレータの製造方法は、上記工程の他に任意の工程を含んでよい。
(Other processes)
The method for manufacturing a ceramic scintillator of the present invention may include any step in addition to the above steps.
＜シンチレータアレイ＞
本発明のシンチレータアレイは、上記の本発明のシンチレータを複数含むものである。
また、本発明のシンチレータは光出力および解像度の向上を目的として、セラミックシンチレータの表面に反射層及び／又は空隙を設けても良い。
反射層としては、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ等の無機粒子とバインダー樹脂を含む。
反射層の厚さとしては、通常０．０１μｍ以上、好ましくは０．０５μｍ以上、より好ましくは０．１μｍ以上、更に好ましくは０．１５μｍ以上、また通常１００００μｍ以下、好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは５００μｍ以下、更に好ましくは３００μｍ以下である。
上記範囲であればシンチレータで発光した光を効率的に受光面へ到達させることができる。
本発明のシンチレータアレイは、より低いＸ線照射量においても使用可能である。
<Scintillator array>
The scintillator array of the present invention includes a plurality of the scintillators of the present invention described above.
Further, in the scintillator of the present invention, a reflective layer and/or voids may be provided on the surface of the ceramic scintillator for the purpose of improving light output and resolution.
The reflective layer contains inorganic particles such as TiO 2 , Al 2 O 3 and ZnO, and a binder resin.
The thickness of the reflective layer is usually 0.01 μm or more, preferably 0.05 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, still more preferably 0.15 μm or more, and usually 10,000 μm or less, preferably 1000 μm or less, more preferably It is 500 μm or less, more preferably 300 μm or less.
Within the above range, the light emitted by the scintillator can efficiently reach the light receiving surface.
The scintillator array of the present invention can also be used at lower X-ray doses.
＜放射線検出器＞
本発明の放射線検出器は、光検出器と、上記本発明のシンチレータ又は本発明のシンチレータアレイを含むものである。
光検出器は、シンチレータ又はシンチレータアレイに対向して光電変換部を備え、シンチレータ又はシンチレータアレイで発せられた蛍光を、電気信号等に変換する機能を有する。このような機能を有する限り光検出器は特段限定されず、既知の光検出器を適宜用いることができる。
<Radiation detector>
The radiation detector of the present invention includes a photodetector and the scintillator of the present invention or the scintillator array of the present invention.
The photodetector includes a photoelectric conversion unit facing the scintillator or scintillator array and has a function of converting fluorescence emitted from the scintillator or scintillator array into an electric signal or the like. The photodetector is not particularly limited as long as it has such a function, and a known photodetector can be appropriately used.
＜放射線検査装置＞
放射線検査装置の一例としては、Ｘ線ＣＴ装置が挙げられる。Ｘ線ＣＴ装置としては、被検体にＸ線を照射するＸ線照射部と、前記被検体を介して前記Ｘ線照射部と対向し、前記被検体を透過した透過Ｘ線のうちの前記被検体の内部の検査対象物に応じた特定のエネルギ範囲における前記透過Ｘ線の個数を測定するＸ線測定部と、前記Ｘ線測定部で測定した前記透過Ｘ線の個数に基づいて前記検査対象物の厚さを演算する厚さ演算部と、前記厚さ演算部で演算された前記検査対象物の厚さに基づいてＣＴ画像を再構成する画像再構成部とを備える。
<Radiation inspection equipment>
An X-ray CT apparatus is an example of the radiation inspection apparatus. The X-ray CT apparatus includes an X-ray irradiation unit that irradiates an object with X-rays, and an X-ray irradiation unit that opposes the X-ray irradiation unit through the object and transmits the X-rays that have passed through the object. An X-ray measurement unit that measures the number of the transmitted X-rays in a specific energy range according to the inspection target inside the specimen, and the inspection target based on the number of the transmitted X-rays measured by the X-ray measurement unit A thickness calculation unit that calculates the thickness of an object and an image reconstruction unit that reconstructs a CT image based on the thickness of the inspection object calculated by the thickness calculation unit are provided.
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
＜シミュレーションによるセラミックシンチレータの光出力評価＞
本実施形態におけるセラミックシンチレータにおいて、種々のセラミックシンチレータの反射率Ｒ、透過率Ｔ及び吸収率Ａと光出力をシミュレーションにより評価した。光出力のシミュレーションにおいては、セラミックシンチレータのＸ線に対する線減弱係数を４０ｃｍ-1、複素屈折率を２．２＋１．０×１０-6ｉと設定し、光出力面と対向する面から、光出力面に対して垂直にＸ線を入射させた際に、光出力面から出力される相対光出力を評価した。光出力面を含む全ての面は鏡面を仮定し、光出力面以外の面には白色の反射材が設置されているものとして、鏡面反射せずに透過した光の８０％が拡散反射光としてシンチレータ内に戻ることを仮定した。反射材の屈折率は１．５と仮定してシンチレータと反射材界面の鏡面反射を計算した。さらに、光出力面は接着剤により光検出面に接着されていることを想定し、接着剤の屈折率を１．５に設定して、セラミックシンチレータの形状や内部の光散乱体の数密度を種々に変化させた際に、光出力面から出力される光量を評価した。
さらに、シミュレーションにより得られた光出力を、同一の形状のセラミックシンチレータにおいて、光散乱体の数密度を変化させた時に得られた最大光出力で除算することにより、相対光出力を求めた。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples without departing from the gist thereof.
<Evaluation of optical output of ceramic scintillator by simulation>
In the ceramic scintillator of this embodiment, the reflectance R, the transmittance T, the absorptance A, and the light output of various ceramic scintillators were evaluated by simulation. In the simulation of the light output, the linear attenuation coefficient for the X-ray of the ceramic scintillator was set to 40 cm −1 and the complex refractive index was set to 2.2+1.0×10 −6 i. The relative light output output from the light output surface was evaluated when X-rays were incident perpendicularly to the surface. It is assumed that all surfaces including the light output surface are mirror surfaces, and that white reflective material is installed on the surfaces other than the light output surface, and 80% of the light transmitted without specular reflection is diffuse reflection light. It was assumed to return to the scintillator. The specular reflection at the interface between the scintillator and the reflector was calculated assuming that the refractive index of the reflector was 1.5. Furthermore, assuming that the light output surface is adhered to the light detection surface with an adhesive, the refractive index of the adhesive is set to 1.5 to determine the shape of the ceramic scintillator and the number density of the light scatterers inside. The amount of light output from the light output surface when various changes were evaluated.
Furthermore, the relative light output was obtained by dividing the light output obtained by the simulation by the maximum light output obtained when the number density of the light scatterers was changed in the same shape of the ceramic scintillator.
一方、反射率Ｒ、透過率Ｔ、吸収率Ａのシミュレーションにおいては、光出力シミュレーションと同様の光学特性を持つセラミックシンチレータを設定し、該セラミックシンチレータを１ｍｍΦの開口を有する反射率９５％の白色基板に、該セラミックシンチレータの光出力面が接するように固定して、開口部側から該セラミックシンチレータの光出力面に対して垂直な方向から４°傾けて、波長５１４ｎｍ、ビーム径１ｍｍの光線を入射させた時の入射光の反射率Ｒ、透過率Ｔ及び吸収率Ａを計算した。全ての面に鏡面を仮定したが、反射材は設定せずに、鏡面反射されなかった光については空気への出射を仮定した。計算にはＳｙｎｏｐｓｉｓ社の照明設計解析ソフトウェアであるＬｉｇｈｔＴｏｏｌｓ（登録商標）を用い、光線追跡法によりシミュレーションを実施した。
以下の表１に各シンチレータの形状、Ｔ／Ｒ、吸収率Ａ及び相対光出力を示した。
On the other hand, in the simulation of the reflectance R, the transmittance T, and the absorptance A, a ceramic scintillator having the same optical characteristics as the light output simulation is set, and the ceramic scintillator is a white substrate having a reflectance of 95% and an opening of 1 mmΦ. Is fixed so that the light output surface of the ceramic scintillator is in contact with the ceramic scintillator, and is tilted by 4° from the direction perpendicular to the light output surface of the ceramic scintillator, and a light beam with a wavelength of 514 nm and a beam diameter of 1 mm enters The reflectance R, the transmittance T, and the absorptance A of the incident light at that time were calculated. All surfaces were assumed to be specular, but no reflector was set, and light that was not specularly reflected was assumed to be emitted to the air. For the calculation, LightTools (registered trademark), which is an illumination design analysis software of Synopsis, was used, and a simulation was performed by a ray tracing method.
Table 1 below shows the shape, T/R, absorptance A, and relative light output of each scintillator.
表１に示すように、式（１）を満たすセラミックシンチレータは高い相対光出力を示すことがわかる。また、図４に各シミュレーション結果において、相対光出力が８５％以上と、８５％以下のものについて、Ｔ／Ｒを厚みに対してプロットした結果を示す。 As shown in Table 1, it can be seen that the ceramic scintillator satisfying the formula (1) exhibits a high relative light output. Further, FIG. 4 shows the results of plotting T/R with respect to the thickness for each of the simulation results having relative light outputs of 85% or more and 85% or less.
（実施例１）
＜シンチレータの作成＞
・焼結工程
体積基準の平均粒子径９μｍのＧｄ2Ｏ2Ｓ：Ｐｒの粉末を、軟鋼カプセルに封入し、温度１３００℃、２時間、圧力１００ＭＰａにてＨＩＰ処理を行い、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｐｒの焼結体を得た。
次いで、得られた焼結体をダイシングソーにて６×６×３ｍｍ厚に加工した。
・アニール工程
得られた焼結体片をモトヤマ社製タンマン炉ＳＵＰＥＲ−ＢＵＲＮに入れた。アルゴンガス（０．３Ｌ／分）雰囲気で、１１００℃まで２００℃／時間で昇温し、１０時間熱処理を行った後、２００℃／時間で降温し熱処理したセラミックシンチレータを得た。
(Example 1)
<Create scintillator>
-Sintering process Gd 2 O 2 S:Pr powder having an average particle diameter of 9 μm on a volume basis is encapsulated in a mild steel capsule and subjected to HIP treatment at a temperature of 1300° C. for 2 hours at a pressure of 100 MPa to obtain Gd 2 O 2 S. A Pr sintered body was obtained.
Then, the obtained sintered body was processed into a thickness of 6×6×3 mm with a dicing saw.
-Annealing step The obtained sintered body piece was put in a Tamman furnace SUPER-BURN manufactured by Motoyama. In an argon gas (0.3 L/min) atmosphere, the temperature was raised to 1100° C. at 200° C./hour, the heat treatment was performed for 10 hours, and the temperature was lowered at 200° C./hour to obtain a ceramic scintillator.
・反射率Ｒ、透過率Ｔ及び吸収率Ａの測定
熱処理したセラミックシンチレータの反射率Ｒ、透過率Ｔ、吸収率Ａを前述した方法に従って測定した。
・光出力の測定
試料を光取り出し面以外の５面に１００ｕｍ厚の反射材コクヨＴＷ−４０を塗布し、ジョブ製ＰＯＲＴＡ １００ＨＦを８０ｋＶ１２ｍＡｓに設定し、１０ｃｍのファントムを設置し７５０ｍｍの距離でＲａｄＥｙｅ Ｉｍａｇｅ Ｓｅｎｓｏｒを用いて測定した。
光出力は同一条件で測定した三菱化学社製ＤＲＺ−ｈｉｇｈの光出力を１００とした相対強度である。
-Measurement of reflectance R, transmittance T, and absorption A The reflectance R, transmittance T, and absorption A of the heat-treated ceramic scintillator were measured according to the methods described above.
-Measurement of light output The sample KOKUYO TW-40 having a thickness of 100 um was applied to five surfaces other than the light extraction surface, PORTA 100HF manufactured by Job was set to 80 kV12 mAs, a phantom of 10 cm was installed, and a RadEye Image was set at a distance of 750 mm. It measured using the Sensor.
The light output is a relative intensity with the light output of Mitsubishi Chemical Corporation DRZ-high measured under the same conditions as 100.
（比較例１〜２）
セラミックシンチレータの反射率、透過率及び吸収率を調整するために、ＨＩＰの条件を調整し、実施例１と同様に熱処理したセラミックシンチレータを得た。
各シンチレータの形状、Ｔ／Ｒ、吸収率Ａ及び相対光出力を評価した結果を下表２に示す。
(Comparative Examples 1-2)
In order to adjust the reflectance, the transmittance and the absorptance of the ceramic scintillator, the HIP conditions were adjusted, and a heat-treated ceramic scintillator was obtained in the same manner as in Example 1.
The results of evaluating the shape, T/R, absorptance A and relative light output of each scintillator are shown in Table 2 below.
表２より式（１）を満たす実施例１のセラミックシンチレータは、式（１）を満たさない比較例１〜２のシンチレータに比べて高い相対光出力を示すことが分かる。 It can be seen from Table 2 that the ceramic scintillator of Example 1 satisfying the formula (1) exhibits a higher relative light output than the scintillators of Comparative Examples 1 and 2 not satisfying the formula (1).
Claims (6)
３．５−０．２×ｔ ＜ Ｔ／Ｒ ＜ ４．１−０．２×ｔ (１)
（上記式中、ｔは光出力面に垂直な方向のセラミックシンチレータの厚み（ｍｍ）である。） A ceramic scintillator, which is fixed on a white substrate having an opening of 1 mmΦ so that the light output surface of the ceramic scintillator is in contact with the opening of the white substrate, and from the opening side to the light output surface of the ceramic scintillator. A ceramic scintillator in which the ratio T/R of the reflectance R and the transmittance T measured when a light beam having a wavelength corresponding to the maximum emission wavelength of the ceramic scintillator satisfies the following formula (1) is satisfied.
3.5-0.2xt <T/R <4.1-0.2xt (1)
(In the above formula, t is the thickness (mm) of the ceramic scintillator in the direction perpendicular to the light output surface.)
Ａ ＝ １００％−（Ｒ＋Ｔ） （２） The ceramic scintillator according to claim 1, wherein the absorptance A obtained from the following formula (2) is 35% or less.
A = 100%-(R+T) (2)
一般式：（Ｇｄ1-aＸa）2Ｏ2Ｓ
(式中ＸはＰｒ、Ｔｂ及びＣｅからなる群より選ばれる少なくとも１つの希土類元素であり、ａは０．０００１＜ａ＜０．０１を満足する数である)で表される請求項１又は２に記載のセラミックシンチレータ。 The composition of the ceramic scintillator is represented by the general formula: (Gd 1-a X a ) 2 O 2 S
(Wherein X is at least one rare earth element selected from the group consisting of Pr, Tb and Ce, and a is a number satisfying 0.0001<a<0.01). 2. The ceramic scintillator described in 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017015527A JP6750520B2 (en) | 2017-01-31 | 2017-01-31 | Ceramic scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017015527A JP6750520B2 (en) | 2017-01-31 | 2017-01-31 | Ceramic scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection apparatus |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018124134A JP2018124134A (en) | 2018-08-09 |
| JP6750520B2 true JP6750520B2 (en) | 2020-09-02 |
Family
ID=63110192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017015527A Active JP6750520B2 (en) | 2017-01-31 | 2017-01-31 | Ceramic scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6750520B2 (en) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102127440A (en) * | 2004-12-21 | 2011-07-20 | 日立金属株式会社 | Fluorescent material and method for preparation thereof, radiation detector using fluorescent material, and X-ray ct device |
| CN102317409B (en) * | 2008-12-30 | 2016-01-20 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | Ceramic scintillator body and flashing device |
| JP2012180399A (en) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Furukawa Co Ltd | Garnet-type crystal for scintillator, and radiation detector using the same |
| CN106796822B (en) * | 2014-09-25 | 2019-02-22 | 株式会社东芝 | Scintillator, scintillator arrays, radiation detector and radiation inspecting apparatus |
-
2017
- 2017-01-31 JP JP2017015527A patent/JP6750520B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2018124134A (en) | 2018-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8338790B2 (en) | Radiation-sensitive detector with a scintillator in a composite resin | |
| JP6911178B2 (en) | Scintillators, scintillator arrays, radiation detectors, and radiation inspection equipment | |
| JP6130360B2 (en) | Scintillation crystals containing rare earth halides and radiation detection systems containing scintillation crystals | |
| JP4134993B2 (en) | X-ray detector | |
| JP5759374B2 (en) | Luminescent substance and radiation detection method using the same | |
| JP7095459B2 (en) | Gadolinium sulfide sintered body, and scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection device containing gadolinium acid sulfide sintered body. | |
| JP5675339B2 (en) | Solid scintillator, radiation detector, and X-ray tomography apparatus | |
| JP6829209B2 (en) | Ceramic scintillator array and its manufacturing method, radiation detector, and radiation inspection equipment | |
| JP6101443B2 (en) | Scintillator and radiation detector using the same | |
| JP6773683B2 (en) | Ceramic scintillator array, X-ray detector, and X-ray inspection equipment | |
| JP5937287B1 (en) | Mixed oxide material | |
| JP7003939B2 (en) | Gadolinium sulfide sulfide sintered body, and scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection device containing gadolinium sulfide sulfide sintered body. | |
| CN105700002B (en) | Radiation detecting apparatus and radioactive ray detection lug | |
| EP3168685B1 (en) | A photostimulable plate reading device | |
| JP2008051626A (en) | Line sensor, line sensor unit and radiation nondestructive inspection system | |
| JP6750520B2 (en) | Ceramic scintillator, scintillator array, radiation detector, and radiation inspection apparatus | |
| Saatsakis et al. | Luminescence efficiency of CaF2: Eu single crystals: Temperature dependence | |
| JP4678924B2 (en) | Radiation detector and X-ray diagnostic apparatus using the same | |
| JP4451112B2 (en) | Radiation detector and radiation image diagnostic apparatus using the same | |
| JP2020173226A (en) | Scintillator array, radiation detector, and radiation inspection device | |
| JP5995246B2 (en) | X-ray or gamma ray detector | |
| Cho et al. | Conceptual design of stacked-layer detectors to increase the sensitivity of Fast Neutron Gamma-ray Radiography (FNGR) | |
| Park et al. | Compatibility of Tio2 Reflective Material with Ce: Gagg Scintillators in Harsh Environments |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20170428 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190719 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200626 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200714 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200727 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6750520 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |