JP6739294B2 - 紫外線照射方法及び紫外線照射装置 - Google Patents
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Description
図1、図7に示す紫外線照射装置7は、液体L(例えば、純水)を貯留しウエーハWを液体Lに浸漬させて粘着層TcとウエーハWとの間から酸素を排除させる液槽70と、液槽70に貯留された液体Lを介して粘着層Tcに紫外線を照射する紫外線照射装置71と、を少なくとも備えている。
チップCの一部と粘着層Tcとの隙間Vから酸素を排除した後、UVランプ710から、例えば波長が300〜400nmであってピーク波長が365nmの紫外線を+Z方向に向かって照射させる。照射された紫外線は、液槽70の底板を透過して−Z方向から液体Lを介して粘着テープTの全面に対して照射され、粘着テープTの粘着層Tcの構成材料であるUV硬化糊が硬化し粘着層Tcの粘着力が低下する。ここで、各チップCと粘着テープTの粘着層Tcとの隙間Vからは酸素が液体Lによって十分に排除されているため、酸素阻害が起こることなく粘着テープTの粘着層Tc全面の粘着力を十分に低下させることができる。紫外線の照射光量、照射時間等の条件は、粘着テープTの種類等に応じて異なるが、例えば、照射時間は、3秒程度の短い時間で良い。
12:搬出入手段 13:仮置き領域 14:位置合わせ手段 15a:第一の搬送手段 15b:第二の搬送手段 16:洗浄手段 17:収容部
18:アライメント手段 180:赤外線カメラ 181:表示手段
30:チャックテーブル 300:吸着部 300a:保持面 301:枠体
31:カバー
32:固定クランプ 320:クランプ板 320a:回転軸 321:クランプ台
33:クランプ昇降手段 330:シリンダチューブ 331:ピストンロッド
6:レーザー光照射手段 60:ハウジング 61:集光器 61a:集光レンズ
7:紫外線照射装置 70:液槽 700:棚部 71:紫外線照射装置
710:UVランプ 711:筐体
L:液体
8:ピックアップ装置 80:ニードル 81:吸引パッド
W:ウエーハ Wa:ウエーハの表面 S:分割予定ライン D:デバイス
Wb:ウエーハの裏面
T:粘着テープ Ta:粘着テープの表面 Tb:粘着テープの裏面 Tc:粘着層
Td:基材層 V:隙間 C:チップ
Claims (3)
- ウエーハに貼着され紫外線によって硬化する粘着層を有する粘着テープに紫外線を照射する紫外線照射方法であって、
ウエーハを液体が入った液槽に浸漬させ該粘着層と該ウエーハとの間から酸素を排除する酸素排除ステップと、
該液槽に入った液体を介して該粘着層に紫外線を照射し該粘着層を硬化させて粘着力を低下させる紫外線照射ステップと、を具備する紫外線照射方法。 - ウエーハに貼着され紫外線によって硬化する粘着層を有する粘着テープに紫外線を照射する紫外線照射装置であって、
液体を貯留しウエーハを該液体に浸漬させて該粘着層と該ウエーハとの間から酸素を排除させる液槽と、
該液槽に貯留された液体を介して該粘着層に紫外線を照射する紫外線照射手段と、を具備する紫外線照射装置。 - ウエーハを保持する保持手段とウエーハを加工する加工手段とを少なくとも備えた加工装置に配設されていることを特徴とする請求項2記載の紫外線照射装置。
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JP2016171628A JP6739294B2 (ja) | 2016-09-02 | 2016-09-02 | 紫外線照射方法及び紫外線照射装置 |
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JP2016171628A JP6739294B2 (ja) | 2016-09-02 | 2016-09-02 | 紫外線照射方法及び紫外線照射装置 |
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JP2018037602A JP2018037602A (ja) | 2018-03-08 |
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JP7242136B2 (ja) * | 2019-03-05 | 2023-03-20 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
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