JP6732073B2

JP6732073B2 - Building structure

Info

Publication number: JP6732073B2
Application number: JP2019068243A
Authority: JP
Inventors: 秀行丸山; 秀司豊田; 細田　幸宏; 幸宏細田; 若林　徹; 徹若林; 勝之久保; 空広吉浜; 英雄山鹿
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 2019-03-29
Filing date: 2019-03-29
Publication date: 2020-07-29
Anticipated expiration: 2035-05-14
Also published as: JP2019124117A

Description

本発明は、主に鉄筋コンクリート造等の集合住宅における建築物構造に関するものである。 The present invention mainly relates to a building structure in an apartment house such as a reinforced concrete structure.

主に鉄筋コンクリート造の集合住宅における従来の工法の一例として、図５に示すように、排水立て管１０を壁４により仕切られた居室（居住、執務、作業、集会、娯楽その他これらに類する目的のために継続的に使用する室をいう。以下同じ。）外に配置する工法が知られている。この工法では、水廻り器具３０ａ〜３０ｃからの排水をそれぞれ、排水立て管１０に排出させるため、配管の一部としての管体４０ａ〜４０ｃに勾配を設けるとともに当該管体４０ａ〜４０ｃをそれぞれ壁４に貫通させている。 As an example of a conventional construction method mainly in a reinforced concrete building, as shown in FIG. 5, a drainage pipe 10 is separated by a wall 4 from a living room (living, office, work, gathering, entertainment, etc. A room that is continuously used for this purpose. The same applies to the following.) A method of arranging outside is known. In this construction method, in order to discharge the drainage from the water supply devices 30a to 30c to the drainage stack 10, the pipes 40a to 40c as a part of the pipe are provided with a gradient and the pipes 40a to 40c are walled respectively. 4 is penetrated.

また、水廻り器具の排水システムとしては、サイホン力を利用して排水を行うサイホン排水システムが知られている（例えば、特許文献１参照）。 In addition, as a drainage system for a water supply device, a siphon drainage system that uses a siphon force to perform drainage is known (see, for example, Patent Document 1).

特開２００７−３１５０３６号公報JP, 2007-315036, A

サイホン排水システムは、スラブの上面に対して、ほぼ勾配なく小口径で排水が可能なサイホン排水管を配置することができる。このため、階高を下げたり、居室内の高さ方向の空間を広げる場合に有効である。 In the siphon drainage system, a siphon drainage pipe capable of draining a small diameter with almost no inclination can be arranged on the upper surface of the slab. Therefore, it is effective when lowering the floor height or expanding the space in the living room in the height direction.

しかしながら、図５に示す、従来の建築物構造に採用した場合、管体４０ａと同様、サイホン排水管の一部を、壁４に形成した貫通孔（横孔）４ａ´に貫通させる必要があり、この場合、以下のような問題がある。 However, when adopted in the conventional building structure shown in FIG. 5, it is necessary to penetrate a part of the siphon drainage pipe into the through hole (lateral hole) 4a′ formed in the wall 4, like the pipe body 40a. In this case, there are the following problems.

例えば、図６に示すように、居室部分と居室外部分とを壁４で仕切る場合、壁４を挟んで居室部分と反対側の居室外部分の側が屋外となるため、スラブ５０の上面に防水対策（ウレタンによる防水等）を施し、壁４の側面に沿って防水対策部分６０の端部６０ａを立ち上げる必要がある。この場合、壁４に形成される貫通孔４ａ´は、防水対策部分６０と干渉しないよう、防水対策部分６０の端部６０ａよりも高い位置に形成する必要がある。 For example, as shown in FIG. 6, when the living room portion and the outside living room are partitioned by the wall 4, the outside of the living room on the opposite side of the living room portion with the wall 4 interposed therebetween is outdoors, so the upper surface of the slab 50 is waterproofed. It is necessary to take measures (waterproofing with urethane, etc.) and raise the end portion 60a of the waterproofing measure portion 60 along the side surface of the wall 4. In this case, the through hole 4a′ formed in the wall 4 needs to be formed at a position higher than the end portion 60a of the waterproof countermeasure portion 60 so as not to interfere with the waterproof countermeasure portion 60.

また、壁４が所謂従来のＲＣ壁の場合、壁４の貫通孔４ａ´周りに開口補強筋を入れて当該壁４を補強する必要がある場合がある。この場合、壁４の貫通孔４ａ´よりも下側の壁部分に開口補強筋を入れるスペースを確保するため、貫通孔４ａ´をスラブ５０の上面５０ｆから高い位置に形成する必要がある。また、壁４がＡＬＣ等のＰＣ壁である場合、当該壁４をスラブ５０に対して固定する必要があるので、壁４の貫通孔４ａ´よりも下側の壁部分に固定具を取り付けるためのスペースを確保する必要がある。この場合も、貫通孔４ａ´を固定具よりも高い位置に形成する必要がある。 Further, when the wall 4 is a so-called conventional RC wall, it may be necessary to reinforce the wall 4 by providing an opening reinforcing bar around the through hole 4a′ of the wall 4. In this case, it is necessary to form the through hole 4a' at a position higher than the upper surface 50f of the slab 50 in order to secure a space for inserting the opening reinforcing bar in the wall portion of the wall 4 below the through hole 4a'. Further, when the wall 4 is a PC wall such as ALC, it is necessary to fix the wall 4 to the slab 50, so that the fixing tool is attached to the wall portion of the wall 4 below the through hole 4a'. Space needs to be secured. Also in this case, it is necessary to form the through hole 4a' at a position higher than the fixture.

ところが、上記のように、貫通孔をスラブ５０の上面５０ｆから高い位置に形成した場合、配管の一部が登り勾配となり、サイホン排水能力が悪化するという問題があった。 However, as described above, when the through hole is formed at a position higher than the upper surface 50f of the slab 50, there is a problem that a part of the pipe has an upward slope and the siphon drainage capacity deteriorates.

本発明の課題は、配管の登り勾配を小さく抑えつつ、壁に形成した貫通孔よりも下側に一定の壁部分を確保することが可能な、新規の建築物構造を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a novel building structure capable of ensuring a constant wall portion below a through hole formed in a wall while suppressing a climbing gradient of a pipe.

本発明に係る建築物構造は、第１スラブと、前記第１スラブの上面よりも低い位置に上面がある第２スラブと、前記第２スラブの上面上に形成された壁と、前記壁に形成された貫通孔を通して当該壁を貫通するサイホン排水管とを備え、
前記貫通孔の下端の前記第２スラブの上面からの高さが、３０ｍｍ以上であることを特徴とする。
本発明に係る建築物構造によれば、壁に形成した貫通孔よりも下側に一定の壁部分を確保しつつ、配管の登り勾配を小さく抑えることが可能となる。 The building structure according to the present invention includes a first slab, a second slab having an upper surface at a position lower than the upper surface of the first slab, a wall formed on the upper surface of the second slab, and the wall. With a siphon drain pipe that penetrates the wall through the formed through hole,
The height of the lower end of the through hole from the upper surface of the second slab is 30 mm or more.
According to the building structure of the present invention, it is possible to suppress the climbing slope of the pipe to be small while securing a certain wall portion below the through hole formed in the wall.

本発明に係る建築物構造は、前記貫通孔の中心軸の前記第１スラブの上面からの高さが、０ｍｍ以上であることが好ましい。
この場合、壁に形成した貫通孔よりも下側に、壁部分をより十分に確保することができる。 In the building structure according to the present invention, the height of the central axis of the through hole from the upper surface of the first slab is preferably 0 mm or more.
In this case, the wall portion can be sufficiently secured below the through hole formed in the wall.

本発明に係る建築物構造は、前記貫通孔の下端の前記第１スラブの上面からの高さが、５０ｍｍ以下であることが好ましい。
この場合、配管の登り勾配を小さく抑えることができる。 In the building structure according to the present invention, the height of the lower end of the through hole from the upper surface of the first slab is preferably 50 mm or less.
In this case, the climbing gradient of the pipe can be kept small.

本発明に係る建築物構造では、前記サイホン排水管の上流側に連設される水廻り器具の排水トラップが、前記第１スラブの上面を上方から視た平面視で、前記第１スラブの上面の上方に設置されることが好ましい。
この場合、居室内の第２スラブの領域を極小化させて第１スラブの領域を拡大することにより、当該居室内で天井高が落ち込む第２スラブの領域の拡大を抑制できる。なお、本発明において、「サイホン排水管の上流側に連設される水廻り器具の排水トラップ」という意味には、排水トラップがサイホン排水管の上流側で直結されている場合は勿論、排水トラップとサイホン排水管との間に貯留槽などの他の部材を介在させている場合も含まれる。 In the building structure according to the present invention, the drain trap of the water supply device connected to the upstream side of the siphon drain pipe has an upper surface of the first slab in a plan view of the upper surface of the first slab from above. Is preferably installed above.
In this case, by minimizing the area of the second slab in the living room and expanding the area of the first slab, it is possible to suppress the expansion of the area of the second slab in which the ceiling height drops in the living room. In the present invention, the meaning of “drainage trap of a water supply device connected to the upstream side of the siphon drain pipe” means that the drain trap is directly connected to the upstream side of the siphon drain pipe as well as the drain trap. It also includes the case where another member such as a storage tank is interposed between and the siphon drainage pipe.

本発明に係る建築物構造では、前記壁は、前記壁と向かい合う前記第１スラブの端から間隔を置いて前記第２スラブの上面上に設置されたものであることが好ましい。
この場合、例えばＲＣ壁の場合に開口補強筋を入れやすくなり、ＡＬＣ等のＰＣ壁の場合は前記壁の両壁面の側に壁の固定具を固定するためのスペースを確保することができる。 In the building structure according to the present invention, it is preferable that the wall is installed on an upper surface of the second slab at a distance from an end of the first slab facing the wall.
In this case, for example, in the case of an RC wall, it is easy to insert an opening reinforcing bar, and in the case of a PC wall such as ALC, it is possible to secure a space for fixing a wall fixture on both wall sides of the wall.

本発明によれば、配管の登り勾配を小さく抑えつつ、壁に形成した貫通孔よりも下側に一定の壁部分を確保することができる、新規の建築物構造を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the new building structure which can hold|maintain a fixed wall part below the through-hole formed in the wall can be provided, suppressing the climbing gradient of piping small.

本発明の一実施形態に係る建築物構造を、一部断面として模式的に示す図である。It is a figure which shows the building structure which concerns on one Embodiment of this invention typically as a partial cross section. 図１の要部拡大図である。It is a principal part enlarged view of FIG. （ａ）は、第２スラブ上に設置された壁の貫通孔付近を、第２スラブを断面とした状態で、その壁面の側から模式的に示した図であり、（ｂ）は（ａ）のＩ−Ｉ断面を、一部側面図で示した図であり、（ｃ）は、第２スラブ上に設置された壁の貫通孔と第１スラブの上面との関係を模式的に示す断面図であり、（ｄ）は、本発明の他の実施形態に係る建築物構造に採用される、第１および第２スラブと壁とを模式的に示す断面図である。(A) is the figure which showed typically the through-hole vicinity of the wall installed on the 2nd slab from the wall surface side in the state which made the 2nd slab a cross section, and (b) is (a) FIG. 4C is a partial side view showing the I-I cross section of FIG. 4C, and FIG. 6C schematically shows the relationship between the through hole of the wall installed on the second slab and the upper surface of the first slab. It is sectional drawing, (d) is sectional drawing which shows 1st and 2nd slab and wall which are employ|adopted for the building structure which concerns on other embodiment of this invention typically. 本発明のさらに他の実施形態に係る建築物構造を、一部断面として示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the building structure which concerns on other embodiment of this invention as a partial cross section. 従来のＳＩ型マンションに係る建築物構造を、一部断面として示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the building structure which concerns on the conventional SI type condominium as a partial cross section. 壁が起立するスラブの上面に施された防水対策を例示的に示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows as an example the waterproofing measure provided on the upper surface of the slab where a wall stands up.

以下、図面を参照して、本発明の様々な実施形態に係る建築物構造を詳細に説明する。なお、以下の説明において、上下方向（鉛直方向）とは重力方向を意味し、図面上下方向を示す。すなわち、図面上側から下側に向かう方向が物体に働く重力の方向となる。また、水平方向とは、上下方向に対して直交する方向を意味する。 Hereinafter, a building structure according to various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the up-down direction (vertical direction) means the direction of gravity, and indicates the up-down direction in the drawing. That is, the direction from the upper side to the lower side in the drawing is the direction of gravity acting on the object. The horizontal direction means a direction orthogonal to the vertical direction.

図１に示す実施形態に係る建築物構造は、主として複数階で構成された集合住宅等の建築物などの配管システムに採用される。以下、サイホン力を使用して、集合住宅の各階の排水を下方に流すサイホン排水配管システムを例に、本実施形態を説明する。 The building structure according to the embodiment shown in FIG. 1 is mainly used for a piping system of a building such as an apartment house having a plurality of floors. Hereinafter, the present embodiment will be described with an example of a siphon drainage piping system in which drainage on each floor of an apartment house is flowed downward by using siphon power.

図１に示すように、本実施形態に係る建築物構造では、スラブは２つの部分で構成されている。符号１は、第１スラブであり、符号２は、第２スラブである。第２スラブ２は、第１スラブ１の上面１ｆよりも低い位置、すなわち、下方にある、第１の上面２ｆ₁と、第１スラブ１の上面１ｆと同一の高さにある、第２の上面２ｆ₂と、を有している。本実施形態では、第１スラブ１の上面１ｆおよび第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁ならびに第２の上面２ｆ₂は、それぞれ、水平方向に伸びる平坦な水平面で構成されている。すなわち、第１スラブ１の上面１ｆと第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁および第２の上面２ｆ₂とは平行に配置されている。さらに本実施形態では、第１スラブ１の一方の端３（以下、「第１スラブ１の端３」ともいう）が第２スラブ２との間に段差を形成している。本実施形態では、第１スラブ１の端３は、鉛直方向に延在している。なお、本実施形態では、第１スラブ１および第２スラブ２は一体に形成されている。 As shown in FIG. 1, in the building structure according to the present embodiment, the slab is composed of two parts. Reference numeral 1 is a first slab, and reference numeral 2 is a second slab. The second slab 2 is positioned lower than the first upper surface 1f of the slab 1, i.e., in the lower, first upper surface 2f _1, at the same height as the first upper surface 1f of the slab 1, the second And an upper surface 2f ₂ . In the present embodiment, the upper surface 1f of the first slab 1 and the first upper surface 2f ₁ and the second upper surface 2f ₂ of the second slab ₂ are each configured by a flat horizontal surface extending in the horizontal direction. That is, a first upper surface 1f of the slab 1 and the first upper surface 2f ₁ and the second upper surface 2f ₂ of the second slab 2 are arranged in parallel. Further, in this embodiment, one end 3 of the first slab 1 (hereinafter, also referred to as “end 3 of the first slab 1”) forms a step between the end 3 and the second slab 2. In the present embodiment, the end 3 of the first slab 1 extends in the vertical direction. In addition, in this embodiment, the first slab 1 and the second slab 2 are integrally formed.

符号４は、第２スラブ２上に設置された壁である。本実施形態では、壁４は、第２スラブ１の第１の上面２ｆ₁から起立するＲＣ壁である。壁４は、第１スラブ１の側を住居等の居室部分として区画する一方、壁４を挟んで居室部分と反対の側の第２スラブ２の側を共用廊下等の居室外部分として区画している。本実施形態では、居室部分には床材５が配置されており、当該居室部分が二重床として構成されている。本実施形態では、床材５は、緩衝材や支持ボルト等の支持材６を介して、第１スラブ１の上面１ｆ上に配置されている。これにより、本実施形態では、床材５の下方に形成される床下ふところは、床材５と第１スラブ１との間に形成された第１床下ふところＳ₁と、床材５と第２スラブ２との間に形成された第２床下ふところＳ₂からなる。 Reference numeral 4 is a wall installed on the second slab 2. In the present embodiment, the wall 4 is an RC wall that stands up from the first upper surface 2f _{1 of} the second slab 1. The wall 4 partitions the side of the first slab 1 as a living room part such as a residence, while partitioning the side of the second slab 2 on the side opposite to the living room part across the wall 4 as an outside part of a common corridor or the like. ing. In the present embodiment, the floor material 5 is arranged in the living room portion, and the living room portion is configured as a double floor. In the present embodiment, the floor material 5 is arranged on the upper surface 1f of the first slab 1 via a support material 6 such as a cushioning material or a support bolt. As a result, in the present embodiment, the underfloor footings formed below the floor material 5 include the first underfloor footing S ₁ formed between the floor material 5 and the first slab 1, the floor material 5 and the second floor material 5. and a second underfloor bosom S ₂ formed between the slab 2.

壁４には、貫通孔４ａが形成されている。本実施形態では、壁４に形成された貫通孔４ａは、第２スラブ２の上面２ｆ₁の上方に、無勾配で、ほぼ水平（好適には、水平）に形成されている。また、本実施形態では、壁４は、当該壁４と向かい合う第１スラブ１の端３から間隔Ｄを置いて、すなわち、壁４の第１スラブ１の側の壁面と当該壁４と対向する位置に配置された第１スラブ１の端３との間に間隔Ｄが置かれて、第２スラブ２の上面２ｆ₁上に設置されており、鉛直方向に延在している。これにより、図１および図２に示すように、第１スラブ１の端３と壁４との間には、隙間Ｃが形成される。なお、壁４に形成された貫通孔４ａは、本実施形態のように、水平に形成されたものに限定されるものではなく、水平でなくともよい。また、本実施形態では、壁４は、ＲＣ壁として説明したが、予め工場生産された壁を現場に搬入してスラブ等に連結する、いわゆるＰＣ壁であってもよい。 A through hole 4a is formed in the wall 4. In the present embodiment, the through hole 4a formed in the wall 4 is formed above the upper surface 2f ₁ of the second slab 2 with almost no slope and substantially horizontal (preferably horizontal). Further, in the present embodiment, the wall 4 is spaced from the end 3 of the first slab 1 facing the wall 4 by a distance D, that is, the wall surface of the wall 4 on the first slab 1 side faces the wall 4. It is installed on the upper surface 2f ₁ of the second slab 2 with a distance D between it and the end 3 of the first slab 1 arranged at a position, and extends in the vertical direction. As a result, as shown in FIGS. 1 and 2, a gap C is formed between the end 3 of the first slab 1 and the wall 4. The through hole 4a formed in the wall 4 is not limited to the horizontally formed hole as in the present embodiment, and may not be horizontal. Further, in the present embodiment, the wall 4 has been described as an RC wall, but it may be a so-called PC wall, which is a factory-produced wall that is brought into the field and connected to a slab or the like.

第１スラブ１および第２スラブ２は、集合住宅の各階を上下に区画する床スラブを構成している。本実施形態では、第２スラブ２には、第２スラブ２を上下に貫通する貫通孔２ａ、２ｂが形成されている。 The 1st slab 1 and the 2nd slab 2 comprise the floor slab which divides each floor of an apartment house up and down. In the present embodiment, the second slab 2 is formed with through holes 2a and 2b that vertically penetrate the second slab 2.

符号１０は、排水を下方に流す排水立て管である。排水立て管１０は、第２スラブ２に形成された貫通孔２ａを通って、集合住宅の各階の第２スラブ２を貫通している。なお、本実施形態では、排水立て管１０を配置した貫通孔２ａの内側はモルタルＭ等で封止されている。また、本実施形態では、壁４と、第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁と第２の上面２ｆ₂との間に形成された段差との間には窪みが形成されており、この窪みはモルタルＭ等で埋め戻されている。より具体的には、モルタルＭ等で埋め戻された部分の上面は、メータボックスＭＢ等が配置される空間の床面を構成し、第２スラブ２の第１の上面２ｆ₂は共用廊下の床面を構成している。モルタルＭ等で埋め戻された部分の上面は、第２スラブ２の第２の上面２ｆ₂と同一の面とし、または、第２スラブ２の第２の上面２ｆ₂よりも高くすることができる。この場合、モルタルＭ等で埋め戻された部分の上面に水溜りが生じることを抑制できる。さらに、モルタルＭ等で埋め戻された部分において、モルタルＭと第２スラブを貫通する貫通孔（図示せず）を設けることで、水溜りの発生を更に抑制することが出来る。
なお、窪みはモルタルＭ等によって埋め戻されなくてもよく、その場合は第２スラブを貫通する貫通孔（図示せず）を設けることで雨水等が窪みに溜まる水溜りの発生を抑制することが出来る。 Reference numeral 10 is a drainage stack pipe for flowing drainage downward. The drainage stack 10 passes through the through hole 2a formed in the second slab 2 and penetrates the second slab 2 on each floor of the apartment house. In this embodiment, the inside of the through hole 2a in which the drainage stack 10 is arranged is sealed with mortar M or the like. Further, in the present embodiment, the wall 4, are depressions formed between the step formed between the first top surface 2f ₁ of the second slab 2 and the second upper surface 2f _2, the The depression is backfilled with mortar M or the like. More specifically, the upper surface of the portion backfilled with the mortar M and the like constitutes the floor surface of the space in which the meter box MB and the like are arranged, and the first upper surface 2f ₂ of the second slab ₂ is the common corridor. It constitutes the floor. The upper surface of the portion backfilled with the mortar M or the like may be the same surface as the second upper surface 2f _{2 of} the second slab 2 or may be higher than the second upper surface 2f _{2 of} the second slab 2. .. In this case, it is possible to suppress the formation of a water pool on the upper surface of the portion backfilled with the mortar M or the like. Further, by providing a through hole (not shown) penetrating the mortar M and the second slab in the portion backfilled with the mortar M or the like, it is possible to further suppress the occurrence of a water pool.
It should be noted that the recess does not have to be backfilled with mortar M or the like, and in that case, a through hole (not shown) penetrating the second slab is provided to suppress generation of a water pool in which rainwater or the like collects in the recess. Can be done.

図１中、符号２０は、その一部が壁４に形成された貫通孔４ａを通して当該壁４ａを貫通するサイホン排水管である。本実施形態では、サイホン排水管２０は、横引き管２１および竪管２２で形成されている。また、符号３０は、洗面台や浴室（ユニットバス）等の水廻り器具である。本実施形態では、図１に示すように、水廻り器具３０は、例示的に、浴室（ユニットバス）３０ａである。水廻り器具３０は、その直下に悪臭や害虫などの進入を防止するための排水トラップ３１を有している。本実施形態では、排水トラップ３１は、床材５よりも下方の、水廻り器具３０の下端に配置されている。また、本実施形態では、排水トラップ３１は、第１スラブ１の上面１ｆを上方から視た平面視で、第１スラブ１の上面１ｆの上方に配置されている。好適には、壁４と当該壁４と向かい合う第１スラブ１の端３との間、すなわち、壁４の第１スラブ１の側の壁面と当該壁４と対向する位置に配置された第１スラブ１の端３との間の間隔Ｄを、壁４と水廻り器具３０との間、すなわち、壁４の第１スラブ１の側の壁面と当該壁４と向かい合う水廻り器具３０の壁４の側の端との間の間隔よりも短くなるように配置する。本実施形態では、水廻り器具３０も含め、浴室全体が第１スラブ１の上方に配置されている。 In FIG. 1, reference numeral 20 is a siphon drain pipe that partially penetrates the wall 4a through a through hole 4a formed in the wall 4. In the present embodiment, the siphon drainage pipe 20 is formed by a horizontal draw pipe 21 and a vertical pipe 22. Further, reference numeral 30 is a water supply device such as a wash basin or a bathroom (unit bath). In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the water supply device 30 is, for example, a bathroom (unit bath) 30a. The water supply device 30 has a drain trap 31 immediately below it for preventing the entry of bad odors and harmful insects. In the present embodiment, the drain trap 31 is arranged below the floor material 5 and at the lower end of the water supply device 30. Further, in the present embodiment, the drain trap 31 is arranged above the upper surface 1f of the first slab 1 in a plan view when the upper surface 1f of the first slab 1 is viewed from above. Suitably, it is between the wall 4 and the edge 3 of the 1st slab 1 which faces the said wall 4, ie, the wall surface by the side of the 1st slab 1 of the wall 4, and the 1st arrange|positioned at the position which opposes the said wall 4. The distance D between the end 3 of the slab 1 is set between the wall 4 and the water swirl device 30, that is, the wall surface of the wall 4 on the side of the first slab 1 and the wall 4 of the water swirl device 30 facing the wall 4. Place it so that it is shorter than the distance between it and the end on the side of. In the present embodiment, the entire bathroom including the water around device 30 is arranged above the first slab 1.

排水トラップ３１は、水で通路を遮断する水封式、逆止弁等を用いた自封式その他様々なものを採用することができる。また、排水トラップ３１は、接続管３２を介して貯留槽３３に連通する。図１に示すように、サイホン排水管２０の一方の端部（横引き管２１の端部）２０ａは、貯留槽３３に連設されている。すなわち、本実施形態では、排水トラップ３１を有する水廻り器具３０は、貯留槽３３および接続管３２を介して、サイホン排水管２０の上流側に間接的に連設されている。そして、サイホン排水管２０の他方の端部（竪管２２の端部）は、排水立て管１０に連設されている（ここでは、図示省略）。 As the drain trap 31, various types such as a water-sealing type that shuts off the passage with water, a self-sealing type using a check valve, and the like can be adopted. Further, the drain trap 31 communicates with the storage tank 33 via the connection pipe 32. As shown in FIG. 1, one end of the siphon drain pipe 20 (the end of the horizontal pipe 21) 20 a is connected to a storage tank 33. That is, in the present embodiment, the water supply device 30 having the drain trap 31 is indirectly connected to the upstream side of the siphon drain pipe 20 via the storage tank 33 and the connection pipe 32. The other end of the siphon drain pipe 20 (the end of the vertical pipe 22) is connected to the drain stack 10 (not shown here).

上述のとおり、本実施形態では、サイホン排水管２０は、貯留槽３３に繋がる横引き管２１を有する。横引き管２１は、壁４に形成された貫通孔４ａを通して、第１床下ふところＳ₁内および第２床下ふところＳ₂内（床下空間）の第１スラブ１の上面１ｆを、当該第１スラブ１の上面１ｆに沿って配置されている。横引き管２１は、図２に示すように、第１スラブ１の上面１ｆ上を無勾配で水平に配設されている。さらに、本実施形態では、横引き管２１に繋がる竪管２２は、第２スラブ２に形成された貫通孔２ｂを通して上下方向に貫通している。本実施形態では、竪管２２は、排水立て管１０に連設されている（ここでは、図示省略）。すなわち、竪管２２は、横引き管２１よりも低い位置で排水立て管１０と合流している。サイホン排水管２０は、サイホン排水管２０内の流通が確保されるものであれば、複数の管体を組み付けて構成されたものでも、１つの管体として構成されたものでもよい。 As described above, in the present embodiment, the siphon drainage pipe 20 has the horizontal draw pipe 21 connected to the storage tank 33. The horizontal pulling pipe 21 passes through the through hole 4a formed in the wall 4 and attaches the upper surface 1f of the first slab 1 in the first underfloor space S ₁ and the second underfloor space S ₂ (underfloor space) to the first slab. 1 is arranged along the upper surface 1f. As shown in FIG. 2, the horizontal draw pipe 21 is arranged horizontally on the upper surface 1f of the first slab 1 without any gradient. Further, in the present embodiment, the vertical pipe 22 connected to the horizontal draw pipe 21 penetrates in the vertical direction through the through hole 2b formed in the second slab 2. In the present embodiment, the vertical pipe 22 is connected to the drainage stack 10 (not shown here). That is, the vertical pipe 22 joins the drainage stack 10 at a position lower than the horizontal draw pipe 21. The siphon drain pipe 20 may be configured by assembling a plurality of pipe bodies or configured as one pipe body as long as the flow inside the siphon drain pipe 20 is ensured.

貫通孔４ａは、１つの貫通孔４ａに１つの横引き管２１を配置する構成とすることができるが、後述するように、１つの貫通孔４ａに複数の横引き管２１を配置する構成とすることもできる。さらに、壁４に複数の貫通孔４ａを形成し、そのうち少なくとも１つの貫通孔４ａに１つの横引き管２１を配置し、他の少なくとも１つの貫通孔４ａに複数の横引き管２１を配置する構成とすることができる。本実施形態では一例として、図３（ａ）に示すように、貫通孔４ａは、壁４の壁面の側から見た外観形状が長方形状の開口部として形成されている。これにより、貫通孔４ａには、複数（本実施形態では、例示的に４本）のサイホン排水管２０の横引き管２１を貫通させることができる。 The through-hole 4a may be configured such that one horizontal drawing tube 21 is arranged in one through-hole 4a, but as will be described later, a configuration in which a plurality of horizontal drawing tubes 21 are arranged in one through-hole 4a. You can also do it. Further, a plurality of through holes 4a are formed in the wall 4, one horizontal drawing pipe 21 is arranged in at least one through hole 4a, and a plurality of horizontal drawing pipes 21 are arranged in another at least one through hole 4a. It can be configured. In the present embodiment, as an example, as shown in FIG. 3A, the through hole 4 a is formed as an opening having a rectangular outer shape when viewed from the wall surface side of the wall 4. As a result, a plurality of (four in the present embodiment, four) siphon drain pipes 20 can be passed through the through holes 4a.

本実施形態では、貫通孔４ａの下端の第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁からの高さｈ₄（以下、「貫通孔下端高さｈ₄」ともいう）が、３０ｍｍ以上（ｈ₄≧３０ｍｍ）とされている。
この場合、第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁と壁４の下端面との接続面に対して防水対策を施すときに、貫通孔４ａの直下の壁４の壁面および第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁に、当該貫通孔４ａと干渉させることなく、例えば、ウレタン樹脂等の防水材料を塗布することができる。さらに、貫通孔下端高さｈ₄を３０ｍｍ以上とすれば、壁４を第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁に取り付けるとき、貫通孔４ａの直下の壁４の壁面および第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁に、当該貫通孔４ａと干渉させることなく、固定具(図示省略)を配置することができる。また、貫通孔下端高さｈ₄を３０ｍｍ以上とすれば、壁４がＲＣ壁であって、貫通孔４ａの周りを補強する必要がある場合、例えば、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、壁４の貫通孔４ａ周りに、開口補強筋Ｒを入れて当該壁４の貫通孔４ａ周辺を部分的に補強することができる。 In the present embodiment, the height h ₄ of the lower end of the through hole 4a from the _first upper surface 2f ₁ of the second slab 2 (hereinafter, also referred to as “through hole lower end height h ₄ ”) is 30 mm or more (h ₄ ≧30 mm).
In this case, when waterproofing measures are taken on the connection surface between the _first upper surface 2f _{1 of} the second slab 2 and the lower end surface of the wall 4, the wall surface of the wall 4 immediately below the through hole 4a and the second slab 2 are covered. A waterproof material such as urethane resin can be applied to the first upper surface 2f ₁ without interfering with the through hole 4a. Further, if the height h ₄ of the lower end of the through hole is set to 30 mm or more, when the wall 4 is attached to the first upper surface 2f ₁ of the second slab 2, the wall surface of the wall 4 immediately below the through hole 4a and the second slab 2 are attached. A fixture (not shown) can be arranged on the first upper surface 2f ₁ without interfering with the through hole 4a. Further, if the height h ₄ of the lower end of the through hole is 30 mm or more, when the wall 4 is an RC wall and it is necessary to reinforce the periphery of the through hole 4a, for example, as shown in FIGS. As shown, it is possible to partially reinforce the periphery of the through hole 4a of the wall 4 by inserting an opening reinforcing bar R around the through hole 4a of the wall 4.

加えて、本実施形態では、図３（ｃ）に示すように、第１スラブ１の端３と壁４との間には隙間Ｃが形成されているため、居室部分の隙間Ｃ（第２床下ふところＳ₂）の側からも、居室外部分（壁４を挟んで隙間Ｃと反対）の側からも、防水対策等の作業を行うことができる。 In addition, in the present embodiment, as shown in FIG. 3C, since the gap C is formed between the end 3 of the first slab 1 and the wall 4, the gap C (second Work such as waterproofing can be performed from both the underfloor S ₂ ) side and the outside of the room (opposite the gap C across the wall 4 ).

加えて、図１に示すように、本実施形態では、第１スラブ１の上面１ｆが第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁よりも高い位置にあるため、サイホン排水管２０の横引き管２１を第１スラブ１の上面１ｆ₁に沿わせて配置するときも、居室部分では、第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁から貫通孔４ａまでの高さ分よりも小さい、第１スラブ１の上面１ｆから貫通孔４ａまでの高さ分だけ、サイホン排水管２０の横引き管２１を立ち上げさせて貫通孔４ａに通せばよい。すなわち、本実施形態では、居室部分が第２スラブのみからなる、従来の建築物構造のように、第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁からサイホン排水管２０の横引き管２１を壁４に沿って大きく立ち上げさせて貫通孔４ａに通す必要がない。これにより、本実施形態では、サイホン排水管２０の横引き管２１を第１スラブ１の上面１ｆに沿うように配置して、所望の高さの貫通孔４ａに通しても、排水性能を確保することができる。本発明の最も好適な実施形態は、本実施形態のように、サイホン排水管２０の横引き管２１が水平になるように設定されたものである。 In addition, as shown in FIG. 1, in the present embodiment, the upper surface 1f of the first slab 1 is located higher than the first upper surface 2f _{1 of} the second slab 2, so that the horizontal pipe of the siphon drain pipe 20 is drawn. Even when 21 is arranged along the upper surface 1f ₁ of the first slab 1, the first slab that is smaller than the height from the first upper surface 2f _{1 of} the second slab 2 to the through hole 4a in the living room portion The horizontal pulling pipe 21 of the siphon drainage pipe 20 may be raised by the height from the upper surface 1f of 1 to the through hole 4a and passed through the through hole 4a. That is, in the present embodiment, the horizontal drawing pipe 21 of the siphon drainage pipe 20 is connected to the wall 4 from the first upper surface 2f _{1 of} the second slab 2 like a conventional building structure in which the living room portion is composed of only the second slab. It is not necessary to make a large rise along the through hole and pass it through the through hole 4a. Thereby, in the present embodiment, the horizontal drain pipe 21 of the siphon drain pipe 20 is arranged along the upper surface 1f of the first slab 1 and the drainage performance is ensured even if it is passed through the through hole 4a having a desired height. can do. The most preferred embodiment of the present invention is one in which the horizontal pipe 21 of the siphon drainage pipe 20 is set to be horizontal as in the present embodiment.

さらに、本実施形態では、貫通孔４ａの中心軸Ｏの第１スラブ１の上面１ｆからの高さが、０ｍｍ以上とされている。すなわち、貫通孔４ａの中心軸Ｏが、第１スラブ１の上面１ｆの高さ以上の高さ位置にある。図３（ｃ）を参照して説明すると、貫通孔４ａの中心軸Ｏの第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁からの高さｈ₀（以下、「貫通孔中心高さｈ₀」ともいう）が、第１スラブ１の上面１ｆの第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁からの高さｈ₁（以下、「第１スラブ高さｈ₁」ともいう）以上（ｈ₀≧ｈ₁、すなわち、ｈ₀−ｈ₁≧０ｍｍ）となるように、貫通孔４ａが形成されている。この場合、壁４に形成した貫通孔４ａよりも下側に、壁部分をより十分に確保することができる。 Further, in the present embodiment, the height of the central axis O of the through hole 4a from the upper surface 1f of the first slab 1 is 0 mm or more. That is, the central axis O of the through hole 4a is at a height position equal to or higher than the height of the upper surface 1f of the first slab 1. To describe with reference to FIG. 3C, the height h ₀ of the central axis O of the through hole 4a from the _first upper surface 2f ₁ of the second slab 2 (hereinafter, also referred to as “through hole central height h ₀ ”). say) is, the height h ₁ of the first upper surface 2f ₁ of the second slab 2 of the first slab 1 of the upper surface 1f (hereinafter, also referred to as "first slab height h ₁ ') or (h ₀ ≧ h ₁ , that is, h ₀ −h ₁ ≧ ₀ mm), the through hole 4 a is formed. In this case, the wall portion can be more sufficiently secured below the through hole 4a formed in the wall 4.

さらに、第１スラブ１の上面１ｆに沿ってサイホン排水管２０の横引き管２１を配置する場合には、図３（ｃ）に示すように、壁４に形成される貫通孔４ａの下端は、第１スラブ１の上面１ｆの高さと同一となる高さ位置にある、すなわち、貫通孔下端高さｈ₄が第１スラブ高さｈ₁と同一である（ｈ₄＝ｈ₁）ことがより好ましい。これにより、図２に示すように、貫通孔４ａを通るサイホン排水管２０の横引き管２１は、第１スラブ１の上面１ｆとほぼ水平（好適には、水平）に無勾配で配設される。 Furthermore, when arranging the horizontal pipe 21 of the siphon drainage pipe 20 along the upper surface 1f of the first slab 1, as shown in FIG. 3C, the lower end of the through hole 4a formed in the wall 4 is , The height position of the upper surface 1f of the first slab 1 is the same, that is, the through hole lower end height h ₄ is the same as the first slab height h ₁ (h ₄ =h ₁ ). More preferable. Thereby, as shown in FIG. 2, the horizontal drawing pipe 21 of the siphon drainage pipe 20 passing through the through hole 4a is arranged substantially horizontally (preferably, horizontally) and without inclination to the upper surface 1f of the first slab 1. It

また、本発明は、貫通孔下端高さｈ₄が第１スラブ高さｈ₁を超えることを許容しているが、本実施形態では、貫通孔４ａの下端の第１スラブ１の上面１ｆからの高さが、５０ｍｍ以下とされている。すなわち、貫通孔下端高さｈ₄から第１スラブ高さｈ₁を減じた高さが５０ｍｍ以下（ｈ₄−ｈ₁≦５０ｍｍ）となるように、貫通孔４ａが形成されている。
この場合、効率的なサイホン排水能力を維持することができる。なお、本発明では、貫通孔４ａの下端が第１スラブ１の上面１ｆより下方（ｈ₄＜ｈ₁，ｈ₄−ｈ₁＜０）にあってもよい。 Further, although the present invention allows the height h ₄ of the lower end of the through hole to exceed the height h ₁ of the first slab, in the present embodiment, from the upper surface 1f of the first slab 1 at the lower end of the through hole 4a. Has a height of 50 mm or less. In other words, as through holes lower height height from h ₄ by subtracting the first slab height h ₁ is less than 50mm _{_{(h 4 -h 1 ≦ 50mm)}} , the through-hole 4a is formed.
In this case, the efficient siphon drainage capacity can be maintained. In the present invention, it may be in the lower end below the first upper surface 1f of the slab 1 of the through hole _{_{4a (h 4 <h 1,}} h 4 -h 1 <0).

このように、本実施形態に係る、新規の建築物構造によれば、サイホン排水管２０の横引き管（配管）２１の登り勾配を小さく抑えつつ、壁４に形成した貫通孔４ａよりも下側に一定の壁部分を確保することできる。 As described above, according to the new building structure according to the present embodiment, the climbing gradient of the horizontal draw pipe (pipe) 21 of the siphon drainage pipe 20 is suppressed to be smaller than that of the through hole 4a formed in the wall 4. It is possible to secure a certain wall portion on the side.

また、本実施形態に係る建築物構造では、図１に示すように、サイホン排水管２０の上流側に連設される水廻り器具３０の排水トラップ３１を、第１スラブ１の上面１ｆを上方から視た平面視で、第１スラブ１の上面１ｆの上方に配置している。この場合、居室内の第２スラブ２の領域（すなわち、図面右側の天井高ｈrで規定される空間領域）を壁４の側に極小化させて第１スラブ１の領域（すなわち、図面左側の天井高ｈrで規定される空間領域）を壁４の側に拡大することにより、当該居室内で天井高ｈrが落ち込む第２スラブ２の領域の拡大を抑制できる。これにより、図１に示すように、居室内では、階高Ｈそのものを高めなくとも、天井高ｈrの高い領域を広く確保することができる。 In addition, in the building structure according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the drain trap 31 of the water handling device 30 that is continuously provided on the upstream side of the siphon drain pipe 20 is located above the upper surface 1f of the first slab 1. It is arranged above the upper surface 1f of the first slab 1 in a plan view viewed from above. In this case, the area of the second slab 2 in the living room (that is, the space area defined by the ceiling height hr on the right side of the drawing) is minimized to the side of the wall 4 and the area of the first slab 1 (that is, the left side of the drawing). By expanding the space area defined by the ceiling height hr) to the wall 4 side, it is possible to suppress the expansion of the area of the second slab 2 in which the ceiling height hr drops in the living room. As a result, as shown in FIG. 1, it is possible to secure a wide area with a high ceiling height hr in the living room without increasing the floor height H itself.

また、本実施形態に係る建築物構造では、壁４は、壁４と向かい合う第１スラブ１の端３から間隔Ｄを置いて第２スラブ２の第１の上面２ｆ₁上に設置されている。この場合、壁４の両壁面の側に防水対策等のためのスペースを確保することができる。なお、間隔Ｄの値は、任意に定めることができるが、壁４の両壁面の側に防水対策等のためのスペースを確保することができる範囲で、小さく抑えることが好ましい。ただし、本発明によれば、図３（ｄ）に示す他の実施形態のように、壁４は、第１スラブ１の端３から間隔Ｄを置かずに（隙間Ｃを作らずに）、第１スラブ１の端３と接触させた状態で、第２スラブ２の上面２ｆ上に設置することも可能である。なお、本実施形態では、第２スラブ２の上面２ｆは、図１に示すような、段差を有しない平坦な面として形作られている。 Further, in the building structure according to the present embodiment, the wall 4 is installed on the first upper surface 2f _{1 of} the second slab 2 at a distance D from the end 3 of the first slab 1 facing the wall 4. .. In this case, it is possible to secure a space for waterproofing or the like on both wall surfaces of the wall 4. The value of the distance D can be arbitrarily set, but it is preferable to keep it small within a range where a space for waterproofing or the like can be secured on both wall surfaces of the wall 4. However, according to the present invention, as in the other embodiment shown in FIG. 3D, the wall 4 does not have a distance D from the end 3 of the first slab 1 (without making the gap C), It is also possible to place it on the upper surface 2f of the second slab 2 while being in contact with the end 3 of the first slab 1. In addition, in this embodiment, the upper surface 2f of the second slab 2 is formed as a flat surface having no step as shown in FIG.

また、本発明によれば、天井高ｈrは、サイホン排水管２０の位置に特化して高めることができる。例えば、図１の実施形態に係る建築物構造は、主としてバリアフリーを想定し、床材５に段差を設けることなく、床材５の上面を水平面として構成している。これに対し、図４は、本発明のさらに他の実施形態に係る建築物構造である。本実施形態は、床材５に段差を設けることを許容するものである。さらに詳細には、床材５の段差は、貯留槽３３の近傍に形成されている。この場合、サイホン排水管２０が配置される部分の床下ふところ（第１床下ふところＳ₁´）だけを、さらに小さく（低く）抑えることができる。 Further, according to the present invention, the ceiling height hr can be increased specifically for the position of the siphon drainage pipe 20. For example, the building structure according to the embodiment of FIG. 1 is mainly assumed to be barrier-free, and the upper surface of the floor material 5 is configured as a horizontal surface without providing a step on the floor material 5. On the other hand, FIG. 4 shows a building structure according to still another embodiment of the present invention. In this embodiment, the floor material 5 is allowed to have a step. More specifically, the step of the floor material 5 is formed near the storage tank 33. In this case, only the underfloor portion (the first underfloor portion S ₁ ′) where the siphon drainage pipe 20 is arranged can be further reduced (lowered).

上述したところは、本発明の幾つかの実施形態を例示したにすぎず、特許請求の範囲に従えば、様々な変更が可能となる。例えば、サイホン排水管２０（横引き管２１）は、少なくとも１本とすることができる。また、上記の各実施形態では、水廻り器具３０として、例えば、図５に例示する洗濯機３０ｂを適用することができる。また、上記の各実施形態では、排水トラップ３１は、水廻り器具３０と別体に構成していたが、図５の洗面台３０ｃ（水廻り器具３０）のように、当該水廻り器具３０の下端に一体に設けることができる。また上記の各実施形態では、サイホン排水管２０を貯留槽３３に連結させているが、貯留槽３３は省略することができる。さらに、上記の各実施形態では、サイホン排水管２０は、排水立て管１０に合流させているとして説明したが、サイホン排水管２０は、排水立て管１０に合流させることなく、サイホン排水能力が保持されるようにすることもできる。さらに、上記の各実施形態では、集合住宅で説明したが、一般建築など、様々な建築物に適用できる。また、上記の各実施形態に採用された個々の構成は、他の実施形態に対して適宜組み合わせて使用することができる。 The above description merely exemplifies some embodiments of the present invention, and various modifications can be made according to the claims. For example, the siphon drainage pipe 20 (horizontal draw pipe 21) can be at least one. Moreover, in each of the above-described embodiments, for example, a washing machine 30b illustrated in FIG. In addition, in each of the above-described embodiments, the drain trap 31 is configured separately from the water around device 30, but like the washbasin 30c (water around device 30) of FIG. It can be integrally provided at the lower end. Further, in each of the above embodiments, the siphon drain pipe 20 is connected to the storage tank 33, but the storage tank 33 can be omitted. Furthermore, in each of the above-described embodiments, the siphon drainage pipe 20 has been described as being joined to the drainage stack 10. However, the siphon drainage pipe 20 does not join the drainage stack 10 and maintains the siphon drainage capacity. It can also be done. Further, in each of the above-described embodiments, the description has been given of the housing complex, but the invention can be applied to various buildings such as general buildings. Further, the individual configurations adopted in each of the above-described embodiments can be appropriately combined and used in the other embodiments.

様々な建築物においても、本発明に係る新規の建築物構造における構成を適用してスラブ上に形成した壁に貫通孔を形成し当該貫通孔にサイホン排水管を通して前記壁に貫通させて配置することが可能である。 Even in various buildings, the structure of the novel building structure according to the present invention is applied to form a through hole in a wall formed on a slab, and the through hole is arranged through the siphon drain pipe to penetrate the wall. It is possible.

１第１スラブ
１ｆ第１スラブの上面
２第２スラブ
２ｆ第２スラブの上面
２ｆ₁ 第２スラブの上面
２ｆ₂ 第２スラブの上面
３第１スラブの端
４壁
４ａ貫通孔
５床材
６支持材
１０排水立て管
２０サイホン排水管
２０ａ一方の端部
２１横引き管（サイホン排水管（配管））
２２竪管（サイホン排水管）
３０水廻り器具
３１排水トラップ
３２接続管
３３貯留槽
Ｃ隙間
Ｄ間隔
Ｏ貫通孔の中心軸
Ｒ開口補強筋
Ｈ階高
ｈ₀ 貫通孔の中心軸の第２スラブの上面からの高さ（貫通孔中心高さ）
ｈ₁ 第１スラブの上面のから第２スラブの上面からの高さ（第１スラブ高さ）
ｈ₄ 貫通孔の下端のから第２スラブの上面からの高さ（貫通孔下端高さ）
ｈ_r 天井高
Ｓ₁ 第１床下ふところ
Ｓ₁ ´ 第１床下ふところ
Ｓ₂ 第２床下ふところ
1 1st slab 1f 1st slab upper surface 2 2nd slab 2f 2nd slab upper surface 2f ₁ 2nd slab upper surface 2f ₂ 2nd slab upper surface 3 1st slab end 4 wall 4a through hole 5 flooring 6 support Material 10 Drainage stack pipe 20 Siphon drain pipe 20a One end 21 Horizontal pull pipe (siphon drain pipe (piping))
22 Vertical pipe (siphon drain pipe)
30 Water Supply Equipment 31 Drain Trap 32 Connection Pipe 33 Storage Tank C Gap D Interval O Through Hole Central Axis R Opening Reinforcement H Floor Height h ₀ Height of Through Hole Central Axis Above the Second Slab (Through Hole Center height)
h ₁ Height from top surface of first slab to top surface of second slab (first slab height)
h ₄ Height from the lower end of the through hole to the upper surface of the second slab (lower end height of the through hole)
h _r Ceiling height S ₁ 1st underfloor S ₁ ′ 1st underfloor S ₂ 2nd underfloor

Claims

第１スラブと、
前記第１スラブの上面よりも低い位置に上面がある第２スラブと、
前記第２スラブの上面上に形成された壁と、
前記壁に形成された貫通孔を通して当該壁を貫通するサイホン排水管と、
を備え、
前記サイホン排水管の上流側に連設される水廻り器具の排水トラップが、前記第１スラブの上面の上方に設置されたことを特徴とする、建築物構造。 The first slab,
A second slab having an upper surface at a position lower than the upper surface of the first slab;
A wall formed on the upper surface of the second slab,
A siphon drainage pipe penetrating the wall through a through hole formed in the wall,
Equipped with
The building structure, wherein a drain trap of a water-surrounding device that is continuously provided upstream of the siphon drain pipe is installed above the upper surface of the first slab.

請求項１において、前記貫通孔の中心軸の前記第１スラブの上面からの高さが、０ｍｍ以上である、建築物構造。 The building structure according to claim 1, wherein a height of a central axis of the through hole from an upper surface of the first slab is 0 mm or more.

請求項１または２において、前記貫通孔の下端の前記第１スラブの上面からの高さが、５０ｍｍ以下である、建築物構造。 The building structure according to claim 1, wherein a height of a lower end of the through hole from an upper surface of the first slab is 50 mm or less.

請求項１乃至３のいずれか１項において、前記壁は、前記壁と向かい合う前記第１スラブの端から間隔を置いて前記第２スラブの上面上に設置されたものである、建築物構造。 The building structure according to any one of claims 1 to 3, wherein the wall is installed on an upper surface of the second slab at a distance from an end of the first slab facing the wall.

請求項１乃至４のいずれか１項において、前記第１スラブの上面上には、床材が配置されており、前記排水トラップは、前記床材よりも下方に配置されている、建築物構造。The building structure according to any one of claims 1 to 4, wherein a floor material is arranged on an upper surface of the first slab, and the drain trap is arranged below the floor material. ..