JP6686322B2 - Hologram structure - Google Patents

Description

本発明は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体に関するものである。   The present invention relates to a hologram structure having excellent anti-counterfeiting properties and design.

ホログラムは、波長の等しい二つの光（物体光と参照光）を干渉させることによって、物体光の波面が干渉縞として感光材料に記録されたものであり、干渉縞記録時の参照光と同一波長の光が当てられると干渉縞によって回折現象が生じ、元の物体光と同一の波面が再生することが可能である。ホログラムは、外観が美しく、複製が比較的困難である等の利点を有することから偽造防止用途等に多く使用されている。
ホログラムの使用方法としては、ホログラムに対して参照光を透過または反射させることで、光像として再生する方法が知られている。
例えば、特許文献１では、レーザー反射型ホログラムで反射した回折光をスクリーンに投影することで再生された光像を用いて、真贋判定を行うことが記載されている。 A hologram is a wavefront of object light recorded on a photosensitive material as interference fringes by causing two lights of the same wavelength (object light and reference light) to interfere with each other. When this light is applied, a diffraction phenomenon occurs due to interference fringes, and the same wavefront as the original object light can be reproduced. Holograms are often used for anti-counterfeiting purposes because they have advantages such as beautiful appearance and relatively difficult duplication.
As a method of using a hologram, there is known a method of reproducing a light image by transmitting or reflecting a reference light with respect to the hologram.
For example, Patent Document 1 describes that authenticity determination is performed using an optical image reproduced by projecting diffracted light reflected by a laser reflection hologram onto a screen.

特許第４８７２９６４号公報Japanese Patent No. 4872964

しかしながら、特許文献１に記載されるようなスクリーンに投影した光像のみでは高度な偽造防止効果および意匠の付与が困難であるといった問題がある。   However, there is a problem in that it is difficult to impart a high degree of anti-counterfeiting effect and a design only with the optical image projected on the screen as described in Patent Document 1.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and its main object is to provide a hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and designability.

上記目的を達成するために、本発明は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成された蒸着層と、を有し、上記反射型ホログラム形成領域の平面視サイズが、５ｍｍ角以上であることを特徴とするホログラム構造体を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a hologram layer having a reflection hologram forming region in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image, and the hologram layer. And a vapor-deposition layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the reflection-type hologram formation region, wherein the size of the reflection-type hologram formation region in plan view is 5 mm square or more. I will provide a.

本発明によれば、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域（以下、単にホログラム形成領域と称する場合がある。）を有するホログラム層を用いることで、上記ホログラム構造体は、点光源により平面視上ホログラム形成領域内に光像を再生できる。
また、上記ホログラム形成領域の平面視サイズが、５ｍｍ角以上であることにより、光像をホログラム形成領域内に視認可能に再生できる。
このため、ホログラム形成領域内に再生された光像をホログラム構造体に形成された印刷層等の他の機能層と組み合わせることが可能となること等により、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。 According to the present invention, a reflection hologram forming area (hereinafter, may be simply referred to as a hologram forming area) in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired light image. By using the hologram layer provided, the hologram structure can reproduce an optical image in the hologram formation region in plan view by the point light source.
In addition, since the size of the hologram forming area in plan view is 5 mm square or more, an optical image can be visually reproduced in the hologram forming area.
Therefore, it becomes possible to combine the optical image reproduced in the hologram formation region with another functional layer such as a printing layer formed in the hologram structure, whereby the hologram structure has anti-counterfeiting property and anti-counterfeiting property. The design is excellent.

本発明においては、上記反射型ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を上記光像へ変換可能なホログラムセルが複数配列されたものであり、上記ホログラムセルの平面視サイズが、０．２５ｍｍ角以上５ｍｍ角以下の範囲内であることが好ましい。上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内への光像の再生が容易となるからである。   In the present invention, the reflection hologram formation region is an array of a plurality of hologram cells capable of converting light incident from a point light source into the optical image, and the hologram cell has a plan view size of 0.25 mm. It is preferable that the angle is within a range of 5 to 5 mm. This is because the hologram structure facilitates reproduction of an optical image in the hologram formation area.

本発明においては、上記凹凸表面の格子ピッチが、１．０μｍ〜８０．０μｍの範囲内であることが好ましい。上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内への光像の再生が容易となるからである。   In the present invention, it is preferable that the grid pitch on the uneven surface is in the range of 1.0 μm to 80.0 μm. This is because the hologram structure facilitates reproduction of an optical image in the hologram formation area.

本発明においては、上記ホログラム構造体が、上記光像と組み合わせて用いられる画像を表示する画像表示層を有することが好ましい。上記画像表示層が表示する画像と、上記ホログラム形成領域内に再生される光像とを組み合わせることが可能となり、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。   In the present invention, it is preferable that the hologram structure has an image display layer that displays an image used in combination with the optical image. This is because it is possible to combine the image displayed by the image display layer and the optical image reproduced in the hologram forming region, and the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and designability. .

本発明においては、上記画像表示層が着色材および樹脂材料を有する印刷層を含むことが好ましい。上記印刷層は、様々な色およびパターンの画像を容易に描画でき、偽造防止性および意匠性に優れた上記ホログラム構造体を容易に形成できるからである。   In the present invention, it is preferable that the image display layer includes a printing layer containing a coloring material and a resin material. This is because the printing layer can easily draw images of various colors and patterns, and can easily form the hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and designability.

本発明においては、上記画像表示層が、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有する第２ホログラム層を含むことが好ましい。上記第２ホログラム層は、参照光を照射した場合にのみ画像を表示でき、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を容易に形成できるからである。   In the present invention, it is preferable that the image display layer includes a second hologram layer having a diffraction grating pattern drawn by the diffraction grating cells arranged in a pattern in plan view. This is because the second hologram layer can display an image only when it is irradiated with the reference light, and it is possible to easily form a hologram structure having excellent anti-counterfeiting properties and designability.

本発明においては、上記回折格子図柄が、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であることが好ましい。平面回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。また、平面回折格子図柄は高輝度なものとすることが容易であり、視認性に優れた回折格子図柄を再生できるからである。   In the present invention, it is preferable that the diffraction grating pattern is a plane diffraction grating pattern capable of reproducing the pattern two-dimensionally. This is because it is possible to combine the plane diffraction grating pattern and the optical image, and thus the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and design property. Further, it is easy to make the plane diffraction grating pattern have high brightness, and it is possible to reproduce the diffraction grating pattern having excellent visibility.

本発明においては、上記回折格子図柄が、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であることが好ましい。立体回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。   In the present invention, the diffraction grating pattern is preferably a three-dimensional diffraction grating pattern capable of reproducing the pattern three-dimensionally. This is because it is possible to combine the three-dimensional diffraction grating pattern and the optical image, so that the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and design property.

本発明においては、ホログラム構造体が上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられることが好ましい。ホログラムシールとして用いられることで、ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できるからである。   In the present invention, it is preferable that the hologram structure has an adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and is used as a hologram seal. This is because when used as a hologram seal, the hologram structure can easily impart anti-counterfeiting property and design property to the adherend.

本発明においては、ホログラム構造体が上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられることが好ましい。ホログラム転写箔として用いられることで、ホログラム構造体は、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できるからである。   In the present invention, the hologram structure is a heat-seal layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and the peeling easily formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer. It is preferable that the layer has a layer and a peeling base material formed on the surface of the peeling-easy layer opposite to the hologram layer and is used as a hologram transfer foil. This is because when used as a hologram transfer foil, the hologram structure can easily impart anti-counterfeit property and design property to the adherend.

本発明においては、ホログラム構造体が情報記録媒体として用いられることが好ましい。ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものであるため、偽造防止性および意匠性に優れた情報記録媒体とすることができるからである。   In the present invention, the hologram structure is preferably used as an information recording medium. This is because the hologram structure has excellent anti-counterfeiting properties and design properties, and thus can be an information recording medium having excellent anti-counterfeiting properties and design properties.

本発明は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を提供できるという効果を奏する。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention has an effect of providing a hologram structure having excellent anti-counterfeiting property and designability.

本発明のホログラム構造体の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hologram structure of this invention. 図１のＡ−Ａ線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. ホログラム構造体を用いた光像の再生方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the reproduction | regeneration method of the optical image using a hologram structure. ホログラム構造体を用いた光像の再生方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the reproduction | regeneration method of the optical image using a hologram structure. ホログラム構造体を用いた光像の再生方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the reproduction | regeneration method of the optical image using a hologram structure. 本発明におけるホログラム形成領域を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the hologram formation area in this invention. 本発明におけるホログラム形成領域を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the hologram formation area in this invention. 本発明におけるホログラム形成領域を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the hologram formation area in this invention. 本発明における画像表示層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the image display layer in this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略平面図および概略断面図である。It is the schematic plan view and schematic sectional view which show the other example of the hologram structure of this invention. 本発明における第２ホログラム層を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the 2nd hologram layer in this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention. 本発明のホログラム構造体の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the hologram structure of this invention.

以下、本発明のホログラム構造体について詳細に説明する。
本発明のホログラム構造体は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、上記ホログラム層の上記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成された蒸着層と、を有し、上記反射型ホログラム形成領域の平面視サイズが、５ｍｍ角以上であることを特徴とするものである。 Hereinafter, the hologram structure of the present invention will be described in detail.
The hologram structure of the present invention comprises a hologram layer having a reflection hologram forming region in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image, and the reflection layer of the hologram layer. And a vapor deposition layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the hologram forming region, wherein the size of the reflection hologram forming region in plan view is 5 mm square or more.

このような本発明のホログラム構造体について図面を参照して説明する。
図１は、本発明のホログラム構造体の一例を示す概略平面図であり、図２は、図１のＡ−Ａ線断面図である。図１および図２に示すように、本発明のホログラム構造体１０は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域１１を有するホログラム層１と、上記ホログラム層１の上記反射型ホログラム形成領域１１の凹凸表面１ａに接するように形成された蒸着層２と、を有し、上記反射型ホログラム形成領域１１の平面視サイズが、５ｍｍ角以上であるものである。
なお、この例では、ホログラム層１の蒸着層２とは反対側の表面に層間接着層３および透明基材４がこの順で積層する例を示すものである。
また、図１は説明の容易のため、透明基材および層間接着層の記載を省略するものである。また、図１では、破線で囲まれた領域がホログラム形成領域１１である。 Such a hologram structure of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of the hologram structure of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the hologram structure 10 of the present invention includes a reflection hologram forming area 11 in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image. The hologram layer 1 having the same and the vapor deposition layer 2 formed so as to contact the uneven surface 1a of the reflection hologram forming area 11 of the hologram layer 1 have a size in plan view of the reflection hologram forming area 11. It is 5 mm square or more.
In this example, the interlayer adhesive layer 3 and the transparent substrate 4 are laminated in this order on the surface of the hologram layer 1 opposite to the vapor deposition layer 2.
Further, in FIG. 1, the illustration of the transparent base material and the interlayer adhesive layer is omitted for ease of explanation. Further, in FIG. 1, the area surrounded by the broken line is the hologram forming area 11.

本発明によれば、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するホログラム層を用いることで、上記ホログラム構造体は、点光源をホログラム層の凹凸表面とは反対側（以下、観察面側と称する場合がある。）に配置して、観察面側からホログラム層を平面視した際に、ホログラム形成領域内に光像を再生可能なものである。
このため、上記ホログラム構造体は、光像を投影するスクリーン等を別途準備することなく、真贋判定および意匠性の発現等を容易に行うことができる。
また、ホログラム構造体に形成された印刷層等の他の機能層と組み合わせることで、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
さらに、点光源からの光照射を受けているときのみ光像を再生できることから、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。 According to the present invention, by converting the light incident from the point light source into a desired optical image, by using a hologram layer having a reflection hologram formation region in which a phase Fourier transform hologram is recorded, the hologram structure, When the point light source is arranged on the opposite side of the concave-convex surface of the hologram layer (hereinafter sometimes referred to as the observation surface side) and the hologram layer is viewed in plan from the observation surface side, an optical image is formed in the hologram formation area. Is reproducible.
Therefore, the hologram structure can easily perform authenticity determination and expression of design property without separately preparing a screen or the like for projecting an optical image.
In addition, by combining with the other functional layer such as a printing layer formed on the hologram structure, the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and design.
Further, since the optical image can be reproduced only when receiving the light irradiation from the point light source, the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and designability.

また、図３に例示するように、上記ホログラム形成領域１１の平面視サイズが小さく、ホログラム構造体１０からの光源２１の位置が遠い場合には（図３（ａ））、観察者２０は、光像１３の全体像（図３では「Ｅ」の文字）のうち一部のみしか視認できない場合がある（図３（ｂ））。また、図４に例示するように、平面視サイズの小さいホログラム形成領域１１内に光像１３の全体像の全てを視認可能とするためには光源２１をホログラム構造体１０に近接させる必要があるが（図４（ａ））、この場合には、再生された光像１３（図４では「Ｅ」の文字）のサイズが小さく、観察者２０は、光像１３により表示される情報の視認が困難となる（図４（ｂ））。
これに対して、図５に例示するように、上記ホログラム形成領域１１の平面視サイズが、５ｍｍ角以上であることにより、光源２１を上記ホログラム構造体１０から離した場合でも（図５（ａ））、観察者２０は、上記ホログラム形成領域１１内に光像１３の全体像（図５では「Ｅ」の文字）の全てを視認できる（図５（ｂ））。また、観察者２０は再生された光像１３により表示される情報の視認が容易となる。 Further, as illustrated in FIG. 3, when the size of the hologram formation region 11 in plan view is small and the position of the light source 21 is far from the hologram structure 10 (FIG. 3A), the observer 20: In some cases, only a part of the entire image of the light image 13 (the letter “E” in FIG. 3) can be visually recognized (FIG. 3B). Further, as illustrated in FIG. 4, in order to make all of the entire image of the optical image 13 visible in the hologram formation region 11 having a small planar size, the light source 21 needs to be close to the hologram structure 10. (FIG. 4A), the size of the reproduced optical image 13 (the letter “E” in FIG. 4) is small in this case, and the observer 20 visually recognizes the information displayed by the optical image 13. Becomes difficult (FIG. 4 (b)).
On the other hand, as shown in FIG. 5, since the size of the hologram forming area 11 in plan view is 5 mm square or more, even when the light source 21 is separated from the hologram structure 10 (see FIG. )), The observer 20 can visually recognize the entire image (the letter “E” in FIG. 5) of the optical image 13 in the hologram formation region 11 (FIG. 5B). Further, the observer 20 can easily recognize the information displayed by the reproduced optical image 13.

本発明のホログラム構造体は、ホログラム層および蒸着層を有するものである。
以下、本発明のホログラム構造体における各構成について説明する。 The hologram structure of the present invention has a hologram layer and a vapor deposition layer.
Hereinafter, each configuration of the hologram structure of the present invention will be described.

１．ホログラム層
本発明におけるホログラム層は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するものである。
上記ホログラム形成領域の平面視サイズは、５ｍｍ角以上である。 1. Hologram Layer The hologram layer in the present invention has a reflection hologram formation region in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image.
The size of the hologram forming area in plan view is 5 mm square or more.

ここで、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されるとは、原画像のフーリエ変換を介して得られたフーリエ変換像の位相情報を多値化して深さとして記録されることをいうものである。したがって、位相型フーリエ変換ホログラムが記録されたホログラム層のホログラム形成領域には、凹凸表面が形成される。
上記ホログラム層は、ホログラム形成領域の凹凸表面を構成する凹凸形状の高低差により、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、すなわちフーリエ変換レンズとして機能するものである。このような機能により、任意の点光源から入射する光が所定の複数の方向に回折され所定のイメージが光像として形成されるものである。なお、上述の機能のことを「フーリエ変換レンズ機能」と称する場合がある。
上記ホログラム形成領域は、反射型であり、点光源を観察面側に配置して、観察面側からホログラム層を平面視した際に、ホログラム形成領域内に光像を再生可能なものである。 Here, that the phase-type Fourier transform hologram is recorded means that the phase information of the Fourier transform image obtained through the Fourier transform of the original image is multivalued and recorded as the depth. Therefore, an uneven surface is formed in the hologram forming area of the hologram layer in which the phase-type Fourier transform hologram is recorded.
The hologram layer serves to convert the light incident from the point light source into a desired optical image, that is, to function as a Fourier transform lens, due to the height difference of the uneven shape that forms the uneven surface of the hologram formation region. With such a function, light incident from an arbitrary point light source is diffracted in a plurality of predetermined directions to form a predetermined image as a light image. The above function may be referred to as a "Fourier transform lens function".
The hologram formation region is of a reflection type and is capable of reproducing an optical image in the hologram formation region when the point light source is arranged on the observation surface side and the hologram layer is viewed in plan from the observation surface side.

上記ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能な領域をいうものであり、具体的には、上記光像へ変換可能なホログラムセルの全てを含むことができる最小面積の長方形で囲まれる領域である。   The hologram formation region is a region capable of converting light incident from a point light source into a desired light image, and specifically, it is a minimum that can include all of the hologram cells convertible into the light image. It is a region surrounded by a rectangular area.

本発明において、ホログラム形成領域の平面視サイズが５ｍｍ角以上であるとは、上記ホログラム形成領域が、５ｍｍ角の正方形の範囲を少なくとも含む平面視形状であることをいうものである。したがって、ホログラム形成領域が長方形状である場合には、その短辺の長さが５ｍｍ以上であることをいうものであり、ホログラム形成領域が正方形状がである場合には、その１辺の長さが５ｍｍ以上であることをいうものである。
本発明においては、上記平面視サイズが、５ｍｍ角以上５０ｍｍ角以下の範囲内であることが好ましく、なかでも、５ｍｍ角以上３０ｍｍ角以下の範囲内であることが好ましく、特に５ｍｍ角以上１５ｍｍ角以下の範囲内であることが好ましい。上記平面視サイズの下限が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内の光像の視認が容易なものとなるからである。その結果、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
また、上記平面視サイズの上限が上述の範囲内であることにより、ホログラム構造体は、低コスト化を図ることや、光像等と組み合わせて用いられる画像を表示する画像表示層等の形成が容易なものとなるからである。 In the present invention, the fact that the size of the hologram formation region in plan view is 5 mm square or more means that the hologram formation region has a planar view shape including at least a square area of 5 mm square. Therefore, when the hologram forming area has a rectangular shape, it means that the length of the short side is 5 mm or more, and when the hologram forming area has a square shape, the length of one side thereof is long. Is 5 mm or more.
In the present invention, the size in plan view is preferably in the range of 5 mm square to 50 mm square, and more preferably in the range of 5 mm square to 30 mm square, particularly 5 mm square to 15 mm square. It is preferably within the following range. This is because when the lower limit of the size in plan view is within the above range, the hologram structure makes it easy to visually recognize an optical image in the hologram formation region. As a result, the anti-counterfeit property and the design property are excellent.
Further, since the upper limit of the size in the plan view is within the above range, the hologram structure can be manufactured at low cost and can be formed with an image display layer for displaying an image used in combination with an optical image or the like. Because it will be easy.

本発明において、上記ホログラム形成領域は、図６（ａ）で示されるように、点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された１つのホログラムセル１１ａ（以下、単に、ホログラムセルと称する場合がある。）からなるホログラム形成領域１１（以下、単に、単一ホログラム領域と称する場合がある。）であってもよいが、通常、図６（ｂ）で示されるようにホログラムセル１１ａを複数配列させて拡大させたホログラム形成領域１１（以下、大判ホログラム領域と称する場合がある。）である。
なお、図６中の「Ｅ」は、単一、または大判ホログラム領域においてそれぞれ発現される光像１３である。 In the present invention, the hologram forming area is, as shown in FIG. 6A, one hologram cell 11a in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired optical image. A hologram formation region 11 (hereinafter, may be simply referred to as a hologram cell) (hereinafter, may be simply referred to as a single hologram region) may be used, but normally, FIG. 6B. The hologram forming area 11 (hereinafter, may be referred to as large format hologram area) in which a plurality of hologram cells 11a are arranged and enlarged as shown in FIG.
It should be noted that “E” in FIG. 6 is the optical image 13 developed in a single or large format hologram area, respectively.

上記ホログラム形成領域が大判ホログラム領域である場合、ホログラム形成領域を構成する個々のホログラムセルの平面視サイズとしては、精度良くホログラム形成領域を形成可能なものであればよい。
上記平面視サイズは、０．２５ｍｍ角以上５ｍｍ角以下の範囲内であることが好ましい。上記平面視サイズが上述の範囲内であることにより、上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内への光像の再生が容易なものとなるからである。
なお、上記平面視サイズは、上記ホログラムセルを含むことができる最小の正方形の大きさをいうものである。したがって、ホログラムセルが１辺１ｍｍの正方形である場合の平面視サイズは１ｍｍ角となる。また、ホログラムセルの平面視形状が直径１ｍｍの円形状である場合の平面視サイズは１ｍｍ角となる。 When the hologram forming area is a large format hologram area, the size of each hologram cell forming the hologram forming area in plan view may be any size as long as the hologram forming area can be accurately formed.
The size in plan view is preferably in the range of 0.25 mm square to 5 mm square. This is because when the size in plan view is within the above range, the hologram structure can easily reproduce an optical image in the hologram formation region.
The size in plan view refers to the size of the smallest square that can include the hologram cell. Therefore, when the hologram cell is a square having a side of 1 mm, the size in plan view is 1 mm square. Further, when the hologram cell has a circular shape with a diameter of 1 mm, the size of the hologram cell is 1 mm square.

上記ホログラムセルの上記ホログラム形成領域に占める平面視上の面積の割合としては、所望の光像を再生可能なものであれば特に限定されるものではないが、２５％以上であることが好ましく、なかでも、５０％以上であることが望ましい。上記面積割合が上述の範囲であることより、ホログラム構造体は、光像を鮮明に再生可能なものとなるからである。   The ratio of the area of the hologram cell in plan view to the hologram formation region is not particularly limited as long as it can reproduce a desired optical image, but is preferably 25% or more, Especially, it is preferable that the content is 50% or more. This is because the area ratio within the above range allows the hologram structure to clearly reproduce an optical image.

上記ホログラムセルの平面視形状としては、所望の平面視形状のホログラム形成領域を形成可能なものであれば良く、任意の形状とすることができる。具体的には、上記平面視形状は、正方形状、長方形状等の矩形状、台形状、三角形状、五角形状、六角形状等の多角形状、円形状、楕円形状、星型形状、ハート型形状等とすることができるが、ホログラム形成領域の形成容易の観点から、通常、矩形状が用いられる。   The shape of the hologram cell in plan view may be any shape as long as it can form a hologram formation region having a desired shape in plan view. Specifically, the shape in plan view is a rectangular shape such as a square shape, a rectangular shape, a trapezoidal shape, a triangular shape, a polygonal shape such as a pentagonal shape, a hexagonal shape, a circular shape, an elliptical shape, a star shape, and a heart shape. However, a rectangular shape is usually used from the viewpoint of easy formation of the hologram formation region.

本発明において、ホログラム形成領域の凹凸表面の凹凸形状は、光像として表示させる原画の画像データをもとに形成される多値化されたフーリエ変換像を、縦横方向に所望の範囲まで複数個配列させたときの、フーリエ変換像のパターンに相当するものである。
このような凹凸表面のホログラム形成領域へ形成方法としては、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能な凹凸表面を形成可能な方法であればよく、一般的なフーリエ変換ホログラムの形成方法を用いることができる。
上記形成方法は、具体的には、フーリエ変換像に対応した凹凸パターンを有するマスター原版を形成し、ＰＥＴ等の基材上に形成した紫外線硬化樹脂等の樹脂材料の塗膜に当該原版の凹凸パターンを転写することでホログラム形成領域の凹凸表面を形成する方法を挙げることができる。
また、マスター原版の凹凸パターンの転写を１回のみ行うことにより、ホログラム形成領域として、１つのホログラムセルからなる単一ホログラム領域を形成することができる。そして、マスター原版の凹凸パターンの転写を複数回行うことにより、ホログラム形成領域として、複数のホログラムセルが配列された所望の大きさの大判ホログラム形成領域を有するホログラム層を形成することができる。 In the present invention, the uneven shape of the uneven surface of the hologram forming region is a multi-valued Fourier transform image formed based on the image data of the original image to be displayed as an optical image, in plural in a desired range in the vertical and horizontal directions. This corresponds to the pattern of the Fourier transform image when arranged.
As a method for forming such a concave-convex surface on the hologram formation region, any method capable of forming a concave-convex surface capable of converting light incident from a point light source into a desired optical image may be used. Any method can be used.
Specifically, the above-mentioned forming method is to form a master original plate having an uneven pattern corresponding to a Fourier transform image, and apply the unevenness of the original plate to a coating film of a resin material such as an ultraviolet curable resin formed on a substrate such as PET. A method of forming an uneven surface in the hologram formation region by transferring a pattern can be mentioned.
Further, by performing the transfer of the concavo-convex pattern of the master master only once, it is possible to form a single hologram area composed of one hologram cell as the hologram forming area. Then, by performing the transfer of the concavo-convex pattern of the master original plate a plurality of times, it is possible to form a hologram layer having a large-sized hologram forming region of a desired size in which a plurality of hologram cells are arranged as a hologram forming region.

マスター原版の形成方法としては、表示させる原画の画像データをもとに、計算によりフーリエ変換像を形成する。次に、上記フーリエ変換像のデータを二値以上に多値化したものを電子線描画用データへ変換し、上記電子線描画用データを希望の範囲まで配列させる。例えば、電子線描画用データを縦、横方向に各１０個ずつ配列させる。次いで、配列した電子線描画用データをもとに電子線描画装置でマスター原版を作成する方法を用いることができる。
電子線描画用データとして上記フーリエ変換後のデータを二値化したものを用いた場合には、上記凹凸表面の凹凸形状は、図７（ａ）に示すように２段の凹凸形状となり、四値化したものを用いた場合には、図７（ｂ）に示すように４段の凹凸形状となる。
本発明においては、上記フーリエ変換像のデータの多値化が、四値以上に多値化するもの、すなわち、上記凹凸形状が４段以上の凹凸形状であることが好ましい。複雑な形状の光像を再生可能となるからである。 As a method for forming the master original plate, a Fourier transform image is formed by calculation based on the image data of the original image to be displayed. Next, the multi-valued data of the Fourier transform image is converted into data for electron beam drawing, and the data for electron beam drawing is arranged in a desired range. For example, 10 pieces of electron beam drawing data are arranged in the vertical and horizontal directions. Then, a method of creating a master original plate by an electron beam drawing apparatus based on the arranged electron beam drawing data can be used.
When the binarized data after the Fourier transform is used as the electron beam drawing data, the uneven shape of the uneven surface becomes a two-step uneven shape as shown in FIG. When the quantified one is used, the uneven shape has four steps as shown in FIG.
In the present invention, it is preferable that the data of the Fourier transform image is multivalued into four or more values, that is, the uneven shape has four or more steps. This is because it is possible to reproduce an optical image having a complicated shape.

上記凹凸表面の格子ピッチとしては、点光源から入射した光を所望の光像へ変換可能なものであればよい。
具体的には、上記格子ピッチは、１．０μｍ〜８０．０μｍの範囲内であることが好ましい。上記格子ピッチが上述の範囲内であることにより、上記ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内への光像の再生の容易なものとなるからである。
なお、格子ピッチは、例えば、図７中のＰで示される幅をいうものである。 The grid pitch of the uneven surface may be any as long as it can convert the light incident from the point light source into a desired optical image.
Specifically, the lattice pitch is preferably in the range of 1.0 μm to 80.0 μm. This is because when the grating pitch is within the above range, the hologram structure can easily reproduce an optical image in the hologram formation region.
The lattice pitch refers to the width indicated by P in FIG. 7, for example.

ここで、図８に例示するように、ホログラム構造体１０のホログラム形成領域に対して所定の距離Ｌ１の位置に光源が配置され、ホログラム形成領域から所定の距離Ｌ２の位置で観察者２０がホログラム形成領域を観察する場合、観察者２０がホログラム形成領域の全領域で光像の全体像を観察できるためには、格子ピッチについて以下の式（１）が成り立つものとすることができる。
なお、λは回折光の波長、Ｐは凹凸表面の格子ピッチ、θ１は光源からホログラム形成領域の端部まで到達するための入射角、θ２はホログラム形成領域の端部からの回折光が観察者に到達するための回折角、ｎは回折の次数である。
Ｐ＝ｎλ／（sinθ１＋sinθ２） （１） Here, as illustrated in FIG. 8, the light source is arranged at a position of a predetermined distance L1 with respect to the hologram formation region of the hologram structure 10, and the viewer 20 holograms at a position of a predetermined distance L2 from the hologram formation region. When observing the formation area, the following formula (1) can be established for the grating pitch so that the observer 20 can observe the entire image of the optical image in the entire area of the hologram formation area.
Here, λ is the wavelength of the diffracted light, P is the grating pitch of the uneven surface, θ1 is the incident angle to reach the end of the hologram formation region from the light source, and θ2 is the diffracted light from the end of the hologram formation region. D is the diffraction angle for reaching, and n is the order of diffraction.
P = nλ / (sin θ1 + sin θ2) (1)

上記格子ピッチの具体的な計算例としては、ホログラム形成領域が１辺が１５ｍｍの正方形状であり、Ｌ１が５０ｍｍ、Ｌ２が３００ｍｍであり、波長５５０ｎｍの光である場合、ｓｉｎθ２＝０．０２５であり、ｓｉｎθ１＝０．１４８と計算され、観察者がホログラム形成領域の全領域で光像の全体像を観察するために必要な格子ピッチＰは、最短で３１７９ｎｍと計算される。
また、ホログラム形成領域が１辺が１５ｍｍの正方形状であり、Ｌ１が１９９０ｍｍ、Ｌ２が２０００ｍｍであり、波長５５０ｎｍの光である場合、ｓｉｎθ２＝０．００３７４であり、ｓｉｎθ１＝０．００３７７と計算され、上記格子ピッチＰは、最短で７３２３６ｎｍと計算される。
さらに、ホログラム形成領域が１辺が１０ｍｍの正方形状であり、Ｌ１が６０ｍｍ、Ｌ２が６０ｍｍであり、波長５５０ｎｍの光である場合、ｓｉｎθ２＝０．０８３であり、ｓｉｎθ１＝０．０８３と計算され、上記格子ピッチＰは、最短で３３１３ｎｍと計算される。 As a specific calculation example of the grating pitch, when the hologram formation region is a square shape with one side of 15 mm, L1 is 50 mm, L2 is 300 mm, and the wavelength is 550 nm, sin θ2 = 0.025. Therefore, sin θ1 = 0.148 is calculated, and the grating pitch P required for the observer to observe the entire optical image in the entire hologram formation region is calculated to be 3179 nm at the shortest.
In addition, when the hologram formation region is a square shape with one side of 15 mm, L1 is 1990 mm, L2 is 2000 mm, and the light has a wavelength of 550 nm, sin θ2 = 0.00374 and sin θ1 = 0.00377 are calculated. The lattice pitch P is calculated to be 73236 nm at the shortest.
Furthermore, when the hologram formation region is a square shape with one side of 10 mm, L1 is 60 mm, L2 is 60 mm, and the light has a wavelength of 550 nm, sin θ2 = 0.083 and sin θ1 = 0.083 are calculated. The lattice pitch P is calculated to be 3313 nm at the shortest.

上記凹凸形状の深さは、０．０１μｍ程度とすることができる。
なお、深さは、例えば、図７中のＤで示されるものである。 The depth of the uneven shape may be about 0.01 μm.
The depth is indicated by D in FIG. 7, for example.

上記ホログラム形成領域において、上述のフーリエ変換レンズ機能を発現できる点光源の波長としては特に限定されるものではなく、所望の波長を対象とすることができる。また、点光源の波長としては、一波長の単色光に限られず、多波長を含む光であってもよく、さらには白色光であってもよい。   In the hologram forming region, the wavelength of the point light source capable of exhibiting the Fourier transform lens function is not particularly limited, and a desired wavelength can be targeted. Moreover, the wavelength of the point light source is not limited to monochromatic light of one wavelength, and may be light including multiple wavelengths, or may be white light.

上記ホログラム層を構成する材料としては、ホログラム形成領域において上述したフーリエ変換レンズ機能を発現するための凹凸形状を形成でき、かつ、所定の屈折率を示すものであれば特に限定されない。上記ホログラム層を構成する材料が示す屈折率としては、特に限定されるもではなく、本発明のホログラム構造体の用途に応じて適宜設定が可能である。
また、上記屈折率の基準となる波長も特に限定されず、４００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲内から適宜選択すればよい。中でも本発明においては、波長５５５ｎｍにおける屈折率が１．３〜２．０の範囲内であることが好ましく、特に１．３３〜１．８の範囲内であることが好ましい。ここで、上記屈折率は分光エリプソメーターにより測定することができる。 The material forming the hologram layer is not particularly limited as long as it can form the uneven shape for exhibiting the Fourier transform lens function described above in the hologram forming region and exhibits a predetermined refractive index. The refractive index of the material forming the hologram layer is not particularly limited, and can be appropriately set according to the application of the hologram structure of the present invention.
The wavelength that serves as a reference for the refractive index is not particularly limited, and may be appropriately selected from the range of 400 nm to 750 nm. Above all, in the present invention, the refractive index at a wavelength of 555 nm is preferably in the range of 1.3 to 2.0, and particularly preferably in the range of 1.33 to 1.8. Here, the refractive index can be measured by a spectroscopic ellipsometer.

上記ホログラム層の材料としては、従来からレリーフ型ホログラム等の形成に使用されている樹脂材料、例えば、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の硬化性樹脂の硬化物、熱可塑性樹脂等を用いることができる。   As the material of the hologram layer, a resin material conventionally used for forming a relief hologram or the like, for example, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, a cured product of a curable resin such as an ionizing radiation curable resin, A thermoplastic resin or the like can be used.

上記熱硬化性樹脂としては、例えば、不飽和ポリエステル樹脂、アクリル変性ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、ポリスチレン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独重合体であっても２種以上の構成成分からなる共重合体であってもよい。また、これらの樹脂は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。   Examples of the thermosetting resin include unsaturated polyester resin, acrylic modified urethane resin, epoxy modified acrylic resin, epoxy modified unsaturated polyester resin, alkyd resin, and phenol resin. Examples of the thermoplastic resin include acrylic acid ester resin, acrylamide resin, nitrocellulose resin, polystyrene resin and the like. These resins may be homopolymers or copolymers composed of two or more constituent components. Further, these resins may be used alone or in combination of two or more kinds.

上述の熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂は、各種イソシアネート化合物、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛等の金属石鹸、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の有機過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるいは紫外線硬化剤を含んでいてもよい。   The above-mentioned thermosetting resin or thermoplastic resin, various isocyanate compounds, cobalt naphthenate, metal soaps such as zinc naphthenate, benzoyl peroxide, organic peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, benzophenone, acetophenone, anthraquinone, naphthoquinone, It may contain a heat or ultraviolet curing agent such as azobisisobutyronitrile or diphenyl sulfide.

また、上記電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂等が挙げられ、中でもウレタン変性アクリレート樹脂が好ましく、特に特開２００７−０１７６４３号公報で示される化学式で表わされるウレタン変性アクリル系樹脂が好ましい。   Examples of the ionizing radiation curable resin include epoxy-modified acrylate resin, urethane-modified acrylate resin, acrylic-modified polyester resin, and the like. Among them, urethane-modified acrylate resin is preferable, and particularly disclosed in JP-A-2007-017643. The urethane-modified acrylic resin represented by the chemical formula is preferred.

上記電離放射線硬化性樹脂を硬化させる際には、架橋構造、粘度の調整等を目的として、単官能または多官能のモノマー、オリゴマー等を併用することができる。上記単官能モノマーとしては、例えば、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ビニルピロリドン、（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、（メタ）アクリロイルオキシエチルフタレート等のモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、２官能以上のモノマーとしては、骨格構造で分類するとポリオール（メタ）アクリレート（例えば、エポキシ変性ポリオール（メタ）アクリレート、ラクトン変性ポリオール（メタ）アクリレート等）、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、その他ポリブタジエン系、イソシアヌール酸系、ヒダントイン系、メラミン系、リン酸系、イミド系、ホスファゼン系等の骨格を有するポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらに、紫外線、電子線硬化性である種々のモノマー、オリゴマー、ポリマーが利用できる。   When the above ionizing radiation curable resin is cured, a monofunctional or polyfunctional monomer, oligomer or the like can be used in combination for the purpose of adjusting the crosslinked structure and viscosity. Examples of the monofunctional monomers include mono (meth) acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, vinylpyrrolidone, (meth) acryloyloxyethyl succinate, and (meth) acryloyloxyethyl phthalate. Etc. In addition, the bifunctional or higher functional monomer is classified into a skeleton structure as a polyol (meth) acrylate (for example, epoxy-modified polyol (meth) acrylate, lactone-modified polyol (meth) acrylate, etc.), polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate. ) Acrylate, urethane (meth) acrylate, and other poly (meth) acrylates having a skeleton such as polybutadiene type, isocyanuric acid type, hydantoin type, melamine type, phosphoric acid type, imide type, and phosphazene type. Furthermore, various monomers, oligomers and polymers that are curable by ultraviolet rays and electron beams can be used.

更に詳しくは、２官能のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。３官能のモノマー、オリゴマー、ポリマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。４官能のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、５官能以上のモノマー、オリゴマーとしては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、ホスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。官能基数は特に限定されるものではないが、官能基数が３より小さいと耐熱性が低下する傾向があり、また、２０を超える場合には柔軟性が低下する傾向があるため、特に官能基数が３〜２０の範囲内のものが好ましい。   More specifically, examples of the bifunctional monomer or oligomer include polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth). Acrylate etc. are mentioned. Examples of the trifunctional monomer, oligomer, and polymer include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and aliphatic tri (meth) acrylate. Examples of tetrafunctional monomers and oligomers include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and aliphatic tetra (meth) acrylate. Examples of the pentafunctional or higher functional monomer or oligomer include dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. Further, a (meth) acrylate having a polyester skeleton, a urethane skeleton, a phosphazene skeleton, or the like can be given. The number of functional groups is not particularly limited, but when the number of functional groups is less than 3, heat resistance tends to decrease, and when the number of functional groups exceeds 20, flexibility tends to decrease. Those in the range of 3 to 20 are preferable.

上記のような単官能または多官能のモノマー、オリゴマーの含有量としては適宜調整することができるが、通常、電離放射線硬化性樹脂１００重量部に対して５０重量部以下とすることが好ましく、中でも０．５重量部〜２０重量部の範囲内が好ましい。   The content of the monofunctional or polyfunctional monomer or oligomer as described above can be appropriately adjusted, but it is usually preferably 50 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin, and above all, It is preferably within the range of 0.5 to 20 parts by weight.

また、上記ホログラム層は必要に応じて、光重合開始剤、重合禁止剤、劣化防止剤、可塑剤、滑剤、染料や顔料などの着色剤、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤等の添加剤を、適宜加えてもよい。   Further, the hologram layer is, if necessary, a photopolymerization initiator, a polymerization inhibitor, a deterioration inhibitor, a plasticizer, a lubricant, a colorant such as a dye or a pigment, a surfactant, an antifoaming agent, a leveling agent, and thixotropy. Additives such as a imparting agent may be added as appropriate.

上記ホログラム層の膜厚としては、上記ホログラム層が自己支持性を有する場合、０．０５ｍｍ〜５ｍｍの範囲内が好ましく、中でも０．１ｍｍ〜３ｍｍの範囲内であることが好ましい。一方、上記ホログラム層が自己支持性を有さず、後述する透明基材上に形成される場合は、ホログラム層の膜厚としては、０．１μｍ〜５０μｍの範囲内が好ましく、中でも２μｍ〜２０μｍの範囲内とすることが好ましい。
なお、上記ホログラム層の膜厚は、具体的には、既に説明した図２のａで示される距離である。
また、ホログラム層の平面視上の大きさ等については、本発明のホログラム構造体の用途に応じて適宜設定することができる。 The thickness of the hologram layer is preferably in the range of 0.05 mm to 5 mm, and more preferably in the range of 0.1 mm to 3 mm when the hologram layer has self-supporting property. On the other hand, when the hologram layer does not have a self-supporting property and is formed on a transparent substrate described later, the thickness of the hologram layer is preferably in the range of 0.1 μm to 50 μm, and particularly 2 μm to 20 μm. It is preferably within the range.
Note that the film thickness of the hologram layer is specifically the distance shown by a in FIG. 2 described above.
The size of the hologram layer in plan view and the like can be appropriately set according to the application of the hologram structure of the present invention.

本発明におけるホログラム層は、ホログラム形成領域を少なくとも有するものであるが、上記ホログラム形成領域の他に、凹凸形状が形成されていない領域（非ホログラム形成領域）を有してもよい。
上記ホログラム層において上記各領域が占める割合については、特に限定されるものでは無く、用途に応じて適宜選択することができる。 The hologram layer in the present invention has at least a hologram forming region, but may have a region (non-hologram forming region) in which unevenness is not formed in addition to the hologram forming region.
The proportion of each region in the hologram layer is not particularly limited and can be appropriately selected according to the application.

２．蒸着層
本発明における蒸着層は、ホログラム層のホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成されるものである。 2. Vapor Deposition Layer The vapor deposition layer in the present invention is formed so as to be in contact with the uneven surface of the hologram formation region of the hologram layer.

上記蒸着層は、透明性を有していても良く、反射性を有するものであっても良い。
上記蒸着層が透明性を有する透明蒸着層である場合には、ホログラム構造体は、平面視した際にホログラム形成領域が光沢を有しないものとなる。このため、上記ホログラム構造体は、上記ホログラム形成領域が隠ぺいされたものとなり、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。
一方、上記蒸着層が反射性を有する反射性蒸着層である場合には、ホログラム構造体は、ホログラム形成領域内に鮮明に光像を再生可能となる。このため、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなる。 The vapor deposition layer may be transparent or reflective.
When the vapor deposition layer is a transparent vapor deposition layer having transparency, the hologram structure is such that the hologram formation region does not have gloss when viewed in a plan view. Therefore, the hologram structure is one in which the hologram forming region is hidden, and the hologram structure is excellent in forgery prevention and design.
On the other hand, when the vapor deposition layer is a reflective vapor deposition layer having reflectivity, the hologram structure can clearly reproduce an optical image in the hologram formation region. Therefore, the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and design.

上記透明蒸着層は、全光線透過率（以下、単に光透過率とする場合がある。）が８０％以上であることが好ましく、中でも９０％以上であることがより好ましい。上記光透過率であることにより、ホログラム構造体は、ホログラム形成領域がより隠ぺいされたものとなるからである。
なお、上記光透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定した値である。 The transparent vapor deposition layer preferably has a total light transmittance (hereinafter, simply referred to as light transmittance) of 80% or more, and more preferably 90% or more. This is because the hologram structure has a hologram formation region that is more concealed due to the above light transmittance.
The above light transmittance is a value measured according to JIS K7361-1 (Plastic-transparent material total light transmittance test method).

上記蒸着層を構成する材料としては、ホログラム層との間で屈折率差を生じる材料であれば特に限定されるものではない。上記反射性蒸着層を形成可能な材料としては、例えば、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｒｂ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ａｕ、Ｐｂ、もしくはＢｉ等の金属を挙げることができる。
また、上記透明蒸着層を形成可能な材料としては、例えば、上記金属の酸化物を挙げることができる。
上記材料は、単独でまたは２以上の材料を組み合わせたものも用いることができる。 The material forming the vapor deposition layer is not particularly limited as long as it is a material that causes a difference in refractive index with the hologram layer. Examples of the material capable of forming the reflective vapor deposition layer include Mg, Al, Ti, Cr, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Se, Rb, Pd, Ag, Cd, In and Sn. , Sb, Te, Au, Pb, or a metal such as Bi.
Examples of the material capable of forming the transparent vapor deposition layer include oxides of the above metals.
The above materials may be used alone or in combination of two or more.

上記蒸着層の厚みは、所望の反射性、色調、デザイン、用途等の観点から適宜に設定でき、例えば、５０Å〜１μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも１００Å〜１０００Åの範囲内であることが好ましい。
また、上記厚みは、蒸着層に透明性を持たせるとの観点からは、２００Å以下であることが好ましく、蒸着層に隠ぺい性を持たせるとの観点からは、２００Åを超える厚みであることが好ましい。
なお、上記蒸着層の厚みは、具体的には、既に説明した図２のｂで示される距離である。 The thickness of the vapor deposition layer can be appropriately set from the viewpoint of desired reflectivity, color tone, design, application, etc., and is preferably in the range of 50Å to 1 μm, and particularly in the range of 100Å to 1000Å. It is preferable.
Further, the thickness is preferably 200 Å or less from the viewpoint of imparting transparency to the vapor deposition layer, and may be more than 200 Å from the perspective of imparting concealment to the vapor deposition layer. preferable.
The thickness of the vapor deposition layer is specifically the distance shown by b in FIG. 2 already described.

上記蒸着層の形成箇所は、少なくともホログラム形成領域内の全ての凹凸表面と平面視上重なるものであればよく、ホログラム層の凹凸表面側の全表面を覆うものであってもよい。   The vapor deposition layer may be formed at any location as long as it at least overlaps all the uneven surfaces in the hologram formation region in plan view, and may cover the entire surface of the hologram layer on the uneven surface side.

上記蒸着層の形成方法としては、一般的な蒸着層の形成方法を用いることができ、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を挙げることができる。   As a method for forming the vapor deposition layer, a general method for forming a vapor deposition layer can be used, and examples thereof include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and an ion plating method.

３．その他の構成
本発明のホログラム構造体は、ホログラム層を有するものであるが、必要に応じてその他の構成を有するものであっても良い。 3. Other Configurations The hologram structure of the present invention has a hologram layer, but may have other configurations as necessary.

（１）透明基材
本発明のホログラム構造体は、上記ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成された透明基材を有するものであってもよい。透明基材を有することにより、本発明のホログラム構造体の熱的または機械的強度を高めることができるからである。 (1) Transparent Substrate The hologram structure of the present invention may have a transparent substrate formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer. This is because by having the transparent base material, the thermal or mechanical strength of the hologram structure of the present invention can be increased.

上記透明基材は、上記ホログラム層と直接接するように形成されるものであっても良く、他の層を介して形成されるものであってもよい。
例えば、透明基材は、後述する層間接着層を介してホログラム層表面に接着されたものとすることができる。 The transparent substrate may be formed so as to be in direct contact with the hologram layer, or may be formed through another layer.
For example, the transparent substrate may be adhered to the hologram layer surface via an interlayer adhesive layer described below.

上記透明基材の光透過率は、８０％以上であることが好ましく、中でも９０％以上であることがより好ましい。透明基材の光透過率を上述の範囲内とすることにより、ホログラム構造体は、光像の視認が容易なものとなるからである。   The light transmittance of the transparent substrate is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. This is because by setting the light transmittance of the transparent base material within the above range, the hologram structure becomes easy to visually recognize an optical image.

また、上記透明基材はヘイズ値が低いものほど好ましく、具体的にはヘイズ値が０．０１％〜５％の範囲内であるものが好ましく、中でも０．０１％〜３％の範囲内であるものが好ましく、特に０．０１％〜１．５％の範囲内であるものが好ましい。透明基材のヘイズ値を上記範囲内とすることにより、視認性を阻害することなくホログラム形成領域において発現する光像の表示が可能となるからである。なお、上記透明基材のヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠して測定した値とする。   In addition, it is preferable that the transparent base material has a lower haze value, specifically, a haze value in the range of 0.01% to 5% is preferable, and in particular, in the range of 0.01% to 3%. Some are preferable, and those in the range of 0.01% to 1.5% are particularly preferable. This is because by setting the haze value of the transparent substrate within the above range, it is possible to display an optical image developed in the hologram formation region without impairing the visibility. The haze value of the transparent substrate is a value measured according to JIS K7136.

上記透明基材の構成材料としては、上述の光透過率およびヘイズ値を示すものであれば特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリルスチレン樹脂等の樹脂フイルム、石英ガラス、パイレックス（登録商標）、合成石英板等のガラスを用いることができる。中でも、上記透明基材としては、軽量且つ破損等の危険性が少ないという点から、樹脂フイルムを用いることが好ましく、複屈折性の面からポリカーボネートが最適である。   The constituent material of the transparent substrate is not particularly limited as long as it shows the above-mentioned light transmittance and haze value, and for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic resin, cycloolefin resin, polyester resin, polystyrene resin. A resin film such as acrylic styrene resin, quartz glass, Pyrex (registered trademark), synthetic quartz plate, or other glass can be used. Among them, as the transparent substrate, it is preferable to use a resin film from the viewpoint of being lightweight and less likely to break, and polycarbonate is most preferable from the viewpoint of birefringence.

上記透明基材は、必要に応じて、添加剤が含まれていてもよい。
上記添加剤としては、例えば、分散剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤等を挙げることができる。 The transparent substrate may contain an additive, if necessary.
Examples of the additive include a dispersant, a filler, a plasticizer, and an antistatic agent.

上記透明基材の膜厚としては、ホログラム層等を支持するための剛性および強度を有することが可能な厚さであればよく、例えば０．００５ｍｍ〜５ｍｍ程度であることが好ましく、中でも０．０２ｍｍ〜１ｍｍの範囲内であることが好ましい。また、上記透明基材の形状については特に限定されるものではなく、本発明のホログラム構造体の使用形態に応じて適宜選択することができる。   The thickness of the transparent base material may be any thickness as long as it has rigidity and strength for supporting the hologram layer and the like, and is preferably, for example, about 0.005 mm to 5 mm. It is preferably in the range of 02 mm to 1 mm. The shape of the transparent substrate is not particularly limited and can be appropriately selected according to the usage of the hologram structure of the present invention.

上記透明基材は、他の層との密着性を向上させるために、例えば表面にコロナ処理等が行われていてもよい。   In order to improve the adhesiveness with the other layers, the transparent substrate may be subjected to, for example, corona treatment on the surface.

（２）画像表示層
本発明のホログラム構造体は、上記光像と組み合わせて用いられる画像を表示する画像表示層を有することが好ましい。
上記画像表示層が表示する画像と、上記ホログラム形成領域内に再生される光像とを組み合わせることが可能となり、上記ホログラム構造体は、偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。 (2) Image Display Layer The hologram structure of the present invention preferably has an image display layer for displaying an image used in combination with the above optical image.
This is because it is possible to combine the image displayed by the image display layer and the optical image reproduced in the hologram forming region, and the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and designability. .

ここで、上記画像としては、光像と組み合わせることで、偽造防止性および意匠性を向上できるものであれば特に限定されるものではない。
上記画像としては、具体的には、本発明のホログラム構造体の用途等に応じて、適宜設定することができ、例えば、パターン、線画、文字、図形、記号等のみならず、単に全面が着色された態様も含むものである。
また、上記光像と組み合わせることで偽造防止性および意匠性をより向上できる画像としては、例えば図９（ａ）および（ｂ）に例示するように、上記ホログラム形成領域の形成箇所を指し示す矢印、上記形成箇所を囲む枠、上記形成箇所であることを示す文字等のホログラム形成領域の認識に用いられる画像、図９（ｃ）および（ｄ）に例示するように上記光像が図形の一部を表わすものである場合に、図形の他の部分を表わす画像、図９（ｅ）および（ｆ）に例示するように上記光像が文字列または数列の一部を表わす画像である場合に、文字列または数列の他の部分を表わす画像、上記光像が太陽を表わす画像である場合に、太陽の周囲に配置される雲や空等の背景を表わす画像等の上記ホログラム形成領域内に再生される光像との組み合わせで１つの統一感のある画像を形成する画像等を挙げることができる。
なお、図９（ａ）、（ｃ）および（ｅ）は、それぞれ、光像再生前の状態を示し、図９（ｂ）、（ｄ）および（ｆ）は、それぞれ光像再生時の状態を示すものである。
また、図９（ａ）および（ｂ）では、画像１５は、ホログラム形成領域１１の形成箇所を指し示す矢印であり、ホログラム形成領域１１内に光像１３として「ホンモノ」を表わす文字列を再生可能なものである。図９（ｃ）および（ｄ）では、画像１５は、楕円の一部であり、光像１３により示される楕円の他の部分と組み合わせて１つの楕円を表示可能なものである。図９（ｅ）および（ｆ）では、画像１５は、文字列「ホンモノ」の一部であり、光像１３により示される文字列「ホンモノ」の他の部分と組み合わせて１つの意味のある文字列「ホンモノ」を表示可能なものである。 Here, the above-mentioned image is not particularly limited as long as it can improve the forgery prevention property and the design property by combining with the optical image.
As the image, specifically, it can be appropriately set according to the application of the hologram structure of the present invention, for example, not only the pattern, line drawing, characters, figures, symbols, etc., but simply the entire surface is colored. The embodiment described above is also included.
Further, as an image capable of further improving anti-counterfeiting property and designability by combining with the optical image, as shown in, for example, FIGS. 9 (a) and 9 (b), an arrow indicating the formation position of the hologram forming region, A frame surrounding the formation location, an image used for recognizing a hologram formation area such as characters indicating the formation location, and the optical image is a part of a figure as illustrated in FIGS. 9C and 9D. , An image showing the other part of the figure, and the optical image is an image showing a part of a character string or a numerical sequence, as illustrated in FIGS. 9 (e) and 9 (f). Reproduced in the hologram forming area such as an image showing other part of a character string or a number sequence, or an image showing the background of clouds, sky, etc. arranged around the sun when the light image is an image showing the sun Paired with a light image Images with a single unity in combined can be given image or the like to form a.
9 (a), 9 (c) and 9 (e) show the state before the optical image reproduction, and FIGS. 9 (b), 9 (d) and 9 (f) show the state before the optical image reproduction, respectively. Is shown.
Further, in FIGS. 9A and 9B, the image 15 is an arrow indicating the formation position of the hologram forming area 11, and a character string representing “real” can be reproduced as the optical image 13 in the hologram forming area 11. It is something. In FIGS. 9C and 9D, the image 15 is a part of the ellipse, and one ellipse can be displayed in combination with the other part of the ellipse shown by the optical image 13. In FIGS. 9E and 9F, the image 15 is a part of the character string “honmon”, and one meaningful character in combination with the other part of the character string “honmon” shown by the optical image 13. The column "real" can be displayed.

上記画像表示層は、所望の画像を表示できるものであればよく、例えば、着色材および樹脂材料を有する印刷層、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有する第２ホログラム層等を挙げることができる。
上記印刷層は、様々な色およびパターンの画像を容易に描画できる。上記第２ホログラム層は、参照光を照射した場合にのみ画像を表示できる。このため、上記印刷層等は、偽造防止性および意匠性に優れたホログラム構造体を容易に形成できるからである。
上記画像表示層は、１種類のみであっても良く、２種類以上を組み合わせて用いるものであっても良い。例えば、画像表示層は、複数の印刷層を含むもの、印刷層および第２ホログラム層を含むもの等とすることができる。
以下、印刷層および第２ホログラム層について説明する。 The image display layer may be any one capable of displaying a desired image, for example, a printing layer having a coloring material and a resin material, a diffraction grating pattern drawn by diffraction grating cells arranged in a pattern in plan view. The 2nd hologram layer which it has can be mentioned.
The print layer can easily draw images of various colors and patterns. The second hologram layer can display an image only when it is irradiated with the reference light. Therefore, the printing layer and the like can easily form a hologram structure excellent in forgery prevention and design.
The image display layer may be of only one type or may be a combination of two or more types. For example, the image display layer may include a plurality of print layers, a print layer and a second hologram layer, and the like.
Hereinafter, the print layer and the second hologram layer will be described.

（ａ）印刷層
上記印刷層は、着色材および樹脂材料を有するものである。
上記樹脂材料としては、例えばポリカーボネート類、ポリエステル類、セルロース誘導体、ノルボルネン系樹脂、ポリ塩化ビニル類、ポリ酢酸ビニル類、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリプロピレン系類、ポリエチレン系類、スチレン系類等の樹脂を用いることができる。
上記着色材としては、印刷層として一般的に用いられるものを使用でき、無機顔料および有機顔料等の顔料、酸性染料、直接染料、分散染料、油溶性染料、含金属油溶性染料、および昇華性色素等の染料等を挙げることができる。
また、上記着色材としては、紫外線または赤外線を吸収することにより蛍光を発する紫外線発光材料および赤外線発光材料等の蛍光発光材料、偏光コレステリック高分子液晶顔料、ガラスビーズなど反射鏡となる粒子も用いることができる。
上記印刷層の形成方法、すなわち、印刷方法としては、一般的な印刷層の形成方法と同様の方法を用いることができる。上記印刷方法としては、具体的には、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷等の各種印刷法を挙げることができる。
また、上記印刷層に用いられるインクとしては、一般的な印刷層の形成に用いられるものを使用でき、上記樹脂材料および着色材を溶媒中に分散または溶解したものを用いることができる。 (A) Printed layer The printed layer contains a coloring material and a resin material.
Examples of the resin material include polycarbonates, polyesters, cellulose derivatives, norbornene resins, polyvinyl chlorides, polyvinyl acetates, acrylic resins, urethane resins, polypropylenes, polyethylenes, styrenes, etc. The resin can be used.
As the coloring material, those generally used as a printing layer can be used, and pigments such as inorganic pigments and organic pigments, acid dyes, direct dyes, disperse dyes, oil-soluble dyes, metal-containing oil-soluble dyes, and sublimation Examples thereof include dyes such as pigments.
Further, as the coloring material, a fluorescent light emitting material such as an ultraviolet light emitting material and an infrared light emitting material that emits fluorescence by absorbing ultraviolet light or infrared light, a polarizing cholesteric polymer liquid crystal pigment, and particles that serve as a reflecting mirror such as glass beads are also used. You can
As the method for forming the print layer, that is, the printing method, the same method as the general method for forming the print layer can be used. Specific examples of the printing method include various printing methods such as inkjet printing, screen printing, offset printing, gravure printing, and flexographic printing.
As the ink used for the printing layer, those used for forming a general printing layer can be used, and those obtained by dispersing or dissolving the above resin material and coloring material in a solvent can be used.

上記印刷層の形成位置としては、ホログラム形成領域内での光像の再生および視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面上、ホログラム層と同一平面上、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面上等とすることができる。
上記印刷層は、上記ホログラム形成領域と平面視上重なるものであっても良いが、通常、重ならないものである。
図１０は、上記印刷層５が、透明基材４のホログラム層１とは反対側の表面上に形成される例を示すものである。 The formation position of the printing layer is not particularly limited as long as it does not hinder the reproduction and visual recognition of the optical image in the hologram formation region, and the hologram layer on the surface opposite to the vapor deposition layer, the hologram. It can be on the same plane as the layer, on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, or the like.
The printed layer may overlap with the hologram forming region in plan view, but it does not usually overlap.
FIG. 10 shows an example in which the printing layer 5 is formed on the surface of the transparent substrate 4 opposite to the hologram layer 1.

（ｂ）第２ホログラム層
上記第２ホログラム層は、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有し、参照光を照射することにより、回折格子セルが配置されたパターン形状の図柄が再生されるものである。
ここで、回折格子図柄は、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された図柄であり、原図柄を例えば碁盤目状の微細セルに分割し、分割された微細セルを回折格子に置き換えて描画されたものである。
図１１（ａ）は、第２ホログラム層を有するホログラム構造体の一例を示す概略平面図であり、図１１（ｂ）は図１１（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。図１１は、蒸着層２のホログラム層１とは反対側の表面に層間接着層３を介して第２ホログラム層６および第２蒸着層７がこの順で積層しているホログラム構造体１０を示すものである。また、図１１では、回折格子セル１６ａが「Ｆ」の文字のパターン状に配置された回折格子図柄１６を有する第２ホログラム層６が用いられる例を示すものであり、参照光を照射することで、回折格子図柄１６に「Ｆ」の文字が再生されるものである。
なお、図１１（ａ）は説明の容易のため、透明基材、層間接着層、ホログラム層および蒸着層の記載を省略するものである。 (B) Second hologram layer The second hologram layer has a diffraction grating pattern drawn by the diffraction grating cells arranged in a pattern in plan view, and the diffraction grating cells are arranged by irradiating the reference light. The pattern of the formed pattern shape is reproduced.
Here, the diffraction grating pattern is a pattern drawn by the diffraction grating cells arranged in a pattern on a plan view, and the original pattern is divided into, for example, grid-shaped fine cells, and the divided fine cells are divided into diffraction gratings. It is drawn by replacing.
11A is a schematic plan view showing an example of a hologram structure having a second hologram layer, and FIG. 11B is a sectional view taken along line BB of FIG. 11A. FIG. 11 shows a hologram structure 10 in which a second hologram layer 6 and a second vapor deposition layer 7 are laminated in this order on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1 with an interlayer adhesive layer 3 interposed therebetween. It is a thing. Further, FIG. 11 shows an example in which the second hologram layer 6 having the diffraction grating pattern 16 in which the diffraction grating cells 16a are arranged in the pattern of the letter “F” is used, and the reference light is irradiated. Then, the character "F" is reproduced on the diffraction grating pattern 16.
Note that in FIG. 11A, the illustration of the transparent base material, the interlayer adhesive layer, the hologram layer, and the vapor deposition layer is omitted for ease of explanation.

上記回折格子図柄は、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であってもよく、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であってもよい。
上記回折格子図柄が平面回折格子図柄であることにより、平面回折格子図柄と上記光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。また、平面回折格子図柄は高輝度なものとすることが容易であり、視認性に優れた回折格子図柄を再生できるからである。
上記回折格子図柄が立体回折格子図柄であることにより、立体回折格子図柄と光像とを組み合わせることが可能となることで、ホログラム構造体は偽造防止性および意匠性に優れたものとなるからである。
上記回折格子図柄は、平面回折格子図柄または立体回折格子図柄であっても良く、両者を組み合わせたものであっても良い。 The diffraction grating pattern may be a plane diffraction grating pattern capable of reproducing the pattern two-dimensionally, or a three-dimensional diffraction grating pattern capable of reproducing the pattern three-dimensionally.
Since the diffraction grating pattern is a plane diffraction grating pattern, it becomes possible to combine the plane diffraction grating pattern and the optical image, so that the hologram structure has excellent anti-counterfeiting property and designability. Is. Further, it is easy to make the plane diffraction grating pattern have high brightness, and it is possible to reproduce the diffraction grating pattern having excellent visibility.
Since the diffraction grating pattern is a three-dimensional diffraction grating pattern, it is possible to combine the three-dimensional diffraction grating pattern and the optical image, so that the hologram structure is excellent in forgery prevention and design. is there.
The diffraction grating pattern may be a plane diffraction grating pattern or a three-dimensional diffraction grating pattern, or may be a combination of both.

上記平面回折格子図柄の形成方法としては、回折格子図柄が回折光の振幅が同程度の回折格子セルを用いて描画する方法を挙げることができる。
また、回折光の振幅を同程度とする方法としては、特許第４９８４９３８号公報に記載されるように、回折格子セルの回折格子が形成されている領域（以下、単に回折格子形成領域と称する場合がある。）の面積を同程度とする方法が挙げられる。すなわち、平面回折格子図柄は、回折格子形成領域の面積が同程度の回折格子セルを敷き詰めることで描画されたものとすることができる。また、同程度の回折格子形成領域の面積として、どの程度の回折格子形成領域の面積の回折格子セルを用いるかについては、平面回折格子図柄が再生可能なものであればよく、再生される平面回折格子図柄のサイズ、カラー表示の有無等に応じて適宜設定されるものである。 As a method of forming the planar diffraction grating pattern, a method of drawing the diffraction grating pattern using a diffraction grating cell having the same amplitude of diffracted light can be mentioned.
Further, as a method for making the amplitudes of diffracted light to be approximately the same, as described in Japanese Patent No. 4989388, a region in which a diffraction grating of a diffraction grating cell is formed (hereinafter, simply referred to as a diffraction grating formation region) There is a method of making the area of the same level. That is, the plane diffraction grating pattern can be drawn by laying out the diffraction grating cells having the same area of the diffraction grating forming region. Further, as to the area of the diffraction grating forming area of the same extent, the area of the diffraction grating forming area to be used may be any one as long as the plane diffraction grating pattern can be reproduced. It is appropriately set according to the size of the diffraction grating pattern, the presence or absence of color display, and the like.

上記立体回折格子図柄の形成方法としては、上記回折格子図柄の端部側より中央部側に回折光の振幅が大きい回折格子セルを配置する方法が挙げられる。
より具体的には、図１１では、「Ｆ」の文字が回折格子セルを幅方向に３個配置した描画線により描画されている（例えば、１６ａ１、１６ａ２および１６ａ３）。この場合、描画線の幅方向の端部側に配置される回折格子セル１６ａ１および１６ａ３より、中央部側に配置される回折格子セル１６ａ２を回折光の振幅が大きい回折格子セルとすることで、参照光を照射した際に「Ｆ」の文字が立体的に浮かび上がるように再生することが可能となる。
また、回折光の振幅を端部側より中央部側を大きくする方法としては、特許第４９８４９３８号公報に記載されるように、端部側より中央部側に回折格子形成領域の面積が広い回折格子セルを配置する方法を挙げることができる。すなわち、立体回折格子図柄は、回折格子図柄の端部側より中央部側に回折格子形成領域の面積が広い回折格子セルが配置されたものとすることができる。
例えば、図１１中の回折格子セル１６ａ１〜１６ａ３の拡大図である図１２に例示するように、描画線の幅方向の端部側に配置される回折格子セル１６ａ１および１６ａ３より、中央部側に配置される回折格子セル１６ａ２を、回折格子形成領域２６の面積が広い回折格子セルとすることができる。 As a method of forming the three-dimensional diffraction grating pattern, there is a method of arranging a diffraction grating cell in which the amplitude of diffracted light is larger from the end side to the central side of the diffraction grating pattern.
More specifically, in FIG. 11, the letter “F” is drawn by a drawing line in which three diffraction grating cells are arranged in the width direction (for example, 16a1, 16a2, and 16a3). In this case, by setting the diffraction grating cell 16a2 arranged on the central side of the diffraction grating cells 16a1 and 16a3 arranged on the end side in the width direction of the drawing line to have a larger amplitude of diffracted light, It is possible to reproduce so that the letter “F” appears three-dimensionally when irradiated with the reference light.
Further, as a method of increasing the amplitude of the diffracted light from the end side toward the central side, as described in Japanese Patent No. 4989388, the diffraction grating forming region having a wider area from the end side toward the central side is used. The method of arranging a lattice cell can be mentioned. That is, the three-dimensional diffraction grating pattern may be one in which the diffraction grating cells having a wide area of the diffraction grating forming region are arranged from the end side to the center side of the diffraction grating pattern.
For example, as illustrated in FIG. 12, which is an enlarged view of the diffraction grating cells 16a1 to 16a3 in FIG. 11, the diffraction grating cells 16a1 and 16a3 arranged on the end side in the width direction of the drawing line are closer to the center side. The arranged diffraction grating cell 16a2 can be a diffraction grating cell having a wide area of the diffraction grating forming region 26.

回折格子図柄を描画するためにパターン状に配置される回折格子セル（以下、単に回折格子セルと称する場合がある。）の格子ピッチ、格子角度、格子密度（図柄に対して回折格子セルが占める平面視上の面積割合）は、参照光が照射された際に再生される図柄に応じて適宜設定されるものである。
例えば、格子ピッチをそれぞれ１．２μｍ程度、１．０μｍ程度および０．８μｍ程度とすることで、それぞれ波長６００ｎｍ用（赤色用）、５００ｎｍ用（緑色用）、４００ｎｍ（青色用）の光を回折するものとすることで、カラー画像を再生可能なものとすることができる。
また、さらに格子角度および格子密度により様々な図柄を表現可能なものとすることができる。 Grating pitch, grating angle, grating density of a diffraction grating cell (hereinafter, sometimes simply referred to as a diffraction grating cell) arranged in a pattern for drawing a diffraction grating pattern (a diffraction grating cell occupies a pattern) The area ratio in plan view) is appropriately set according to the pattern reproduced when the reference light is irradiated.
For example, by setting the grating pitch to about 1.2 μm, about 1.0 μm, and about 0.8 μm, respectively, the wavelengths of 600 nm (for red), 500 nm (for green), and 400 nm (for blue) are diffracted. By doing so, a color image can be reproduced.
Further, various patterns can be expressed by the lattice angle and the lattice density.

上記回折格子セルの平面視サイズとしては、再生される回折格子図柄に応じて適宜設定できるものであるが、例えば、５μｍ角以上１００μｍ角以内とすることができる。上記平面視サイズであることにより、高精細な回折格子図柄を描画できるからである。また、回折格子図柄を描画する個々の回折格子セルの存在を隠ぺいできるからである。   The size of the diffraction grating cell in plan view can be appropriately set according to the diffraction grating pattern to be reproduced, but can be, for example, 5 μm square or more and 100 μm square or less. This is because a high-definition diffraction grating pattern can be drawn with the size in plan view. Also, it is possible to hide the existence of the individual diffraction grating cells for drawing the diffraction grating pattern.

上記回折格子セルの平面視形状としては、再生される回折格子図柄に応じて適宜設定できるものであるが、例えば、上記「１．ホログラム層」の項に記載のホログラムセルと同様とすることができる。   The plan-view shape of the diffraction grating cell can be appropriately set according to the diffraction grating pattern to be reproduced. For example, it may be the same as the hologram cell described in the above section “1. Hologram layer”. it can.

上記第２ホログラム層の形成箇所は、上記ホログラム層と同一平面上であっても良く、上記ホログラム層の上記蒸着層側の表面上または、上記蒸着層とは反対側の表面上であってもよい。第２ホログラム層がホログラム層と同一平面上に形成される例としては、ホログラム層および第２ホログラム層が一体として形成され、ホログラム層の非ホログラム領域に回折格子図柄が形成されるものを挙げることができる。
なお、既に説明した図１１は、上記第２ホログラム層６が、ホログラム層１の蒸着層２側の表面上に配置される例を示すものである。
また、上記第２ホログラム層は、通常、回折格子図柄がホログラム形成領域と平面視上重ならないように配置されるものである。 The formation position of the second hologram layer may be on the same plane as the hologram layer, or may be on the surface of the hologram layer on the side of the vapor deposition layer or on the surface opposite to the vapor deposition layer. Good. An example in which the second hologram layer is formed on the same plane as the hologram layer is that the hologram layer and the second hologram layer are integrally formed, and the diffraction grating pattern is formed in the non-hologram region of the hologram layer. You can
Note that FIG. 11 described above shows an example in which the second hologram layer 6 is arranged on the surface of the hologram layer 1 on the vapor deposition layer 2 side.
Further, the second hologram layer is usually arranged so that the diffraction grating pattern does not overlap the hologram formation region in plan view.

上記第２ホログラム層に記録された回折格子図柄の再生に用いられる参照光については特に限定されるものではなく、一般的なホログラムに用いられるものを使用できる。
上記参照光としては、具体的には、可視光を含む光を用いることができる。
例えば、参照光は、上記ホログラム層のホログラム形成領域の再生に用いられる点光源と同一とすることができる。ホログラム形成領域に記録された光像の再生と同時に第２ホログラム層に記録された回折格子図柄を再生できるからである。
また、上記参照光は、点光源に限らず、太陽光等の平行光等であっても良い。
上記ホログラム構造体は、例えば、上記点光源以外の光源からの参照光が照射される明所に配置することで第２ホログラム層に記録された回折格子図柄を再生でき、さらにその明所において、上記点光源をホログラム形成領域上に配置することで光像も再生可能となる。 The reference light used for reproducing the diffraction grating pattern recorded in the second hologram layer is not particularly limited, and those used for general holograms can be used.
As the reference light, specifically, light including visible light can be used.
For example, the reference light can be the same as the point light source used for reproducing the hologram formation area of the hologram layer. This is because the diffraction grating pattern recorded in the second hologram layer can be reproduced simultaneously with the reproduction of the optical image recorded in the hologram forming area.
The reference light is not limited to a point light source, and may be parallel light such as sunlight.
The hologram structure can reproduce the diffraction grating pattern recorded in the second hologram layer by arranging the hologram structure in a bright place where reference light from a light source other than the point light source is irradiated, and in the bright place, By arranging the point light source on the hologram forming area, an optical image can be reproduced.

上記第２ホログラム層を構成する材料としては、回折格子セルに含まれる回折格子として機能する凹凸形状を形成できるものであれば特に限定されるものではない。
このような材料としては、上記「１．ホログラム層」の項に記載のホログラム層の構成材料と同様とすることができる。 The material forming the second hologram layer is not particularly limited as long as it can form the uneven shape that functions as the diffraction grating included in the diffraction grating cell.
Such a material may be the same as the constituent material of the hologram layer described in the above section “1. Hologram layer”.

上記第２ホログラム層の膜厚としては、安定的に回折格子の凹凸形状を形成可能なものであればよく、上記「１．ホログラム層」の項に記載のホログラム層と同様とすることができる。   The thickness of the second hologram layer may be the same as that of the hologram layer described in the above section “1. Hologram layer” as long as it can stably form the uneven shape of the diffraction grating. .

本発明のホログラム構造体は、第２ホログラム層の回折格子図柄の凹凸表面に接するように形成される第２蒸着層を有するものとすることができる。
このような第２蒸着層としては、第２ホログラム層を反射型として機能可能とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、反射型ホログラムに一般的に用いられるものとすることができる。具体的には、上記第２蒸着層は、上記「２．蒸着層」の項に記載の内容と同様とすることができる。 The hologram structure of the present invention may have a second vapor deposition layer formed in contact with the uneven surface of the diffraction grating pattern of the second hologram layer.
The second vapor deposition layer is not particularly limited as long as the second hologram layer can function as a reflection type hologram, and is generally used for reflection holograms. You can Specifically, the second vapor deposition layer can have the same content as described in the above section “2. Vapor deposition layer”.

（３）層間接着層
本発明のホログラム構造体は、各構成間を接着する層間接着層を有するものであっても良い。
なお、層間接着層については、ホログラム構造体に一般的に用いられるものを使用することができ、上記透明基材およびホログラム層等を構成する材料に応じて適宜選択されるものである。
上記層間接着層としては、例えば、２液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の公知の接着剤層を用いることができる。
上記層間接着層の厚みについては、接着する構成の大きさ等により適宜設定されるものである。 (3) Interlayer Adhesive Layer The hologram structure of the present invention may have an interlayer adhesive layer for adhering the respective components.
As the interlayer adhesive layer, those generally used for hologram structures can be used, and they are appropriately selected depending on the materials constituting the transparent substrate, hologram layer and the like.
As the interlayer adhesive layer, for example, a known adhesive layer such as a two-component curing type adhesive layer, an ultraviolet curing type adhesive layer, a thermosetting type adhesive layer, or a heat melting type adhesive layer can be used.
The thickness of the interlayer adhesive layer is appropriately set depending on the size of the structure to be adhered and the like.

（４）接着層
本発明のホログラム構造体は、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有していてもよい。接着層を有することにより、上記ホログラム構造体は被着体に容易に貼付可能となるからである。 (4) Adhesive Layer The hologram structure of the present invention may have an adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer. This is because the hologram structure can be easily attached to the adherend by having the adhesive layer.

上記接着層は透明性を有するものであっても良く、遮光性を有するものであっても良い。   The adhesive layer may have transparency or may have a light shielding property.

上記接着層は、粘着性を有する粘着剤層であってもよく、密着性および再剥離性の双方の特性を有する再剥離密着層であってもよい。
なお、上記接着層は、上記層間接着層と同様に２液硬化型接着剤層、紫外線硬化型接着剤層、熱硬化型接着剤層、熱溶融型接着剤層等の接着剤層であっても良い。
上記接着層が粘着剤層である場合、本発明のホログラム構造体を所望の部材に強固に貼りあわせることができ、被着体からホログラム構造体が剥がれにくいものとすることが可能となる。
また、上記接着層が再剥離密着層である場合、再剥離密着層と被着体との間に空気が入らないよう密着させることにより、本発明のホログラム構造体を所望の部材に貼りあわせることができる。このような再剥離密着層は、被着体に粘着剤等による跡を残すことなく容易に密着および剥離を繰り返し行うことが可能であり、被着体へのダメージを抑えることができる。 The adhesive layer may be a pressure-sensitive adhesive layer having tackiness, or may be a repeelable adhesion layer having properties of both adhesion and removability.
The adhesive layer is an adhesive layer such as a two-component curable adhesive layer, an ultraviolet curable adhesive layer, a thermosetting adhesive layer, or a heat-melting adhesive layer, similar to the interlayer adhesive layer. Is also good.
When the adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer, the hologram structure of the present invention can be firmly adhered to a desired member, and the hologram structure can be prevented from peeling off from the adherend.
When the adhesive layer is a re-adhesion adhesion layer, the re-adhesion adhesion layer and the adherend are adhered to each other so that air does not enter, so that the hologram structure of the present invention is bonded to a desired member. You can Such a re-peelable adhesion layer can easily repeat adhesion and peeling without leaving a trace of an adhesive or the like on the adherend, and can suppress damage to the adherend.

上記接着層が粘着剤層である場合、上記粘着剤層に用いられる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタンエステル系樹脂、またはフッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エチレン酢酸ビニル系樹脂、ラテックス系樹脂であることが好ましい。   When the adhesive layer is a pressure-sensitive adhesive layer, examples of the resin used for the pressure-sensitive adhesive layer include acrylic resin, ester resin, urethane resin, ethylene vinyl acetate resin, latex resin, epoxy resin, polyurethane. Examples thereof include ester-based resins, fluorine-based resins such as vinylidene fluoride-based resin (PVDF) and vinyl fluoride-based resin (PVF), and polyimide-based resins such as polyimide, polyamide-imide, and polyetherimide. Among the above resins, acrylic resins, urethane resins, ethylene vinyl acetate resins, and latex resins are preferable.

また、上記接着層が再剥離密着層である場合、上記再剥離密着層に用いられる樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、アクリル酸エステル樹脂、またはこれらの共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、天然ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステル、テルペン樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリビニルエーテル、シリコーン樹脂等を挙げることができる。上記樹脂は、中でもアクリル系樹脂、シリコーン樹脂であることが好ましい。アクリル系樹脂は、被着体の表面に多少の凹凸がある場合であっても接着が可能であるからである。また、シリコーン樹脂は、密着および剥離を繰り返し行っても接着強度が低下しにくいからである。   Further, when the adhesive layer is a re-peeling adhesion layer, the resin used for the re-peeling adhesion layer is, for example, an acrylic resin, an acrylic ester resin, or a copolymer thereof, a styrene-butadiene copolymer, Examples thereof include natural rubber, casein, gelatin, rosin ester, terpene resin, phenol resin, styrene resin, coumarone indene resin, polyvinyl ether, and silicone resin. Above all, the resin is preferably an acrylic resin or a silicone resin. This is because the acrylic resin can be bonded even if the surface of the adherend has some irregularities. Further, the silicone resin is less likely to reduce the adhesive strength even after repeated adhesion and peeling.

上記接着層の厚みとしては、本発明のホログラム構造体の種類や用途等に応じて適宜選択されるが、通常１μｍ〜５００μｍの範囲内とすることが好ましく、中でも２μｍ〜５０μｍの範囲内とすることが好ましい。上記厚みが上述の範囲内であることにより、接着層は、接着性に優れたものとなるからである。   The thickness of the adhesive layer is appropriately selected depending on the type and application of the hologram structure of the present invention, but is usually preferably in the range of 1 μm to 500 μm, and particularly in the range of 2 μm to 50 μm. It is preferable. When the thickness is within the above range, the adhesive layer has excellent adhesiveness.

（５）剥離シート
また、本発明のホログラム構造体は、上述した接着層上に剥離シートが配置されていてもよい。本発明のホログラム構造体を接着層を介して所望の被着体に貼り合せる直前に、剥離シートと接着層とを剥離して使用することが可能となる。これにより、接着層と被着体との間に異物が付着することを防止できる。 (5) Release Sheet In the hologram structure of the present invention, a release sheet may be arranged on the above-mentioned adhesive layer. Just before the hologram structure of the present invention is attached to a desired adherend via the adhesive layer, the release sheet and the adhesive layer can be separated and used. This can prevent foreign matter from adhering between the adhesive layer and the adherend.

上記剥離シートとしては、接着層を保護することができ、且つ上記接着層から容易に剥離することが可能なものであれば、特に限定されるものではない。このような剥離シートとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）等からなる層とすることができる。
上記剥離シートの厚さは、本発明のホログラム構造体の種類や用途等に応じて適宜選択される。 The release sheet is not particularly limited as long as it can protect the adhesive layer and can be easily released from the adhesive layer. As such a release sheet, for example, a layer made of polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyphenylene sulfide (PPS), or the like can be used.
The thickness of the release sheet is appropriately selected according to the type and application of the hologram structure of the present invention.

また、上記剥離シートの接着層と接する側の面には、接着層との剥離操作を容易とするために、剥離処理が施されていることが好ましい。このような処理方法としては、例えばシリコーン処理、アルキッド処理等が挙げられるが、特に限定されるものではない。   Further, it is preferable that the surface of the release sheet, which is in contact with the adhesive layer, is subjected to a release treatment in order to facilitate an operation of releasing from the adhesive layer. Examples of such a treatment method include, but are not particularly limited to, silicone treatment and alkyd treatment.

（６）任意の部材
さらに、本発明のホログラム構造体は、上記透明基材上や上記ホログラム層の非ホログラム形成領域上に紫外線吸収層や赤外線吸収層、反射防止層等を有していてもよい。この様な層を有することにより、上記ホログラム構造体に紫外線吸収機能や赤外線吸収機能、反射防止機能等を付与することができ、本発明のホログラム構造体を各種フィルタ等としても用いることが可能となる。
なお、これらの層については、一般的に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 (6) Optional member Further, the hologram structure of the present invention may have an ultraviolet absorbing layer, an infrared absorbing layer, an antireflection layer, or the like on the transparent substrate or on the non-hologram forming region of the hologram layer. Good. By having such a layer, it is possible to impart an ultraviolet absorbing function, an infrared absorbing function, an antireflection function, or the like to the hologram structure, and it is possible to use the hologram structure of the present invention as various filters and the like. Become.
Note that these layers can be the same as those generally used, and thus description thereof is omitted here.

４．ホログラム構造体
本発明のホログラム構造体は、ホログラム構造体を被着体に接着して使用するものであっても良く、被着体に接着せずに使用するものであっても良い。 4. Hologram Structure The hologram structure of the present invention may be used by adhering the hologram structure to an adherend, or may be used without adhering to the adherend.

上記被着体に接着して使用する態様としては、被着体との接着に用いられる接着層を有するものであれば特に限定されるものではなく、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられる態様（第１使用態様）、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられる態様（第２使用態様）等を挙げることができる。
また、上記被着体に接着せずに使用する態様としては、情報記録媒体として用いられる態様（第３使用態様）等を挙げることができる。 The mode of use by adhering to the adherend is not particularly limited as long as it has an adhesive layer used for adhering to the adherend, and the opposite side of the vapor deposition layer from the hologram layer. Having an adhesive layer formed on the surface of the above, and used as a hologram seal (first usage mode), a heat seal layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and the hologram layer. And a peeling base material formed on the surface of the peeling easy layer opposite to the hologram layer, and a peeling base material formed on the surface opposite to the vapor deposition layer. And the like (second usage mode) and the like.
Examples of the mode of use without adhering to the adherend include a mode used as an information recording medium (third use mode).

（１）第１使用態様
本発明のホログラム構造体の第１使用態様は、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、ホログラムシールとして用いられる態様である。 (1) First Usage Mode A first usage mode of the hologram structure of the present invention is an embodiment having an adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer and used as a hologram seal. is there.

このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図１３は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図１３に例示するように、本態様のホログラム構造体１０は、上記蒸着層２の上記ホログラム層１とは反対側の表面に形成された接着層３１を有し、ホログラムシールとして用いられるものである。
なお、図１３中の符号については、図１および図２のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、この例においては、ホログラム構造体１０は、接着層３１の蒸着層２とは反対側の表面に剥離シート３２を有するものである。 Such a hologram structure of this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure of this aspect. As illustrated in FIG. 13, the hologram structure 10 of this embodiment has an adhesive layer 31 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1, and is used as a hologram seal. is there.
Note that reference numerals in FIG. 13 indicate the same members as those in FIGS. 1 and 2, and therefore description thereof will be omitted here.
Further, in this example, the hologram structure 10 has a release sheet 32 on the surface of the adhesive layer 31 opposite to the vapor deposition layer 2.

本態様によれば、上記接着層を有することにより、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できる。
このような本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、チケット、ブランド品、製品の品質管理番号ラベル等に貼り付けて、点光源をホログラム形成領域上に配置することでホログラム形成領域内に再生される光像を用いて真贋判定を行う用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。 According to this aspect, by having the above-mentioned adhesive layer, it is possible to easily provide the adherend with anti-counterfeiting property and designability.
A specific application of the hologram structure of this aspect is to attach it to a ticket, a brand-name product, a product quality control number label, or the like, and place a point light source on the hologram formation region so that the hologram Examples include applications for making authenticity determinations by using the reproduced optical image, applications for imparting design characteristics, and the like.

本態様のホログラム構造体は、接着層を有するものである。
なお、接着層については、上記「３．その他の構成」の項に記載の内容と同様とすることができる。
また、必要に応じて、上記「３．その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであっても良い。 The hologram structure of this aspect has an adhesive layer.
The adhesive layer may be the same as the content described in the above section “3. Other configurations”.
In addition, it may have other configurations and the like described in the above section “3. Other configurations”, if necessary.

（２）第２使用態様
本発明のホログラム構造体の第２使用態様は、上記蒸着層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、上記ホログラム層の上記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、上記剥離容易層の上記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、を有し、ホログラム転写箔として用いられる態様である。 (2) Second Usage Mode A second usage mode of the hologram structure of the present invention is a heat seal layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and the vapor deposition layer of the hologram layer. Is an easy-peel layer formed on the surface on the opposite side, and a peeling base material formed on the surface of the easy-peel layer opposite to the hologram layer, and is used as a hologram transfer foil. is there.

このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図１４は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図１４に例示するように、本態様のホログラム構造体１０は、上記蒸着層２の上記ホログラム層１とは反対側の表面に形成されたヒートシール層３３と、上記ホログラム層１の上記蒸着層２とは反対側の表面に形成された剥離容易層３４と、上記剥離容易層３４の上記ホログラム層１とは反対側の表面に形成された剥離用基材３５と、を有し、ホログラム転写箔として用いられるものである。
なお、図１４中の符号については、図１および図２のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
また、この例においては、ホログラム構造体１０は、ヒートシール層３３の蒸着層２とは反対側の表面に剥離シート３２を有するものである。 Such a hologram structure of this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 14 is a schematic sectional view showing an example of the hologram structure of this embodiment. As illustrated in FIG. 14, the hologram structure 10 of the present embodiment includes a heat seal layer 33 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1, and the vapor deposition layer of the hologram layer 1. 2 has a peelable layer 34 formed on the surface opposite to the surface 2 and a peeling substrate 35 formed on the surface of the peelable layer 34 opposite to the hologram layer 1. It is used as a foil.
Note that the reference numerals in FIG. 14 indicate the same members as those in FIGS. 1 and 2, and therefore description thereof will be omitted here.
Further, in this example, the hologram structure 10 has a release sheet 32 on the surface of the heat seal layer 33 opposite to the vapor deposition layer 2.

本態様によれば、上記ホログラム層および蒸着層を有するものであることにより、被着体に容易に偽造防止性および意匠性を付与できる。
また、ホログラム層の蒸着層とは反対側に剥離層を介して剥離用基材が形成されていることにより、被着体に貼付する前にホログラム構造体が損傷することを防ぐことができる。
このような本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、チケット、ブランド品、製品の品質管理番号ラベル等に所望のパターン形状で転写して、点光源をホログラム形成領域上に配置することでホログラム形成領域内に再生される光像を用いて真贋判定を行う用途、意匠性を付与する用途等を挙げることができる。 According to this aspect, since it has the hologram layer and the vapor deposition layer, it is possible to easily give the adherend anti-counterfeiting property and designability.
Further, since the peeling base material is formed on the side of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer via the peeling layer, it is possible to prevent the hologram structure from being damaged before being attached to the adherend.
As a specific application of such a hologram structure of this aspect, a point light source is arranged on the hologram formation region by transferring it to a ticket, a brand product, a product quality control number label, or the like in a desired pattern shape. In the above, there can be mentioned an application for making authenticity determination using an optical image reproduced in the hologram forming area, an application for imparting a design property, and the like.

本態様のホログラム構造体は、ヒートシール層、剥離容易層および剥離用基材を有するものである。
以下、本態様のホログラム構造体の各構成について詳細に説明する。 The hologram structure of this aspect has a heat seal layer, an easy peeling layer, and a peeling base material.
Hereinafter, each configuration of the hologram structure of this aspect will be described in detail.

上記ヒートシール層は、ホログラム層および蒸着層と被着体とを接着させる機能を有するものである。   The heat seal layer has a function of bonding the hologram layer and the vapor deposition layer to the adherend.

このようなヒートシール層としては、ホログラム層と被着体とを接着できるものであれば特に限定されるものではなく、本態様のホログラム構造体からホログラム層および蒸着層が転写される被着体の種類に応じて適宜設定されるものである。
上記ヒートシール層としては、例えば、特開２０１４−１６４２２号公報等に記載の熱可塑性樹脂を含むヒートシール層を用いることができる。 The heat seal layer is not particularly limited as long as it can bond the hologram layer and the adherend, and the adherend on which the hologram layer and the vapor deposition layer are transferred from the hologram structure of the present embodiment It is appropriately set according to the type of.
As the heat seal layer, for example, a heat seal layer containing a thermoplastic resin described in JP-A-2014-16422 can be used.

上記剥離用基材は、ホログラム層および蒸着層等を支持するものである。
また、上記剥離用基材は、本態様のホログラム構造体を被着体に接着した後にホログラム構造体から剥離されるものである。
このような剥離用基材としては、透明性を有するものであっても良く、遮光性を有するものであっても良い。
上記剥離用基材を構成する材料および膜厚としては、例えば、上記「３．その他の構成」の項に記載の透明基材と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 The peeling base material supports the hologram layer, the vapor deposition layer and the like.
The peeling base material is peeled from the hologram structure after adhering the hologram structure of this embodiment to an adherend.
Such a peeling substrate may have transparency or may have a light shielding property.
The material and the film thickness of the peeling base material can be the same as those of the transparent base material described in the above section “3. Other configurations”, and thus the description thereof is omitted here.

上記剥離容易層は、ホログラム層を接着層を介して被着体に接着した後に、剥離用基材およびホログラム層を容易に分離するために設けられるものである。
このような剥離容易層としては、上記「３．その他の構成」の項に記載の再剥離密着層を用いることができる。 The easy peeling layer is provided to easily separate the peeling base material and the hologram layer after the hologram layer is bonded to the adherend via the adhesive layer.
As such an easily peelable layer, the re-peelable adhesion layer described in the above section “3. Other configurations” can be used.

上記剥離容易層の平面視上の形成箇所としては、剥離用基材をホログラム層に対して容易に剥離可能とするものであれば特に限定されるものではない。   There are no particular restrictions on the formation location of the peelable layer in plan view, provided that the peeling base material can be easily peeled from the hologram layer.

本態様のホログラム構造体は、必要に応じて、上記「３．その他の構成」の項に記載のその他の構成等を有するものであっても良い。   The hologram structure of this aspect may have the other configuration or the like described in the above section “3. Other configurations”, if necessary.

（３）第３使用態様
本発明のホログラム構造体の第３使用態様は、情報記録媒体として用いられる態様である。 (3) Third Usage Aspect The third usage aspect of the hologram structure of the present invention is an aspect used as an information recording medium.

このような本態様のホログラム構造体について図面を参照して説明する。図１５は、本態様のホログラム構造体の一例を示す概略断面図である。図１５に例示するように、本態様のホログラム構造体１０は、蒸着層２のホログラム層１とは反対側の表面に形成された裏面側保護層３６と、ホログラム層１の蒸着層２とは反対側の表面に形成された表面側保護層３７と、を有し、情報記録媒体として用いられるものである。
なお、図１５中の符号については、図１および図２のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。 Such a hologram structure of this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 15 is a schematic cross-sectional view showing an example of the hologram structure of this aspect. As illustrated in FIG. 15, the hologram structure 10 of the present embodiment has a back surface side protective layer 36 formed on the surface of the vapor deposition layer 2 opposite to the hologram layer 1 and the vapor deposition layer 2 of the hologram layer 1. And a front surface side protective layer 37 formed on the opposite surface, and is used as an information recording medium.
Note that the reference numerals in FIG. 15 indicate the same members as those in FIGS. 1 and 2, and therefore description thereof will be omitted here.

本態様によれば、情報記録媒体として用いれることで、偽造防止性および意匠性に優れた情報記録媒体とすることができる。
本態様のホログラム構造体の具体的な用途としては、例えば、クレジットカード、キャッシュカード、ポイントカード等のカード、社員証、運転免許所等の身分証明書、通帳、パスポート等を挙げることができる。 According to this aspect, by being used as an information recording medium, it is possible to provide an information recording medium excellent in forgery prevention and design.
Specific applications of the hologram structure of this aspect include, for example, credit cards, cash cards, point cards, and other cards, employee ID cards, identification cards such as driver's licenses, passbooks, and passports.

本態様のホログラム構造体は、ホログラム層および蒸着層を有するものであるが、情報記録媒体用の種類に応じてその他の構成を有するものであっても良い。   The hologram structure of this aspect has a hologram layer and a vapor deposition layer, but may have other configurations depending on the type of the information recording medium.

このようなその他の構成としては、例えば、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成された裏面側保護層と、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成された表面側保護層と、を挙げることができる。
上記表面側保護層は、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面に形成され、ホログラム層を保護するものであり、少なくとも、上記ホログラム形成領域と平面視上重なる領域が透明性を有するものが用いられる。
上記裏面側保護層は、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面に形成され、ホログラム層および蒸着層を保護するものである。このような裏面側保護層としては、透明性を有するものであっても良く、遮光性を有するものであっても良い。
このような表面側保護層および裏面側保護層の構成材料および膜厚については、例えば、上記「３．その他の構成」の項に記載の透明基材と同様とすることができる。
また、上記表面側保護層および上記裏面側保護層の形成箇所としては、ホログラム層等を保護できるものであればよいが、ホログラム層および蒸着層の全面を覆うものとすることができる。 Such other configurations include, for example, a back side protective layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and a front surface side protection layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer. Layers can be mentioned.
The surface-side protective layer is formed on the surface of the hologram layer on the side opposite to the vapor-deposited layer, and protects the hologram layer, and at least the area that overlaps with the hologram formation area in plan view is transparent. Used.
The back side protective layer is formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and protects the hologram layer and the vapor deposition layer. Such a back side protective layer may be transparent or may have a light blocking property.
The constituent materials and film thicknesses of the front surface side protective layer and the back surface side protective layer can be the same as those of the transparent substrate described in the above section “3. Other configurations”, for example.
The front side protective layer and the back side protective layer may be formed on the entire surface of the hologram layer and the vapor deposition layer as long as they can protect the hologram layer and the like.

上記その他の構成としては、情報を記録する情報記録層等を挙げることができる。
上記情報記録層としては、印刷により情報が記録された印刷層、磁気等により情報が記録された磁気層、集積回路（ＩＣ）チップを含むＩＣチップ層等を挙げることができる。
上記その他の構成としては、アンテナを含むアンテナ層等の機能層を含むことができる。
これらの情報記録層および機能層等の形成箇所としては、ホログラム形成領域内での光像の再生および視認を妨げない位置であれば特に限定されるものではなく、例えば、ホログラム層の蒸着層とは反対側の表面上、ホログラム層と同一平面上、蒸着層のホログラム層とは反対側の表面上等とすることができる。 The above-mentioned other structure may include an information recording layer for recording information.
Examples of the information recording layer include a printed layer on which information is recorded by printing, a magnetic layer on which information is recorded by magnetism, an IC chip layer including an integrated circuit (IC) chip, and the like.
The above other structure may include a functional layer such as an antenna layer including an antenna.
The locations where these information recording layers and functional layers are formed are not particularly limited as long as they are positions that do not interfere with the reproduction and visual recognition of the optical image in the hologram formation region. On the opposite surface, on the same plane as the hologram layer, on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer, and the like.

５．製造方法
本発明のホログラム構造体の製造方法は、上記各構成を含むホログラム構造体を精度良く製造できる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的なホログラム構造体の形成方法と同様の方法を用いることができる。
上記製造方法としては、具体的には、透明基材を準備し、ホログラム層および蒸着層をこの順で形成する方法を挙げることができる。 5. Manufacturing Method The method for manufacturing the hologram structure of the present invention is not particularly limited as long as it is a method that can accurately manufacture the hologram structure including the above-described configurations, and is similar to a general method for forming a hologram structure. Any method can be used.
Specific examples of the manufacturing method include a method of preparing a transparent substrate and forming a hologram layer and a vapor deposition layer in this order.

６．用途
本発明のホログラム構造体の用途としては、偽造防止用途に用いられるものとすることができ、クレジットカード、キャッシュカード等のカード等を含む情報記録媒体を挙げることができる。
また、ホログラム構造体を他の被着体に接着可能な接着層を有するものとし、被着体に貼付可能なホログラム構造体シール等として用いられるものであっても良い。
さらに、ホログラム構造体として、ヒートシール層を有するものとし、被着体に転写可能なホログラム構造体転写箔等として用いられるものであっても良い。 6. Uses The hologram structure of the present invention can be used for anti-counterfeiting purposes, and examples thereof include information recording media including cards such as credit cards and cash cards.
Further, the hologram structure may have an adhesive layer capable of adhering to another adherend, and may be used as a hologram structure seal or the like that can be attached to the adherend.
Further, the hologram structure may have a heat seal layer and may be used as a hologram structure transfer foil or the like that can be transferred to an adherend.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, has substantially the same configuration as the technical idea described in the scope of the claims of the present invention, and has any similar effect to the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下に実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.

[実施例１]
＜原版およびホログラム構造体の形成＞
合成石英の基板上に表面低反射クロム薄膜が積層されたフォトマスクブランク板のクロム薄膜上に、ドライエッチング用レジストをスピンナーにより回転塗布した。ドライエッチング用レジストとしては日本ゼオン（株）製ＺＥＰ７０００を使用し、４００ｎｍの厚みとなるように形成した。このレジスト層に対し、電子線描画装置(MEBES4500：ETEC社製)を用い、事前に計算機で作成したパターンを露光し、レジスト樹脂の露光部分を易溶化した。その後、現像液を噴霧し（スプレー現像）して易溶化部分を除去し、レジストパターンを形成した。
なお、パターンの格子ピッチは、３１７９ｎｍとした。
続いて、形成されたレジストパターンを利用して、ドライエッチングによりレジストで被覆されていない部分のクロム薄膜をエッチング除去し、石英基板を露出させた。次いで、露出した石英基板をエッチングし、石英基板に凹部を形成した。その後、レジスト薄膜を溶解除去することにより、石英基板がエッチングされて生じた凹部と、石英基板およびクロム薄膜がエッチングされずに残存している凸部とを有する原版を得た。また、原版のサイズ、すなわち、ホログラムセルのサイズを０．２５ｍｍとした。
厚み０．５ｍｍのポリカーボネートシート（透明基材）に、ホログラム層形成用組成物（ＵＶ硬化性アクリレート樹脂：屈折率１．５２ 測定波長６３３ｎｍ)を滴下し、上記組成物の塗膜を形成した。次いで、上記塗膜上に凹凸を有する原版を積置し、押圧した。次に、活性放射線を照射して上記塗膜を硬化させた後剥離させ、原版の凹凸型を反転させた凹凸表面を有するホログラムセルを形成した。その後、原版の積置、押圧、硬化および剥離を繰り返し、ホログラムセルが敷き詰められた１５ｍｍ角のホログラム形成領域を有する厚さ２μｍのホログラム層を形成した。 [Example 1]
<Formation of original plate and hologram structure>
A dry etching resist was spin-coated with a spinner on a chromium thin film of a photomask blank plate in which a surface low-reflection chromium thin film was laminated on a synthetic quartz substrate. As a dry etching resist, ZEP7000 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. was used and was formed to have a thickness of 400 nm. An electron beam drawing device (MEBES4500: manufactured by ETEC) was used to expose this resist layer with a pattern prepared in advance by a computer to easily solubilize the exposed portion of the resist resin. After that, a developing solution was sprayed (spray development) to remove the easily-solubilized portion and form a resist pattern.
The lattice pitch of the pattern was 3179 nm.
Then, using the formed resist pattern, the chromium thin film in the portion not covered with the resist was etched away by dry etching to expose the quartz substrate. Next, the exposed quartz substrate was etched to form a recess in the quartz substrate. Then, the resist thin film was dissolved and removed to obtain an original plate having concave portions formed by etching the quartz substrate and convex portions remaining without etching the quartz substrate and the chromium thin film. The size of the original plate, that is, the size of the hologram cell was set to 0.25 mm.
A composition for forming a hologram layer (UV curable acrylate resin: refractive index 1.52, measurement wavelength 633 nm) was dropped onto a polycarbonate sheet (transparent substrate) having a thickness of 0.5 mm to form a coating film of the above composition. Then, an original plate having irregularities was stacked on the coating film and pressed. Next, the coating film was cured by irradiating with actinic radiation and then peeled off to form a hologram cell having an uneven surface in which the uneven shape of the original plate was reversed. Then, stacking, pressing, curing and peeling of the original plate were repeated to form a hologram layer having a thickness of 2 μm and having a 15 mm square hologram forming area in which hologram cells were spread.

次いで、ホログラム層の凹凸表面側の全面に膜厚１００ｎｍのＡｌ層をスパッタリング法により形成し、ホログラム構造体を得た。   Then, an Al layer having a film thickness of 100 nm was formed on the entire surface of the hologram layer on the uneven surface side by a sputtering method to obtain a hologram structure.

＜評価＞
ホログラム構造体のホログラム層表面から５０ｍｍの位置に点光源を配置し、ホログラム層表面から３００ｍｍ離れた箇所から観察したところ、１５ｍｍ角のホログラム形成領域内にフーリエ変換された所定の画像を視認性良く観察することができた。 <Evaluation>
A point light source was arranged at a position 50 mm from the hologram layer surface of the hologram structure, and when observed from a position 300 mm away from the hologram layer surface, a predetermined Fourier-transformed image within a 15 mm square hologram forming area was visually recognizable. I was able to observe.

１ … ホログラム層
１ａ … 凹凸表面
２ … 蒸着層
３ … 層間接着層
４ … 透明基材
５ … 印刷層
６ … 第２ホログラム層
７ … 第２蒸着層
１０ … ホログラム構造体
１１ … ホログラム形成領域
３２ … 剥離シート
３３ … ヒートシール層
３４ … 剥離容易層
３５ … 剥離用基材
３６ … 裏面側保護層
３７ … 表面側保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Hologram layer 1a ... Uneven surface 2 ... Deposition layer 3 ... Interlayer adhesive layer 4 ... Transparent base material 5 ... Printing layer 6 ... 2nd hologram layer 7 ... 2nd deposition layer 10 ... Hologram structure 11 ... Hologram formation area 32 ... Release sheet 33 ... Heat seal layer 34 ... Easy peeling layer 35 ... Peeling base material 36 ... Back side protective layer 37 ... Front side protective layer

Claims (9)

点光源から入射した光を所望の光像へ変換する、位相型フーリエ変換ホログラムが記録された反射型ホログラム形成領域を有するホログラム層と、
前記ホログラム層の前記反射型ホログラム形成領域の凹凸表面に接するように形成された蒸着層と、
を有し、
前記反射型ホログラム形成領域には、原画像のフーリエ変換を介して得られたフーリエ変換像の位相情報を多値化して深さとして記録されており、
前記反射型ホログラム形成領域の平面視サイズが、５ｍｍ角以上５０ｍｍ角以下の範囲内であり、
前記反射型ホログラム形成領域は、点光源から入射した光を前記光像へ変換可能なホログラムセルが複数配列されたものであり、
前記ホログラムセルの平面視サイズが、０．２５ｍｍ角以上であり、
前記凹凸表面の格子ピッチが、１．０μｍ〜８０．０μｍの範囲内であることを特徴とするホログラム構造体。 A hologram layer having a reflection hologram forming area in which a phase Fourier transform hologram is recorded, which converts light incident from a point light source into a desired light image,
A vapor deposition layer formed so as to be in contact with the uneven surface of the reflection hologram forming region of the hologram layer,
Have
In the reflection hologram formation region, the phase information of the Fourier transform image obtained through Fourier transform of the original image is recorded as multi-valued depth.
The size of the reflection hologram forming area in plan view is within a range of 5 mm square to 50 mm square,
The reflection-type hologram formation region is one in which a plurality of hologram cells capable of converting light incident from a point light source into the optical image are arranged,
The hologram cell has a planar size of 0.25 mm square or more,
The hologram structure, wherein the grating pitch of the uneven surface is in the range of 1.0 μm to 80.0 μm. 前記ホログラム構造体が、前記光像と組み合わせて用いられる画像を表示する画像表示層を有することを特徴とする請求項１に記載のホログラム構造体。   The hologram structure according to claim 1, wherein the hologram structure has an image display layer that displays an image used in combination with the optical image. 前記画像表示層が着色材および樹脂材料を有する印刷層を含むことを特徴とする請求項２に記載のホログラム構造体。   The hologram structure according to claim 2, wherein the image display layer includes a printing layer having a coloring material and a resin material. 前記画像表示層が、平面視上パターン状に配置された回折格子セルにより描画された回折格子図柄を有する第２ホログラム層を含むことを特徴とする請求項２または請求項３に記載のホログラム構造体。   The hologram structure according to claim 2 or 3, wherein the image display layer includes a second hologram layer having a diffraction grating pattern drawn by diffraction grating cells arranged in a pattern in a plan view. body. 前記回折格子図柄が、平面的に図柄を再生可能な平面回折格子図柄であることを特徴とする請求項４に記載のホログラム構造体。   The hologram structure according to claim 4, wherein the diffraction grating pattern is a plane diffraction grating pattern capable of reproducing the pattern two-dimensionally. 前記回折格子図柄が、立体的に図柄を再生可能な立体回折格子図柄であることを特徴とする請求項４に記載のホログラム構造体。 The hologram structure according to claim 4, wherein the diffraction grating pattern is a three-dimensional diffraction grating pattern capable of reproducing the pattern three-dimensionally. 前記蒸着層の前記ホログラム層とは反対側の表面に形成された接着層を有し、
ホログラムシールとして用いられることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。 An adhesive layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer,
The hologram structure according to any one of claims 1 to 6, which is used as a hologram seal. 前記蒸着層の前記ホログラム層とは反対側の表面に形成されたヒートシール層と、
前記ホログラム層の前記蒸着層とは反対側の表面に形成された剥離容易層と、
前記剥離容易層の前記ホログラム層とは反対側の表面に形成された剥離用基材と、
を有し、
ホログラム転写箔として用いられることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。 A heat seal layer formed on the surface of the vapor deposition layer opposite to the hologram layer,
An easily peelable layer formed on the surface of the hologram layer opposite to the vapor deposition layer,
A peeling base material formed on the surface of the peeling easy layer opposite to the hologram layer,
Have
The hologram structure according to any one of claims 1 to 6, which is used as a hologram transfer foil. 情報記録媒体として用いられることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれかの請求項に記載のホログラム構造体。   The hologram structure according to any one of claims 1 to 6, which is used as an information recording medium.