JP6618248B2 - 抵抗器およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims description 52
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C1/00—Details
- H01C1/14—Terminals or tapping points or electrodes specially adapted for resistors; Arrangements of terminals or tapping points or electrodes on resistors
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- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/06—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
- H01C17/065—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thick film techniques, e.g. serigraphy
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- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
- H01C17/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
- H01C17/242—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material by laser
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- H01C—RESISTORS
- H01C17/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
- H01C17/22—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
- H01C17/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
- H01C17/245—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material by mechanical means, e.g. sand blasting, cutting, ultrasonic treatment
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C3/00—Non-adjustable metal resistors made of wire or ribbon, e.g. coiled, woven or formed as grids
- H01C3/10—Non-adjustable metal resistors made of wire or ribbon, e.g. coiled, woven or formed as grids the resistive element having zig-zag or sinusoidal configuration
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C3/00—Non-adjustable metal resistors made of wire or ribbon, e.g. coiled, woven or formed as grids
- H01C3/10—Non-adjustable metal resistors made of wire or ribbon, e.g. coiled, woven or formed as grids the resistive element having zig-zag or sinusoidal configuration
- H01C3/12—Non-adjustable metal resistors made of wire or ribbon, e.g. coiled, woven or formed as grids the resistive element having zig-zag or sinusoidal configuration lying in one plane
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/10—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material voltage responsive, i.e. varistors
- H01C7/1006—Thick film varistors
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- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
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Description
例えば、前記第2の抵抗部は直線状の形状を有することを特徴とする。例えば、前記第2の抵抗部の前記トリミング溝を形成した部位における該第2の抵抗部の残部の幅が前記蛇行パターンの幅以上であることを特徴とする。
また、例えば、さらに、前記第1の抵抗部と前記第2の抵抗部とを接続する中間電極を備えることを特徴とする。さらには、例えば、前記第1の抵抗部と前記第2の抵抗部は同一の抵抗体材料で構成されることを特徴とする。
例えば、前記第1のトリミング工程でサンドブラストによるトリミングを行い、前記第2のトリミング工程でレーザによるトリミングを行うことを特徴とする。
11 第1電極
13 中間電極
15 第2電極
21 第1抵抗部
23,26 蛇行パターン
24 膨出パターン
25 粗調整パターン
29 第2抵抗部
35,37 トリミング溝
41 保護膜
43,45 リード端子
49 外装膜
50 高圧用抵抗器
Claims (7)
- 絶縁基板に形成された一対の電極間に少なくとも一つの中間電極と、電気的に導通させる抵抗体を備えた抵抗器であって、
前記抵抗体は、
蛇行パターンと、該蛇行パターンに接続され、その一部が前記蛇行パターンの線幅から膨出した形状を有する膨出パターンとを有する第1の抵抗部と、
前記第1の抵抗部の全長よりも短く、かつ前記蛇行パターンの線幅よりも太い幅を有し、該第1の抵抗部と電気的に直列に接続された第2の抵抗部と、
前記第1の抵抗部と、前記第2の抵抗部と、前記中間電極と、を覆う外装膜とからなり、
前記膨出パターンと前記第2の抵抗部の間に前記中間電極と、前記膨出パターンと前記第2の抵抗部の少なくとも一方にトリミング溝を形成したことを特徴とする抵抗器。 - 前記第2の抵抗部は直線状の形状を有することを特徴とする請求項1に記載の抵抗器。
- 前記第2の抵抗部の前記トリミング溝を形成した部位における該第2の抵抗部の残部の幅が前記蛇行パターンの幅以上であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の抵抗器。
- 前記中間電極は、前記一対の電極よりも基板の内側に位置していることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の抵抗器。
- 前記第1の抵抗部と前記第2の抵抗部は同一の抵抗体材料で構成されることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の抵抗器。
- 絶縁基板に形成された一対の電極間を、電気的に導通させる抵抗体を備える抵抗器の製造方法であって、
前記抵抗体として、蛇行パターンと、該蛇行パターンに接続され、その一部が前記蛇行パターンの線幅から膨出した形状を有する膨出パターンとを有する第1の抵抗部と、前記第1の抵抗部の全長よりも短く、かつ前記蛇行パターンの線幅よりも太い幅を有する第2の抵抗部と、前記第1の抵抗部と前記第2の抵抗部を電気的に直列に接続するための中間電極を形成する工程と、
前記中間電極を用いて抵抗値を測定し前記膨出パターンの一部を除去することで前記第1の抵抗部の電流路を延長するように抵抗値調整を行う第1のトリミング工程と、
前記中間電極を用いて抵抗値を測定し前記第2の抵抗部の所定部位の幅を狭めることで抵抗値調整を行う第2のトリミング工程と、
前記第1の抵抗部と前記第2の抵抗部と前記中間電極を覆う外装膜を形成する工程と、を備え、
前記第2のトリミング工程でトリミング溝を形成した前記第2の抵抗部の前記所定部位の幅を前記蛇行パターンの幅以上とすることを特徴とする抵抗器の製造方法。 - 前記第1のトリミング工程でサンドブラストによるトリミングを行い、前記第2のトリミング工程でレーザによるトリミングを行うことを特徴とする請求項6に記載の抵抗器の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014217820A JP6618248B2 (ja) | 2014-10-24 | 2014-10-24 | 抵抗器およびその製造方法 |
US14/920,999 US9793033B2 (en) | 2014-10-24 | 2015-10-23 | Resistor and manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014217820A JP6618248B2 (ja) | 2014-10-24 | 2014-10-24 | 抵抗器およびその製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016086074A JP2016086074A (ja) | 2016-05-19 |
JP2016086074A5 JP2016086074A5 (ja) | 2017-11-30 |
JP6618248B2 true JP6618248B2 (ja) | 2019-12-11 |
Family
ID=55792516
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014217820A Active JP6618248B2 (ja) | 2014-10-24 | 2014-10-24 | 抵抗器およびその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9793033B2 (ja) |
JP (1) | JP6618248B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102018101419A1 (de) * | 2018-01-23 | 2019-07-25 | Biotronik Se & Co. Kg | Elektrischer Widerstand, insbesondere für medizinische Implantate |
US10622125B1 (en) * | 2019-03-07 | 2020-04-14 | Nmb Technologies Corporation | Strain gauge |
US10923253B1 (en) * | 2019-12-30 | 2021-02-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Resistor component |
JP2023021533A (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-14 | Koa株式会社 | 抵抗器および抵抗器の製造方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3512254A (en) * | 1965-08-10 | 1970-05-19 | Corning Glass Works | Method of making an electrical device |
GB1160753A (en) * | 1965-08-10 | 1969-08-06 | Corning Glass Works | Electrical Device Enclosure and Method |
JPS5629304A (en) * | 1979-08-20 | 1981-03-24 | Taiyo Yuden Kk | Method of manufacturing electric part like thin film resistor or like |
US4375056A (en) * | 1980-02-29 | 1983-02-22 | Leeds & Northrup Company | Thin film resistance thermometer device with a predetermined temperature coefficent of resistance and its method of manufacture |
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US4859981A (en) * | 1988-05-18 | 1989-08-22 | Ebg Elektronische Bauelement Gesellschaft M.B.H. | Electrical resistor device |
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JP2004200424A (ja) | 2002-12-19 | 2004-07-15 | Aoi Electronics Co Ltd | チップ抵抗器 |
JP2005072086A (ja) * | 2003-08-28 | 2005-03-17 | Tama Electric Co Ltd | 抵抗調整方法及び抵抗調整装置 |
US7286039B2 (en) * | 2003-09-17 | 2007-10-23 | Rohm Co., Ltd. | Chip resistor and method of manufacturing the same |
US7079004B2 (en) * | 2003-10-10 | 2006-07-18 | Agilent Technologies, Inc. | Precision thin film AC voltage divider |
JP4311421B2 (ja) * | 2006-08-25 | 2009-08-12 | 株式会社日立製作所 | 抵抗調整方法 |
-
2014
- 2014-10-24 JP JP2014217820A patent/JP6618248B2/ja active Active
-
2015
- 2015-10-23 US US14/920,999 patent/US9793033B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20160118164A1 (en) | 2016-04-28 |
JP2016086074A (ja) | 2016-05-19 |
US9793033B2 (en) | 2017-10-17 |
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