JP6737442B2 - 表面被覆切削工具 - Google Patents
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第1組成は、TiaAlbSicN(0.25≦a≦0.45、0.55≦b≦0.75、0≦c≦0.1、a+b+c=1)で表される。第2組成は、TidAleSifN(0.35≦d≦0.55、0.45≦e≦0.65、0≦f≦0.1、d+e+f=1)で表される。第1組成および第2組成は、0.05≦d−a≦0.2かつ0.05≦b−e≦0.2を満たす。
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。
第1組成は、TiaAlbSicN(0.25≦a≦0.45、0.55≦b≦0.75、0≦c≦0.1、a+b+c=1)で表される。第2組成は、TidAleSifN(0.35≦d≦0.55、0.45≦e≦0.65、0≦f≦0.1、d+e+f=1)で表される。第1組成および第2組成は、0.05≦d−a≦0.2かつ0.05≦b−e≦0.2を満たす。
〔3〕第2組成は、好ましくは0<f≦0.05を満たす。
以下、本発明の実施形態(以下「本実施形態」と記す)について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるべきではない。
本実施形態の表面被覆切削工具は、切削工具である限り、その形状および用途等は、特に限定されない。本実施形態の表面被覆切削工具は、たとえば、ドリル、エンドミル、フライス加工用刃先交換型チップ、旋削加工用刃先交換型チップ、メタルソー、歯切工具、リーマ、タップまたはクランクシャフトのピンミーリング加工用チップ等であり得る。
基材10は、特に限定されない。基材10は、たとえば、超硬合金、サーメット、セラミックス、立方晶窒化硼素焼結体、およびダイヤモンド焼結体等により構成され得る。基材10は、好ましくは超硬合金製である。超硬合金は、耐摩耗性に優れるためである。
被膜20は、基材10の表面に形成されている。被膜20は、基材10の表面の一部に形成されていてもよいし、全面に形成されていてもよい。ただし、被膜20は、基材10の表面のうち、少なくとも切れ刃に相当する部分に形成されているものとする。
交互層21は、第1組成を有する第1層1と、第2組成を有する第2層2と、を含む。交互層21は、第1層1と第2層2とが交互にそれぞれ一層以上積層されて構成されている。
第1層1は、第1組成を有する。第1組成は、TiaAlbSicN(0.25≦a≦0.45、0.55≦b≦0.75、0≦c≦0.1、a+b+c=1)で表される。
被膜20は、好ましくは密着層22をさらに含む。密着層22は、基材10と交互層21との間に介在している。密着層22は、基材10および交互層21の両方に接している。基材10と交互層21との間に、密着層22が存在していることにより、溶着欠損の抑制効果の向上が期待できる。
密着層22は、金属炭化物、金属窒化物および金属炭窒化物からなる群より選択される1種以上の化合物を含む。かかる化合物は、第1元素、第2元素および第3元素を含有する。第1元素は、Wである。第1元素は、基材10に含まれるWC粒子と共通の元素である。第2元素は、AlおよびSiのうち少なくとも一方である。第2元素は、交互層21(TiAlN)と共通の元素である。第3元素は、Cr、Ti、ZrおよびNbからなる群より選択される1種以上の元素である。
密着層22は、CおよびNを含むことが好ましい。すなわち、密着層22は、好ましくは、金属炭化物および金属窒化物を含むか、金属炭化物および金属炭窒化物を含むか、金属窒化物および金属炭窒化物を含むか、あるいは金属炭窒化物を含む。
基材10のうち密着層22と接する部分における、WC粒子の占有率を高めることにより、基材10と被膜20との密着性を向上させることもできる。密着層22は、基材10の構成成分のうち、WC粒子との親和性が高いためである。
以上に説明した本実施形態の表面被覆切削工具は、以下の製造方法によって製造することができる。
基材準備ステップ(S10)では、基材10が準備される。たとえば、基材10として、所定の形状の超硬合金が準備される。超硬合金は、一般的な粉末冶金法により準備できる。以下に具体的な手順の一例を示す。
被膜形成ステップ(S20)では、基材10の表面に被膜20を形成する。
基材洗浄ステップ(S21)では、基材10の表面を洗浄する。
密着層形成ステップ(S22)では、基材10と接する密着層22を形成する。たとえば、第2イオンボンバードメント処理により、第3元素を付着させた後の基材10の表面に、AIP法により、第2元素(Al、Si)、TiおよびNをさらに堆積させる。
交互層形成ステップ(S23)では、基材10の表面、または密着層22の表面に、交互層21を形成する。密着層22の表面に交互層21を形成することにより、密着層22は、基材10および交互層21との間に介在し、かつ基材10および交互層21の両方に接することになる。
(B)AIP法において、組成が互いに異なる複数のターゲット材(焼結合金)を用いる。
(C)AIP法において、成膜中、基材10に印加されるバイアス電圧をパルス状に変化させる。
(D)AIP法において、ガス流量を変化させる。
(E)AIP法において、基材10を回転させ、その回転周期を制御する。
以下のようにして、各種表面被覆切削工具を製造し、工具寿命を評価した。
1.基材準備ステップ(S10)
以下の基材10を準備した。基材10は、WC粒子(90質量%)、およびCo(10質量%)を含むものである。WC粒子の平均粒径は2μmである。WC粒子の平均粒径は、前述の方法により測定している。
チップ型番:SFKN12T3AZTN(住友電工ハードメタル社製)
材質:超硬合金(ISO P30グレード)。
図3は、成膜装置の概略断面図である。図4は、成膜装置の概略平面図である。図3は、図4のIII−III線における断面図である。図3および図4に示される成膜装置200は、AIP装置である。本例では、成膜装置200を用いて被膜を形成している。先ず、成膜装置200の構成を説明する。
基材ホルダ205に基材10を保持させた。真空ポンプを用いて、チャンバ201内の圧力を、1.0×10-4Paに調整した。回転テーブル204を回転させながら、成膜装置200に付帯するヒータ(図示せず)により、基材10の温度を500℃に調整した。
ターゲット材211,212,213,214として、下記表1に示す組成の交互層21を形成できる焼結合金をそれぞれ準備した。各ターゲット材211,212,213,214を、所定の位置にセットした。ガス導入口202から窒素ガスを導入し、回転テーブル204を回転させながら、交互層21を形成した。交互層21の形成条件は以下の通りである。
基材の温度 :500℃
反応ガス圧 :0.5〜10Pa
バイアス電圧:−30V〜−800V
アーク電流 :100A
下記表1に示されるように、第1層1の厚さ、第2層2の厚さ、および積層数を変更することを除いては、試料No.1と同様にして、試料No.2および3に係る表面被覆切削工具を製造した。
下記表1に示される組成の交互層が形成されるように、ターゲット材(焼結合金)の組成を変更することを除いては、試料No.3と同様にして、試料No.4〜7に係る表面被覆切削工具を製造した。
試料No.8では、基材洗浄ステップ(S21)において、Arイオンによる第1イオンボンバードメント処理の後、さらにCrイオンによる第2イオンボンバードメント処理を行った。これらの処理を経た表面に、交互層21を形成した。すなわち、試料No.8では、密着層形成ステップ(S22)が行われたことになる。これを除いては、試料No.1と同様にして、試料No.8に係る表面被覆切削工具を製造した。試料No.8における密着層22の組成、厚さを下記表2に示す。また下記表2に、基材10と密着層22とが接する部分におけるWC粒子の占有率を示す。これらの値は、前述の方法により測定している。
下記表1に示される組成の交互層21および密着層22が形成されるように、ターゲット材(焼結合金)の組成を変更すること、および第2イオンボンバードメント処理の条件を変更することを除いては、試料No.8と同様にして、試料No.9〜13に係る表面被覆切削工具を製造した。
試料No.14〜17では、密着層22を形成せず、さらに下記表1に示す単一組成のTiAlN系被膜を形成した。これらを除いては、試料No.1〜7と同様にして、試料No.14〜17に係る表面被覆切削工具を製造した。下記表1中、試料No.14〜17の被膜組成は、便宜上、第1層の欄に記している。
切削試験により、各試料の工具寿命を評価した。具体的には、以下の切削条件で、湿式の断続切削を行い、工具が欠損するまでの切削距離を測定した。結果を上記表2に示す。上記表2中、切削距離が長いほど、工具寿命が長いことを示している。
被削材:Ni基耐熱合金
切削速度:40m/min
送り速度:0.1mm/刃
切り込み量ap:1.0mm
切り込み量ae:50mm
2 第2層
10 基材
20 被膜
21 交互層
22 密着層
100 表面被覆切削工具
200 成膜装置
201 チャンバ
202 ガス導入口
203 ガス排気口
204 回転テーブル
205 基材ホルダ
206 バイアス電源
211,212,213,214 ターゲット材
221,222 直流電源
Claims (4)
- 基材と、
前記基材の表面に形成されている被膜と、を備え、
前記被膜は、交互層を含み、
前記交互層は、第1組成からなる第1層と、第2組成からなる第2層と、からなり、
前記交互層は、前記第1層と前記第2層とが交互にそれぞれ一層以上積層されて構成されており、
前記交互層に含まれる前記第1層および前記第2層の合計数が20以上500以下であり、
前記第1層および前記第2層は、それぞれ厚さが2nm以上100nm以下であり、
前記第1組成は、TiaAlbSicN(0.25≦a≦0.45、0.55≦b≦0.75、0.01≦c≦0.05、a+b+c=1)で表され、
前記第2組成は、TidAleSifN(0.35≦d≦0.55、0.45≦e≦0.65、0.01≦f≦0.05、d+e+f=1)で表され、
前記第1組成および前記第2組成は、0.05≦d−a≦0.2かつ0.05≦b−e≦0.2を満たす、表面被覆切削工具。 - 前記基材は、WC粒子を含み、
前記被膜は、密着層をさらに含み、
前記密着層は、前記基材と前記交互層との間に介在しており、かつ前記基材および前記交互層の両方に接しており、
前記密着層は、厚さが0.5nm以上50nm以下であり、
前記密着層は、金属炭化物、金属窒化物および金属炭窒化物からなる群より選択される1種以上の化合物を含み、
前記化合物は、
Wと、
AlおよびSiのうち少なくとも一方の元素と、
Cr、Ti、ZrおよびNbからなる群より選択される1種以上の元素と、
を含有する、請求項1に記載の表面被覆切削工具。 - 前記密着層は、炭素および窒素を含み、
前記密着層の厚さ方向において、
前記炭素の含有量は、前記基材と前記密着層との界面である第1界面から、前記密着層と前記交互層との界面である第2界面に向かって減少し、前記第2界面において最小となり、
前記窒素の含有量は、前記第1界面から前記第2界面に向かって増加し、前記第2界面において最大となる、請求項2に記載の表面被覆切削工具。 - 前記基材のうち前記密着層と接する部分において、
前記WC粒子は、前記部分の80%以上を占有する、請求項2または請求項3に記載の表面被覆切削工具。
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