JP6636716B2 - 立体配線構造体および立体配線構造体の製造方法 - Google Patents
立体配線構造体および立体配線構造体の製造方法 Download PDFInfo
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Description
図1(a)および(b)は、第1実施形態に係る立体配線構造体を例示する模式図である。
図1(a)には本実施形態に係る立体配線構造体1の斜視図が表され、図1(b)には図1(a)に示すA−A線の断面図が表される。
図2は、本実施形態に係る立体配線構造体の製造方法を例示するフローチャートである。
図3(a)〜(c)は、本実施形態に係る立体配線構造体の製造方法を順に示す模式図である。
図4(a)〜(c)は、第2実施形態に係る立体配線構造体を例示する模式図である。
図4(c)には本実施形態に係る立体配線構造体1Bが表される。立体配線構造体1Bにおいては、パターン20の一部に導体層30が形成される。すなわち、立体配線構造体1Bは、パターン20の上に導体層30が形成される部分と、導体層30が形成されない部分とを有する。
図5(a)および(b)は、第3実施形態に係る立体配線構造体を例示する模式図である。
図5(a)には本実施形態に係る立体配線構造体1Cの斜視図が表され、図5(b)には図5(a)に示すB−B線の断面図が表される。
10…基材
20,21,22…パターン
30,31,32…導体層
100…積層構造体
110…屈曲部
Claims (10)
- 基材と、
前記基材の上に設けられた導電性高分子の導電性のパターンと、
前記パターンの上に設けられた電解めっきによる導体層と、
を含む積層構造体を備え、
前記積層構造体は立体的な凸部または凹部を有する形状を形成するために曲げられた屈曲部を有し、
前記導電性高分子は、PEDOT/PSSを含むこと
を特徴とする立体配線構造体。 - 前記基材および前記パターンのうち少なくとも前記基材は透光性を有する、請求項1記載の立体配線構造体。
- 前記導体層は、前記パターンの上の一部に設けられた、請求項1または請求項2に記載の立体配線構造体。
- 前記導電性高分子は、PEDOT/PSSからなる、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の立体配線構造体。
- 基材の上に導電性高分子の所定形状のパターンを形成して、前記基材および前記パターンを備える積層体を得るパターン形成工程と、
前記積層体を屈曲させる屈曲工程と、
屈曲した前記パターンの上に電解めっきを施して導体層を形成するめっき工程と、
を備え、
前記めっき工程では、導電性の前記パターンに通電することで前記電解めっきを行い、
前記導電性高分子は、PEDOT/PSSを含むこと
を特徴とする立体配線構造体の製造方法。 - 前記屈曲工程では、加熱を含む処理により前記積層体を所定形状に屈曲させる、請求項5記載の立体配線構造体の製造方法。
- 前記基材および前記パターンのうち少なくとも前記基材は透光性を有する、請求項5または請求項6に記載の立体配線構造体の製造方法。
- 前記めっき工程では、前記パターンの上の一部に前記導体層を形成する、請求項5から請求項7のいずれか1項に記載の立体配線構造体の製造方法。
- 前記導電性高分子は、PEDOT/PSSからなる、請求項5から請求項8のいずれか1項に記載の立体配線構造体の製造方法。
- 前記めっき工程では、酸性めっき液を用いて電解めっきを施す、請求項5から請求項8のいずれか1項に記載の立体配線構造体の製造方法。
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