JP6622515B2 - レンズアレイ、波面センサ、波面計測装置、形状計測装置、収差計測装置、光学素子の製造方法及び光学機器の製造方法 - Google Patents
レンズアレイ、波面センサ、波面計測装置、形状計測装置、収差計測装置、光学素子の製造方法及び光学機器の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6622515B2 JP6622515B2 JP2015166393A JP2015166393A JP6622515B2 JP 6622515 B2 JP6622515 B2 JP 6622515B2 JP 2015166393 A JP2015166393 A JP 2015166393A JP 2015166393 A JP2015166393 A JP 2015166393A JP 6622515 B2 JP6622515 B2 JP 6622515B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- lens
- wavefront
- electric field
- light shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 86
- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims description 29
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 113
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 77
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 39
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 26
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims 6
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 91
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 72
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 54
- 239000010408 film Substances 0.000 description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 9
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- 240000001973 Ficus microcarpa Species 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0242—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations
- G01M11/025—Testing optical properties by measuring geometrical properties or aberrations by determining the shape of the object to be tested
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J9/00—Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/58—Optics for apodization or superresolution; Optical synthetic aperture systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0075—Arrays characterized by non-optical structures, e.g. having integrated holding or alignment means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/005—Diaphragms
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/205—Neutral density filters
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/55—Optical parts specially adapted for electronic image sensors; Mounting thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
(波面計測装置)
図1は、本発明の第1実施形態に係る波面計測装置を示す模式図である。波面計測装置100は、不図示の光学系を介して、光学素子を有する光学機器200からの出射光(被検光)の波面104を計測する。波面計測装置100は、波面センサであるシャックハルトマンセンサ(SHS)101と、演算部である演算機103とを備えている。SHS101は、レンズアレイであるマイクロレンズアレイ(MLA)105と、撮像素子107とを有する。
SHS101を用いた波面計測の手順を説明する。まずは、MLA105に被検光を入射し、撮像素子107の受光面107A上に形成される複数のスポット像を撮像する。図5は、撮像素子107によって撮像されたスポット像の模式図である。スポット像は、撮像素子107が出力する、μ行ν列の画素からの信号Iμ,ν(μ=1、2、・・・、ν=1、2、・・・)で構成されることとなる。
第1実施形態では、遮光マスク121を導入することにより、レンズ109に2ステップの光透過率分布を与え、隣接スポット近傍での回折光を抑制している。以下、レンズ109がNステップ(Nは、2以上の整数)の光透過率分布を示す場合に拡張し、この時に隣接スポット近傍での回折光電場が抑制されるための条件を改めて導く。
第1実施形態のSHS101は、光源と光学素子とを有する光学機器200の製造に用いることができる。具体的には、まず、予め光学機器200を製作する(製作工程)。次に、波面計測装置100で光学機器200からの出射光の波面を計測する(計測工程)。このようにして計測された波面の収差を抑制するように光学機器200内の光学素子の位置を調整したり、加工を施したりすることができる。
第2実施形態において、SHS101がMLA105から構成され、MLA105がピッチpで配列された複数のレンズ109を有する点は、第1実施形態と共通である。但し、第2実施形態では、レンズ109の遮光マスク121が、第1実施形態と異なる。
第1実施形態のSHS101以上に隣接スポット近傍での回折光電場を低減するには、電場E’1,E’2に対して空間周波数が異なる電場E’jを更に重ね合わせて相殺すれば良い(j=3,4,・・・,N)。その際には、E’jのr=pにおける位相がE’1とE’2に対して0°もしくは180°ずれていることが好ましい。そのために、第2実施形態では、レンズ109の電場透過係数の絶対値が、式(7)にt0=1、N≧3、
N=2を式(24)に代入すると、Δ1=Δ2=0.5となり、式(17)によると、δ2=λf/2pである。これらの値を式(7)に代入すると、第1実施形態のレンズ109の電場透過係数の分布(図6(b))と一致する。すなわち、式(24)でN≧2とすると、第1実施形態のレンズ109も包括する条件式となる。
図9(a)は、式(19)に式(24)を代入し、遮光マスク121を備えたレンズ109に平面波の光を垂直に入射した場合について、焦点面での電場分布とNの関係を計算した結果を示すグラフである。計算の際には、p=0.1[mm]、λ=638[nm]、f=2.4[mm]、R=0.05[mm]としている。また、図9(b)は、その結果を式(6)に代入し、α=0.3として、回折光電場の抑制率βとNの関係を算出した結果を示すグラフである。いずれの図9(a)及び図9(b)からも、遮光マスク121で高い回折光電場抑制率が得られると共に、その値はNが増加するにつれてより向上する。第2実施形態では、電場透過係数が3ステップ以上(N≧3)となるように遮光マスク121が形成されるので、N=2とした第一実施形態と比較して、隣接スポットでの回折光電場をより低減することができる。
式(18)でR>λf(N−1)/2pなので、Nの上限Nmaxは、1+(2pR/λf)を超えない最大の整数となる。更に、Rの上限はp/2なので、Nの上限Nmaxは1+(p2/λf)を超えない最大の整数となる。例えば、p=0.1[mm]、λ=638[nm]、f=2.4[mm]、R=0.05[mm]であれば、Nmax=7である。N=7の時、遮光マスク121の光透過率のステップ数は6であり、そう多くはない。したがって、例えNが最大値を取る場合でも、遮光マスク121を形成するために成膜工程を多数回繰り返す必要はなく、第2実施形態の波面計測装置は現実的なコストで製作することが可能である。
遮光マスク121では、式(18)に基づき、異なる光透過率を示す領域の境界線の間隔δ(=δj−δj−1)をλf/2pとしたが、δがこの値から多少ずれても回折光電場を十分に抑制することができる。ここでは、許容されるδの範囲を検討する。
第3実施形態において、SHS101がMLA105から構成され、MLA105がピッチpで配列された複数のレンズ109を有する点は、第1、第2実施形態と共通である。但し、第3実施形態では、レンズ109の遮光マスク121が、第1、第2実施形態と異なる。
第4実施形態において、SHS101がMLA105から構成され、MLA105がピッチpで配列された複数のレンズ109を有する点は、第1〜第3実施形態と共通である。但し、第4実施形態では、レンズ109の遮光マスク121が、第1〜第3実施形態と異なる。
第5実施形態において、SHS101がMLA105から構成され、MLA105がピッチpで配列された複数のレンズ109を有する点は、第1〜第4実施形態と共通である。但し、第5実施形態では、レンズ109の遮光マスク121が、第1〜第4実施形態と異なる。
第6実施形態において、SHS101がMLA105から構成され、MLA105がピッチpで配列された複数のレンズ109を有する点は、第1〜第5実施形態と共通である。但し、第6実施形態では、レンズ109の遮光マスク121が、第1〜第5実施形態と異なる。
レンズ109を無収差レンズとして近似し、なおかつ単一のレンズ109に入射する被検光を局所的に平面波として近似する。このとき、レンズ109を透過した直後の電場Eは、式(32)で求められる。
図15(a)の光透過率分布を示すレンズ109について、焦点面での電場E’(r)を式(33)で求め、その後式(6)でα=0.5として回折光電場の抑制率βを求めたところ、0.95となった。この結果から、第6実施形態のSHS101(MLA105)によれば、隣接スポット近傍での回折光電場が十分に抑制される。
比較例の遮光マスクとして、光軸から周縁部に向けて光透過率が滑らかなガウス分布を示すガウシアンマスクについて考える。フレネルの回折式によると、レンズ面での電場Eと焦点面での電場E’とは互いにフーリエ変換の関係にある。マイクロレンズの光透過率Tがガウス分布を示せば、電場透過係数の絶対値tもガウス分布を示し、レンズ面での電場Eもガウス分布を示す。ガウス分布のフーリエ変換はやはりガウス分布なので、レンズ面での電場Eがガウス分布を示せば、焦点面での電場E’もガウス分布を示す。その結果、焦点面において周期的な空間分布を示す回折光電場は、マイクロレンズの光透過率が均一な場合と比較して、抑制されることとなる。
第7実施形態では、SHS101が、MLA105の代わりにMLA205を有する点で、第1〜第6実施形態と異なる。図17(a)は、MLA205の正面図、図17(b)は、MLA205の断面図である。
(形状計測装置の形態)
第8実施形態では、第1〜第7実施形態で説明した波面計測装置を有する形状計測装置について説明する。図18は、本発明の第8実施形態に係る形状計測装置300を示す模式図である。形状計測装置300は、非球面光学素子の表面の形状を計測するものである。
まず、不図示の加工装置でワークを加工して光学素子である被検レンズ312を製作する(加工工程)。次に、形状計測装置300で被検レンズ312の形状を計測する(形状計測工程)。
第9実施形態では、第1〜第7実施形態で説明した波面計測装置を有する収差計測装置について説明する。図19は、本発明の第9実施形態に係る収差計測装置400を示す模式図である。収差計測装置400は、被検物(光学素子)である被検レンズ412の収差を計測するものである。
コリメータレンズ403は、ファイバーコネクタ401Bからの出射光をコリメートして被検レンズ312に導く。コリメータレンズ404は、被検レンズ412を透過した光をコリメートしてSHS101に導く。
まず、不図示の加工装置でワークを加工して光学素子である被検レンズ412を製作する(加工工程)。次に、収差計測装置400で被検レンズ412の収差を計測する(収差計測工程)。
Claims (20)
- 被検光を分割した光を集光して複数の光のスポットを形成する複数のレンズを備え、
前記各レンズが、レンズ部材と、前記レンズ部材の周縁部を含む内側の領域に対応して設けられ、光の一部が透過する遮光部材と、を有し、
前記各レンズの配置間隔をp、前記被検光の波長をλ、前記各レンズの焦点距離をf、虚数単位をi、Nを2以上の整数、前記各レンズの周縁部における電場透過係数の絶対値をΔ1としたとき、前記各レンズの周縁部から内側へ距離δj離れた位置で、電場透過係数の絶対値が変化量Δj、前記各レンズの周縁部から内側へ向かってステップ状に増加し、p、λ、f、δ j は同じ単位であり、かつ
- N≧3であることを特徴とする請求項3又は4に記載のレンズアレイ。
- m=2であることを特徴とする請求項3又は4に記載のレンズアレイ。
- N=2であることを特徴とする請求項6に記載のレンズアレイ。
- N≦20であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレンズアレイ。
- 前記遮光部材が、前記レンズ部材の表面に形成された金属膜であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載のレンズアレイ。
- 前記遮光部材の膜厚で前記電場透過係数の絶対値が設定されていることを特徴とする請求項10に記載のレンズアレイ。
- 前記各レンズの周縁部が円形又は多角形であることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載のレンズアレイ。
- 請求項1乃至12のいずれか1項に記載のレンズアレイと、
前記レンズアレイに対向して配置され、前記複数のスポットの像を撮像する撮像素子と、を有する波面センサ。 - 請求項13に記載の波面センサと、
前記波面センサの検知結果に基づき、前記被検光の波面データを算出する演算部と、を有する波面計測装置。 - 請求項14に記載の波面計測装置と、
光源と、
前記光源からの光を被検物に導き、前記被検物で反射した光を前記被検光として前記波面計測装置に導く光学系と、を備え、
前記演算部が、前記波面データに基づき、前記被検物の形状を算出する形状計測装置。 - 請求項14に記載の波面計測装置と、
光源と、
前記光源からの光を被検物に導き、前記被検物を透過した光を前記被検光として前記波面計測装置に導く光学系と、を備え、
前記演算部が、前記波面データに基づき、前記被検物の収差を算出する収差計測装置。 - ワークを加工して光学素子を製作する加工工程と、
請求項15に記載の形状計測装置で前記光学素子の形状を計測する形状計測工程と、を備えた光学素子の製造方法。 - ワークを加工して光学素子を製作する加工工程と、
請求項16に記載の収差計測装置で前記光学素子の収差を計測する収差計測工程と、を備えた光学素子の製造方法。 - ワークを加工して光学素子を製作する加工工程と、
請求項15に記載の形状計測装置で前記光学素子の形状を計測する形状計測工程と、
請求項16に記載の収差計測装置で前記光学素子の収差を計測する収差計測工程と、を備えた光学素子の製造方法。 - 光学素子を有する光学機器を製作する製作工程と、
請求項14に記載の波面計測装置で前記光学機器からの出射光の波面を計測する波面計測工程と、を備えた光学機器の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015166393A JP6622515B2 (ja) | 2015-08-26 | 2015-08-26 | レンズアレイ、波面センサ、波面計測装置、形状計測装置、収差計測装置、光学素子の製造方法及び光学機器の製造方法 |
US15/242,068 US9784641B2 (en) | 2015-08-26 | 2016-08-19 | Lens array, wavefront sensor, wavefront measurement apparatus, shape measurement apparatus, aberration measurement apparatus, manufacturing method of optical element, and manufacturing method of optical device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015166393A JP6622515B2 (ja) | 2015-08-26 | 2015-08-26 | レンズアレイ、波面センサ、波面計測装置、形状計測装置、収差計測装置、光学素子の製造方法及び光学機器の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017044832A JP2017044832A (ja) | 2017-03-02 |
JP6622515B2 true JP6622515B2 (ja) | 2019-12-18 |
Family
ID=58098332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015166393A Expired - Fee Related JP6622515B2 (ja) | 2015-08-26 | 2015-08-26 | レンズアレイ、波面センサ、波面計測装置、形状計測装置、収差計測装置、光学素子の製造方法及び光学機器の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9784641B2 (ja) |
JP (1) | JP6622515B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3567847A4 (en) * | 2017-01-09 | 2019-12-18 | LG Innotek Co., Ltd. | DUAL-LENS DRIVE DEVICE, DUAL CAMERA MODULE, AND OPTICAL DEVICE |
IL251636B (en) * | 2017-04-06 | 2018-02-28 | Yoav Berlatzky | A system and method for a coherent camera |
JP2019101244A (ja) * | 2017-12-04 | 2019-06-24 | 富士通株式会社 | 光モジュール |
CN108287062A (zh) * | 2018-02-01 | 2018-07-17 | 长春理工大学 | 具有组合分划板的目标发生器 |
US10529763B2 (en) * | 2018-04-19 | 2020-01-07 | Semiconductor Components Industries, Llc | Imaging pixels with microlenses |
US11231375B2 (en) * | 2019-05-20 | 2022-01-25 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Apparatus for high-speed surface relief measurement |
CN112525103B (zh) * | 2020-12-09 | 2021-07-23 | 吉林大学 | 基于向心调整机构的汽车形貌测量***畸变系数测量仪 |
US20240192060A1 (en) * | 2021-03-26 | 2024-06-13 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Wave front sensor based on fourier filtering |
US11662526B1 (en) * | 2021-12-09 | 2023-05-30 | Visera Technologies Company Ltd. | Optical structure |
CN114280704B (zh) * | 2021-12-28 | 2023-07-07 | 深圳迈塔兰斯科技有限公司 | 超透镜阵列、波前探测*** |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008070629A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Nikon Corp | 光検出装置、カメラ、焦点検出装置および光学特性測定装置 |
JP2013002819A (ja) * | 2011-06-10 | 2013-01-07 | Horiba Ltd | 平面度測定装置 |
CN102252833B (zh) * | 2011-06-24 | 2013-01-23 | 北京理工大学 | 大口径大动态范围准直***波前质量检测装置 |
JP2014102119A (ja) * | 2012-11-19 | 2014-06-05 | Canon Inc | 波面収差測定方法、波面収差測定装置、及び光学系の製造方法 |
US9019485B2 (en) * | 2013-03-11 | 2015-04-28 | Lumetrics, Inc. | Apparatus and method for evaluation of optical elements |
JP6494205B2 (ja) * | 2013-07-31 | 2019-04-03 | キヤノン株式会社 | 波面計測方法、形状計測方法、光学素子の製造方法、光学機器の製造方法、プログラム、波面計測装置 |
-
2015
- 2015-08-26 JP JP2015166393A patent/JP6622515B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-08-19 US US15/242,068 patent/US9784641B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9784641B2 (en) | 2017-10-10 |
US20170059446A1 (en) | 2017-03-02 |
JP2017044832A (ja) | 2017-03-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6622515B2 (ja) | レンズアレイ、波面センサ、波面計測装置、形状計測装置、収差計測装置、光学素子の製造方法及び光学機器の製造方法 | |
US20230222629A1 (en) | Imaging system and method for imaging objects with reduced image blur | |
JP5351976B2 (ja) | 二重グレーチング横方向シアリング波面センサ | |
JP6494205B2 (ja) | 波面計測方法、形状計測方法、光学素子の製造方法、光学機器の製造方法、プログラム、波面計測装置 | |
US11293806B2 (en) | Wavefront sensor and method of using it | |
US10149612B2 (en) | Ophthalmoscopes | |
US20130120550A1 (en) | Extended depth of field microscope system | |
JP5406383B2 (ja) | 撮像装置 | |
US20100230577A1 (en) | Optical angle of arrival measurement system and method | |
JP4955133B2 (ja) | 回折レンズ | |
JP2024063078A (ja) | 波面計測装置、波面計測方法、並びに、光学系および光学素子の製造方法 | |
WO2015059862A1 (ja) | 回折格子レンズ、それを有する光学系の設計方法、画像算出プログラムおよび回折格子レンズの製造方法 | |
US9347853B2 (en) | Method and device of measuring wavefront aberration, method of manufacturing optical system, and recording medium | |
US8520191B2 (en) | Slit aperture for diffraction range finding system | |
JP5473743B2 (ja) | 軸外透過波面測定装置 | |
RU2510059C1 (ru) | Инфракрасный объектив с двумя полями зрения и вынесенной апертурной диафрагмой | |
JP2022523751A (ja) | 階調密度フィルタを使用して光波の表面を検査するためのシステム | |
JP2021060353A (ja) | 光学系の内部誤差の推定方法および計測装置 | |
US20100110445A1 (en) | Slit aperture for diffraction range finding system and method for using the slit aperture to form a focused image | |
Antoshkin et al. | Efficiency of stabilization of laser radiation on the stand of an adaptive optical system | |
Matital et al. | Review of holographic wavefront sensors | |
Poleshchuk et al. | Aperture apodization on regular gratings with variable transmission in the zero diffraction order | |
Ueshima et al. | Development of a practical performance aberration retrieval method from spot intensity images using inverse analysis | |
JP2024025303A (ja) | 撮像装置および測定装置 | |
JP2008249910A (ja) | 撮像装置及び光学系 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180803 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190416 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190417 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191023 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20191122 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6622515 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |