JP6726788B2 - 荷電粒子装置、構造物の製造方法および構造物製造システム - Google Patents
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Description
本発明の第2の態様によると、構造物の製造方法は、構造物の形状に関する設計情報を作製する設計工程と、前記設計情報に基づいて前記構造物を作製する成形工程と、作製された前記構造物の形状を第1の態様の荷電粒子装置を用いて計測する計測工程と、前記計測工程で得られた形状情報と、前記設計情報とを比較する検査工程と、を有する。
本発明の第3の態様によると、構造物製造システムは、構造物の形状に関する設計情報を作製する設計装置と、前記設計情報に基づいて前記構造物を作製する成形装置と、作製された前記構造物の形状を測定する請求項13に記載の荷電粒子装置と、前記X線発生装置を用いたX線装置によって得られた前記構造物の形状に関する形状情報と前記設計情報とを比較する検査装置と、を含む。
図面を参照しながら、第1の実施の形態による荷電粒子装置について、X線発生装置を例に挙げて説明する。なお、第1の実施の形態は、発明の趣旨の理解のために具体的に説明するためのものであり、特に指定の無い限り、本発明を限定するものではない。
(1)荷電粒子装置は、電子を放出する電子放出部20と、電子放出部20から放出された電子が照射される電子被照射部30と、内部を排気可能で、電子被照射部30を内部に収容する収容部40と、収容部40に収容された電子被照射部30に通電するための電線50を収容するために、収容部40の外部から収容部40に設けられた挿入部60を介して挿入された電線収容部51と、収容部40の内壁であって挿入部60の近傍から収容部40の内部に向かって、電線収容部51を囲み突出する挿入部側突出部70と、を備える。第1の実施の形態では、挿入部側突出部70は、電線収容部51を囲み突出する。そのため、トリプルジャンクション部80近傍の電位勾配を緩やかにして、トリプルジャンクション部80近傍における放電の発生を抑制することができる。
(3)上記の通り、荷電粒子装置は、挿入部側突出部70を有することで、トリプルジャンクション部80近傍での放電の発生を抑制することができるため、放電による収容部40内の真空度の低下を回避できる。これにより、X線発生装置10Aを安定して動作させることができる。また、激しい放電の発生によるX線発生装置10Aの損傷を防止することができる。
(5)荷電粒子装置において、電子被照射部30に電子が照射されると、電子被照射部30はX線を出射する。このような構成により、荷電粒子装置は種々のX線発生装置に適用することができる。
図4を参照して、第2の実施の形態によるX線発生装置10Bについて説明する。以下の説明では、第1の実施の形態と同じ構成要素には同じ符号を付して相違点を主に説明する。特に説明しない点については、第1の実施の形態と同じである。本実施の形態では、X線発生装置10Bが電子被照射部側突出部71をさらに備える点で、第1の実施の形態と異なる。
(6)荷電粒子装置は、電子被照射部30の近傍から収容部40の内壁に向かって、電線収容部51を囲み突出する電子被照射部側突出部71をさらに備える。このようにしたので、高電位側のトリプルジャンクション部81近傍の電位勾配を緩やかにして、トリプルジャンクション部81近傍における放電の発生を抑制することができる。
態と組み合わせることも可能である。
図7は、変形例1によるX線発生装置10Cの構成を示す図である。X線発生装置10Cは、電子被照射部30(ターゲット)を回転させる回転部材90を備える。回転部材90により電子被照射部30を回転させることで、電子被照射部30における電子線の衝突位置を変化させる。電子線の衝突位置を変えることで、電子被照射部30の電子線の照射状態を一定に保ち、電子被照射部30から出射するX線の状態を一定に保つことができる。回転部材90は、少なくとも外周部がセラミック等の誘電体材料により構成される。
上述した実施の形態および変形例では、本発明を荷電粒子装置としてX線発生装置10に適用した例について説明したが、本発明は、電子顕微鏡、走査電子顕微鏡、集束イオンビーム装置などの種々の荷電粒子装置に適用することができる。電子顕微鏡としては、例えば米国特許5936244号に開示してある。
図面を参照して、上述したX線発生装置10を用いたX線装置1およびX線装置1を備えた構造物製造システムSYSについて説明する。図8は、上述したX線発生装置10を用いたX線装置1の全体構成の一例を示す図である。
51…電線収容部、60…挿入部、70…挿入部側突出部、
71…電子被照射部側突出部、90…回転部材
Claims (17)
- 電子を放出する電子放出部と、
前記電子放出部から放出された電子が照射される電子被照射部と、
内部を排気可能で、前記電子被照射部を内部に収容する収容部と、
前記収容部に収容された前記電子被照射部に通電するための電線を収容するために、前記収容部の外部から前記収容部に設けられた挿入部を介して挿入された電線収容部と、
前記収容部の内壁であって前記挿入部の近傍から前記収容部の内部に向かって広がるように、前記電線収容部を囲み突出する挿入部側突出部と、を備える荷電粒子装置。 - 請求項1に記載の荷電粒子装置において、
前記挿入部側突出部は、前記挿入部の近傍から前記収容部の内部に向かって開口直径が大きくなる、荷電粒子装置。 - 請求項2に記載の荷電粒子装置において、
前記挿入部側突出部は、前記挿入部の近傍から前記収容部の内部に向かって広がるコーン形状である、荷電粒子装置。 - 請求項3 に記載の荷電粒子装置において、
前記挿入部側突出部の先端部により形成される円の中心と、前記電線収容部の中心とが一致している荷電粒子装置。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載の荷電粒子装置において、
前記挿入部側突出部の先端部の前記電線収容部の中心を通る面による断面は、円弧状である荷電粒子装置。 - 請求項1から5のいずれか一項に記載の荷電粒子装置において、
前記電子放出部を回転させる回転部材をさらに備え、
前記挿入部側突出部は、前記電線収容部と共に前記回転部材とを囲む荷電粒子装置。 - 請求項1から6のいずれか一項に記載の荷電粒子装置において、
前記電子被照射部の近傍から前記収容部の内壁に向かって、前記電線収容部を囲み突出する電子被照射部側突出部をさらに備える荷電粒子装置。 - 請求項7に記載の荷電粒子装置において、
電子被照射部側突出部は、前記電子被照射部の近傍から前記収容部の内部に向かって広がるように、前記電線収容部を囲み突出する荷電粒子装置。 - 請求項8に記載の荷電粒子装置において、
電子被照射部側突出部は、前記電子被照射部の近傍から前記収容部の内部に向かって開口直径が大きくなる、荷電粒子装置。 - 請求項9に記載の荷電粒子装置において、
前記電子被照射部側突出部は、前記電子被照射部の近傍から前記収容部の内部に向かって広がるコーン形状である、荷電粒子装置。 - 請求項10に記載の荷電粒子装置において、
前記電子被照射部側突出部の先端部により形成される円と中心と、前記電線収容部の中心とが一致している荷電粒子装置。 - 請求項7から11のいずれか一項に記載の荷電粒子装置において、
前記電子被照射部側突出部の先端部の前記電線収容部の中心を通る面による断面は、円弧状である荷電粒子装置。 - 請求項1から12のいずれか一項に記載の荷電粒子装置において、
前記荷電粒子装置は、X線発生装置であり、
前記電子被照射部は、前記電子が照射されることにより、X線を出射する荷電粒子装置。 - 構造物の形状に関する設計情報を作製する設計工程と、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作製する成形工程と、
作製された前記構造物の形状を請求項13に記載の荷電粒子装置を用いて計測する計測工程と、
前記計測工程で得られた形状情報と、前記設計情報とを比較する検査工程と、を有する構造物の製造方法。 - 前記検査工程の比較結果に基づいて実行され、前記構造物の再加工を実施するリペア工程を有する請求項14に記載の構造物の製造方法。
- 前記リペア工程は、前記成形工程を再実行する工程である請求項15に記載の構造物の製造方法。
- 構造物の形状に関する設計情報を作製する設計装置と、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作製する成形装置と、
作製された前記構造物の形状を測定する請求項13に記載の荷電粒子装置と、
前記X線発生装置を用いたX線装置によって得られた前記構造物の形状に関する形状情報と前記設計情報とを比較する検査装置と、を含む構造物製造システム。
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