JP6742502B2 - 光硬化性インク組成物、及び画像形成方法 - Google Patents

Description

本開示は、光硬化性インク組成物、及び画像形成方法に関する。

従来より、紫外線等の活性エネルギー線（以下、「光」ともいう。）により硬化する性質を有する光硬化性インク組成物が知られている。光硬化性インクは、様々な記録方法に利用が可能であり、例えば、任意の記録媒体に簡易に記録できるインクジェット記録用のインクとしても期待されている。

例えば、色再現性に優れた高画質画像を得る観点から、有機顔料、顔料分散剤である、チオエーテル構造を含む高分子化合物、及び活性放射線硬化性化合物を含有し、顔料の分散性及びその安定性に優れたインクジェット用インク組成物が開示されている（例えば、特開２００９−２１５４５３号公報参照）。

インクの密着性に関連する技術として、金属などの非吸収材料に対する定着性を向上させるため、モノマー成分であるリン系化合物を含有させた紫外線硬化型インクジェットインクが開示されている（例えば、特開２００５−１２６５４０号公報参照）。
また、カチオン型ポリマーを含有する非硬化性系のインクにおける耐光性を改善するため、カチオン型ポリマーに加え、紫外線吸収活性を有する部位である紫外線吸収剤を有するモノマーの重合体である第二のポリマーを用いる技術が開示されている（例えば、特開平１０−２７９８５４号公報参照）。

インク組成物は、従来から、色再現性及び耐候性などの画像の性状に対する改善が図られており、近年広く普及するに至っているインクジェット法を利用した画像記録方法にも適用されている。
この点は、光硬化性が付与されたインク組成物においても同様であり、広範な用途に適合するように、例えばプラスチック製の基材に対する画像の密着性等に対する検討も盛んになされている。
しかしながら、光硬化性を有するインク組成物の硬化性能は、経時で変化しやすく、従来のように例えば低分子の酸化防止剤等を単に添加した組成では、硬化後の硬度が不足し、ブロッキング現象及び基材への密着不良を招く場合がある。

本開示は、上記の事情に鑑みてなされたものである。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、硬化後の画像の硬度、耐ブロッキング性、及び基材への密着性に優れる光硬化性インク組成物を提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、硬度、耐ブロッキング性、及び記録媒体への密着性に優れた画像が形成される画像形成方法を提供することにある。

課題を達成するための具体的手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 下記一般式１で表される構造単位を含む重合体とラジカル重合性モノマーとを含有し、単官能のラジカル重合性モノマー及び２官能のラジカル重合性モノマーの総含有量が、組成物全量に対して５０質量％以上である、光硬化性インク組成物である。

式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘは、酸素原子又は−ＮＲ^２−を表し、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｙは、チオエーテル構造、リン原子、及びヒンダードフェノール構造からなる群から選択される少なくとも１種の部位を含む基を表す。＊は、結合位置を示す。

＜２＞ 一般式１で表される構造単位は、下記一般式２〜一般式４から選択される少なくとも１つの構造単位を含む＜１＞に記載の光硬化性インク組成物である。

式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌは、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状、脂環族又は芳香族の炭化水素基を表し、Ｒ^６及びＲ^７は互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｒ^８及びＲ^９の一方は水酸基を表し、他方は水素原子を表す。＊は、結合位置を示す。

＜３＞ 重合体は、上記の一般式１で表される構造単位以外のアミド構造を有する構造単位、及び環状の炭化水素基を有する構造単位から選択される少なくとも一種を含む＜１＞又は＜２＞に記載の光硬化性インク組成物である。
＜４＞ 一般式１で表される構造単位の、重合体中の全構造単位の総質量に対する比率が、１０質量％以上である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の光硬化性インク組成物である。
＜５＞ 一般式１で表される構造単位の、重合体中の全構造単位の総質量に対する比率が、３０質量％以上７０質量％以下である＜４＞に記載の光硬化性インク組成物である。
＜６＞ 重合体の重量平均分子量が、１，０００〜５０，０００である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の光硬化性インク組成物である。
＜７＞ 重合体の含有量が、光硬化性インク組成物の全質量に対して、０．５質量％〜１０．０質量％である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の光硬化性インク組成物である。
＜８＞ ラジカル重合性モノマーの含有量に対する重合体の含有量の比が、３質量％〜５質量％である＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の光硬化性インク組成物である。
＜９＞ 更に、光重合開始剤を含有する＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の光硬化性インク組成物である。

＜１０＞ ＜１＞〜＜９＞のいずれか１つに記載の光硬化性インク組成物を（好ましくはインクジェット法により）記録媒体上に付与する工程と、記録媒体上に付与された光硬化性インク組成物に活性エネルギー線を照射する工程と、を有する画像形成方法である。

本発明の一実施形態によれば、硬化後の画像の硬度、耐ブロッキング性、及び基材への密着性に優れた光硬化性インク組成物が提供される。
本発明の他の実施形態によれば、硬度、耐ブロッキング性、及び記録媒体への密着性に優れた画像が形成される画像形成方法が提供される。

以下、本開示の光硬化性インク組成物、及び光硬化性インク組成物を用いた本開示の画像形成方法について、詳細に説明する。

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において、重合体中の各構造単位の量は、重合体中に各構造単位に該当する構造単位が複数存在する場合は、特に断らない限り、重合体中に存在する複数の構造単位の合計量を意味する。
本明細書において、「工程」との用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、「光」は、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線といった活性エネルギー線を包含する概念である。
本明細書において、紫外線を、「ＵＶ（Ultra Violet）光」ということがある。
本明細書において、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）光源から生じた光を、「ＬＥＤ光」ということがある。
本明細書において、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの両方を包含する概念であり、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の両方を包含する概念である。
また、本明細書において、化学式中の「＊」は、結合位置を表す。

＜光硬化性インク組成物＞
本開示の光硬化性インク組成物（以下、単に「インク組成物」又は「インク」ということがある。）は、少なくとも、以下に示す一般式１で表される構造単位を含む重合体と、ラジカル重合性モノマーと、を含有し、ラジカル重合性モノマーのうち、単官能のラジカル重合性モノマー及び２官能のラジカル重合性モノマーの総含有量を、組成物全量に対して５０質量％以上の範囲としたものである。

本開示の光硬化性インク組成物による作用効果は、以下のように推察される。
一般に、重合体の劣化を抑制する目的で酸化防止剤が添加されることがある。重合体の劣化は、熱、光、機械力、又は金属イオン等と酸素との作用により生じる酸化劣化に起因し、ラジカル連鎖反応を含む素反応により引き起こされる。酸化劣化の防止には、劣化の初期段階でラジカル反応を停止し、自動酸化を停止することが重要である。したがって、従来から、ラジカル発生の抑制、ラジカル捕捉、ハイドロパーオキサイドのイオン的な分解などの自動酸化サイクルにおける各過程で連鎖を停止する、いわゆる酸化防止剤と称される低分子化合物を配合することが行われてきた。酸化防止剤は、自動酸化のいずれの過程で連鎖を抑えるかによって次のように分類されている。
（１）連鎖開始阻止剤（光安定剤、金属不活性化剤、オゾン劣化防止剤）
（２）ラジカル捕捉剤（フェノール系抗酸化剤、アミン系抗酸化剤）
（３）過酸化物分解剤（硫黄系抗酸化剤、リン系抗酸化剤）
しかしながら、酸素ラジカルに起因する酸化劣化及び光硬化反応性を改善するには、従来の酸化防止剤を添加するのみでは必ずしも充分ではなく、硬化後において、画像の硬度及び耐ブロッキング性が不足し、基材（特に被吸収性基材）に対する密着性にも劣る場合がある。
そのため、本開示の光硬化性インク組成物では、ラジカル重合性モノマー及び重合体を含有する組成において、重合体の構造中に酸化防止に寄与する特定構造を付加する。
これにより、劣化の初期段階における酸素ラジカル反応を停止することができ、酸素によるラジカル重合阻害に対する抑制効果が高い。したがって、本開示の光硬化性インク組成物は、従来の酸化防止剤と称される低分子化合物を含有する組成に比べ、硬化部での硬化反応性が顕著に改善され、画像等の硬化膜を形成した際の硬化膜におけるブロッキングの改善効果が発現し、硬度が向上し、かつ、基材（特に非吸収性基材）に対する硬化部の密着性（基材密着性）も飛躍的に向上する。

以下、本開示の光硬化性インク組成物に含有される成分について説明する。

（一般式１で表される構造単位を含む重合体）
本開示の光硬化性インク組成物は、下記一般式１で表される構造単位（以下、適宜「構造単位Ａ」と表記することがある。）を含む重合体の少なくとも一種を含有する。一般式１で表される構造単位は、重合体の主鎖構造に結合する側鎖（すなわち置換基Ｙ）に、チオエーテル構造、リン原子、及びヒンダードフェノール構造からなる群から選択される構造を有している。本開示の光硬化性インク組成物は、高分子の重合体が酸化防止機能を有していることにより、低分子のいわゆる酸化防止剤を含有する場合に比べ、酸素ラジカルによる酸化劣化が少なく、酸素によるラジカル重合阻害の抑制効果が高い。そのため、本開示の光硬化性インク組成物によると、硬化後の膜（画像を含む）のブロッキング性が小さく抑えられ、硬度及び基材密着性が顕著に向上する。

一般式１において、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
また、Ｘは、酸素原子又は−ＮＲ^２−を表し、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。
Ｒ^２における炭素数１〜８のアルキル基は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられ、中でも炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
Ｒ^２としては、水素原子、メチル基、又はエチル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより好ましい。
中でも、Ｘとしては、インクが低粘化し、インクジェット法による吐出時の吐出安定性の点で、酸素原子が好ましい。

一般式１において、Ｙは、チオエーテル構造、リン原子、及びヒンダードフェノール構造からなる群から選択される少なくとも１種の部位を含む基を表す。チオエーテル構造、リン原子、又はヒンダードフェノール構造を有する基は、酸化防止機能を有する基であることが好ましく、光硬化性インク組成物における硬化後の硬度、耐ブロッキング性、及び密着性の向上に寄与する。

チオエーテル構造を有する基としては、−Ｌ−Ｓ−Ｒ^５が挙げられる。
Ｌは、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ^５は、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状、脂環族又は芳香族の炭化水素基を表す。
なお、Ｌにおける２価の連結基及びＲ^５の詳細は、下記一般式３におけるＬ及びＲ^５と同義であり、好ましい態様も同様である。
−Ｌ−Ｓ−Ｒ^５で表される基としては、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓ−Ｃ_１２Ｈ_２５、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＯＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓ−Ｃ_１２Ｈ_２５、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓ−Ｃ_１２Ｈ_２５、−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓ−Ｃ_１２Ｈ_２５などが挙げられる。

リン原子を有する基としては、−Ｌ−ＰＲ^６Ｒ^７が挙げられる。Ｌは、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状、脂環族又は芳香族の炭化水素基を表し、互いに結合して環構造を形成してもよい。
なお、Ｌにおける２価の連結基、並びにＲ^６及びＲ^７の詳細は、下記一般式４におけるＬ、Ｒ^６及びＲ^７と同義であり、好ましい態様も同様である。
−Ｌ−ＰＲ^６Ｒ^７で表される基としては、例えば、下記構造の基が挙げられる。

ヒンダードフェノール構造を有する基としては、下記式（ｙ１）で表される置換基が挙げられる。

式（ｙ１）において、Ｌは、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状、脂環族又は芳香族の炭化水素基を表す。Ｒ^８及びＲ^９の一方は水酸基を表し、他方は水素原子を表す。
なお、Ｌにおける２価の連結基、並びにＲ^３及びＲ^４の詳細は、下記一般式２におけるＬ、Ｒ^３及びＲ^４と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（ｙ１）で表される基としては、例えば、下記構造の基が挙げられる。

上記のうち、一般式１で表される構造単位は、以下の一般式２〜一般式４から選択される少なくとも１つの構造単位であることが好ましい。

一般式２〜一般式４において、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
一般式２〜一般式４において、Ｌは、単結合又は２価の連結基を表す。
Ｌにおける２価の連結基としては、特に制限はないが、例えば、炭素数１〜３のアルキレン基、アルキル部位の炭素数が１〜３のアラルキレン基、又は下記式（Ｌ−１１）〜式（Ｌ−１６）のいずれか１つで表される基が挙げられる。

式（Ｌ−１１）中、Ｌ^１は、炭素数１〜３のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、又はプロピレン基）又はアルキル部位の炭素数が１〜３のアラルキレン基（例えば、−Ｃ_６Ｈ_２（ＣＨ_３）（Ｃ（ＣＨ_３）_３）Ｃ_３Ｈ_６−）を表し、ｎは、１〜４の整数を表し、＊１は、−ＣＯＯ−基との結合位置を表し、＊２は、炭素原子、硫黄原子又はリン原子との結合位置を表す。
式（Ｌ−１１）中のｎは、１〜３の整数であることが好ましく、１又は２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。

式（Ｌ−１２）中、Ｌ^１は、炭素数１〜３のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、又はプロピレン基）又はアルキル部位の炭素数が１〜３のアラルキレン基を表し、＊１は、−ＣＯＯ−基との結合位置を表し、＊２は、炭素原子、硫黄原子又はリン原子との結合位置を表す。
式（Ｌ−１３）及び式（Ｌ−１４）中、Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、又はプロピレン基）又はアルキル部位の炭素数が１〜３のアラルキレン基を表し、＊１は、−ＣＯＯ−基との結合位置を表し、＊２は、炭素原子、硫黄原子又はリン原子との結合位置を表す。
式（Ｌ−１５）中、＊１は、−ＣＯＯ−基との結合位置を表し、＊２は、炭素原子、硫黄原子又はリン原子との結合位置を表す。

式（Ｌ−１６）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、水素原子又は炭化水素基を表す。Ｒ^１０及びＲ^１１における炭化水素基は、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。Ｘ⁻は、対アニオンを示す。好ましいＸ⁻は、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、より好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。Ｌ^１及びＬ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基）又はアルキル部位の炭素数が１〜３のアラルキレン基を表す。なお、＊１は、−ＣＯＯ−基との結合位置を表し、＊２は、炭素原子、硫黄原子又はリン原子との結合位置を表す。

一般式２〜一般式３において、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状、脂環族又は芳香族の炭化水素基を表す。
Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に、炭素数１〜５の分岐状の炭化水素基が好ましく、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソアミル基、ｓ−アミル基、ｔ−アミル基が好適に挙げられ、ｔ−ブチル基又はｔ−アミル基がより好ましい。
Ｒ^５は、炭素数８〜１８の直鎖状の炭化水素基が好ましく、炭素数１２〜１８の直鎖状の炭化水素基がより好ましい。

一般式４において、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、置換基を有してもよい炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状、脂環族又は芳香族の炭化水素基を表す。Ｒ^６及びＲ^７は、互いに結合し環構造を形成してもよい。
Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素を含む基が好ましく、フェニル基又はフェニルオキシ基がより好ましい。

一般式２において、Ｒ^８及びＲ^９の一方は水酸基を表し、他方は水素原子を表す。

一般式２〜一般式４のいずれかで表される構造単位の具体例としては、下記の構造単位ＡＯ−１〜ＡＯ−８が挙げられる。

一般式１で表される構造単位の、重合体中の全構造単位の総質量に対する比率は、１０質量％以上の範囲が好ましい。
一般式１で表される構造単位の重合体中における比率が１０質量％以上であると、硬化後の硬度、耐ブロッキング性、及び基材との密着性がより向上する。一般式１で表される構造単位の重合体中における比率の上限に制限はなく、１００質量％としてよい。
中でも、一般式１で表される構造単位の重合体中における比率は、上記と同様の理由から、１０質量％以上９０質量％以下がより好ましく、３０質量％以上７０質量％以下が更に好ましく、３０質量％以上５０質量％以下が更に好ましい。一般式１で表される構造単位の重合体中における比率が９０質量％以下であると、インクの保存安定性及びインクジェット法による吐出時の吐出安定性がより向上する。

本開示における重合体は、上記の構造単位Ａとは異なる構造単位Ｂとして、アミド構造を有する構造単位（以下、適宜「構造単位ｂ１」と表記することがある。）、及び環状の炭化水素基を有する構造単位（以下、適宜「構造単位ｂ２」と表記することがある。）から選択される少なくとも一種を有することが好ましい。
本開示における重合体は、アミド構造を有する構造単位ｂ１及び環状の炭化水素基を有する構造単位ｂ２の少なくとも一方を含むことにより、画像と基材との密着性がより向上する。
重合体中において、構造単位ｂ１及び構造単位ｂ２は、それぞれ１種のみであってもよいし２種以上であってもよい。

−アミド構造を有する構造単位ｂ１−
重合体が構造単位ｂ１を含む場合、構造単位ｂ１中のアミド構造が、画像と基材との密着性向上に寄与する。

構造単位ｂ１は、画像と基材との密着性をより向上させる観点から、下記構造単位（ｂ１−１）及び後述の構造単位（ｂ１−２）の少なくとも一方であることが好ましい。

まず、構造単位（ｂ１−１）について説明する。

構造単位（ｂ１−１）中、Ｒ^２８は、水素原子又は炭化水素基を表し、Ｒ^２９及びＲ^３０は、それぞれ独立に、酸素原子を含んでもよい炭化水素基、又は水素原子を表す。Ｒ^２９及びＲ^３０は、互いに結合して環を形成していてもよい。

構造単位（ｂ１−１）中、Ｒ^２８としては、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましく、水素原子が特に好ましい。

Ｒ^２９及びＲ^３０において、炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。Ｒ^２９及びＲ^３０における炭化水素基は、アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等が挙げられ、中でも、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜３のアルキル基が更に好ましい。

構造単位（ｂ１−１）において、膜の硬度の観点から、Ｒ^２９及びＲ^３０が、それぞれ独立に、炭化水素基であるか、又は、Ｒ^２９及びＲ^３０が互いに結合して（即ち、Ｒ^２９及びＲ^３０が一体となって）環を形成することが好ましい。

また、Ｒ^２９及びＲ^３０が互いに結合して環を形成している場合、Ｒ^２９及びＲ^３０が一体となって形成される基としては、式（Ｎ３１）又は式（Ｎ３２）で表される基であることが特に好ましい。

式（Ｎ３１）又は式（Ｎ３２）中、＊１は窒素原子との結合位置を表し、＊２は、炭素原子との結合位置を表す。

構造単位（ｂ１−１）の好ましい態様として、
Ｒ^２８が、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基（好ましくは水素原子）を表し、
Ｒ^２９及びＲ^３０が、それぞれ独立に、水素原子若しくは炭素数１〜６のアルキル基を表すか、又は、Ｒ^２９及びＲ^３０が互いに結合して（即ち、Ｒ^２９及びＲ^３０が一体となって）式（Ｎ３１）若しくは式（Ｎ３２）で表される基を表す態様が挙げられる。
かかる態様のうち、膜の硬度の観点から、更に好ましくは、Ｒ^２９及びＲ^３０が、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表すか、又は、Ｒ^２９及びＲ^３０が互いに結合して式（Ｎ３１）若しくは式（Ｎ３２）で表される基を表す態様である。

次に、構造単位（ｂ１−２）について説明する。

構造単位（ｂ１−２）中、Ｒ^３１は、水素原子又は炭化水素基を表し、Ｒ^３２及びＲ^３３は、それぞれ独立に、酸素原子を含んでもよい炭化水素基、又は水素原子を表す。Ｒ^３２及びＲ^３３は、互いに結合して環を形成していてもよい。

Ｒ^３１としては、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましく、水素原子が特に好ましい。

Ｒ^３２及びＲ^３３において、酸素原子を含んでもよい炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましい。
Ｒ^３２及びＲ^３３における「酸素原子を含んでもよい炭化水素基」は、アルコキシ基によって置換された炭化水素基、アシル基によって置換された炭化水素基、アシルオキシ基によって置換された炭化水素基、アルコキシカルボニル基によって置換された炭化水素基、水酸基によって置換された炭化水素基、カルボキシル基によって置換された炭化水素基、等が挙げられる。

構造単位（ｂ１−２）において、膜の硬度の観点から、Ｒ^３２及びＲ^３３が、それぞれ独立に、酸素原子を含んでもよい炭化水素基を表すか、又は、Ｒ^３２及びＲ^３３が互いに結合して（即ち、Ｒ^３２及びＲ^３３が一体となって）環を形成することが好ましい。

また、Ｒ^３２及びＲ^３３が互いに結合して環を形成している場合、Ｒ^３２及びＲ^３３は、下記式（Ｎ３３）〜式（Ｎ３６）のいずれか１つで表される基であることが好ましい。

式（Ｎ３３）〜式（Ｎ３６）中、＊１及び＊２は、窒素原子との結合位置を示す。

構造単位（ｂ１−２）の特に好ましい態様は、
Ｒ^３１が、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、
Ｒ^３２及びＲ^３３が、それぞれ独立に、水素原子若しくは炭素数１〜３のアルキル基を表すか、又は、Ｒ^３２及びＲ^３３が互いに結合して式（Ｎ３３）〜式（Ｎ３６）のいずれか１つで表される基を表す態様である。
かかる態様のうち、膜の硬度の観点から、更に好ましくは、Ｒ^３２及びＲ^３３が、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキル基を表すか、又は、Ｒ^３２及びＲ^３３が互いに結合して（即ち、Ｒ^３２及びＲ^３３が一体となって）式（Ｎ３３）〜式（Ｎ３６）のいずれか１つで表される基を表す態様である。

以下、構造単位ｂ１の具体例（３−１）〜（３−１７）を示す。但し、構造単位ｂ１は、以下の具体例に限定されることはない。

−環状の炭化水素基を有する構造単位ｂ２−
構造単位ｂ２は、酸素原子を含んでもよい環状構造を含む炭化水素基を有する。
重合体が構造単位ｂ２を含む場合、構造単位ｂ２中の、酸素原子を含んでもよい環状構造を含む炭化水素基が、画像と基材との密着性向上に寄与する。

酸素原子を含んでもよい環状構造を含む炭化水素基としては、置換又は無置換のアリール基、置換又は無置換の脂環族基、置換又は無置換の環状アセタール基、置換又は無置換の環状エーテル基、置換又は無置換のラクトン基、ヘテロ原子として酸素原子を含む置換又は無置換のヘテロアリール基、等が挙げられる。
上記置換アリール基、上記置換脂環族基、上記置換環状アセタール基、上記置換環状エーテル基、上記置換ラクトン基、及び上記置換ヘテロアリール基における置換基としては、それぞれ、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、水酸基、カルボキシル基、等が挙げられる。

酸素原子を含んでもよい環状構造を含む炭化水素基としては、より具体的には、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、シクロヘキシル基、アルキルシクロヘキシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、アダマンチル基、フルフリル基、ヒドロフルフリル基、環状アセタール基、環状エーテル基、ラクトン基、等が挙げられる。

酸素原子を含んでもよい環状構造を含む炭化水素基の炭素数は、３〜２０が好ましく、６〜２０がより好ましく、６〜１２が更に好ましく、６〜１０が特に好ましい。

酸素原子を含んでもよい環状構造を含む炭化水素基において、環状構造は、単環状構造であってもよいし、多環状構造であってもよい。
構造単位ｂ２における環状構造を含む炭化水素基は、画像と基材との密着性をより向上させる観点から、多環状構造を含む炭化水素基であることが好ましい。

多環状構造を含む炭化水素基としては、多環状構造の脂環族基がより好ましく、ノルボルニル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、又はアダマンチル基がより好ましい。

構造単位ｂ２は、画像と基材との密着性をより向上させる観点から、下記構造単位（ｂ２−１）であることが好ましい。

構造単位（ｂ２−１）中、Ｒ^３４は、水素原子又は炭化水素基を表し、Ｌ^１３は、単結合又は２価の有機基を表し、Ｃｙ^１は、酸素原子を含んでもよい多環状構造を含む炭化水素基を表す。

構造単位（ｂ２−１）中、Ｃｙ^１で表される、酸素原子を含んでもよい多環状構造を含む炭化水素基の好ましい態様は上述したとおりである。

構造単位（ｂ２−１）中、Ｒ^３４としては、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましく、メチル基が特に好ましい。

構造単位（ｂ２−１）中、Ｌ^１３は、一般式２〜一般式４におけるＬと同義である。

以下、構造単位ｂ２の具体例（４−１）〜（４−２１）を示す。但し、構造単位ｂ２は、以下の具体例に限定されることはない。

重合体が構造単位ｂ１及び構造単位ｂ２の少なくとも一方を含む場合、重合体における全構造単位に対する、構造単位ｂ１及び構造単位ｂ２の総含有量としては、画像と基材との密着性をより向上させる観点から、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。
重合体における全構造単位に対する構造単位ｂ１及び構造単位ｂ２の総含有量の上限は、構造単位Ａの含有量によるが、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が特に好ましい。

−他の構造単位−
重合体は、上述した構造単位Ａ及び構造単位Ｂ以外の他の構造単位を含んでもよい。
他の構造単位としては、例えば、ビニルモノマーに由来する構造単位を適宜含むことができる。

また、重合体は、インクの保存安定性が損なわれない範囲であれば、他の構造単位として、アミノアルキル基を有する構造単位を含んでいてもよい。
但し、インクの保存安定性の観点から、他の構造単位としてのアミノアルキル基を有する構造単位の含有量は、重合体の全量に対し、１０質量％以下が好ましく、３質量％以下がより好ましく、１質量％以下が更に好ましい。インクの保存安定性の観点からみた特に好ましい態様は、重合体が他の構造単位としてのアミノアルキル基を有する構造単位を含まない態様である。

本開示における重合体の重量平均分子量は、１，０００〜５０，０００の範囲が好ましい。重合体の重量平均分子量が１０００以上であると、画像強度がより向上し、耐ブロッキング性に優れたものとなる。また、重合体の重量平均分子量が５０，０００以下であると、インクの保存安定性及びインクジェット法で吐出する際の吐出安定性がより向上する。
重合体の重量平均分子量は、３，０００〜４０，０００がより好ましく、５，０００〜４０，０００が更に好ましく、５，０００〜３０，０００が更に好ましく、１０，０００〜３０，０００が特に好ましい。

本明細書中において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値を指す。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による測定は、測定装置として、ＨＬＣ（登録商標）−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株））を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）Ｓｕｐｅｒ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＺ−Ｈ（４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ、東ソー（株））を３本用い、溶離液として、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、測定条件としては、試料濃度を０．４５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μｌ、及び測定温度を４０℃とし、ＲＩ検出器を用いて行う。
検量線は、東ソー（株）の「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、及び「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。

重合体の光硬化性インク組成物中における含有量としては、光硬化性インク組成物の全質量に対して、０．５質量％〜１０．０質量％であることが好ましい。重合体のインク組成物の全質量に対する含有量が０．５質量％以上であると、画像強度がより向上し、耐ブロッキング性に優れたものとなる。また、重合体の含有量が１０．０質量％以下であると、インクの保存安定性及びインクジェット法による吐出時の吐出安定性がより向上する。
重合体の含有量は、インク組成物の全質量に対して、２．０質量％〜９．０質量％がより好ましく、２．０質量％〜７．０質量％が特に好ましい。

（ラジカル重合性モノマー）
本開示の光硬化性インク組成物は、ラジカル重合性モノマーの少なくとも一種を含有する。
本開示の光硬化性インク組成物は、ラジカル重合性モノマーとして、少なくとも単官能のラジカル重合性モノマー及び２官能のラジカル重合性モノマーも少なくとも一方を含み、更に３官能以上のラジカル重合性モノマーを含有することができる。

本開示のインク組成物の態様としては、
単官能のラジカル重合性モノマーの少なくとも１種と２官能のラジカル重合性モノマーの少なくとも１種との両方を含有する態様であってもよいし、
単官能のラジカル重合性モノマーの少なくとも１種を含有し、２官能のラジカル重合性モノマーを含有しない態様であってもよいし、
２官能のラジカル重合性モノマーの少なくとも１種を含有し、単官能のラジカル重合性モノマーを含有しない態様であってもよい。

本開示の光硬化性インク組成物では、ラジカル重合性モノマーの総含有量のうち、単官能のラジカル重合性モノマー及び２官能のラジカル重合性モノマー（以下、これらを「特定ラジカル重合性モノマー」と総称することがある。）の総含有量は、光硬化性インク組成物の全質量に対して、５０質量％以上の範囲とされている。
特定ラジカル重合性モノマーの総含有量が５０質量％以上であることは、本開示のインク組成物が、主たる液体成分として特定ラジカル重合性モノマーを含有するインクであることを意味する。

特定ラジカル重合性モノマーは、インクに対し光硬化性（即ち、光によって硬化する性質）を付与する機能、及び、インクの液体状態を保持する機能を有する。

本開示のインク組成物の全量に対する特定ラジカル重合性モノマーの含有量は、前述のとおり５０質量であるが、６０質量％以上であることが好ましく、６５質量％以上であることがより好ましい。
特定ラジカル重合性モノマーの含有量の上限には特に制限はないが、上限は、例えば９５質量％とすることができ、また、９０質量％とすることもできる。

単官能のラジカル重合性モノマーとしては、
Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニル化合物；
２−フェノキシエチルアクリレート（ＰＥＡ）、ベンジルアクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルアクリレート（ＣＴＦＡ）、イソボルニルアクリレート（ＩＢＯＡ）、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、オクチルアクリレート、デシルアクリレート、トリデシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ラウリルアクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシルアクリレート（ＴＭＣＨＡ）、ジシクロペンテニルアクリレート（ＤＣＰＡ）、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、カプロラクトン変性アクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシブチルアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート等の単官能アクリレート化合物；
２−フェノキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート（ＩＢＯＡ）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルメタクリレート、オクチルメタクリレート、デシルメタクリレート、トリデシルメタクリレート、イソデシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート（ＴＭＣＨＡ）、ジシクロペンテニルメタクリレート（ＤＣＰＡ）、４−ｔ−ブチルシクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、カプロラクトン変性メタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレート、ポリプロピレングリコールメタクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコールメタクリレート等の単官能メタクリレート化合物；
ノルマルプロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ノルマルブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル等の単官能ビニルエーテル化合物；
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、
アクリロイルモルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−オキソブチル）アクリルアミド、Ｎ−ドデシルアクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）アクリルアミド、等の単官能アクリルアミド化合物；
メタクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド、Ｎ−(メトキシメチル)メタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルメタクリルアミド、等の単官能メタクリルアミド化合物；
等が挙げられる。

２官能のラジカル重合性モノマーとしては、
ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、ジプロピレングリコールジアクリレート（ＤＰＧＤＡ）、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ノナンジオールジアクリレート、デカンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコール変性ビスフェノールＡジアクリレート、ジオキサングリコールジアクリレート、シクロヘキサンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート等の２官能アクリレート化合物；
２−（２−ビニロキシエトキシ）エチルアクリレート（ＶＥＥＡ）；
１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル（ＤＶＥ３）等の２官能ビニル化合物；
ヘキサンジオールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート（ＤＰＧＤＡ）、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ノネオペンチルグリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコール変性ビスフェノールＡジメタクリレート等の２官能メタクリレート化合物；
等が挙げられる

特定ラジカル重合性モノマーとしては、上述の単官能のラジカル重合性モノマー及び２官能のラジカル重合性モノマーの他にも、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品、又は業界で公知の、単官能若しくは２官能のラジカル重合性モノマーを用いることができる。

特定ラジカル重合性モノマーの重量平均分子量は、好ましくは１００以上１，０００未満であり、より好ましくは１００以上８００以下であり、更に好ましくは１５０以上７００以下である。
特定ラジカル重合性モノマーの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定した値である。

前述の通り、本開示のインク組成物の全量に対する特定ラジカル重合性モノマーの総含有量は、５０質量％以上である。
この条件を満たす限り、本開示のインク組成物は、三官能以上のラジカル重合性モノマーを含有していてもよい。
三官能以上のラジカル重合性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート等の三官能以上の（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
本開示のインク組成物に含有されるラジカル重合性モノマーの全量中に占める特定ラジカル重合性モノマーの割合は、６０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることが好ましい。

ラジカル重合性モノマーの総含有量に対する重合体の含有量の比は、３質量％〜５質量％の範囲が好ましい。重合体の含有量が３質量％以上であると、硬化部のブロッキング性が小さく抑えられ、硬度及び基材密着性がより向上する。また、重合体の含有量が５質量％以下であると、インクの保存安定性及びインクジェット法による吐出時の吐出安定性がより向上する。

（ラジカル重合性樹脂）
本開示のインク組成物は、ラジカル重合性樹脂（以下、単に「重合性樹脂」ともいう）を含有することができる。この場合、インクに含有される重合性樹脂は、１種のみであっても２種以上であってもよい。
本開示のインク組成物がラジカル重合性樹脂を含有する場合、前述した構造単位（ａ２）による効果（ラジカル重合の酸素によって阻害される現象を抑制する効果）は、ラジカル重合性モノマーのラジカル重合に対してだけでなく、ラジカル重合性樹脂のラジカル重合に対しても発揮される。

ここで、重合性樹脂とは、重合性基を有する樹脂を指す。
重合性樹脂の概念には、重合性基を有するオリゴマー及び重合性基を有するポリマーが包含される。

重合性樹脂のベースとなる樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリブタジエン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、硬化収縮低減の観点から、ハードセグメントとソフトセグメントを合わせ持ち、硬化時の応力緩和が可能な樹脂が好ましく、特にウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、及びエポキシ樹脂から選ばれる少なくとも１種の樹脂であることがより好ましい。

重合性樹脂に含まれる重合性基としては、エチレン性二重結合を含む基が好ましく、ビニル基及び１−メチルビニル基の少なくとも一方を含む基が更に好ましい。
重合性基としては、重合反応性及び形成される膜の硬度の観点から、（メタ）アクリロイル基が特に好ましい。

これらの重合性基は、高分子反応や共重合によって、樹脂（ポリマー又はオリゴマー）に導入することができる。
例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマー（又はオリゴマー）とグリシジルメタクリレートとの反応、又はエポキシ基を有するポリマー（又はオリゴマー）とメタクリル酸等のエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用することにより、ポリマー（又はオリゴマー）に重合性基を導入することができる。これらの基は併用してもよい。

重合性樹脂としては、上市されている市販品を用いてもよい。
重合性基を有するアクリル樹脂の市販品の例としては、（ＡＣＡ）Ｚ２００Ｍ、（ＡＣＡ）Ｚ２３０ＡＡ、（ＡＣＡ）Ｚ２５１、（ＡＣＡ）Ｚ２５４Ｆ（以上、ダイセル・オルネクス（株））、ヒタロイド７９７５Ｄ（日立化成（株））等が挙げられる。

重合性基を有するウレタン樹脂の市販品の例としては、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）８４０２、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）８４０５、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）９２７０、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）８３１１、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）８７０１、ＫＲＭ８６６７、ＫＲＭ８５２８（以上、ダイセル・オルネクス（株））、ＣＮ９６４、ＣＮ９０１２、ＣＮ９６８、ＣＮ９９６、ＣＮ９７５、ＣＮ９７８２（以上、サートマー社）、ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６２０ＥＡ、ＵＶ−７６３０Ｂ（以上、日本合成化学（株））、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−１５ＨＡ、Ｕ−１０８Ａ、Ｕ−２００ＰＡ、ＵＡ−４２００（以上、新中村化学工業（株））、テスラック２３００、ヒタロイド４８６３、テスラック２３２８、テスラック２３５０、ヒタロイド７９０２−１（以上、日立化成（株））、８ＵＡ−０１７、８ＵＡ−２３９、８ＵＡ−２３９Ｈ、８ＵＡ−１４０、８ＵＡ−５８５Ｈ、８ＵＡ−３４７Ｈ、８ＵＸ−０１５Ａ（以上、大成ファインケミカル（株））等が挙げられる。

重合性基を有するポリエステル樹脂の市販品の例としては、ＣＮ２９４、ＣＮ２２５４、ＣＮ２２６０、ＣＮ２２７１Ｅ、ＣＮ２３００、ＣＮ２３０１、ＣＮ２３０２、ＣＮ２３０３、ＣＮ２３０４（以上、サートマー社）、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）４３６、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）４３８、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）４４６、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）５２４、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）５２５、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）８１１、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）８１２（以上、ダイセル・オルネクス（株））等が挙げられる。
重合性基を有するポリエーテル樹脂の市販品の例としては、ブレンマー（登録商標）ＡＤＥ−４００Ａ、ブレンマー（登録商標）ＡＤＰ−４００（以上、日油（株））等が挙げられる。
重合性基を有するポリカーボネート樹脂の市販品の例としては、ポリカーボネートジオールジアクリレート（宇部興産（株））等が挙げられる。
重合性基を有するエポキシ樹脂の市販品の例としては、ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）３７０８（ダイセル・オルネクス（株））、ＣＮ１２０、ＣＮ１２０Ｂ６０、ＣＮ１２０Ｂ８０、ＣＮ１２０Ｅ５０（以上、サートマー社）、ヒタロイド７８５１（日立化成（株））等が挙げられる。
重合性基を有するポリブタジエン樹脂の市販品の例としては、ＣＮ３０１、ＣＮ３０３、ＣＮ３０７（以上、サートマー社）等が挙げられる。

重合性樹脂の重量平均分子量は、密着性及び分散安定性の両立の観点から、好ましくは１０００以上１０００００以下であり、より好ましくは１０００以上４００００以下であり、更に好ましくは１０００以上１００００以下である。
重合性樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定される値である。ＧＰＣによる具体的な測定方法については、既述の重合体における場合と同様である。

本開示のインク組成物が重合性樹脂を含有する場合、重合性樹脂の含有量は、インク全量に対し、０．１質量％〜１０質量％が好ましく、０．３質量％〜５．０質量％がより好ましく、１．０質量％〜３．０質量％が特に好ましい。

（光重合開始剤）
本開示のインク組成物は、更に、光重合開始剤を含有して光硬化性を有することが好ましい。光重合開始剤としては、光（即ち、活性エネルギー線）を吸収して重合開始種であるラジカルを生成する、公知の光重合開始剤を用いることができる。

好ましい光重合開始剤として、（ａ）芳香族ケトン類等のカルボニル化合物、（ｂ）アシルホスフィンオキシド化合物、（ｃ）芳香族オニウム塩化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）チオ化合物、（ｆ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｇ）ケトオキシムエステル化合物、（ｈ）ボレート化合物、（ｉ）アジニウム化合物、（ｊ）メタロセン化合物、（ｋ）活性エステル化合物、（ｌ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、（ｍ）アルキルアミン化合物等が挙げられる。

これらの光重合開始剤は、上記（ａ）〜（ｍ）の化合物を１種単独もしくは２種以上を組み合わせて使用してもよい。

（ａ）カルボニル化合物、（ｂ）アシルホスフィンオキシド化合物、及び、（ｅ）チオ化合物の好ましい例としては、”ＲＡＤＩＡＴＩＯＮ ＣＵＲＩＮＧ ＩＮ ＰＯＬＹＭＥＲ ＳＣＩＥＮＣＥ ＡＮＤ ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ”，Ｊ．Ｐ．ＦＯＵＡＳＳＩＥＲ，Ｊ．Ｆ．ＲＡＢＥＫ（１９９３）、ｐｐ．７７〜１１７に記載のベンゾフェノン骨格又はチオキサントン骨格を有する化合物等が挙げられる。
より好ましい例としては、特公昭４７−６４１６号公報記載のα−チオベンゾフェノン化合物、特公昭４７−３９８１号公報記載のベンゾインエーテル化合物、特公昭４７−２２３２６号公報記載のα−置換ベンゾイン化合物、特公昭４７−２３６６４号公報記載のベンゾイン誘導体、特開昭５７−３０７０４号公報記載のアロイルホスホン酸エステル、特公昭６０−２６４８３号公報記載のジアルコキシベンゾフェノン、特公昭６０−２６４０３号公報、特開昭６２−８１３４５号公報記載のベンゾインエーテル類、特公平１−３４２４２号公報、米国特許第４，３１８，７９１号パンフレット、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号公報に記載のα−アミノベンゾフェノン類、特開平２−２１１４５２号公報記載のｐ−ジ（ジメチルアミノベンゾイル）ベンゼン、特開昭６１−１９４０６２号公報記載のチオ置換芳香族ケトン、特公平２−９５９７号公報記載のアシルホスフィンスルフィド、特公平２−９５９６号公報記載のアシルホスフィン、特公昭６３−６１９５０号公報記載のチオキサントン類、特公昭５９−４２８６４号公報記載のクマリン類等を挙げることができる。
また、特開２００８−１０５３７９号公報、特開２００９−１１４２９０号公報に記載の重合開始剤も好ましい。

これらの光重合開始剤の中でも、（ａ）カルボニル化合物又は（ｂ）アシルホスフィンオキシド化合物がより好ましく、具体的には、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド（例えば、ＢＡＳＦ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９）、２−（ジメチルアミン）−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジル−１−ブタノン（例えば、ＢＡＳＦ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）３６９）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（例えば、ＢＡＳＦ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）９０７）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（例えば、ＢＡＳＦ社製のＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４）、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキシド（例えば、ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）ＴＰＯ、ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）ＴＰＯ（いずれもＢＡＳＦ社製））などが挙げられる。
これらの中でも、感度向上の観点及びＬＥＤ光への適合性の観点等から、光重合開始剤としては、（ｂ）アシルホスフィンオキシド化合物が好ましく、モノアシルホスフィンオキシド化合物（特に好ましくは、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキシド）、又は、ビスアシルホスフィンオキシド化合物（特に好ましくは、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド）がより好ましい。

光重合開始剤は、１種のみであっても２種以上であってもよい。
本開示のインク組成物が光重合開始剤を含有する場合、光重合開始剤の含有量としては、インクの全量に対して、１．０質量％〜２５．０質量％が好ましく、２．０質量％〜２０．０質量％がより好ましく、３．０質量％〜１５．０質量％が更に好ましい。

（他の成分）
本開示の光硬化性インク組成物は、上記した所成分に加え、必要に応じて、更に、その他の成分を含有することができる。

−増感剤−
本開示のインク組成物は、補助的に、増感剤を含有してもよい。
増感剤は、特定の活性エネルギー線を吸収して電子励起状態となる物質である。電子励起状態となった増感剤は、光重合開始剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱等の作用を生じる。これにより、光重合開始剤の化学変化、即ち、分解、ラジカル、酸又は塩基の生成等が促進される。

増感剤としては、例えば、ベンゾフェノン（ＢＰ）、チオキサントン、イソプロピルチオキサントン（ＩＴＸ）、４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチル（ＥＤＢ）、アントラキノン、３−アシルクマリン誘導体、ターフェニル、スチリルケトン、３−（アロイルメチレン）チアゾリン、ショウノウキノン、エオシン、ローダミン、エリスロシン等が挙げられる。
また、増感剤としては、特開２０１０−２４２７６号公報に記載の一般式（ｉ）で表される化合物、及び特開平６−１０７７１８号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物も、好適に使用できる。
上記の中でも、増感剤としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）光への適合性及び光重合開始剤との反応性の観点から、チオキサントン、イソプロピルチオキサントン、４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチル、及びベンゾフェノンから選ばれる少なくとも１種が好ましい。

増感剤は、１種のみであっても２種以上であってもよい。
本開示のインク組成物が増感剤を含有する場合、増感剤の含有量は、０．５質量％〜１０質量％が好ましく、１．０質量％〜７．０質量％がより好ましく、２．０質量％〜６．０質量％が特に好ましい。

−界面活性剤−
本開示のインク組成物は、界面活性剤を含有していてもよい。
界面活性剤としては、特開昭６２−１７３４６３号、同６２−１８３４５７号の各公報に記載された界面活性剤が挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、脂肪酸塩等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、アセチレングリコール、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー、変性ポリジメチルシロキサン等のシロキサン類、等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩、第４級アンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤、カルボベタイン、スルホベタイン等のベタイン系界面活性剤が挙げられる。
なお、界面活性剤に代えて重合性基を有さない有機フルオロ化合物を用いてもよい。有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素含有界面活性剤、オイル状フッ素含有化合物（例、フッ素油）及び固体状フッ素化合物樹脂（例、四フッ化エチレン樹脂）が含まれ、特公昭５７−９０５３号（第８〜１７欄）、特開昭６２−１３５８２６号の各公報に記載された化合物が挙げられる。

本開示のインク組成物が界面活性剤を含有する場合、界面活性剤の含有量は、感光性組成物の全量に対し、０．０１質量％〜５．０質量％が好ましく、０．１質量％〜３．０質量％がより好ましく、０．３質量％〜２．０質量％が特に好ましい。

−重合禁止剤−
本開示のインク組成物は、重合禁止剤を含有していてもよい。
重合禁止剤としては、ｐ−メトキシフェノール、キノン類（例えば、ハイドロキノン、ベンゾキノン、メトキシベンゾキノン等）、フェノチアジン、カテコール類、アルキルフェノール類（例えば、ジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）等）、アルキルビスフェノール類、ジメチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジメチルジチオカルバミン酸銅、ジブチルジチオカルバミン酸銅、サリチル酸銅、チオジプロピオン酸エステル類、メルカプトベンズイミダゾール、ホスファイト類、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル（ＴＥＭＰＯ）、２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン−１−オキシル（ＴＥＭＰＯＬ）、クペロンＡｌ、トリス（Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩などが挙げられる。
これらの中でも、ｐ−メトキシフェノール、カテコール類、キノン類、アルキルフェノール類、ＴＥＭＰＯ、ＴＥＭＰＯＬ、クペロンＡｌ、及びトリス（Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ベンゾキノン、ＢＨＴ、ＴＥＭＰＯ、ＴＥＭＰＯＬ、クペロンＡｌ、及びトリス（Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。

本開示のインク組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、インク組成物の全量に対し、０．０１質量％〜２．０質量％が好ましく、０．０２質量％〜１．０質量％がより好ましく、０．０３質量％〜０．５質量％が特に好ましい。

−溶剤−
本開示のインク組成物は、溶剤を含有していてもよい。
溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン；メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール；クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤；ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等のエステル系溶剤；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤；等が挙げられる。
本開示のインク組成物が溶剤を含有する場合、基材への影響をより低減する観点より、溶剤の含有量は、インク組成物の全量に対し、５質量％以下が好ましく、０．０１質量％〜５質量％がより好ましく、０．０１質量％〜３質量％が特に好ましい。

−水−
本開示のインク組成物は、少量の水を含有していてもよい。
本開示のインク組成物は、実質的に水を含有しない、非水性のインクであることが好ましい。
具体的には、本開示のインク組成物の全量に対する水の含有量は、好ましくは３質量％以下であり、より好ましくは２質量％以下であり、特に好ましくは１質量％以下である。

−着色剤−
本開示のインク組成物は、着色剤を少なくとも１種含有していてもよい。
着色剤としては、特に制限はなく、顔料、水溶性染料、分散染料等の公知の色材から任意に選択して使用することができる。この中でも、耐候性に優れ、色再現性に富む点から、顔料を含むことがより好ましい。

顔料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、公知の有機顔料及び無機顔料などが挙げられ、また、染料で染色した樹脂粒子、市販の顔料分散体や表面処理された顔料（例えば、顔料を分散媒として水、液状化合物や不溶性の樹脂等に分散させたもの、及び、樹脂や顔料誘導体等で顔料表面を処理したもの等）も挙げられる。
有機顔料及び無機顔料としては、例えば、黄色顔料、赤色顔料、マゼンタ顔料、青色顔料、シアン顔料、緑色顔料、橙色顔料、紫色顔料、褐色顔料、黒色顔料、白色顔料等が挙げられる。
着色剤として顔料を用いる場合には、顔料粒子を調製する際に、必要に応じて顔料分散剤を用いてもよい

顔料等の着色剤及び顔料分散剤については、特開２０１１−２２５８４８号公報の段落０１５２〜０１５８、特開２００９−２０９３５２号公報の段落０１３２〜０１４９、等の公知文献を適宜参照することができる。

本開示のインク組成物が着色剤を含有する場合、着色剤の含有量は、インクの全量に対し、例えば０．１質量％〜２０質量％とすることができ、０．２質量％〜１０質量％が好ましい。

本開示のインク組成物は、着色剤を実質的に含有しないインクとして用いることも好ましい。
本明細書中において、着色剤を実質的に含有しないとは、着色剤の含有量が、液体組成物の全量に対し、０．１質量％未満であることをいう。
着色剤を実質的に含有しない態様のインク（いわゆるクリアインク）によれば、画像強度に優れ、かつ、黄変が抑制された、実質的に無色の画像を形成できる。

−その他の成分−
本開示のインク組成物は、上記以外のその他の成分を含有していてもよい。
その他の成分としては、紫外線吸収剤、共増感剤、酸化防止剤、褪色防止剤、導電性塩等が挙げられる。その他の成分については、特開２０１１−２２５８４８号公報、特開２００９−２０９３５２号公報等の公知文献を適宜参照することができる。

〜インク組成物の物性〜
（粘度）
本開示のインク組成物は、２５℃における粘度が１０ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓであることが好ましく、１０ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、１０ｍＰａ・ｓ〜２５ｍＰａ・ｓであることが更に好ましい。インクの粘度は、例えば、含有される各成分の組成比を調整することによって調整できる。インクの粘度が上記好ましい範囲であると、インクジェット法による吐出時の吐出安定性をより向上させることができる。
粘度は、２５℃に温調されたインク組成物に対して粘度計（ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＲＥ−８５Ｌ、東機産業株式会社）を用いて測定される値である。

（表面張力）
本開示のインク組成物は、３０℃における表面張力が、２０ｍＮ／ｍ〜３０ｍＮ／ｍであることが好ましく、さらに好ましくは２３ｍＮ／ｍ〜２８ｍＮ／ｍである。ポリオレフィン、ＰＥＴ、コート紙、非コート紙等の様々な基材に膜を形成する場合、濡れ性の点では３０ｍＮ／ｍ以下が好ましく、滲み抑制及び浸透性の点では２０ｍＮ／ｍ以上が好ましい。
表面張力は、３０℃に温調されたインク組成物に対して表面張力計（ＤＹ−７００、協和界面化学株式会社）を用いて測定される値である。

＜画像形成方法＞
本開示の光硬化性インク組成物は、膜形成に好適に用いることができる。
本開示の画像形成方法は、既述の本開示の光硬化性インク組成物を（好ましくはインクジェット法により）記録媒体上に付与する工程（以下、「付与工程」ともいう。）と、記録媒体上に付与された光硬化性インク組成物に活性エネルギー線を照射する工程（以下、「照射工程」ともいう。）と、を有するものである。
本開示の画像形成方法では、既述の本開示の光硬化性インク組成物が用いられるので、画像強度、すなわち鉛筆硬度、耐ブロッキング性、及び基材との密着性に優れた画像を形成することができる。更に、本開示の画像形成方法は、インク組成物の保存安定性及びインクジェット法による吐出時の吐出安定性にも優れている。

本開示の画像形成方法は、基材の一例である記録媒体にインクジェット法により光硬化性インク組成物を付与して膜からなる画像を形成する画像形成方法であってもよい。

（付与工程）
付与工程は、本開示のインク組成物を基材上に付与する工程である。
基材上にインクを付与する態様としては、塗布法、浸漬法、インクジェット法などの公知の方法を利用した態様のいずれを採用してもよい。中でも、種々の基材（記録媒体を含む）に対して膜（例えば画像）の形成が行なえる点でインクジェット法が好適である。
例えば、基材である所望の記録媒体の上に光硬化性インク組成物をインクジェット法によって付与する態様が特に好ましい。

基材としては、特に制限はなく、例えば、支持体及び記録媒体として提供されている公知の基材を適宜選択して使用することができる。
基材としては、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等の金属の板）、プラスチックフィルム（例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ：Polyvinyl Chloride）樹脂、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：Polyethylene Terephthalate）、ポリエチレン（ＰＥ：Polyethylene）、ポリスチレン（ＰＳ：Polystyrene）、ポリプロピレン（ＰＰ：Polypropylene）、ポリカーボネート（ＰＣ：Polycarbonate）、ポリビニルアセタール、アクリル樹脂等のフィルム）、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙、上述した金属がラミネートされ又は蒸着されたプラスチックフィルムなどが挙げられる。

本開示の光硬化性インク組成物は、基材に対する密着性に優れた膜を形成できるため、非吸収性の基材に対して膜を形成する用途に特に好適である。
「非吸収性」とは、ＡＳＴＭ試験法のＡＳＴＭ Ｄ５７０で吸水率（質量％、２４ｈｒ．）が０．２未満である性状を指す。
非吸収性の基材としては、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）基材、ポリスチレン（ＰＳ）基材、ポリカーボネート（ＰＣ）基材、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材、ポリプロピレン（ＰＰ）基材、アクリル樹脂基材等のプラスチック基材が好ましい。

インクジェット法によるインク組成物の付与は、公知のインクジェット記録装置を用いて行うことができる。
インクジェット記録装置としては特に制限はなく、目的とする解像度を達成し得る公知のインクジェット記録装置を任意に選択して使用することができる。すなわち、市販品を含む公知のインクジェット記録装置であれば、いずれも、画像形成方法における基材へのインク組成物の吐出を行うことができる。

インクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、加熱手段を含む装置が挙げられる。
インク供給系は、例えば、インク組成物を含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、好ましくは１ｐｌ〜１００ｐｌ、より好ましくは８ｐｌ〜３０ｐｌのマルチサイズドットを、好ましくは３２０ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）×３２０ｄｐｉ〜４０００ｄｐｉ×４０００ｄｐｉ（ｄｏｔ ｐｅｒ ｉｎｃｈ）、より好ましくは４００ｄｐｉ×４００ｄｐｉ〜１６００ｄｐｉ×１６００ｄｐｉ、さらに好ましくは７２０ｄｐｉ×７２０ｄｐｉ〜１６００ｄｐｉ×１６００ｄｐｉの解像度で吐出できるよう駆動することができる。なお、ｄｐｉとは、２．５４ｃｍ（１ｉｎｃｈ）当たりのドット数を表す。

（照射工程）
照射工程は、基材上に付与されたインク組成物に活性エネルギー線を照射する工程である。インク組成物に活性エネルギー線が照射されることにより、インク組成物中の特定ラジカル重合性モノマーの重合反応が進行する。結果、膜（例えば画像）を定着させ、膜強度（画像強度）を向上させることできる。

照射工程で用いることができる活性エネルギー線としては、紫外線（ＵＶ光）、可視光線、電子線等を挙げられ、中でもＵＶ光が好ましい。

活性エネルギー線のピーク波長は、２００ｎｍ〜４０５ｎｍであることが好ましく、２２０ｎｍ〜３９０ｎｍであることがより好ましく、２２０ｎｍ〜３８５ｎｍであることが更に好ましい。また、２００ｎｍ〜３１０ｎｍであることも好ましく、２００ｎｍ〜２８０ｎｍであることも好ましい。

活性エネルギー線が照射される際の露光面照度は、例えば１０ｍＷ／ｃｍ^２〜２０００ｍＷ／ｃｍ^２、好ましくは２０ｍＷ／ｃｍ^２〜１０００ｍＷ／ｃｍ^２である。

活性エネルギー線を発生させるための源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、紫外（ＵＶ）蛍光灯、ガスレーザー、固体レーザー等が広く知られている。
また、上記で例示された光源の、半導体紫外発光デバイスへの置き換えは、産業的にも環境的にも非常に有用である。
半導体紫外発光デバイスの中でも、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）及びＬＤ（Laser Diode）は、小型、高寿命、高効率、及び低コストであり、光源として期待されている。
光源としては、メタルハライドランプ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、ＬＥＤ、又は青紫レーザーが好ましい。
これらの中でも、増感剤と光重合開始剤とを併用する場合は、波長３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、若しくは４３６ｎｍの光照射が可能な超高圧水銀ランプ、波長３６５ｎｍ、４０５ｎｍ、若しくは４３６ｎｍの光照射が可能な高圧水銀ランプ、又は、波長３５５ｎｍ、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、若しくは４０５ｎｍの光照射が可能なＬＥＤがより好ましく、波長３５５ｎｍ、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍ、若しくは４０５ｎｍの光照射が可能なＬＥＤが最も好ましい。

照射工程おいて、基材上に付与されたインク組成物に対する活性エネルギー線の照射時間は、例えば０．０１秒間〜１２０秒間であり、好ましくは０．１秒間〜９０秒間である。
照射条件並びに基本的な照射方法は、特開昭６０−１３２７６７号公報に開示されている照射条件及び照射方法を同様に適用することができる。
活性エネルギー線の照射方式として、具体的には、インク組成物の吐出装置を含むヘッドユニットの両側に光源を設け、いわゆるシャトル方式でヘッドユニット及び光源を走査する方式、又は、駆動を伴わない別光源によって活性エネルギー線の照射を行う方式が好ましい。
活性エネルギー線の照射は、インク組成物を着弾して加熱乾燥を行った後、一定時間（例えば０．０１秒間〜１２０秒間、好ましくは０．０１秒間〜６０秒間）をおいて行うことが好ましい。

（加熱乾燥工程）
本開示の画像形成方法では、必要に応じて、付与工程後であって照射工程前に、更に加熱乾燥工程を設けてもよい。
加熱手段には、特に制限はないが、ヒートドラム、温風、赤外線ランプ、熱オーブン、ヒート版加熱などが挙げられる。
加熱温度は、４０℃以上が好ましく、４０℃〜１５０℃程度がより好ましく、４０℃〜８０℃程度が更に好ましい。
なお、加熱時間は、インク組成物の組成及び膜（画像）の形成速度を加味して適宜設定することができる。

加熱されたインク組成物は、必要に応じて、照射工程において活性エネルギー線を照射し、さらに光定着される。既述のように、照射工程においては、ＵＶ光による定着をすることが好ましい。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
以下において、共重合体の各構造単位の右下の数字は、共重合比（モル％）を表す。

〔重合体の合成〕
＜重合体（１）の合成＞
重合体（１）を、以下のようにして合成した。
重合体（１）は、後述する実施例１Ａに用いる重合体（一般式１で表される構造単位を含む重合体）である。
メチルプロピレングリコール（反応溶媒）８４．３１ｇを、冷却管を備えた３００ｍｌの三口フラスコに秤量し、窒素気流下、７５℃で加熱攪拌した。
これとは別に、メチルプロピレングリコール５６．２１ｇ、スミライザーＧＭ（住友化学株式会社製）５９．１８ｇ、Ｖ−６０１（ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）；和光純薬工業株式会社の重合開始剤）１．０３６２ｇを混合して調製した混合溶液を、上記のフラスコに２時間かけて滴下した。滴下を終了し、７５℃で４時間加熱した後、９０℃で更に２時間攪拌し、反応させた。
得られた反応液を放冷し、放冷後の反応液を水２０００ｍｌ中へ注ぎ、再沈殿精製後、真空乾燥した。
以上により、下記構造の重合体（１）（重量平均分子量（Ｍｗ）：１０，０００）を得た。

＜重合体（８）の合成＞
重合体（８）を、以下のようにして合成した。
重合体（８）は、後述する実施例８Ａ及び実施例１Ｂに用いる重合体（一般式１で表される構造単位を含む重合体）である。
メチルプロピレングリコール（反応溶媒）８９．３５ｇを、冷却管を備えた３００ｍｌの三口フラスコに秤量し、窒素気流下、７５℃で加熱攪拌した。
これとは別に、メチルプロピレングリコール５９．５７ｇ、スミライザーＧＭ（住友化学（株）社製）３０．８９ｇ、Ｎ−ビニルカプロラクタム（原料モノマー）３０．８６ｇ、Ｖ−６０１（ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）；和光純薬工業（株）製の開始剤）２．０７２３ｇを混合して調製した混合溶液を、上記のフラスコに２時間かけて滴下した。滴下を終了し、７５℃で４時間加熱した後、９０℃で更に２時間攪拌し、反応させた。
得られた反応液を放冷し、放冷後の反応液を水２０００ｍｌ中へ注ぎ、再沈殿精製後、真空乾燥した。
以上により、下記構造の重合体（８）（重量平均分子量（Ｍｗ）：１０，０００）を得た。

＜重合体（１９）の合成＞
重合体（１９）を、以下のようにして合成した。
重合体（１９）は、後述する実施例１９Ａ及び実施例６Ｂに用いる重合体（一般式１で表される構造単位を含む重合体）である。
メチルプロピレングリコール（反応溶媒）８０．２８ｇを、冷却管を備えた３００ｍｌの三口フラスコに秤量し、窒素気流下、７５℃で加熱攪拌した。
これとは別に、メチルプロピレングリコール５３．５２ｇ、スミライザーＧＭ（住友化学（株）社製）２８．４１ｇ、Ｎ−ビニルカプロラクタム（原料モノマー）１０．８６ｇ、イソボロニルメタクリレート（原料モノマー）１６．０１ｇ、Ｖ−６０１（ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）；和光純薬工業（株）製の開始剤）２．０７２３ｇを混合して調製した混合溶液を、上記のフラスコに２時間かけて滴下した。滴下を終了し、７５℃で４時間加熱した後、９０℃で更に２時間攪拌し、反応させた。
得られた反応液を放冷し、放冷後の反応液を水２０００ｍｌ中へ注ぎ、再沈殿精製後、真空乾燥した。
以上により、下記構造の重合体（１９）（重量平均分子量（Ｍｗ）：１０，０００）を得た。

後述する他の実施例及び比較例で用いる重合体についても、原料モノマーの種類及び使用量を適宜選択することにより、上記の重合体（１）、重合体（８）又は重合体（１９）と同様にして合成した。
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、Ｖ−６０１（開始剤）及びドデシルメルカプタンの量を調整することにより調整した。

（実施例１Ａ）
下記組成の各成分を混合し、光硬化性インクＡ（単官能モノマーベースのインク）を調製した。ラジカル重合性モノマーの総質量に対する重合体の質量の比は、４．３質量％である。
<組成>
・下記ＩＢＯＡ（単官能モノマー） … ２５．０質量％
・下記ＣＴＦＡ（単官能モノマー） … ２５．０質量％
・下記ＰＥＡ（単官能モノマー） … １９．９質量％
・ＣＮ９６４ … ２．０質量％
（サートマー社製；重合性基を有するウレタンオリゴマー）
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９ … ５．０質量％
（ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキシド（アシルフォスフィンオキシド化合物））
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４ … ３．０質量％
（ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（カルボニル化合物））
・ＩＴＸ（増感剤；２−イソプロピルチオキサントン）… １．０質量％
・ＢＰ（増感剤；ベンゾフェノン） … ２．０質量％
・ＥＤＢ（増感剤；４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチル）… １．０質量％
・ＦＩＲＳＴＣＵＲＥ ＳＴ−１ … ０．１質量％
（アルベマール社製の重合禁止剤）
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７５ … １．０質量％
（ビックケミー社製の変性ポリジメチルシロキサン系界面活性剤）
・下記Ｃ（シアン）顔料分散液 … １２．０質量％
・表１に示す重合体 … ３．０質量％

−Ｃ（シアン）顔料分散液の調製−
以下に示す顔料（着色剤）、分散剤、及び重合性モノマーを混合し、ミキサー（シルバーソン社製Ｌ４Ｒ）を用いて２，５００回転／分にて１０分撹拌して混合物を得た。その後、得られた混合物を、ビーズミル分散機ＤＩＳＰＥＲＭＡＴ ＬＳ（ＶＭＡ社製）に入れ、直径０．６５ｍｍのＹＴＺボール（（株）ニッカトー製）を用い、２，５００回転／分で６時間分散を行い、各顔料分散液（Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｋ）を調製した。
＜組成＞
・顔料 …２０質量％
（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３（シアン顔料）、クラリアント社製）
・分散剤 …５質量％
（ソルスパース３２０００（高分子分散剤）、日本ルーブリゾール（株）製）
・重合性モノマー（２−フェノキシエチルアクリレート）…７５質量％

−光硬化性インクＡの評価−
光硬化性インクＡに対して以下の評価を行った。結果を表１に示す。

（硬化膜の密着性）
下記の評価用試料（ＰＶＣ）及び評価用試料（ＰＳ）を用いて密着性を評価した。
［評価用試料（ＰＶＣ）］
まず、基材としてのポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）シートに対し、上記の光硬化性インクＡを、ＲＫ ＰＲＩＮＴ ＣＯＡＴ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製 ＫハンドコーターのＮｏ．２バーを用いて１２μｍの厚みで塗布し、塗膜を得た。得られた塗膜に対し、オゾンレスメタルハライドランプＭＡＮ２５０Ｌを搭載し、コンベアスピード９．０ｍ／分、露光強度２．０Ｗ／ｃｍ^２に設定した実験用ＵＶミニコンベア装置ＣＳＯＴ（（株）ジーエス・ユアサパワーサプライ製）を用いてＵＶ光（紫外線）を照射することにより、上記塗膜を硬化させて硬化膜とした。以上により、評価用試料（ＰＶＣ）を得た。
［評価用試料（ＰＳ）］
基材であるＰＶＣシートをポリスチレン（ＰＳ）シートに変更したこと以外は、上記の評価用試料（ＰＶＣ）の作製と同様にして、評価用試料（ＰＳ）を作製した。

なお、ＰＶＣシート及びＰＳシートには、それぞれ以下のシートを用いた。
・ＰＶＣシート：エイブリィ・デニソン社製の「ＡＶＥＲＹ（登録商標）４００ ＧＬＯＳＳ ＷＨＩＴＥ ＰＥＲＭＡＮＥＮＴ」
・ＰＳシート：Ｒｏｂｅｒｔ Ｈｏｒｎｅ社製の「ｆａｌｃｏｎ ｈｉ ｉｍｐａｃｔ ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」

各評価用試料の硬化膜に対し、ＩＳＯ２４０９（クロスカット法）に準拠してクロスハッチテストを実施し、以下の評価基準にしたがって評価した。クロスハッチテストでは、カット間隔を１ｍｍとし、１ｍｍ角の正方形の格子を２５個形成した。
下記の評価基準において、０及び１が、実用上許容される範囲である。また、下記の評価基準において、格子が剥がれた割合（％）は、下記の式によって求められた値である。下記の式における全格子数は２５である。
格子が剥がれた割合（％）＝〔（剥がれが生じた格子数）／（全格子数）〕×１００
<評価基準>
０：格子が剥がれた割合（％）が０％であった。
１：格子が剥がれた割合（％）が０％超５％以下であった。
２：格子が剥がれた割合（％）が５％超１５％以下であった。
３：格子が剥がれた割合（％）が１５％超３５％以下であった。
４：格子が剥がれた割合（％）が３５％超６５％以下であった。
５：格子が剥がれた割合（％）が６５％超であった。

（硬化膜の鉛筆硬度）
上記の評価用試料（ＰＶＣ）を用い、硬化膜の鉛筆硬度を評価した。
具体的には、評価用試料（ＰＶＣ）の硬化膜に対し、鉛筆として三菱鉛筆（株）製のＵＮＩ（登録商標）を用い、日本工業規格（ＪＩＳ） Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に基づき、鉛筆硬度試験を行った。
試験結果において、鉛筆硬度の許容範囲はＨＢ以上であり、Ｈ以上であることが好ましい。鉛筆硬度がＢ以下である印刷物は、印刷物の取り扱い時に傷が生じる可能性があり好ましくない。

（硬化膜の耐ブロッキング性）
上記の評価用試料（ＰＶＣ）を用い、硬化膜の耐ブロッキング性を評価した。
具体的には、評価用試料（ＰＶＣ）を２０ｍｍ×２０ｍｍのサイズに裁断し、評価サンプルとした。この評価サンプルは２枚作製した。次に、２枚の評価サンプルを、硬化膜同士が接するように重ね合わせ、次いで、温度25℃、湿度50％ＲＨの環境下、２枚の評価サンプルが互いに押し付けられる方向に１０Ｎの荷重を１０秒間加え、次いで評価サンプル同士を剥がした。次に、２枚の評価サンプルの各々の硬化膜を観察し、硬化膜同士が接着した跡の有無及び上記接着した跡の程度を目視で観察し、下記の評価基準にしたがって硬化膜の耐ブロッキング性を評価した。結果を表１に示す。
<評価基準>
５：硬化膜同士が接着した跡が見られず、硬化膜の耐ブロッキング性に非常に優れている。
４：硬化膜の全面積に対して０％超３％未満の範囲に、硬化膜同士が接着した跡が見られるが、硬化膜の耐ブロッキング性は実用上問題ないレベルである。
３：硬化膜の全面積に対して３％以上１０％未満の範囲に、硬化膜同士が接着した跡が見られるが、硬化膜の耐ブロッキング性は実用上の許容範囲内である。
２：硬化膜の全面積に対して１０％以上５０％未満の範囲に、硬化膜同士が接着した跡が見られ、硬化膜の耐ブロッキング性が実用上の許容範囲外である。
１：硬化膜の全面積に対して５０％以上の範囲に、硬化膜同士が接着した跡が見られ、硬化膜の耐ブロッキング性が極めて悪い。

（吐出安定性）
ピエゾ型インク吐出ヘッドを有する市販のインクジェット記録装置（富士フイルム社製、ＬｕｘｅｌＪｅｔ（登録商標）ＵＶ３６００ＧＴ／ＸＴ：商品名）、及び、記録媒体（基材）としてのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製）を用い、以下の方法により光硬化性インクＡの吐出安定性を評価した。
上記インクジェット記録装置を用い、光硬化性インクＡをＰＥＴフィルム上に下記の吐出条件で吐出し、着弾した光硬化性インクＡに紫外（ＵＶ）光を照射（照射量：１０００ｍＷ／ｃｍ^２）して１００％ベタ画像（Solid Image）を形成することを６０分間連続して行った。６０分間連続して光硬化性インクＡを吐出している間にインク詰まりを生じたノズル（ノズルロス）の個数を求め、下記の評価基準にしたがって評価した。下記の評価基準において、５又は４が実用上許容される範囲である。

<吐出条件>
・チャンネル数：３１８／ヘッド
・駆動周波数：４．８ｋＨｚ／ｄｏｔ
・インク滴：７滴、４２ｐｌ
・ヘッドノズルの温度：４５℃
<評価基準>
５：ノズルロスが０個以上２個未満である。
４：ノズルロスが２個以上５個未満である
３：ノズルロスが５個以上７個未満である
２：ノズルロスが７個以上１０個未満である。
１：ノズルロスが１０個以上である。

（保存安定性）
光硬化性インクＡ（５０ｍＬ）を５０ｍＬのガラス瓶に入れ蓋をし、恒温槽（６０℃）条件下で４週間放置した。放置前後で光硬化性インクＡの粘度を測定し、放置前の粘度に対する放置後の粘度の上昇率を求め、下記の評価基準にしたがって光硬化性インクＡの保存安定性を評価した。評価基準において、５又は４が実用上許容される範囲である。
また、光硬化性インクＡの粘度は、粘度計としてＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＲＥ−８５Ｌ（東機産業（株）製）を用い、液温２５℃の条件で測定した。結果を表１に示す。
<評価基準>
５：放置前の粘度に対する放置後の粘度の上昇率が、１０％未満である。
４：放置前の粘度に対する放置後の粘度の上昇率が、１０％以上２０％未満である。
３：放置前の粘度に対する放置後の粘度の上昇率が、２０％以上３０％未満である。
２：放置前の粘度に対する放置後の粘度の上昇率が、３０％以上４０％未満である。
１：放置前の粘度に対する放置後の粘度の上昇率が、４０％以上である。

（実施例２Ａ〜３８Ａ、比較例１Ａ）
実施例１Ａにおいて、重合体（１）の種類又は含有量を下記表１に示すように変更したこと以外は、実施例１Ａと同様にして、光硬化性インクＡ（単官能モノマーベースのインク）を調製し、実施例１Ａと同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表１に示す。
なお、重合体（１）の含有量の変更は、重合体を形成している各モノマーの量を、各モノマーの比率を変えずに全体的に減量又は増量することによって行った。

（比較例２Ａ）
実施例１Ａにおいて、重合体（１）を下記の比較化合物１に代えたこと以外は、実施例１Ａと同様にして、光硬化性インクＡ（単官能モノマーベースのインク）を調製し、実施例１Ａと同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表１に示す。

（実施例１Ｂ）
下記組成の各成分を混合し、光硬化性インクＢ（多官能モノマーベースのインク）を調製した。調製した光硬化性インクＢを用い、実施例１Ａと同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表２に示す。ラジカル重合性モノマーの総質量に対する重合体の質量の比は、４．３質量％である。
<組成>
・下記ＤＰＧＤＡ（多官能モノマー） … ２５．０質量％
・下記ＨＤＤＡ（多官能モノマー） … ２０．０質量％
・下記ＤＶＥ３（多官能モノマー） … ８．９質量％
・下記ＶＥＥＡ（多官能モノマー） … １５．０質量％
・下記ＤＰＨＡ（多官能モノマー） … １．０質量％
・ＣＮ９６４ … ２．０質量％
（サートマー社製；重合性基を有するウレタンオリゴマー）
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９ … ５．０質量％
（ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキシド（アシルフォスフィンオキシド化合物））
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４ … ３．０質量％
（ＢＡＳＦ社製の光重合開始剤；１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（カルボニル化合物））
・ＢＰ（増感剤；ベンゾフェノン） … ２．０質量％
・ＥＤＢ（増感剤；４−（ジメチルアミノ）安息香酸エチル）… １．０質量％
・ＩＴＸ（増感剤；２−イソプロピルチオキサントン）… １．０質量％
・ＦＩＲＳＴＣＵＲＥ ＳＴ−１ … ０．１質量％
（アルベマール社製の重合禁止剤；トリス（Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミン）アルミニウム塩）
・ＢＹＫ−ＵＶ３５７５ … １．０質量％
（ビックケミー社製の変性ポリジメチルシロキサン系界面活性剤）
・上記Ｃ（シアン）顔料分散液 … １２．０質量％
・表２に示す重合体 … ３．０質量％

（実施例２Ｂ〜２５Ｂ、比較例１Ｂ）
実施例１Ｂにおいて、重合体（８）の種類又は含有量を下記表２に示すように変更したこと以外は、実施例１Ｂと同様にして、光硬化性インクＢ（多官能モノマーベースのインク）を調製し、実施例１Ａと同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表２に示す。

（比較例２Ｂ）
実施例１Ｂにおいて、重合体（８）を上記の比較化合物１に代えたこと以外は、実施例１Ｂと同様にして、光硬化性インクＢ（多官能モノマーベースのインク）を調製し、実施例１Ａと同様の測定及び評価を行った。測定及び評価の結果は、下記表２に示す。

なお、表１及び表２において、「−」は該当成分を含有していないことを示す。

表１及び表２に示すように、実施例では、硬化部のブロッキング性が小さく抑えられ、硬度及び基材密着性に優れるものであった。
重合体が構造単位ａ１と構造単位ｂ１とを有する実施例８Ａ〜１８Ａでは、画像の鉛筆硬度及び密着性が更に向上した。重合体が構造単位Ｂとして環状の炭化水素基を有する構造単位ｂ２を更に有する実施例１９Ａ〜２１Ａ等から、インクの吐出安定性に優れたものとなることが分かる。また、重合体の重量平均分子量が３，０００〜５０，０００である実施例２２Ａ〜２４Ａ及び２６Ａでは、重量平均分子量が比較的小さい実施例２５Ａに比べて、鉛筆硬度、耐ブロッキング性、及び密着性により優れたものとなった。更に重量平均分子量が４０，０００以下であると、実施例２３Ａのようにインクの保存安定性がさらに改善され、重量平均分子量が３０，０００以下であると、実施例２４Ａのように更にインクの吐出安定性が改善された。
実施例２７Ａ〜３２Ａから分かるように、重合体中における「一般式１で表される構造単位」の比率は、３０質量％〜９０質量％の範囲が硬度、耐ブロッキング性、及び画像の密着性の向上の点で適しており、インクの保存安定性及び吐出安定性にも優れる点で、比率は、３０質量％〜８０質量％が更に適しており、３０質量％〜７０質量％が特に適していた。
重合体の含有量が２質量％〜８質量％である実施例３５Ａ、３７Ａ及び３８Ａでは、硬度、耐ブロッキング性及び密着性に加え、インクの保存安定性及び吐出安定性にも優れていた。結果から、より好ましい重合体の含有量は、２質量％〜７質量％であった。
これに対し、「一般式１で表される構造単位」を有しない重合体及び低分子化合物である比較化合物１を用いた比較例１Ａ〜２Ａでは、硬度、耐ブロッキング性、及び基材への密着性の全てにおいて劣っていた。
なお、実施例１Ｂ〜２５Ｂ及び比較例１Ｂ〜２Ｂにおいても、上記と同様の結果がみられた。

２０１７年２月２４日に出願された日本出願特願２０１７−０３４０８９の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims (11)

1. 下記一般式１、下記ＡＯ−７又は下記ＡＯ−８で表される構造単位Ａを含む重合体とラジカル重合性モノマーとを含有し、
   単官能のラジカル重合性モノマー及び２官能のラジカル重合性モノマーの総含有量が、組成物全量に対して５０質量％以上である、光硬化性インク組成物。
   
   式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘは、酸素原子又は−ＮＲ^２−を表し、Ｒ^２は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｙは、チオエーテル構造又はヒンダードフェノール構造を含む基を表す。＊は、結合位置を示す。
   
   式中、＊は、結合位置を示す。
2. 前記一般式１で表される構造単位は、下記一般式２又は一般式３で表される構造単位を含む請求項１に記載の光硬化性インク組成物。
   
   式中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｌは、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ^３、Ｒ^４ 及びＲ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐状、脂環族又は芳香族の炭化水素基を表す。Ｒ^８及びＲ^９の一方は水酸基を表し、他方は水素原子を表す。＊は、結合位置を示す。
3. 前記重合体は、前記構造単位Ａ以外のアミド構造を有する構造単位、及び環状の炭化水素基を有する構造単位から選択される少なくとも一種を含む請求項１又は請求項２に記載の光硬化性インク組成物。
4. 前記構造単位Ａの、重合体中の全構造単位の総質量に対する比率が、１０質量％以上である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光硬化性インク組成物。
5. 前記構造単位Ａの、重合体中の全構造単位の総質量に対する比率が、３０質量％以上７０質量％以下である請求項４に記載の光硬化性インク組成物。
6. 前記重合体の重量平均分子量が、１，０００〜５０，０００である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の光硬化性インク組成物。
7. 前記重合体の含有量が、光硬化性インク組成物の全質量に対して、０．５質量％〜１０．０質量％である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の光硬化性インク組成物。
8. 前記ラジカル重合性モノマーの含有量に対する前記重合体の含有量の比が、３質量％〜５質量％である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の光硬化性インク組成物。
9. 更に、光重合開始剤を含有する請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の光硬化性インク組成物。
10. 光硬化性インク組成物の全量に対する溶剤の含有量は５質量％以下である請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の光硬化性インク組成物。
11. 請求項１〜請求項１０のいずれか１項に記載の光硬化性インク組成物を記録媒体上に付与する工程と、
    前記記録媒体上に付与された前記光硬化性インク組成物に活性エネルギー線を照射する工程と、
    を有する画像形成方法。