JP6683118B2 - X線位相撮影装置 - Google Patents

X線位相撮影装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6683118B2
JP6683118B2 JP2016246689A JP2016246689A JP6683118B2 JP 6683118 B2 JP6683118 B2 JP 6683118B2 JP 2016246689 A JP2016246689 A JP 2016246689A JP 2016246689 A JP2016246689 A JP 2016246689A JP 6683118 B2 JP6683118 B2 JP 6683118B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
grating
ray
phase
image
subject
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016246689A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018099269A (ja
Inventor
哲 佐野
哲 佐野
太郎 白井
太郎 白井
貴弘 土岐
貴弘 土岐
日明 堀場
日明 堀場
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2016246689A priority Critical patent/JP6683118B2/ja
Priority to US15/704,345 priority patent/US10656103B2/en
Priority to CN201710833669.2A priority patent/CN108201444B/zh
Publication of JP2018099269A publication Critical patent/JP2018099269A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6683118B2 publication Critical patent/JP6683118B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • G01N23/046Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material using tomography, e.g. computed tomography [CT]
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/44Constructional features of apparatus for radiation diagnosis
    • A61B6/4429Constructional features of apparatus for radiation diagnosis related to the mounting of source units and detector units
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/06Diaphragms
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/40Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/40Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • A61B6/4035Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis the source being combined with a filter or grating
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/42Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61BDIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
    • A61B6/00Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
    • A61B6/42Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis
    • A61B6/4291Arrangements for detecting radiation specially adapted for radiation diagnosis the detector being combined with a grid or grating
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • G01N23/041Phase-contrast imaging, e.g. using grating interferometers
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/207Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G21K1/025Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/067Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators using surface reflection, e.g. grazing incidence mirrors, gratings
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/40Imaging
    • G01N2223/419Imaging computed tomograph
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2207/00Particular details of imaging devices or methods using ionizing electromagnetic radiation such as X-rays or gamma rays
    • G21K2207/005Methods and devices obtaining contrast from non-absorbing interaction of the radiation with matter, e.g. phase contrast

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Radiology & Medical Imaging (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Surgery (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Biophysics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Pulmonology (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

本発明は、X線位相撮影装置に関する。
従来、被写体を通過したX線の位相差を利用して被写体内部を画像化するX線撮像装置(X線位相撮影装置)が知られている(たとえば、特許文献1参照)。
上記特許文献1のX線撮像装置は、X線源と、X線源の照射方向に配置されたX線画像検出器(検出部)と、X線源とX線画像検出器との間に配置された複数の格子と、を備えている。上記特許文献1のX線撮像装置は、複数の格子のいずれかを格子ピッチの方向に移動させながら、X線源から照射されたX線を複数の格子を用いて干渉させることにより、X線画像検出器において検出されるX線の強度変化を表す強度変調信号を取得する。上記特許文献1のX線撮像装置は、複数の格子の間に被写体を置かない場合の強度変調信号と、被写体を置いた場合の強度変調信号と、の位相差に基づいて、被写体内部を画像化した位相微分像(画像)を生成するように構成されている。この種のX線撮像装置は、X線の吸収量ではなく、X線の位相差を利用して、被写体内を画像化することによって、X線を吸収しにくい軽元素物体や生体軟部組織を画像化することが可能である。
特開2012−16370号公報
しかしながら、上記特許文献1のようなX線撮像装置では、装置の周囲で発生する熱の影響等により、格子を支持する部材(格子ステージ)の形状および大きさが変動することによって、格子に所定位置からの位置ずれが生じる場合がある。この場合、複数の格子の間に被写体を置かない場合の強度変調信号の取得と、複数の格子の間に被写体を置いた場合の強度変調信号の取得との間に時間差がある場合、それぞれの強度変調信号の取得時における格子の位置に、熱の影響による位置ずれが生じるため、位相微分像を生成するための強度変調信号が全体的にオフセットされてしまう。このオフセットは、位相微分像の生成過程で補正可能であるが、このオフセットの大きさが、たとえば、強度変調信号の位相の半周期付近になると、被写体の縁部付近において、オフセットに加えて被写体に起因する位相差が加算され、複数の格子の間に被写体を置かない場合の強度変調信号と、複数の格子の間に被写体を置いた場合の強度変調信号との間の位相差が2πの範囲に折り畳まれる位相折り畳み(位相ラッピング)が生じる。この位相折り畳みが生じると、例えば、被写体に起因する位相差が(3/2)πであったとしても、位相差が−(1/2)πである場合と区別できなくなり、誤った値が測定される。このように、上記特許文献1のようなX線撮像装置では、熱の影響による格子の位置ずれが生じることにより、位相微分像に位相折り畳みが生じてしまうという問題点がある。なお、本発明において、強度変調信号とは、X線源から照射されたX線を複数の格子を用いて干渉させることにより形成された干渉縞に対して、複数の格子のいずれかを格子ピッチの方向に格子の1周期分に相当する距離を移動(ステップ)させる際に、X線画像検出器において検出されるX線の強度変化を表す概念である。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、格子の位置ずれに起因して画像に位相折り畳みが生じることを抑制することが可能なX線位相撮影装置を提供することである。
上記目的を達成するために、この発明の第1の局面におけるX線位相撮影装置は、X線源と、X線源からX線が照射される第1格子と、第1格子を通過したX線が照射される第2格子と、を少なくとも含む複数の格子と、第2格子を通過したX線を検出する検出部と、X線源と第1格子の間もしく第1格子と第2格子の間に被写体を配置した場合の、検出部により検出されるX線の強度変化を表す強度変調信号と、被写体を配置しない場合の、強度変調信号と、の間の位相差に基づいて、画像を生成する画像生成部と、を備え、複数の強度変調信号に基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量を取得するとともに、取得したずれ量が予め設定されたしきい値を越えたか否かを判断するように構成されており、しきい値は、単一の画素の位相差、および、位相差の複数画素の領域または全域における位相差の代表値の少なくともいずれかがπ未満となるように設定されている
この発明の第1の局面によるX線位相撮影装置では、上記のように、複数の強度変調信号に基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量を取得するように構成する。これにより、複数の格子の相対位置にずれが生じても、ずれ量を適宜補正することにより、ずれ量が蓄積されるのを抑制することができる。その結果、複数の強度変調信号の間の位相差がπ付近まで近づく前にずれ量を補正することにより、格子の位置ずれに起因して画像に位相折り畳みが生じることを抑制することができる。
上記第1の局面によるX線位相撮影装置において、好ましくは、複数画素の領域は、被写体の縁部を含まない領域である。このように構成すれば、被写体の有無に起因する、位相差の影響を受けないので、より誤差の少ないずれ量を取得することができる。その結果、ずれ量の補正をより精度良く行うことができる。
上記第1の局面によるX線位相撮影装置において、好ましくは、ずれ量が予め設定されたしきい値を超えた場合に、ずれ量を補正するように構成する。このように構成すれば、位相折り畳みが生じないように、ずれ量のしきい値を設定することにより、位相折り畳みが生じない程度の相対位置のずれの場合には、ずれ量の補正を行わないようにすることができる。その結果、強度変調信号を取得する度に、ずれ量を補正する必要がなくなるので、ずれ量の補正回数を最小限に抑えることができる。
上記第1の局面によるX線位相撮影装置において、好ましくは、複数の格子は、X線源と第1格子との間に設けられる第3格子をさらに含む。このように構成すれば、第3格子を用いてX線源から照射されたX線を微小焦点化することにより、第1格子の自己像を形成するために、微小焦点のX線源を使う必要がなくなるので、微小焦点のX線源では得られないX線強度が高いX線源を用いることができる。その結果、X線源から照射されるX線の強度が高くなり、画像を抽出する時間を短縮することができる。
上記第1の局面によるX線位相撮影装置において、好ましくは、検出部により検出されるX線の強度を変化させるために、複数の格子の少なくともいずれかを移動させる移動機構をさらに備える。このように構成すれば、複数の格子の相対位置を容易に変化させることができる。
上記X線位相撮影装置が移動機構を備える構成において、好ましくは、移動機構により、複数の格子の少なくともいずれかを移動させることによって、ずれ量を補正するように構成する。このように構成すれば、例えば、画像を生成するために移動機構により格子を移動させる場合に、画像用の移動機構と、ずれ補正用の移動機構とを共通化することができるので、装置構成を簡単にすることができるとともに、部品点数を削減することができる。
上記X線位相撮影装置が移動機構を備える構成において、好ましくは、移動機構により、複数の格子の中で最大の格子ピッチを有する格子を移動させることによって、ずれ量を補正するように構成されている。このように構成すれば、ずれ量が格子の格子ピッチに比例するため、格子ピッチの広い格子で補正する場合は、格子ピッチの狭い格子で補正する場合と比較すると、ずれ量が大きくなる。その結果、ずれ量を補正するために移動機構を移動させる距離が大きくなるので、ずれ量の補正を容易に行うことができる。
上記X線位相撮影装置が移動機構を備える構成において、好ましくは、移動機構により、複数の格子の中で画像を生成するために移動させた格子を移動させることによって、ずれ量を補正するように構成する。このように構成すれば、複数の格子の中で、特定の格子だけを移動すれば良いので、移動機構による格子の移動を簡単に行うことができる。
上記第1の局面によるX線位相撮影装置において、好ましくは、X線源と、複数の格子と、検出部とを備えた撮影系と、被写体とを相対回転させる回転機構をさらに備え、回転機構により、撮影系と被写体とを相対回転させることによって、被写体を断層撮影するように構成する。このように、被写体を断層撮影する場合は、撮影時間が長くなり、格子の相対位置にずれが生じやすいため、画像に位相折り畳みが生じることを抑制可能な上記X線位相撮影装置は好適である。
本発明によれば、上記のように、複数の格子の相対位置のずれに起因して画像に位相折り畳みが生じることを抑制可能なX線位相撮影装置を提供することができる。
本発明の第1実施形態によるX線位相コントラスト撮影装置の全体構成を示す図である。 縞操作によるステップカーブの取得を説明する図である。 被写体の有無に起因するステップカーブ間の位相差を説明するための図である。 X線位相コントラスト画像の生成方法を説明するための図である。 X線撮影の時間経過に伴う複数の格子の相対位置のずれを説明するための図である。 ステップカーブ間の位相差により複数の格子の相対位置のずれ量を算出する方法を説明するための図である。 複数の格子の相対位置のずれを補正する処理のフローチャートである。 本発明の第2実施形態によるX線位相コントラスト撮影装置の全体構成を示す図である。
以下、本発明を具体化した実施形態を図面に基づいて説明する。
[第1実施形態]
図1を参照して、本発明の第1実施形態によるX線位相コントラスト撮影装置100の構成について説明する。なお、X線位相コントラスト撮影装置100は、特許請求の範囲の「X線位相撮影装置」の一例である。
X線位相コントラスト撮影装置100は、図1に示すように、被写体Tを通過したX線の位相差を利用して、被写体Tの内部を画像化する装置である。また、X線位相コントラスト撮影装置100は、タルボ(Talbot)効果を利用して、被写体Tの内部を画像化する装置である。
(X線位相コントラスト撮影装置の構成)
図1に示すように、X線位相コントラスト撮影装置100は、X線源1と、位相格子G1と、吸収格子G2と、検出部2と、制御部3と、格子移動ステージ4aおよび4bと、被写体回転ステージ5と、を備えている。X線位相コントラスト撮影装置100は、X線源1と、位相格子G1と、吸収格子G2と、検出部2とが、X線の照射軸方向(光軸方向、Z方向)に、この順に並んで配置されている。なお、本明細書において、X線の照射軸方向をZ方向とし、Z方向と直交する面内において互いに直交する方向をそれぞれX方向およびY方向とする。なお、位相格子G1および吸収格子G2はそれぞれ、特許請求の範囲の「第1格子」および「第2格子」の一例である。また、格子移動ステージ4aおよび4bは、特許請求の範囲の「移動機構」の一例である。また、被写体回転ステージ5は、特許請求の範囲の「回転機構」の一例である。
X線源1は、高電圧が印加されることにより、X線を発生させるとともに、発生されたX線を微小焦点で照射するように構成されている。
位相格子G1は、通過するX線の位相を変化させる回折格子である。位相格子G1は、Y方向に所定の周期(格子ピッチ)d1で配列されるスリットG1aおよびX線吸収部G1bを有している。各スリットG1aおよびX線吸収部G1bは、X方向に延びるように形成されている。
位相格子G1は、X線源1と、吸収格子G2との間に配置されており、X線が照射される。位相格子G1は、タルボ効果により、自己像を形成するために設けられている。可干渉性を有するX線が、スリットが形成された格子を通過すると、格子から所定の距離(タルボ距離)離れた位置に、格子の像(自己像)が形成される。これをタルボ効果という。自己像は、X線の干渉によって生じる干渉縞である。
吸収格子G2は、Y方向に所定の周期(格子ピッチ)d2で配列される複数のスリットG2aおよびX線吸収部G2bを有している。各スリットG2aおよびX線吸収部G2bは、X方向に延びるように形成されている。
吸収格子G2は、位相格子G1と検出部2との間に配置されており、位相格子G1を通過したX線が照射される。また、吸収格子G2は、位相格子G1からタルボ距離だけ離れた位置に配置される。
X線源1と位相格子G1との距離をR1、位相格子G1と吸収格子G2との距離をR2、X線源1と吸収格子G2との距離をR(=R1+R2)とした場合、X線源1と、位相格子G1と、吸収格子G2との位置関係は、以下の式(1)により表される。したがって、吸収格子G2の格子ピッチd2は、位相格子G1の格子ピッチd1よりも大きくなる。
Figure 0006683118
検出部2は、X線を検出するとともに、検出されたX線を電気信号に変換し、変換された電気信号を画像信号として読み取るように構成されている。検出部2は、たとえば、FPD(Flat Panel Detector)である。検出部2は、複数の変換素子(図示せず)と複数の変換素子上に配置された画素電極(図示せず)とにより構成されている。複数の変換素子および画素電極は、所定の周期(画素ピッチ)で、X方向およびY方向に並んで配置されている。
検出部2の検出信号は、制御部3が備える画像生成部6へと送られる。画像生成部6は、位相格子G1と吸収格子G2とを、複数箇所の所定位置に配置して撮影した画像から、X線位相コントラスト画像42(図4参照)を含む画像を生成するように構成されている。なお、X線位相コントラスト画像42は、特許請求の範囲の「画像」の一例である。
制御部3は、CPU(Central Processing Unit)、ROM(Read Only Memory)およびRAM(Random Access Memory)などを含んで構成されたコンピュータである。制御部3は、画像生成部6を用いてX線位相コントラスト画像42を含む画像を生成するように構成されている。また、制御部3は、格子移動ステージ4aおよび4bそれぞれを用いて、位相格子G1および吸収格子G2を所定位置へ移動させるように構成されている。また、制御部3は、後述するしきい値Lを記憶する記憶部(図示せず)を備えている。
格子移動ステージ4aおよび4bはそれぞれ、位相格子G1および吸収格子G2を保持する格子保持部(図示せず)を有する。格子移動ステージ4aおよび4bはそれぞれ、制御部3より送られる信号に基づいて、保持した位相格子G1および吸収格子G2を、Z方向、X方向およびY方向の所定方向に移動させるように構成されている。格子移動ステージ4aおよび4bは、たとえば、ステッピングモータやピエゾアクチュエータを用いた電動位置決めステージである。これにより、位相格子G1および吸収格子G2の相対位置を容易に変化させることができる。
被写体回転ステージ5は、位相格子G1と吸収格子G2との間に配置された被写体Tを載置可能に構成されている。被写体回転ステージ5は、制御部3より送られる信号に基づいて、被写体Tを、X線源1と、位相格子G1と、吸収格子G2と、検出部2と、を含む撮影系7に対して、X軸方向またはY軸方向を軸として360度回転させることができる。X線位相コントラスト撮影装置100は、被写体回転ステージ5を用いずに、被写体Tの撮影を行うこともできるし、被写体回転ステージ5を用いて、所定の回転角度の回転位置の各々における被写体Tの撮影(CT撮影)をすることもできる。
(X線位相コントラスト画像生成方法)
次に、図2〜図5を参照して、複数の強度変調信号の位相差を用いてX線位相コントラスト画像42を生成する方法を説明する。
吸収格子G2を格子ピッチd2のピッチ方向(X方向)に並進させることにより、検出部2で検出されるX線の信号強度が変化する。図2の(1)では、吸収格子G2をX方向に並進(ステップ)させた場合の、位相格子G1の明部と暗部とを含む自己像と吸収格子G2のX線吸収部G2bのとの重なり具合の変化を示している。図2(1)において、状態Aは、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとが完全に重なった状態である。また、状態Bは、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとが半分だけ重なった状態である。また、状態Cは、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとが完全にずれた状態である。
図2の(2)では、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとの重なり具合の変化に伴って、検出部2で検出されるX線の信号強度の変化を表した強度変調信号20を示している。たとえば、図2(1)の状態Aの場合では、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとが完全に重なるため、吸収格子G2を通過できるX線量が小さくなるので、検出部2で検出されるX線の信号強度が低くなる。また、図2(1)の状態Bの場合では、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとが完全にずれているため、吸収格子G2を通過できるX線量が大きくなるので、検出部2で検出されるX線の信号強度が高くなる。また、図2(1)の状態Cの場合では、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとが半分だけ重なっているため、吸収格子G2を通過できるX線量が、状態Aの場合と状態Cの場合との中間の大きさとなるので、検出部2で検出されるX線の信号強度が、状態Aの場合と状態Cの場合との中間の値となる。このような検出部2で検出されるX線の信号強度の変化は、画像中の全ての画素30(図4参照)に生じる。
各画素30において、強度変調信号20は、位相格子G1の自己像の明部と吸収格子G2のX線吸収部G2bとの重なり具合が、吸収格子G2の格子ピッチd2を1周期として繰り返されるので、図2(2)に示すように、正弦波形状(周期関数)となる。したがって、強度変調信号20を取得するには、吸収格子G2の格子ピッチd2だけX方向にステップさせればよい。本実施形態では、吸収格子G2を格子ピッチd2のX方向に(d2/8)ずつ8回ステップさせる例を示している。この強度変調信号20は、各ステップ位置でX線画像を取得することにより、検出部2の全ての画素30に対して取得される。以下の説明では、この強度変調信号を「ステップカーブ」と呼ぶ場合がある。また、ステップカーブ20を取得するために、上記のように、吸収格子G2を格子ピッチd2方向に並進させながらX線撮影を行うことを「縞走査」と呼ぶ場合がある。なお、縞走査は、位相格子G1と吸収格子G2との相対位置を変化させることによって行うことができるので、位相格子G1を格子ピッチd1の方向に並進させることにより行うこともできる。
図3に示すように、位相格子G1と吸収格子G2との間に、被写体Tを置いてX線撮影した場合と、被写体Tを置かないでX線撮影した場合とで、それぞれのステップカーブ20に位相差Δφが生じる場合がある。これは、被写体Tを通過するX線が屈折することに起因して位相格子G1の自己像がシフトし、検出部2で検出されるX線の信号強度が変化するからである。このような被写体Tに起因する位相差Δφは、X線が屈折する被写体Tの縁部(外表面や内表面)近傍を撮影した画素30で顕著に現れる。これにより、被写体Tに起因する位相差Δφの値に基づいた、X線位相コントラスト画像42を生成することができる。
具体的には、図4に示すように、位相格子G1と吸収格子G2との間に、被写体Tを置かない場合と、被写体Tを置いた場合とで、縞走査をしながらX線撮影を行う。被写体Tを置かない場合の撮影画像40と、被写体Tを置いた場合の撮影画像41とを、それぞれ吸収格子G2の格子ピッチd2の少なくとも1周期分だけ撮影する。被写体Tを置かない場合の撮影画像40と被写体Tを置いた場合の撮影画像41とで、それぞれ同一の画素30におけるステップカーブ20の位相差Δφを取得する。この位相差Δφの値を画像化することにより、X線位相コントラスト画像42が生成される。なお、以下の説明では、被写体Tを置かない場合の撮影画像40と被写体Tを置いた場合の撮影画像41とを、それぞれ「AIR画像」および「被写体撮影画像」と呼ぶ場合がある。
図5に示すように、X線位相コントラスト画像42を含む画像を生成するためのX線撮影では、最初に、AIR画像40が撮影され、その後、被写体撮影画像41の撮影が繰り返し行われる。ところで、X線撮影開始時からの時間経過に伴い、位相格子G1と吸収格子G2とをそれぞれ支持する格子移動ステージ4aおよび4bには、格子移動ステージ4aおよび4bの周囲の熱の影響により膨張や収縮を起こし、格子が初期位置からずれる場合がある。ここで、格子移動ステージ4aおよび4bの初期位置は、AIR画像40の撮影時における格子移動ステージ4aおよび4bの位置である。このような格子移動ステージ4aおよび4bの初期位置のずれが生じると、図5に示すように、最初のAIR画像40によるステップカーブ21の取得時と、時間経過に伴って、格子移動ステージ4aおよび4bに初期位置からの位置ずれが生じている場合の被写体撮影画像41によるステップカーブ22の取得時と、の間の位相差Δφは、被写体Tに起因する位相差ΔΦに加えて、格子移動ステージ4aおよび4bの初期位置からの位置ずれに起因する位相差ΔΦaが加算された状態となる。すなわち、AIR画像40によるステップカーブ21と被写体撮影画像41によるステップカーブ22との間の位相差Δφは、(ΔΦ+ΔΦa)で表される。
この格子移動ステージ4aおよび4bの初期位置からのピッチ方向の位置ずれに起因する位相差ΔΦaの加算は、検出部2で検出される画像の全域に均等に現れるため、X線位相コントラスト画像42の全体において、格子移動ステージ4aおよび4bの初期位置からの位置ずれがない場合に比べて、ステップカーブ21および22が位相差ΔΦaだけオフセットされた状態となる。
このオフセットは、X線位相コントラスト画像42を生成する過程で補正可能であるが、このオフセットの大きさが、たとえば、ステップカーブ22の位相の半周期(π)付近になると、被写体Tの縁部付近において、オフセットに加えて被写体Tに起因する位相差ΔΦが加算され、AIR画像40によるステップカーブ21と、被写体撮影画像41によるステップカーブ22と、の間の位相差が2πの範囲に折り畳まれる位相折り畳み(位相ラッピング)が生じる。
この位相折り畳みが生じると、例えば、被写体Tに起因する位相差ΔΦにオフセットされた位相差ΔΦaが加算された位相差Δφが、(3/2)πであったとしても、位相差Δφが−(1/2)πである場合と区別できなくなる。これにより、誤った値として測定された画素30は、白黒が反転したような状態となる。
この位相折り畳みの発生を抑制するために、本実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100は、格子移動ステージ4aおよび4bの初期位置の位置ずれを補正するように構成されている。
(X線位相コントラスト画像補正方法)
次に、図6を参照して、格子移動ステージ4aおよび4bの初期位置の位置ずれを補正する方法を説明する。
AIR画像40と被写体撮影画像41とのそれぞれによる各画素30のステップカーブ21および22を取得するため、M回のステップによる縞走査によってX線撮影を行った場合、検出部2で検出されるX線の信号強度は、以下の式(2)により表される。
Figure 0006683118
ここで、Ik(x,y)は、画素座標(x,y)におけるKステップ目のX線の信号強度であり、図2および図3に示される信号強度に対応する。
AIR画像40における各画素30の各ステップkでの信号強度をIk0(x,y)、被写体撮影画像41における各画素30の信号強度をIk(x,y)とし、以下の式(3)および式(4)を定義すると、画素座標(x,y)における位相差Δφ(x,y)は、以下の式(5)により表される。
Figure 0006683118
本実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100では、図6に示すように、AIR画像40によるステップカーブ21と被写体撮影画像41によるステップカーブ22との間の位相差Δφの、AIR画像40(または被写体撮影画像41)における複数画素の領域31における平均値Mφが算出される。この平均値Mφに基づいて、格子移動ステージ4aおよび4bにより位相格子G1または吸収格子G2の位置が補正される。位相格子G1の位置を補正する場合のずれ量ΔD1および吸収格子G2の位置を補正する場合のずれ量ΔD2は、それぞれ以下の式(6)および式(7)により表される。
Figure 0006683118
上記のように、格子の初期位置からのずれ量ΔD1またはΔD2を算出するために、本実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100では、位相差Δφの複数画素の領域31における平均値Mφを用いる。また、図6に示すように、複数画素の領域31を、AIR画像40(または被写体撮影画像41)において被写体Tを含めないほうが好ましいが、含めてもよい。なお、ずれ量ΔD1またはΔD2を算出するために、位相差Δφの複数画素の領域31における平均値Mφに代えて、位相差Δφの複数画素の領域31における中間値等を用いてもよい。
また、本実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100では、図5に示すように、位相格子G1または吸収格子G2それぞれの初期位置からのずれ量ΔD1またはΔD2に、しきい値Lを設定し、ずれ量ΔD1またはΔD2がしきい値Lを超えた場合に、位置ずれを補正するように構成されている。しきい値Lは、位相差Δφの複数画素の領域31における平均値Mφが、ステップカーブ21および22に位相折り畳みが生じないように、πよりも小さく設定する。また、位置ずれの補正回数が多くなりすぎないように、たとえば、(2/3)π以上に設定する。
また、本実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100では、位相格子G1によって縞走査を行った場合は、格子移動ステージ4aにより位相格子G1の位置ずれを補正し、吸収格子G2によって縞走査を行った場合は、格子移動ステージ4bにより吸収格子G2の位置ずれを補正するように構成する。
また、本実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100では、通常は、格子の中で、格子ピッチが最大の吸収格子G2を移動させることにより、ずれ量ΔD1またはΔD2を補正するように構成する。
次に、図7を参照して、X線位相コントラスト撮影装置100における格子位置の位置ずれの補正処理のフローチャートについて説明する。フローチャートの処理は、制御部3により行われる。なお、AIR画像40の撮影が行われ、基準となるステップカーブ21が取得されているものとする。
まず、ステップS11において、制御部3は、ユーザの入力や記憶部に記憶された設定値を読み込むなどにより、複数の格子の相対位置のずれ量ΔD1またはΔD2のしきい値Lを設定する。
被写体撮影画像41が撮影されると、制御部3は、ステップS12において、被写体撮影画像41からステップカーブ22を取得する。
次に、ステップS13において、制御部3は、取得したステップカーブ22と、基準のステップカーブ21との間の、被写体撮影画像41(またはAIR画像40)の複数画素の領域31または全域における、位相差Δφの平均値Mφを算出する。
次に、ステップS14において、制御部3は、位相差Δφの平均値Mφに基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量ΔD1またはΔD2を算出し、ずれ量ΔD1またはΔD2が、ステップS11で設定されたしきい値Lよりも大きいか否かを判断する。ステップS14において、ずれ量ΔD1またはΔD2が、しきい値L以上の場合は、ステップS15に進む。また、ステップS14において、ずれ量ΔD1またはΔD2が、しきい値L未満の場合は、ステップS12の処理に戻る。
ステップS15において、制御部3は、格子移動ステージ4aをずれ量ΔD1だけ移動させる、または、格子移動ステージ4bを、ずれ量ΔD2だけ移動させることにより、格子移動ステージ4aまたは4bの位置ずれを補正する。
その後、ステップS16において、ユーザからの指示やX線撮影の終了等に基づいて、格子位置の位置ずれの補正処理を終了するか否かが判断される。ステップS16において、格子位置の位置ずれの補正処理を終了する場合は、補正処理を終了する。また、ステップS16において、格子位置の位置ずれの補正処理を終了しない場合は、ステップS12の処理に戻る。
(第1実施形態の効果)
第1実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、複数のステップカーブ20に基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量ΔD1またはΔD2を取得するように構成する。これにより、複数の格子の相対位置にずれが生じても、ずれ量ΔD1またはΔD2を適宜補正することにより、ずれ量ΔD1またはΔD2が蓄積されるのを抑制することができる。その結果、複数のステップカーブ20の間の位相差Δφがπ付近まで近づく前にずれ量ΔD1またはΔD2を補正することにより、複数の相対位置のずれに起因してX線位相コントラスト画像42に位相折り畳みが生じることを抑制することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、検出部2により検出される複数画素の領域31または全域におけるステップカーブ20から取得した代表値に基づいて、ずれ量ΔD1またはΔD2を取得するように構成する。これにより、たとえば、複数のステップカーブ20の間の位相差Δφの、複数画素の領域31または全域における平均値Mφや中央値などを代表値として用いて、ずれ量ΔD1またはΔD2を取得することにより、誤差の少ないずれ量ΔD1またはΔD2を取得することができる。その結果、ずれ量ΔD1またはΔD2の補正を精度良く行うことができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、複数画素の領域31を、被写体Tの縁部を含まない領域が好ましい。これにより、被写体Tの有無に起因する位相差ΔΦの影響を受けないので、より誤差の少ないずれ量ΔD1またはΔD2を取得することができる。その結果、ずれ量ΔD1またはΔD2の補正をより精度良く行うことができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、ずれ量ΔD1またはΔD2が予め設定されたしきい値Lを超えた場合に、ずれ量ΔD1またはΔD2を補正するように構成する。これにより、位相折り畳みが生じないように、ずれ量ΔD1またはΔD2のしきい値Lを設定することにより、位相折り畳みが生じない程度の相対位置のずれの場合には、ずれ量ΔD1またはΔD2の補正を行わないようにすることができる。その結果、ステップカーブ22を取得する度に、ずれ量ΔD1またはΔD2を補正する必要がなくなるので、ずれ量ΔD1またはΔD2の補正回数を最小限に抑えることができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、検出部2により検出されるX線の強度を変化させるために、複数の格子の少なくともいずれかを移動させる格子移動ステージ4aおよび4bを設ける。これにより、複数の格子の相対位置を容易に変化させることができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、格子移動ステージ4aおよび4bにより、複数の格子の少なくともいずれかを移動させることによって、ずれ量ΔD1またはΔD2を補正するように構成する。これにより、例えば、X線位相コントラスト画像42を生成するために格子移動ステージ4aおよび4bにより格子を移動させる場合に、X線位相コントラスト画像42生成用の移動機構と、ずれ補正用の移動機構とを共通化することができるので、装置構成を簡単にすることができるとともに、部品点数を削減することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、格子移動ステージ4aおよび4bにより、複数の格子の中で最大の格子ピッチを有する格子を移動させることによって、ずれ量ΔD1またはΔD2を補正するように構成する。これにより、ずれ量ΔD1またはΔD2が格子の格子ピッチに比例するため、格子ピッチの広い格子で補正する場合は、格子ピッチの狭い格子で補正する場合と比較すると、ずれ量ΔD1またはΔD2が大きくなる。その結果、ずれ量ΔD1またはΔD2を補正するために格子移動ステージ4aおよび4bを移動させる距離が大きくなるので、ずれ量ΔD1またはΔD2の補正を容易に行うことができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、格子移動ステージ4aおよび4bにより、複数の格子の中でX線位相コントラスト画像42を生成するために移動させた格子を移動させることによって、ずれ量ΔD1またはΔD2を補正するように構成する。これにより、複数の格子の中で、特定の格子だけを移動すれば良いので、格子移動ステージ4aおよび4bによる格子の移動を簡単に行うことができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X線位相コントラスト撮影装置100を、X線源1と、複数の格子(位相格子G1、吸収格子G2)と、検出部2とを備えた撮影系7と、被写体Tとを相対回転させる被写体回転ステージ5をさらに備え、被写体回転ステージ5により、撮影系7と被写体Tとを相対回転させることによって、被写体Tを断層撮影するように構成する。これにより、被写体Tを断層撮影する場合は、撮影時間が長くなり、格子の相対位置にずれが生じやすいため、X線位相コントラスト画像42に位相折り畳みが生じることを抑制可能なX線位相コントラスト撮影装置100は好適である。
[第2実施形態]
次に、図8を参照して、第2実施形態について説明する。この第2実施形態では、上記第1実施形態の構成に加えて、X線源1と位相格子G1との間に、マルチスリットG3をさらに備えるように構成されている。なお、上記第1実施形態と同一の構成については、図中において同じ符号を付して図示し、その説明を省略する。
(X線位相コントラスト撮影装置の構成)
本発明の第2実施形態のX線位相コントラスト撮影装置200では、上記第1実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100の構成に加えて、マルチスリットG3と、格子移動ステージ4cと、を備える。また、X線位相コントラスト撮影装置200では、X線源11は、上記第1実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100のX線源1よりも高出力のX線源である。なお、X線位相コントラスト撮影装置200は、特許請求の範囲の「X線位相撮影装置」の一例である。また、マルチスリットG3は、特許請求の範囲の「第3格子」の一例である。また、格子移動ステージ4cは、特許請求の範囲の「移動機構」の一例である。
X線位相コントラスト撮影装置200では、X線源11は焦点を絞らなくてよいので、上記第1実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100のX線源1よりも、X線強度の高いX線を照射することができる。これにより、X線位相コントラスト画像42を抽出する時間を短縮することができる。なお、X線源11は、焦点サイズが大きいため、位相格子G1の自己像を形成するために、照射するX線を微小焦点化する必要がある。
マルチスリットG3は、X線源1から照射されたX線を微小焦点化することが可能な格子である。マルチスリットG3は、Y方向に所定の周期(格子ピッチ)d3で配列される複数のスリットG3aおよびX線吸収部G3bを有している。各スリットG3aおよびX線吸収部G3bは、X方向に延びるように形成されている。
マルチスリットG3と位相格子G1との距離をR1、位相格子G1と吸収格子G2との距離をR2、マルチスリットG3と吸収格子G2との距離をR(=R1+R2)とした場合、位相格子G1と、吸収格子G2と、マルチスリットG3との位置関係は、以下の式(8)により表される。
Figure 0006683118
格子移動ステージ4cは、マルチスリットG3を保持する格子保持部(図示せず)を有する。格子移動ステージ4cは、制御部3より送られる信号に基づいて、保持したマルチスリットG3を、Z方向、X方向およびY方向の所定方向に移動させるように構成されている。格子移動ステージ4cは、たとえば、ステッピングモータやピエゾアクチュエータを用いた電動位置決めステージである。これにより、位相格子G1、吸収格子G2、およびマルチスリットG3の相対位置を容易に変化させることができる。
また、被写体回転ステージ5は、制御部3より送られる信号に基づいて、被写体Tを、X線源11と、位相格子G1と、吸収格子G2と、マルチスリットG3と、検出部2と、を含む撮影系17に対して、X軸方向またはY軸方向を軸として360度回転させることができる。
第2実施形態の構成においても、上記第1実施形態と同様に、複数の格子のいずれかをステップさせて縞走査することができる。また、上記第1実施形態と同様に、複数の格子のいずれかを移動させることにより、複数の格子の相対位置のずれを補正することができる。
なお、マルチスリットG3を移動させることにより、位相格子G1、吸収格子G2、マルチスリットG3の相対位置の位置ずれを補正する場合、相対位置のずれ量ΔD3は、以下の式(9)により表される。
Figure 0006683118
なお、第2実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
(第2実施形態の効果)
第2実施形態では、以下のような効果を得ることができる。
第2実施形態のX線位相コントラスト撮影装置200では、上記のように、上記第1実施形態のX線位相コントラスト撮影装置100の構成に加えて、複数の格子は、X線源11と位相格子G1との間に設けられるマルチスリットG3をさらに含む。これにより、マルチスリットG3を用いてX線源11から照射されたX線を微小焦点化することにより、位相格子G1の自己像を形成するために、微小焦点のX線源1を使う必要がなくなるので、微小焦点のX線源1では得られないX線強度が高いX線源11を用いることができる。その結果、X線源11から照射されるX線の強度が高くなり、X線位相コントラスト画像42を抽出する時間を短縮することができる。
なお、第2実施形態のその他の効果は、上記第1実施形態と同様である。
[変形例]
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更(変形例)が含まれる。
また、上記第1および第2実施形態では、AIR画像40のステップカーブ21を基準として、被写体撮影画像41のステップカーブ22との位相差Δφに基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量を補正するようにしたが、本発明はこれに限られない。本発明では、被写体撮影画像41のステップカーブ22を基準として、被写体撮影画像41のステップカーブ22と被写体撮影画像41のステップカーブ22と位相差Δφに基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量を補正するようしてもよい。
また、第1および第2実施形態では、AIR画像40の撮影を、図5に示すように、X線撮影の開始後の最初の1回だけとしたが、本発明はこれに限られない。本発明では、AIR画像40の撮影を再度行ってもよい。たとえば、AIR画像40と被写体撮影画像41とを交互に撮影したり、被写体撮影画像41を数回撮影する毎にAIR画像40を撮影するようにしてもよい。
また、上記第1および第2実施形態では、複数の格子の相対位置のずれ量にしきい値Lを設定し、しきい値Lを超えた場合に、ずれ量を補正するとしたが、本発明はこれに限られない。本発明では、撮影時間または撮影回数にしきい値Lを設定し、しきい値Lを超えた場合に、ずれ量を補正してもよい。
また、上記第1および第2実施形態では、複数の格子の中で、いずれか1つの格子をステップさせることにより縞走査を行うとしたが、本発明はこれに限られない。本発明では、複数の格子を同時にステップさせることにより縞走査を行うこともできる。
また、上記第1および第2実施形態では、複数の格子の中で、縞走査のために移動させた格子により複数の格子の相対位置のずれ量を補正するとしたが、本発明はこれに限られない。本発明では、複数の格子を同時に移動させることにより、複数の格子の相対位置のずれ量を補正することもできる。
また、上記第1および第2実施形態では、タルボ効果による自己像を形成するために設けられている格子を位相格子G1としたが、本発明はこれに限られない。本発明では、格子G1の自己像は縞模様であればよいので、格子G1に吸収格子を用いて、格子G1の影を自己像の縞模様として用いてもよい。
また、上記第1および第2実施形態では、被写体Tと撮影系とを相対回転させる被写体回転ステージ5を設けたが、本発明はこれに限られない。本発明では、被写体回転ステージ5を設けない構成にすることもできる。
また、上記第1および第2実施形態では、被写体Tを位相格子G1の下流(検出器側)に置いたが、本発明はこれに限られない。本発明では、被写体Tを位相格子G1の上流(管球側)においてもよい。
また、上記第1および第2実施形態では、複数画素の領域31または全域におけるステップカーブ20から取得した代表値に基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量を取得するようにしたが、本発明はこれに限られない。本発明では、単一の画素30の位相差Δφそのものに基づいて、複数の格子の相対位置のずれ量を取得してもよい。
また、上記実施形態では、説明の便宜上、制御部の処理を処理フローに沿って順番に処理を行うフロー駆動型のフローを用いて説明したが、本発明はこれに限られない。本発明では、制御部の処理を、イベント単位で処理を実行するイベント駆動型(イベントドリブン型)の処理により行ってもよい。この場合、完全なイベント駆動型で行ってもよいし、イベント駆動およびフロー駆動を組み合わせて行ってもよい。
上記の各実施形態において、位相微分像以外に、暗視野像、吸収像、あるいは、それら3つの画像のうちの2つ以上の画像を任意で組み合わせて使用した画像を生成するようにしてもよい。また、タルボ干渉ではなく、非干渉計で使用することもできる。その場合、G2格子は位相格子ではなく、吸収格子が使用される。
1、11 X線源
2 検出部
4a、4b、4c 格子移動ステージ(移動機構)
5 被写体回転ステージ(回転機構)
6 画像生成部
7、17 撮影系
31 複数画素の領域
20(21、22) ステップカーブ(強度変調信号)
42 X線位相コントラスト画像(画像)
100、200 X線位相コントラスト撮影装置(X線位相撮影装置)
d0、d1、d2 格子ピッチ
G1 位相格子または吸収格子(第1格子)
G2 吸収格子(第2格子)
G3 マルチスリット(第3格子)
T 被写体
ΔD1、ΔD2、ΔD3 ずれ量
Δφ 位相差

Claims (9)

  1. X線源と、
    前記X線源からX線が照射される第1格子と、前記第1格子を通過した前記X線が照射される第2格子と、を少なくとも含む複数の格子と、
    前記第2格子を通過した前記X線を検出する検出部と、
    前記X線源と前記第1格子の間もしく前記第1格子と前記第2格子の間に被写体を配置した場合の、前記検出部により検出される前記X線の強度変化を表す強度変調信号と、前記被写体を配置しない場合の、前記強度変調信号と、の間の位相差に基づいて、画像を生成する画像生成部と、を備え、
    複数の前記強度変調信号に基づいて、前記複数の格子の相対位置のずれ量を取得するとともに、取得した前記ずれ量が予め設定されたしきい値を越えたか否かを判断するように構成されており
    前記しきい値は、単一の画素の前記位相差、および、前記位相差の複数画素の領域または全域における前記位相差の代表値の少なくともいずれかがπ未満となるように設定されている、X線位相撮影装置。
  2. 前記複数画素の領域は、前記被写体の縁部を含まない領域である、請求項に記載のX線位相撮影装置。
  3. 前記ずれ量が予め設定されたしきい値を超えた場合に、前記ずれ量を補正するように構成されている、請求項1または2に記載のX線位相撮影装置。
  4. 前記複数の格子は、前記X線源と前記第1格子との間に設けられる第3格子をさらに含む、請求項1〜のいずれか1項に記載のX線位相撮影装置。
  5. 前記検出部により検出される前記X線の強度を変化させるために、前記複数の格子の少なくともいずれかを移動させる移動機構をさらに備える、請求項1〜のいずれか1項に記載のX線位相撮影装置。
  6. 前記移動機構により、前記複数の格子の少なくともいずれかを移動させることによって、前記ずれ量を補正するように構成されている、請求項に記載のX線位相撮影装置。
  7. 前記移動機構により、前記複数の格子の中で最大の格子ピッチを有する前記格子を移動させることによって、前記ずれ量を補正するように構成されている、請求項またはに記載のX線位相撮影装置。
  8. 前記移動機構により、前記複数の格子の中で前記画像を生成するために移動させた前記格子を移動させることによって、前記ずれ量を補正するように構成されている、請求項のいずれか1項に記載のX線位相撮影装置。
  9. 前記X線源と、前記複数の格子と、前記検出部とを備えた撮影系と、前記被写体とを相対回転させる回転機構をさらに備え、
    前記回転機構により、前記撮影系と前記被写体とを相対回転させることによって、前記被写体を断層撮影するように構成されている、請求項1〜のいずれか1項に記載のX線位相撮影装置。
JP2016246689A 2016-12-20 2016-12-20 X線位相撮影装置 Active JP6683118B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016246689A JP6683118B2 (ja) 2016-12-20 2016-12-20 X線位相撮影装置
US15/704,345 US10656103B2 (en) 2016-12-20 2017-09-14 X-ray phase imaging apparatus
CN201710833669.2A CN108201444B (zh) 2016-12-20 2017-09-15 X射线相位摄影装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016246689A JP6683118B2 (ja) 2016-12-20 2016-12-20 X線位相撮影装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018099269A JP2018099269A (ja) 2018-06-28
JP6683118B2 true JP6683118B2 (ja) 2020-04-15

Family

ID=62561504

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016246689A Active JP6683118B2 (ja) 2016-12-20 2016-12-20 X線位相撮影装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10656103B2 (ja)
JP (1) JP6683118B2 (ja)
CN (1) CN108201444B (ja)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019073760A1 (ja) * 2017-10-11 2019-04-18 株式会社島津製作所 X線位相差撮影システムおよび位相コントラスト画像補正方法
JP7060090B2 (ja) * 2018-04-24 2022-04-26 株式会社島津製作所 光イメージング装置および画像処理方法
JP7147346B2 (ja) 2018-08-08 2022-10-05 株式会社島津製作所 X線位相イメージング装置
EP3782551A1 (en) * 2019-08-23 2021-02-24 Koninklijke Philips N.V. System for x-ray dark-field, phase contrast and attenuation image acquisition
CN115804612B (zh) * 2022-12-09 2023-09-26 北京朗视仪器股份有限公司 一种成像装置

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7949095B2 (en) * 2009-03-02 2011-05-24 University Of Rochester Methods and apparatus for differential phase-contrast fan beam CT, cone-beam CT and hybrid cone-beam CT
JP5438649B2 (ja) * 2010-03-26 2014-03-12 富士フイルム株式会社 放射線撮影システム及び位置ずれ判定方法
JP5548085B2 (ja) * 2010-03-30 2014-07-16 富士フイルム株式会社 回折格子の調整方法
JP2012020107A (ja) * 2010-06-16 2012-02-02 Fujifilm Corp 放射線位相画像撮影装置
JP5601909B2 (ja) 2010-07-06 2014-10-08 国立大学法人 東京大学 X線撮像装置及びこれを用いるx線撮像方法
JP2012125343A (ja) * 2010-12-14 2012-07-05 Fujifilm Corp 放射線撮影システム及び画像処理方法
JP2012148068A (ja) * 2010-12-27 2012-08-09 Fujifilm Corp 放射線画像取得方法および放射線画像撮影装置
JP5204857B2 (ja) * 2011-01-14 2013-06-05 富士フイルム株式会社 放射線撮影システム及びその制御方法
JP5702236B2 (ja) * 2011-07-06 2015-04-15 富士フイルム株式会社 X線撮影装置およびそのキャリブレーション方法
RU2598310C2 (ru) * 2011-08-31 2016-09-20 Конинклейке Филипс Н.В. Формирование дифференциальных фазовых контрастных изображений с помощью чувствительного к энергии обнаружения
JP5475737B2 (ja) * 2011-10-04 2014-04-16 富士フイルム株式会社 放射線撮影装置及び画像処理方法
JP2013116313A (ja) * 2011-11-01 2013-06-13 Fujifilm Corp 放射線撮影装置及び放射線撮影方法
US9775575B2 (en) * 2012-06-27 2017-10-03 Koninklijke Philips N.V. Dark-field imaging
JP6388587B2 (ja) * 2012-08-17 2018-09-12 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 微分位相コントラストイメージングにおけるミスアライメントの対処
RU2631183C2 (ru) * 2012-08-20 2017-09-19 Конинклейке Филипс Н.В. Юстировка расстояния от решетки источника до фазовой решетки для фазовой настройки в несколько порядков при дифференциальной фазово-контрастной визуализации
JP2014079518A (ja) * 2012-10-18 2014-05-08 Konica Minolta Inc X線撮影装置及びモアレ画像生成方法
JP2015213665A (ja) * 2014-05-12 2015-12-03 キヤノン株式会社 放射線撮像装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018099269A (ja) 2018-06-28
US10656103B2 (en) 2020-05-19
US20180172607A1 (en) 2018-06-21
CN108201444A (zh) 2018-06-26
CN108201444B (zh) 2021-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6683118B2 (ja) X線位相撮影装置
JPWO2018016369A1 (ja) X線位相差撮像装置
JP5475737B2 (ja) 放射線撮影装置及び画像処理方法
JP2012090944A (ja) 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
JP2012024339A (ja) 放射線画像撮影システム及びコリメータユニット
CN111465841B (zh) X射线相位摄像***
CN112955735B (zh) X射线相位摄像***
JP6835242B2 (ja) X線位相差撮影システムおよび位相コントラスト画像補正方法
JP6881682B2 (ja) X線イメージング装置
JP6631707B2 (ja) X線位相差撮像システム
WO2012057022A1 (ja) 放射線撮影システム及び放射線撮影方法
JP2018128579A (ja) 回折格子の製造方法
JP2011206188A5 (ja)
JP6619268B2 (ja) 放射線画像生成装置
JP6813107B2 (ja) X線位相差撮像システム
JP2018179969A (ja) X線位相差撮像システム
JP7021676B2 (ja) X線位相差撮像システム
JP2014079518A (ja) X線撮影装置及びモアレ画像生成方法
WO2020188856A1 (ja) X線イメージング装置
JP2018099175A (ja) 放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影方法、及びプログラム
WO2012057023A1 (ja) 放射線画像撮影システム及びその制御方法
CN109328035B (zh) 放射线摄影装置
JP6783702B2 (ja) X線断層撮影装置
JP7060090B2 (ja) 光イメージング装置および画像処理方法
WO2013084659A1 (ja) 放射線撮影装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190404

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20191007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20191119

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200225

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200309

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6683118

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151