JP2019124117A - Building structure - Google Patents

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徹 若林
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勝之 久保
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空広 吉浜
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Abstract

To provide a building structure capable of securing a certain wall part on the side below a through-hole formed in a wall, while making an up-grade of piping small.SOLUTION: A building structure of the present invention includes: a top surface 1f of a first slab 1; a top surface 2f of a second slab 2 lower than the top surface 1f of the first slab; a wall 4 that is formed on the top surface 2f of the second slab; and a siphon drain pipe 20 that penetrates the wall 4a through the through-hole 4a formed in the wall 4. A height from the top surface 2f of the second slab at a lower end of the through-hole 4a is 30 mm or more.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、主に鉄筋コンクリート造等の集合住宅における建築物構造に関するものである。   The present invention relates mainly to a building structure in an apartment house such as a reinforced concrete structure.

主に鉄筋コンクリート造の集合住宅における従来の工法の一例として、図５に示すように、排水立て管１０を壁４により仕切られた居室（居住、執務、作業、集会、娯楽その他これらに類する目的のために継続的に使用する室をいう。以下同じ。）外に配置する工法が知られている。この工法では、水廻り器具３０ａ〜３０ｃからの排水をそれぞれ、排水立て管１０に排出させるため、配管の一部としての管体４０ａ〜４０ｃに勾配を設けるとともに当該管体４０ａ〜４０ｃをそれぞれ壁４に貫通させている。   As an example of the conventional construction method mainly in a reinforced concrete apartment house, as shown in FIG. In order to continuously use the room, the same method is applied to the outside. In this construction method, in order to drain the drainage water from the water pouring appliances 30a to 30c to the drainage stack pipe 10, gradients are provided to the pipes 40a to 40c as a part of piping, and the pipes 40a to 40c are respectively walled It is made to penetrate to 4.

また、水廻り器具の排水システムとしては、サイホン力を利用して排水を行うサイホン排水システムが知られている（例えば、特許文献１参照）。   Moreover, the siphon drainage system which drains using a siphon force as a drainage system of a water pouring implement is known (for example, refer patent document 1).

特開２００７−３１５０３６号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-315036

サイホン排水システムは、スラブの上面に対して、ほぼ勾配なく小口径で排水が可能なサイホン排水管を配置することができる。このため、階高を下げたり、居室内の高さ方向の空間を広げる場合に有効である。   The siphon drainage system can arrange a siphon drainage pipe which can be drained with a small diameter and a small diameter almost without inclination to the upper surface of the slab. For this reason, it is effective when lowering the floor height or expanding the space in the height direction of the living room.

しかしながら、図５に示す、従来の建築物構造に採用した場合、管体４０ａと同様、サイホン排水管の一部を、壁４に形成した貫通孔（横孔）４ａ´に貫通させる必要があり、この場合、以下のような問題がある。   However, when it is adopted to the conventional building structure shown in FIG. 5, it is necessary to make a part of siphon drainage pipe penetrate in the through-hole (lateral hole) 4a 'formed in the wall 4 like the tubular body 40a. In this case, there are the following problems.

例えば、図６に示すように、居室部分と居室外部分とを壁４で仕切る場合、壁４を挟んで居室部分と反対側の居室外部分の側が屋外となるため、スラブ５０の上面に防水対策（ウレタンによる防水等）を施し、壁４の側面に沿って防水対策部分６０の端部６０ａを立ち上げる必要がある。この場合、壁４に形成される貫通孔４ａ´は、防水対策部分６０と干渉しないよう、防水対策部分６０の端部６０ａよりも高い位置に形成する必要がある。   For example, as shown in FIG. 6, when the living room part and the living room outside part are partitioned by the wall 4, the side of the living room outside the living room part opposite to the living room part across the wall 4 becomes outdoor. It is necessary to take measures (waterproofing with urethane, etc.) and to raise the end 60 a of the water proofing part 60 along the side of the wall 4. In this case, the through hole 4 a ′ formed in the wall 4 needs to be formed at a position higher than the end 60 a of the waterproofing portion 60 so as not to interfere with the waterproofing portion 60.

また、壁４が所謂従来のＲＣ壁の場合、壁４の貫通孔４ａ´周りに開口補強筋を入れて当該壁４を補強する必要がある場合がある。この場合、壁４の貫通孔４ａ´よりも下側の壁部分に開口補強筋を入れるスペースを確保するため、貫通孔４ａ´をスラブ５０の上面５０ｆから高い位置に形成する必要がある。また、壁４がＡＬＣ等のＰＣ壁である場合、当該壁４をスラブ５０に対して固定する必要があるので、壁４の貫通孔４ａ´よりも下側の壁部分に固定具を取り付けるためのスペースを確保する必要がある。この場合も、貫通孔４ａ´を固定具よりも高い位置に形成する必要がある。   When the wall 4 is a so-called conventional RC wall, it may be necessary to reinforce the wall 4 by inserting an opening reinforcing bar around the through hole 4 a ′ of the wall 4. In this case, it is necessary to form the through hole 4a 'at a position higher than the upper surface 50f of the slab 50 in order to secure a space for inserting the opening reinforcing bar in the wall portion below the through hole 4a' of the wall 4. Also, in the case where the wall 4 is a PC wall such as ALC, the wall 4 needs to be fixed to the slab 50, so that the fixing tool is attached to the wall portion below the through hole 4a 'of the wall 4. It is necessary to secure a space for Also in this case, it is necessary to form through-hole 4a 'in a position higher than a fixing tool.

ところが、上記のように、貫通孔をスラブ５０の上面５０ｆから高い位置に形成した場合、配管の一部が登り勾配となり、サイホン排水能力が悪化するという問題があった。   However, as described above, when the through holes are formed at a high position from the upper surface 50f of the slab 50, there is a problem that a part of the piping becomes an upward slope and the siphon drainage capacity is deteriorated.

本発明の課題は、配管の登り勾配を小さく抑えつつ、壁に形成した貫通孔よりも下側に一定の壁部分を確保することが可能な、新規の建築物構造を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a novel building structure capable of securing a constant wall portion below a through hole formed in a wall while suppressing the slope of the piping to a low level.

本発明に係る建築物構造は、第１スラブと、前記第１スラブの上面よりも低い位置に上面がある第２スラブと、前記第２スラブの上面上に形成された壁と、前記壁に形成された貫通孔を通して当該壁を貫通するサイホン排水管とを備え、
前記貫通孔の下端の前記第２スラブの上面からの高さが、３０ｍｍ以上であることを特徴とする。
本発明に係る建築物構造によれば、壁に形成した貫通孔よりも下側に一定の壁部分を確保しつつ、配管の登り勾配を小さく抑えることが可能となる。 The building structure according to the present invention comprises a first slab, a second slab having an upper surface at a position lower than the upper surface of the first slab, a wall formed on the upper surface of the second slab, and the wall And a siphon drain pipe penetrating the wall through the formed through hole;
The height of the lower end of the through hole from the upper surface of the second slab is 30 mm or more.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the building structure which concerns on this invention, it becomes possible to hold down the uphill inclination of piping small, ensuring a fixed wall part below the through-hole formed in the wall.

本発明に係る建築物構造は、前記貫通孔の中心軸の前記第１スラブの上面からの高さが、０ｍｍ以上であることが好ましい。
この場合、壁に形成した貫通孔よりも下側に、壁部分をより十分に確保することができる。 In the building structure according to the present invention, the height of the central axis of the through hole from the top surface of the first slab is preferably 0 mm or more.
In this case, the wall portion can be secured more sufficiently below the through hole formed in the wall.

本発明に係る建築物構造は、前記貫通孔の下端の前記第１スラブの上面からの高さが、５０ｍｍ以下であることが好ましい。
この場合、配管の登り勾配を小さく抑えることができる。 In the building structure according to the present invention, the height of the lower end of the through hole from the top surface of the first slab is preferably 50 mm or less.
In this case, the upslope of the pipe can be reduced.

本発明に係る建築物構造では、前記サイホン排水管の上流側に連設される水廻り器具の排水トラップが、前記第１スラブの上面を上方から視た平面視で、前記第１スラブの上面の上方に設置されることが好ましい。
この場合、居室内の第２スラブの領域を極小化させて第１スラブの領域を拡大することにより、当該居室内で天井高が落ち込む第２スラブの領域の拡大を抑制できる。なお、本発明において、「サイホン排水管の上流側に連設される水廻り器具の排水トラップ」という意味には、排水トラップがサイホン排水管の上流側で直結されている場合は勿論、排水トラップとサイホン排水管との間に貯留槽などの他の部材を介在させている場合も含まれる。 In the building structure according to the present invention, the drainage trap of the watering device continuously provided on the upstream side of the siphon drainage pipe is the upper surface of the first slab in a plan view when the upper surface of the first slab is viewed from above It is preferable to be installed above the
In this case, by minimizing the area of the second slab in the living room and expanding the area of the first slab, it is possible to suppress the expansion of the area of the second slab in which the ceiling height drops in the living room. In the present invention, in the meaning of "the drainage trap for watering equipment connected to the upstream side of the siphon drainage pipe", it is needless to say that the drainage trap is directly connected on the upstream side of the siphon drainage pipe. Also included is the case where another member such as a reservoir is interposed between the and the siphon drainage pipe.

本発明に係る建築物構造では、前記壁は、前記壁と向かい合う前記第１スラブの端から間隔を置いて前記第２スラブの上面上に設置されたものであることが好ましい。
この場合、例えばＲＣ壁の場合に開口補強筋を入れやすくなり、ＡＬＣ等のＰＣ壁の場合は前記壁の両壁面の側に壁の固定具を固定するためのスペースを確保することができる。 In the building structure according to the present invention, preferably, the wall is installed on the upper surface of the second slab at a distance from an end of the first slab facing the wall.
In this case, for example, in the case of an RC wall, an opening reinforcing bar can be easily inserted, and in the case of a PC wall such as ALC, a space for fixing a wall fixing tool can be secured on both wall surfaces of the wall.

本発明によれば、配管の登り勾配を小さく抑えつつ、壁に形成した貫通孔よりも下側に一定の壁部分を確保することができる、新規の建築物構造を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a novel building structure capable of securing a constant wall portion below the through hole formed in the wall while suppressing the upward slope of the pipe.

本発明の一実施形態に係る建築物構造を、一部断面として模式的に示す図である。It is a figure showing typically the building structure concerning one embodiment of the present invention as a partial section. 図１の要部拡大図である。It is a principal part enlarged view of FIG. （ａ）は、第２スラブ上に設置された壁の貫通孔付近を、第２スラブを断面とした状態で、その壁面の側から模式的に示した図であり、（ｂ）は（ａ）のＩ−Ｉ断面を、一部側面図で示した図であり、（ｃ）は、第２スラブ上に設置された壁の貫通孔と第１スラブの上面との関係を模式的に示す断面図であり、（ｄ）は、本発明の他の実施形態に係る建築物構造に採用される、第１および第２スラブと壁とを模式的に示す断面図である。(A) is the figure which showed typically the through-hole vicinity of the wall installed on the 2nd slab from the side of the wall surface in the state which made the 2nd slab the cross section, and (b) is (a) Fig. 7C is a partial side view showing the I-I cross section of Fig. 7C, and Fig. 7C schematically shows the relationship between the through hole of the wall installed on the second slab and the upper surface of the first slab. It is sectional drawing and (d) is sectional drawing which shows typically the 1st and 2nd slab and wall which are employ | adopted as the building structure which concerns on other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施形態に係る建築物構造を、一部断面として示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the building structure which concerns on other embodiment of this invention as a partial cross section. 従来のＳＩ型マンションに係る建築物構造を、一部断面として示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the building structure which concerns on the conventional SI type | mold apartment as a partial cross section. 壁が起立するスラブの上面に施された防水対策を例示的に示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing an example of the waterproofing measures given to the upper surface of the slab where a wall stands up.

以下、図面を参照して、本発明の様々な実施形態に係る建築物構造を詳細に説明する。なお、以下の説明において、上下方向（鉛直方向）とは重力方向を意味し、図面上下方向を示す。すなわち、図面上側から下側に向かう方向が物体に働く重力の方向となる。また、水平方向とは、上下方向に対して直交する方向を意味する。   In the following, building structures according to various embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the vertical direction (vertical direction) means the direction of gravity and indicates the vertical direction in the drawing. That is, the direction from the upper side to the lower side in the drawing is the direction of gravity acting on the object. Further, the horizontal direction means a direction orthogonal to the vertical direction.

図１に示す実施形態に係る建築物構造は、主として複数階で構成された集合住宅等の建築物などの配管システムに採用される。以下、サイホン力を使用して、集合住宅の各階の排水を下方に流すサイホン排水配管システムを例に、本実施形態を説明する。   The building structure which concerns on embodiment shown in FIG. 1 is employ | adopted as piping systems, such as buildings, such as an apartment house mainly comprised by the several floor. Hereinafter, the present embodiment will be described by taking a siphon drainage piping system which drains drainage of each floor of an apartment house downward using a siphon force as an example.

図１に示すように、本実施形態に係る建築物構造では、スラブは２つの部分で構成されている。符号１は、第１スラブであり、符号２は、第２スラブである。第２スラブ２は、第１スラブ１の上面１ｆよりも低い位置、すなわち、下方にある、第１の上面２ｆ1 と、第１スラブ１の上面１ｆと同一の高さにある、第２の上面２ｆ2 と、を有している。本実施形態では、第１スラブ１の上面１ｆおよび第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 ならびに第２の上面２ｆ2 は、それぞれ、水平方向に伸びる平坦な水平面で構成されている。すなわち、第１スラブ１の上面１ｆと第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 および第２の上面２ｆ2とは平行に配置されている。さらに本実施形態では、第１スラブ１の一方の端３（以下、「第１スラブ１の端３」ともいう）が第２スラブ２との間に段差を形成している。本実施形態では、第１スラブ１の端３は、鉛直方向に延在している。なお、本実施形態では、第１スラブ１および第２スラブ２は一体に形成されている。 As shown in FIG. 1, in the building structure according to the present embodiment, the slab is composed of two parts. Reference numeral 1 is a first slab, and reference numeral 2 is a second slab. The second slab 2 is located at a position lower than the upper surface 1 f of the first slab 1, that is, at the same height as the first upper surface 2 f 1 and the upper surface 1 f of the first slab 1. It has an upper surface 2f 2, a. In the present embodiment, the upper surface 1 f of the first slab 1 and the first upper surface 2 f 1 and the second upper surface 2 f 2 of the second slab 2 are respectively constituted by flat horizontal surfaces extending in the horizontal direction. That is, a first upper surface 1f of the slab 1 and the first upper surface 2f 1 and the second upper surface 2f 2 of the second slab 2 are arranged in parallel. Furthermore, in the present embodiment, one end 3 of the first slab 1 (hereinafter, also referred to as “the end 3 of the first slab 1”) forms a step with the second slab 2. In the present embodiment, the end 3 of the first slab 1 extends in the vertical direction. In the present embodiment, the first slab 1 and the second slab 2 are integrally formed.

符号４は、第２スラブ２上に設置された壁である。本実施形態では、壁４は、第２スラブ１の第１の上面２ｆ1 から起立するＲＣ壁である。壁４は、第１スラブ１の側を住居等の居室部分として区画する一方、壁４を挟んで居室部分と反対の側の第２スラブ２の側を共用廊下等の居室外部分として区画している。本実施形態では、居室部分には床材５が配置されており、当該居室部分が二重床として構成されている。本実施形態では、床材５は、緩衝材や支持ボルト等の支持材６を介して、第１スラブ１の上面１ｆ上に配置されている。これにより、本実施形態では、床材５の下方に形成される床下ふところは、床材５と第１スラブ１との間に形成された第１床下ふところＳ1と、床材５と第２スラブ２との間に形成された第２床下ふところＳ2からなる。 Reference numeral 4 is a wall installed on the second slab 2. In the present embodiment, the wall 4 is an RC wall standing up from the first upper surface 2 f 1 of the second slab 1. The wall 4 divides the side of the first slab 1 as a living room portion such as a residence, while dividing the side of the second slab 2 opposite to the living room portion across the wall 4 as a living room portion such as a shared corridor ing. In the present embodiment, the floor material 5 is disposed in the living room portion, and the living room portion is configured as a double floor. In the present embodiment, the floor material 5 is disposed on the upper surface 1 f of the first slab 1 via the support material 6 such as a shock absorbing material or a support bolt. Thus, in the present embodiment, the underfloor space formed below the floor material 5 is a first floor space S 1 formed between the floor material 5 and the first slab 1, and the floor materials 5 and 2 and a second underfloor bosom S 2 formed between the slab 2.

壁４には、貫通孔４ａが形成されている。本実施形態では、壁４に形成された貫通孔４ａは、第２スラブ２の上面２ｆ1 の上方に、無勾配で、ほぼ水平（好適には、水平）に形成されている。また、本実施形態では、壁４は、当該壁４と向かい合う第１スラブ１の端３から間隔Ｄを置いて、すなわち、壁４の第１スラブ１の側の壁面と当該壁４と対向する位置に配置された第１スラブ１の端３との間に間隔Ｄが置かれて、第２スラブ２の上面２ｆ1 上に設置されており、鉛直方向に延在している。これにより、図１および図２に示すように、第１スラブ１の端３と壁４との間には、隙間Ｃが形成される。なお、壁４に形成された貫通孔４ａは、本実施形態のように、水平に形成されたものに限定されるものではなく、水平でなくともよい。また、本実施形態では、壁４は、ＲＣ壁として説明したが、予め工場生産された壁を現場に搬入してスラブ等に連結する、いわゆるＰＣ壁であってもよい。 A through hole 4 a is formed in the wall 4. In the present embodiment, the through holes 4 a formed in the wall 4 are formed in an inclined and substantially horizontal (preferably horizontal) manner above the upper surface 2 f 1 of the second slab 2. Further, in the present embodiment, the wall 4 is spaced from the end 3 of the first slab 1 facing the wall 4 at a distance D, that is, facing the wall 4 on the side of the first slab 1 and the wall 4 A space D is placed between the end 3 of the first slab 1 placed in the position, and is disposed on the upper surface 2f 1 of the second slab 2 and extends in the vertical direction. Thereby, as shown in FIG. 1 and FIG. 2, a gap C is formed between the end 3 of the first slab 1 and the wall 4. The through holes 4a formed in the wall 4 are not limited to those formed horizontally as in the present embodiment, and may not be horizontal. Further, in the present embodiment, the wall 4 has been described as an RC wall, but it may be a so-called PC wall in which a wall manufactured in advance in a factory is carried into the site and connected to a slab or the like.

第１スラブ１および第２スラブ２は、集合住宅の各階を上下に区画する床スラブを構成している。本実施形態では、第２スラブ２には、第２スラブ２を上下に貫通する貫通孔２ａ、２ｂが形成されている。   The 1st slab 1 and the 2nd slab 2 comprise the floor slab which divides each floor of collective housing up and down. In the present embodiment, the second slab 2 is formed with through holes 2a and 2b penetrating the second slab 2 up and down.

符号１０は、排水を下方に流す排水立て管である。排水立て管１０は、第２スラブ２に形成された貫通孔２ａを通って、集合住宅の各階の第２スラブ２を貫通している。なお、本実施形態では、排水立て管１０を配置した貫通孔２ａの内側はモルタルＭ等で封止されている。また、本実施形態では、壁４と、第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 と第２の上面２ｆ2 との間に形成された段差との間には窪みが形成されており、この窪みはモルタルＭ等で埋め戻されている。より具体的には、モルタルＭ等で埋め戻された部分の上面は、メータボックスＭＢ等が配置される空間の床面を構成し、第２スラブ２の第１の上面２ｆ2 は共用廊下の床面を構成している。モルタルＭ等で埋め戻された部分の上面は、第２スラブ２の第２の上面２ｆ2 と同一の面とし、または、第２スラブ２の第２の上面２ｆ2 よりも高くすることができる。この場合、モルタルＭ等で埋め戻された部分の上面に水溜りが生じることを抑制できる。さらに、モルタルＭ等で埋め戻された部分において、モルタルＭと第２スラブを貫通する貫通孔（図示せず）を設けることで、水溜りの発生を更に抑制することが出来る。
なお、窪みはモルタルＭ等によって埋め戻されなくてもよく、その場合は第２スラブを貫通する貫通孔（図示せず）を設けることで雨水等が窪みに溜まる水溜りの発生を抑制することが出来る。 The code | symbol 10 is a drainage stack | pipe which pours a drainage down. The drainage stack pipe 10 penetrates the second slab 2 of each floor of the collective housing through a through hole 2 a formed in the second slab 2. In the present embodiment, the inside of the through hole 2a in which the drainage pipe 10 is disposed is sealed with a mortar M or the like. Further, in the present embodiment, the wall 4, are depressions formed between the step formed between the first top surface 2f 1 of the second slab 2 and the second upper surface 2f 2, the The hollow is backfilled with mortar M or the like. More specifically, the upper surface of the portion backfilled with mortar M or the like constitutes the floor surface of the space where the meter box MB or the like is disposed, and the first upper surface 2f2 of the second slab 2 is of the common corridor. It constitutes the floor. The upper surface of the backfilled part mortar M or the like, can be a second second upper surface 2f 2 and the same surface of the slab 2, or higher than the second upper surface 2f 2 of the second slab 2 . In this case, it is possible to suppress the formation of a water pool on the upper surface of the portion backfilled with mortar M or the like. Further, by providing a through hole (not shown) which penetrates the mortar M and the second slab in a portion backfilled with the mortar M or the like, the generation of a water pool can be further suppressed.
The hollow may not be backfilled with mortar M or the like, in which case a penetration hole (not shown) passing through the second slab may be provided to suppress the generation of a water pool where rainwater etc. is collected in the hollow. Can do.

図１中、符号２０は、その一部が壁４に形成された貫通孔４ａを通して当該壁４ａを貫通するサイホン排水管である。本実施形態では、サイホン排水管２０は、横引き管２１および竪管２２で形成されている。また、符号３０は、洗面台や浴室（ユニットバス）等の水廻り器具である。本実施形態では、図１に示すように、水廻り器具３０は、例示的に、浴室（ユニットバス）３０ａである。水廻り器具３０は、その直下に悪臭や害虫などの進入を防止するための排水トラップ３１を有している。本実施形態では、排水トラップ３１は、床材５よりも下方の、水廻り器具３０の下端に配置されている。また、本実施形態では、排水トラップ３１は、第１スラブ１の上面１ｆを上方から視た平面視で、第１スラブ１の上面１ｆの上方に配置されている。好適には、壁４と当該壁４と向かい合う第１スラブ１の端３との間、すなわち、壁４の第１スラブ１の側の壁面と当該壁４と対向する位置に配置された第１スラブ１の端３との間の間隔Ｄを、壁４と水廻り器具３０との間、すなわち、壁４の第１スラブ１の側の壁面と当該壁４と向かい合う水廻り器具３０の壁４の側の端との間の間隔よりも短くなるように配置する。本実施形態では、水廻り器具３０も含め、浴室全体が第１スラブ１の上方に配置されている。   In FIG. 1, reference numeral 20 denotes a siphon drain pipe which penetrates the wall 4 a through a through hole 4 a a part of which is formed in the wall 4. In the present embodiment, the siphon drainage pipe 20 is formed by the cross-pulling pipe 21 and the bushing 22. Moreover, the code | symbol 30 is a watering apparatus, such as a washbasin and a bathroom (unit bath). In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the water bathing device 30 is illustratively a bathroom (unit bath) 30a. The watering device 30 has a drainage trap 31 immediately below it to prevent the entry of odors and pests. In the present embodiment, the drainage trap 31 is disposed at the lower end of the watering device 30 below the floor material 5. Further, in the present embodiment, the drainage trap 31 is disposed above the upper surface 1 f of the first slab 1 in a plan view when the upper surface 1 f of the first slab 1 is viewed from above. Preferably, the first wall 1 is disposed between the wall 4 and the end 3 of the first slab 1 facing the wall 4, that is, a wall facing the first slab 1 of the wall 4 and a position facing the wall 4 The distance D between the end 3 of the slab 1 and the wall 4 of the wall 4 facing the wall 4 and between the wall 4 and the wall 30 on the first slab 1 side of the wall 4 Arrange so as to be shorter than the distance between the end of the In the present embodiment, the entire bathroom including the watering device 30 is disposed above the first slab 1.

排水トラップ３１は、水で通路を遮断する水封式、逆止弁等を用いた自封式その他様々なものを採用することができる。また、排水トラップ３１は、接続管３２を介して貯留槽３３に連通する。図１に示すように、サイホン排水管２０の一方の端部（横引き管２１の端部）２０ａは、貯留槽３３に連設されている。すなわち、本実施形態では、排水トラップ３１を有する水廻り器具３０は、貯留槽３３および接続管３２を介して、サイホン排水管２０の上流側に間接的に連設されている。そして、サイホン排水管２０の他方の端部（竪管２２の端部）は、排水立て管１０に連設されている（ここでは、図示省略）。   The drainage trap 31 can adopt a water seal type that shuts off the passage with water, a self-sealing type that uses a check valve or the like, and various other types. Further, the drainage trap 31 communicates with the storage tank 33 via the connection pipe 32. As shown in FIG. 1, one end (end of the horizontal pulling pipe 21) 20 a of the siphon drainage pipe 20 is continuously provided to the storage tank 33. That is, in the present embodiment, the water circulation device 30 having the drainage trap 31 is indirectly connected to the upstream side of the siphon drainage pipe 20 via the storage tank 33 and the connection pipe 32. The other end of the siphon drainage pipe 20 (the end of the bushing 22) is connected to the drainage pipe 10 (not shown here).

上述のとおり、本実施形態では、サイホン排水管２０は、貯留槽３３に繋がる横引き管２１を有する。横引き管２１は、壁４に形成された貫通孔４ａを通して、第１床下ふところＳ1内および第２床下ふところＳ2内（床下空間）の第１スラブ１の上面１ｆを、当該第１スラブ１の上面１ｆに沿って配置されている。横引き管２１は、図２に示すように、第１スラブ１の上面１ｆ上を無勾配で水平に配設されている。さらに、本実施形態では、横引き管２１に繋がる竪管２２は、第２スラブ２に形成された貫通孔２ｂを通して上下方向に貫通している。本実施形態では、竪管２２は、排水立て管１０に連設されている（ここでは、図示省略）。すなわち、竪管２２は、横引き管２１よりも低い位置で排水立て管１０と合流している。サイホン排水管２０は、サイホン排水管２０内の流通が確保されるものであれば、複数の管体を組み付けて構成されたものでも、１つの管体として構成されたものでもよい。 As described above, in the present embodiment, the siphon drain pipe 20 has the horizontal pull pipe 21 connected to the storage tank 33. Lateral pulling tube 21, through the through-hole 4a formed in the wall 4, the first upper surface 1f of the slab 1 in the first floor in the bosom S 1 and the second underfloor bosom S within 2 (underfloor space), the first slab It is disposed along the upper surface 1 f of 1. As shown in FIG. 2, the horizontal pulling pipe 21 is disposed horizontally on the upper surface 1 f of the first slab 1 without a slope. Furthermore, in the present embodiment, the bushing 22 connected to the traverse tube 21 penetrates in the vertical direction through the through hole 2 b formed in the second slab 2. In the present embodiment, the bushing 22 is connected to the drainage pipe 10 (not shown here). That is, the suction pipe 22 joins with the drainage pipe 10 at a position lower than the horizontal pulling pipe 21. The siphon drain pipe 20 may be one configured by assembling a plurality of pipes or may be configured as one pipe as long as the flow in the siphon drain pipe 20 is secured.

貫通孔４ａは、１つの貫通孔４ａに１つの横引き管２１を配置する構成とすることができるが、後述するように、１つの貫通孔４ａに複数の横引き管２１を配置する構成とすることもできる。さらに、壁４に複数の貫通孔４ａを形成し、そのうち少なくとも１つの貫通孔４ａに１つの横引き管２１を配置し、他の少なくとも１つの貫通孔４ａに複数の横引き管２１を配置する構成とすることができる。本実施形態では一例として、図３（ａ）に示すように、貫通孔４ａは、壁４の壁面の側から見た外観形状が長方形状の開口部として形成されている。これにより、貫通孔４ａには、複数（本実施形態では、例示的に４本）のサイホン排水管２０の横引き管２１を貫通させることができる。   The through hole 4a can be configured such that one transverse pulling pipe 21 is disposed in one through hole 4a, but as will be described later, a configuration in which a plurality of transverse pulling pipes 21 are disposed in one through hole 4a You can also Furthermore, a plurality of through holes 4 a are formed in the wall 4, one horizontal pulling pipe 21 is disposed in at least one of the through holes 4 a, and a plurality of horizontal pulling pipes 21 is disposed in the other at least one through hole 4 a. It can be configured. As an example in this embodiment, as shown to Fig.3 (a), the through-hole 4a is formed as a rectangular-shaped opening part in the external shape seen from the side of the wall surface of the wall 4. As shown in FIG. As a result, through holes 4 a can be made to penetrate a plurality of (in this embodiment, four by way of example in this embodiment) horizontal pull pipes 21 of the siphon drain pipe 20.

本実施形態では、貫通孔４ａの下端の第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 からの高さｈ4（以下、「貫通孔下端高さｈ4」ともいう）が、３０ｍｍ以上（ｈ4≧３０ｍｍ）とされている。
この場合、第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 と壁４の下端面との接続面に対して防水対策を施すときに、貫通孔４ａの直下の壁４の壁面および第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 に、当該貫通孔４ａと干渉させることなく、例えば、ウレタン樹脂等の防水材料を塗布することができる。さらに、貫通孔下端高さｈ4を３０ｍｍ以上とすれば、壁４を第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 に取り付けるとき、貫通孔４ａの直下の壁４の壁面および第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 に、当該貫通孔４ａと干渉させることなく、固定具(図示省略)を配置することができる。また、貫通孔下端高さｈ4を３０ｍｍ以上とすれば、壁４がＲＣ壁であって、貫通孔４ａの周りを補強する必要がある場合、例えば、図３（ａ）、（ｂ）に示すように、壁４の貫通孔４ａ周りに、開口補強筋Ｒを入れて当該壁４の貫通孔４ａ周辺を部分的に補強することができる。 In the present embodiment, the height h 4 of the lower end of the through hole 4 a from the first upper surface 2 f 1 of the second slab 2 (hereinafter also referred to as “through hole lower end height h 4 ”) is 30 mm or more (h 4) ≧ 30 mm).
In this case, when waterproofing is applied to the connection surface between the first upper surface 2f1 of the second slab 2 and the lower end face of the wall 4, the wall surface of the wall 4 directly below the through hole 4a and the second slab 2 the first upper surface 2f 1, without interfering with the through-hole 4a, for example, can be coated with a waterproofing material such as a urethane resin. Furthermore, when the through hole lower end height h 4 is 30 mm or more, when the wall 4 is attached to the first upper surface 2 f 1 of the second slab 2, the wall surface of the wall 4 directly below the through hole 4 a and the second slab 2 the first upper surface 2f 1, without interfering with the through-hole 4a, it is possible to place a fixture (not shown). When the height h 4 of the through hole lower end is 30 mm or more, the wall 4 is an RC wall, and it is necessary to reinforce the periphery of the through hole 4 a, for example, as shown in FIGS. As shown, an opening reinforcing bar R can be inserted around the through hole 4 a of the wall 4 to partially reinforce the periphery of the through hole 4 a of the wall 4.

加えて、本実施形態では、図３（ｃ）に示すように、第１スラブ１の端３と壁４との間には隙間Ｃが形成されているため、居室部分の隙間Ｃ（第２床下ふところＳ2）の側からも、居室外部分（壁４を挟んで隙間Ｃと反対）の側からも、防水対策等の作業を行うことができる。 In addition, in the present embodiment, as shown in FIG. 3C, since the gap C is formed between the end 3 of the first slab 1 and the wall 4, the gap C of the living room portion (second Work such as waterproofing can be performed also from the underfloor area S 2 ) side and also from the side of the outdoor room portion (opposite to the gap C across the wall 4).

加えて、図１に示すように、本実施形態では、第１スラブ１の上面１ｆが第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 よりも高い位置にあるため、サイホン排水管２０の横引き管２１を第１スラブ１の上面１ｆ1 に沿わせて配置するときも、居室部分では、第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 から貫通孔４ａまでの高さ分よりも小さい、第１スラブ１の上面１ｆから貫通孔４ａまでの高さ分だけ、サイホン排水管２０の横引き管２１を立ち上げさせて貫通孔４ａに通せばよい。すなわち、本実施形態では、居室部分が第２スラブのみからなる、従来の建築物構造のように、第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 からサイホン排水管２０の横引き管２１を壁４に沿って大きく立ち上げさせて貫通孔４ａに通す必要がない。これにより、本実施形態では、サイホン排水管２０の横引き管２１を第１スラブ１の上面１ｆに沿うように配置して、所望の高さの貫通孔４ａに通しても、排水性能を確保することができる。本発明の最も好適な実施形態は、本実施形態のように、サイホン排水管２０の横引き管２１が水平になるように設定されたものである。 In addition, as shown in FIG. 1, in the present embodiment, the upper surface 1 f of the first slab 1 is at a position higher than the first upper surface 2 f 1 of the second slab 2. Also when arranging 21 along the upper surface 1 f 1 of the first slab 1, the first slab is smaller than the height from the first upper surface 2 f 1 of the second slab 2 to the through hole 4 a in the living room portion The horizontal pull pipe 21 of the siphon drain pipe 20 may be raised and passed through the through hole 4 a by the height from the upper surface 1 f of 1 to the through hole 4 a. That is, in the present embodiment, the side pull pipe 21 of the siphon drain pipe 20 is wall 4 from the first upper surface 2 f 1 of the second slab 2 as in the conventional building structure in which the living room portion is only the second slab. It is not necessary to make it rise up along with and pass through the through hole 4a. Thereby, in the present embodiment, the horizontal drawing pipe 21 of the siphon drainage pipe 20 is disposed along the upper surface 1 f of the first slab 1 and drainage performance is ensured even though it passes through the through hole 4 a of a desired height. can do. The most preferable embodiment of the present invention is, as in the present embodiment, set so that the horizontal pulling pipe 21 of the siphon drain pipe 20 is horizontal.

さらに、本実施形態では、貫通孔４ａの中心軸Ｏの第１スラブ１の上面１ｆからの高さが、０ｍｍ以上とされている。すなわち、貫通孔４ａの中心軸Ｏが、第１スラブ１の上面１ｆの高さ以上の高さ位置にある。図３（ｃ）を参照して説明すると、貫通孔４ａの中心軸Ｏの第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 からの高さｈ0（以下、「貫通孔中心高さｈ0」ともいう）が、第１スラブ１の上面１ｆの第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 からの高さｈ1（以下、「第１スラブ高さｈ1」ともいう）以上（ｈ0≧ｈ1、すなわち、ｈ0−ｈ1≧０ｍｍ）となるように、貫通孔４ａが形成されている。この場合、壁４に形成した貫通孔４ａよりも下側に、壁部分をより十分に確保することができる。 Furthermore, in the present embodiment, the height from the upper surface 1 f of the first slab 1 of the central axis O of the through hole 4 a is 0 mm or more. That is, the central axis O of the through hole 4 a is at a height position higher than the height of the upper surface 1 f of the first slab 1. Figure 3 Referring to (c), the height h 0 from the central axis first top 2f 1 of the second slab 2 of O of the through hole 4a (hereinafter, both "through-hole center height h 0" Height h 1 (hereinafter, also referred to as “first slab height h 1 ”) or more (h 0 hh), although the height h 1 of the top surface 1 f of the first slab 1 from the first top surface 2 f 1 of the second slab 2 1, i.e., so that the h 0 -h 1 ≧ 0mm), the through-hole 4a is formed. In this case, the wall portion can be secured more sufficiently below the through hole 4 a formed in the wall 4.

さらに、第１スラブ１の上面１ｆに沿ってサイホン排水管２０の横引き管２１を配置する場合には、図３（ｃ）に示すように、壁４に形成される貫通孔４ａの下端は、第１スラブ１の上面１ｆの高さと同一となる高さ位置にある、すなわち、貫通孔下端高さｈ4が第１スラブ高さｈ1と同一である（ｈ4＝ｈ1）ことがより好ましい。これにより、図２に示すように、貫通孔４ａを通るサイホン排水管２０の横引き管２１は、第１スラブ１の上面１ｆとほぼ水平（好適には、水平）に無勾配で配設される。 Furthermore, in the case of arranging the horizontal pull pipe 21 of the siphon drain pipe 20 along the upper surface 1 f of the first slab 1, the lower end of the through hole 4 a formed in the wall 4 is, as shown in FIG. , And the lower end height h 4 of the through hole is equal to the first slab height h 1 (h 4 = h 1 ). More preferable. Thereby, as shown in FIG. 2, the horizontal pull pipe 21 of the siphon drain pipe 20 passing through the through hole 4 a is disposed in an approximately-slope manner (preferably, horizontally) with the upper surface 1 f of the first slab 1. Ru.

また、本発明は、貫通孔下端高さｈ4が第１スラブ高さｈ1を超えることを許容しているが、本実施形態では、貫通孔４ａの下端の第１スラブ１の上面１ｆからの高さが、５０ｍｍ以下とされている。すなわち、貫通孔下端高さｈ4から第１スラブ高さｈ1を減じた高さが５０ｍｍ以下（ｈ4−ｈ1≦５０ｍｍ）となるように、貫通孔４ａが形成されている。
この場合、効率的なサイホン排水能力を維持することができる。なお、本発明では、貫通孔４ａの下端が第１スラブ１の上面１ｆより下方（ｈ4＜ｈ1，ｈ4−ｈ1＜０）にあってもよい。 Further, the present invention is through-hole lower height h 4 is allowed to exceed the first slab height h 1, in the present embodiment, the first slab 1 of the upper surface 1f of the lower end of the through-hole 4a Height is 50 mm or less. That is, the through hole 4 a is formed such that the height obtained by subtracting the first slab height h 1 from the through hole lower end height h 4 is 50 mm or less (h 4 −h 1 ≦ 50 mm).
In this case, efficient siphon drainage capacity can be maintained. In the present invention, the lower end of the through hole 4 a may be located below the upper surface 1 f of the first slab 1 (h 4 <h 1 , h 4 −h 1 <0).

このように、本実施形態に係る、新規の建築物構造によれば、サイホン排水管２０の横引き管（配管）２１の登り勾配を小さく抑えつつ、壁４に形成した貫通孔４ａよりも下側に一定の壁部分を確保することできる。   As described above, according to the new building structure according to the present embodiment, the elevation gradient of the horizontal pull pipe (piping) 21 of the siphon drain pipe 20 is suppressed to be small and the lower side is below the through hole 4a formed in the wall 4 A certain wall part can be secured on the side.

また、本実施形態に係る建築物構造では、図１に示すように、サイホン排水管２０の上流側に連設される水廻り器具３０の排水トラップ３１を、第１スラブ１の上面１ｆを上方から視た平面視で、第１スラブ１の上面１ｆの上方に配置している。この場合、居室内の第２スラブ２の領域（すなわち、図面右側の天井高ｈrで規定される空間領域）を壁４の側に極小化させて第１スラブ１の領域（すなわち、図面左側の天井高ｈrで規定される空間領域）を壁４の側に拡大することにより、当該居室内で天井高ｈrが落ち込む第２スラブ２の領域の拡大を抑制できる。これにより、図１に示すように、居室内では、階高Ｈそのものを高めなくとも、天井高ｈrの高い領域を広く確保することができる。   In addition, in the building structure according to the present embodiment, as shown in FIG. 1, the drainage trap 31 of the watering device 30 continuously provided on the upstream side of the siphon drainage pipe 20 and the upper surface 1f of the first slab 1 are upward It is disposed above the upper surface 1 f of the first slab 1 in a plan view as viewed from the top. In this case, the area of the second slab 2 in the living room (ie, the space area defined by the ceiling height hr on the right side of the drawing) is minimized toward the wall 4 to form the area of the first slab 1 (ie, the drawing left side). By expanding the space area defined by the ceiling height hr toward the wall 4, it is possible to suppress the expansion of the area of the second slab 2 in which the ceiling height hr falls in the room. As a result, as shown in FIG. 1, in the room, it is possible to secure a wide area having a high ceiling height hr without raising the floor height H itself.

また、本実施形態に係る建築物構造では、壁４は、壁４と向かい合う第１スラブ１の端３から間隔Ｄを置いて第２スラブ２の第１の上面２ｆ1 上に設置されている。この場合、壁４の両壁面の側に防水対策等のためのスペースを確保することができる。なお、間隔Ｄの値は、任意に定めることができるが、壁４の両壁面の側に防水対策等のためのスペースを確保することができる範囲で、小さく抑えることが好ましい。ただし、本発明によれば、図３（ｄ）に示す他の実施形態のように、壁４は、第１スラブ１の端３から間隔Ｄを置かずに（隙間Ｃを作らずに）、第１スラブ１の端３と接触させた状態で、第２スラブ２の上面２ｆ上に設置することも可能である。なお、本実施形態では、第２スラブ２の上面２ｆは、図１に示すような、段差を有しない平坦な面として形作られている。 Further, in the building structure according to the present embodiment, the wall 4 is installed on the first upper surface 2 f 1 of the second slab 2 at a distance D from the end 3 of the first slab 1 facing the wall 4 . In this case, a space for waterproofing can be secured on the side of both wall surfaces of the wall 4. In addition, although the value of the space | interval D can be set arbitrarily, it is preferable to restrain small in the range which can ensure the space for waterproofing measures etc. on the both wall surfaces side of the wall 4. However, according to the present invention, as in the other embodiment shown in FIG. 3 (d), the wall 4 does not have a space D from the end 3 of the first slab 1 (without creating a space C), It is also possible to install on the upper surface 2 f of the second slab 2 in contact with the end 3 of the first slab 1. In the present embodiment, the upper surface 2 f of the second slab 2 is shaped as a flat surface having no step as shown in FIG. 1.

また、本発明によれば、天井高ｈrは、サイホン排水管２０の位置に特化して高めることができる。例えば、図１の実施形態に係る建築物構造は、主としてバリアフリーを想定し、床材５に段差を設けることなく、床材５の上面を水平面として構成している。これに対し、図４は、本発明のさらに他の実施形態に係る建築物構造である。本実施形態は、床材５に段差を設けることを許容するものである。さらに詳細には、床材５の段差は、貯留槽３３の近傍に形成されている。この場合、サイホン排水管２０が配置される部分の床下ふところ（第１床下ふところＳ1´）だけを、さらに小さく（低く）抑えることができる。 Further, according to the present invention, the ceiling height hr can be specifically enhanced at the position of the siphon drain pipe 20. For example, the building structure according to the embodiment of FIG. 1 is mainly assumed to be barrier-free, and the upper surface of the floor material 5 is configured as a horizontal surface without providing a step on the floor material 5. On the other hand, FIG. 4 is a building structure according to still another embodiment of the present invention. The present embodiment allows the floor material 5 to have a step. More specifically, the step of the floor material 5 is formed in the vicinity of the storage tank 33. In this case, only the underfloor bosom portion siphon drain pipe 20 is disposed (the first floor bosom S 1 '), it can be suppressed even smaller (lower).

上述したところは、本発明の幾つかの実施形態を例示したにすぎず、特許請求の範囲に従えば、様々な変更が可能となる。例えば、サイホン排水管２０（横引き管２１）は、少なくとも１本とすることができる。また、上記の各実施形態では、水廻り器具３０として、例えば、図５に例示する洗濯機３０ｂを適用することができる。また、上記の各実施形態では、排水トラップ３１は、水廻り器具３０と別体に構成していたが、図５の洗面台３０ｃ（水廻り器具３０）のように、当該水廻り器具３０の下端に一体に設けることができる。また上記の各実施形態では、サイホン排水管２０を貯留槽３３に連結させているが、貯留槽３３は省略することができる。さらに、上記の各実施形態では、サイホン排水管２０は、排水立て管１０に合流させているとして説明したが、サイホン排水管２０は、排水立て管１０に合流させることなく、サイホン排水能力が保持されるようにすることもできる。さらに、上記の各実施形態では、集合住宅で説明したが、一般建築など、様々な建築物に適用できる。また、上記の各実施形態に採用された個々の構成は、他の実施形態に対して適宜組み合わせて使用することができる。   The foregoing merely illustrates some embodiments of the present invention and various modifications may be made in accordance with the appended claims. For example, at least one siphon drainage pipe 20 (horizontal pulling pipe 21) can be used. Moreover, in each said embodiment, the washing machine 30b illustrated in FIG. 5, for example can be applied as the water-washing apparatus 30. As shown in FIG. In each of the above-described embodiments, the drainage trap 31 is configured separately from the water spraying device 30. However, as in the wash basin 30c (water spraying device 30) of FIG. It can be integrally provided at the lower end. Moreover, although the siphon drain pipe 20 is connected with the storage tank 33 in said each embodiment, the storage tank 33 can be abbreviate | omitted. Furthermore, in the above embodiments, the siphon drainage pipe 20 is described as joining the drainage stack pipe 10, but the siphon drainage pipe 20 does not join the drainage stacking pipe 10, and the siphon drainage capacity is maintained It can also be done. Furthermore, although each above-mentioned embodiment explained by collective housing, it is applicable to various buildings, such as general construction. In addition, the individual configurations adopted in each of the above-described embodiments can be used in appropriate combination with the other embodiments.

様々な建築物においても、本発明に係る新規の建築物構造における構成を適用してスラブ上に形成した壁に貫通孔を形成し当該貫通孔にサイホン排水管を通して前記壁に貫通させて配置することが可能である。   Also in various buildings, applying the configuration of the novel building structure according to the present invention, a through hole is formed in a wall formed on a slab, and the through hole is disposed to penetrate the wall through a siphon drainage pipe It is possible.

１ 第１スラブ
１ｆ 第１スラブの上面
２ 第２スラブ
２ｆ 第２スラブの上面
２ｆ1 第２スラブの上面
２ｆ2 第２スラブの上面
３ 第１スラブの端
４ 壁
４ａ 貫通孔
５ 床材
６ 支持材
１０ 排水立て管
２０ サイホン排水管
２０ａ 一方の端部
２１ 横引き管（サイホン排水管（配管））
２２ 竪管（サイホン排水管）
３０ 水廻り器具
３１ 排水トラップ
３２ 接続管
３３ 貯留槽
Ｃ 隙間
Ｄ 間隔
Ｏ 貫通孔の中心軸
Ｒ 開口補強筋
Ｈ 階高
ｈ0 貫通孔の中心軸の第２スラブの上面からの高さ（貫通孔中心高さ）
ｈ1 第１スラブの上面のから第２スラブの上面からの高さ（第１スラブ高さ）
ｈ4 貫通孔の下端のから第２スラブの上面からの高さ（貫通孔下端高さ）
ｈr 天井高
Ｓ1 第１床下ふところ
Ｓ1 ´ 第１床下ふところ
Ｓ2 第２床下ふところ
1 first slab 1f end 4 wall 4a through hole 5 Flooring 6 supporting the upper surface 3 first slab of the upper surface 2f 2 second slab upper surface 2f 1 second slab upper surface 2 second slab 2f second slab of the first slab Material 10 drainage stack pipe 20 siphon drainage pipe 20a one end 21 horizontal pulling pipe (siphon drainage pipe (piping))
22 Seal pipe (siphon drainage pipe)
30 Watering apparatus 31 Drainage trap 32 Connecting pipe 33 Reservoir C Clearance D Interval O Central hole of through hole R Opening reinforcement bar H Height h 0 Height of central axis of through hole from top surface of second slab (through hole) Center height)
h 1 first from the upper surface of the slab from the top face of the second slab height (first slab height)
h 4 height from the second slab upper surface from the lower end of the through-hole (through-hole lower height)
h r Ceiling height S 1 1st floor floor area S 1 '1st floor floor area S 2 2 floor floor area

Claims (4)

第１スラブと、
前記第１スラブの上面よりも低い位置に上面がある第２スラブと、
前記第２スラブの上面上に形成された壁と、
前記壁に形成された貫通孔を通して当該壁を貫通するサイホン排水管と
を備え、
前記貫通孔の下端の前記第２スラブの上面からの高さが、３０ｍｍ以上であって、
前記サイホン排水管の上流側に連設される水廻り器具の排水トラップが、前記第１スラブの上面を上方から視た平面視で、前記第１スラブの上面の上方に設置されたことを特徴とする、建築物構造。 The first slab,
A second slab having an upper surface at a position lower than the upper surface of the first slab;
A wall formed on the top surface of the second slab;
And a siphon drain pipe penetrating the wall through the through hole formed in the wall;
The height from the upper surface of the second slab at the lower end of the through hole is 30 mm or more,
A drainage trap for watering devices continuously connected to the upstream side of the siphon drainage pipe is disposed above the upper surface of the first slab in a plan view when the upper surface of the first slab is viewed from above Building structure. 請求項１において、前記貫通孔の中心軸の前記第１スラブの上面からの高さが、０ｍｍ以上である、建築物構造。   The building structure according to claim 1, wherein the height of the central axis of the through hole from the upper surface of the first slab is 0 mm or more. 請求項１または２において、前記貫通孔の下端の前記第１スラブの上面からの高さが、５０ｍｍ以下である、建築物構造。   The building structure according to claim 1, wherein a height of a lower end of the through hole from an upper surface of the first slab is 50 mm or less. 請求項１乃至３のいずれか１項において、前記壁は、前記壁と向かい合う前記第１スラブの端から間隔を置いて前記第２スラブの上面上に設置されたものである、建築物構造。
The building structure according to any one of claims 1 to 3, wherein the wall is installed on an upper surface of the second slab at a distance from an end of the first slab facing the wall.
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