JP6606547B2 - 複数の液体または固体の原材料からcvdまたはpvd装置のために蒸気を生成する蒸気発生装置および蒸気発生方法 - Google Patents

複数の液体または固体の原材料からcvdまたはpvd装置のために蒸気を生成する蒸気発生装置および蒸気発生方法 Download PDF

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Description

本発明は、CVDまたはPVD装置における蒸気発生方法であって、第1の原材料の液体または固体の粒子を第1の熱移動ボディの熱移動面と接触させることによって気化の熱が当該粒子に伝えられ、当該第1の熱移動ボディが第1の温度になり、そのため、第1の蒸気が生じ、当該第1の蒸気がキャリアガスによって前記第1の熱移動ボディの外に運ばれ、第2の熱移動ボディがキャリアガスの流れの方向において前記第1の熱移動ボディの後にある距離を持って配置されており、前記第1の蒸気がキャリアガスによって前記第2の熱移動ボディの中に運ばれ、前記第2の熱移動ボディが第2の温度になる蒸気発生方法に関する。
本発明は、更に、上記方法を実施するための、CVDまたはPVD装置用の蒸気発生装置であって、第1の熱移動ボデイを備えており、当該第1の熱移動ボデイが第1の供給ラインを経て前記第1の熱移動ボディに供給される第1の原材料の液体または固体の粒子に気化の熱を伝えるための熱移動面を有し、第2の熱移動ボディがキャリアガスの流れの方向において前記第1の熱移動ボディの後に配置されており、前記粒子を気化させることによって生成される蒸気がキャリアガスの流れの方向においてキャリアガスによって前記第1の熱移動ボディから前記第2の熱移動ボディの中に運ばれることができ、前記第1の熱移動ボディが第1の温度に加熱されることができ、前記第2の熱移動ボディが第2の温度に加熱されることができる蒸気発生装置に関する。
特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、または特許文献5は、蒸気を与えるための装置を示す。その装置では、1つ以上の導電性を有する固体発泡体が使われている。それらの固体発泡体は、エアロゾルに気化の熱を供給するために使われることができる。流れが通り抜けることを許すことは、オープンセルの発泡体ボディのセル壁に加熱させる。気化の熱がセル壁と接触する粒子に伝わる。そのため、粒子は相変化する。それらは蒸気に変わり、蒸気は流れの方向においてCVD反応炉のガス注入ユニットの方にキャリアガスによって運ばれる。化学反応がCVD反応炉で起こることができる。けれども、CVD反応炉の代わりに、また、PVD反応炉に使用されることができる。PVD反応炉は冷却されたサセプタを有し、サセプタの上にコーティングされる基板が置かれる。蒸気は基板の表面に凝結し、その結果層を形成する。
特許文献6と特許文献7には、有機原材料からの発光ダイオード(OLED)の製造が記載されている。特に、その発明は基板上にそのような有機層を堆積させるための装置に関する。そのため、コーティングされた基板からOLED部品が組み立てられることができる。
国際公開第2012/175128号パンフレット 国際公開第2012/175124号パンフレット 国際公開第2012/175126号パンフレット 独国特許公開第10 2011 051 261号公報 独国特許公開第10 2011 051 260号公報 米国特許4,769,292号公報 米国特許4,885,211号公報 米国特許2,447,789号公報 ヨーロッパ特許0 982 411号公報
また、特許文献8と特許文献9には、低い圧力の範囲で層を堆積させるための方法が記載されている。使用される原材料は、気体の形で存在するのではなくて、むしろ固体または液体として存在する。それらを蒸気相に至らせるために、気化の熱が個体または液体に供給されなければならない。これは原材料が加熱されることを必要とする。原材料への大きな熱の流れが高い気化性能を実現するために必要とされる。原材料は、エアロゾルとして熱い表面と接触に至らせられる。けれども、熱の移動は最大の許容温度勾配によって制限される。特に、原材料はそれらの化学的分解温度を超えて加熱されることはできない。先行技術において、これが少量の原材料のみが熱い接触面と接触に至らせられる理由である。結果として、気化率は低い。
更に、複数の異なる有機原材料が使われることが必要とされる。また一般に、これらの異なる原材料は異なる気化温度または分解温度を持つ。複数の有機原材料を使うことが、特に堆積する層に電気的にドーピングするために必要である。
従って、本発明の目的は、異なる化学的および/または物理的特性を有する原材料を気化させることができる方法または装置を提供することである。
その目的は請求項に記載された発明によって達成される。
本発明によれば、多段の気化デバイスが使用される。気化デバイスは少なくとも2つの熱移動ボディを持ち、それらは熱移動面を有する。熱移動ボディは流れの方向において順々に配置される。キャリアガスは、少なくとも1つの上流の熱移動ボディを通って流れる。第1のエアロゾルは上流の熱移動ボディに供給される。粒子は、熱移動面と接触することによって気化する。気化された第1の原材料は、キャリアガスによって少なくとも1つの第2の下流の熱移動ボディの中に供給される。第2のエアロゾルは、この少なくとも1つの第1の下流の熱移動ボディの中に供給される。第2のエアロゾルの粒子は、少なくとも1つの下流の熱移動ボディの熱移動面と接触することによって気化する。結果として、キャリアガスは、2つの異なる原材料の蒸気からなるガスを最後の下流の熱移動ボディの外に運ぶ。流れの方向に順々に配置された複数の熱移動ボディの前に個別の各エアロゾル供給ラインが開くか、またはそれら複数の熱移動ボディの中に個別の各エアロゾル供給ラインが開くが、それら複数の熱移動ボディは異なる温度であることができる。望ましくは、上流に配置された各熱移動ボディが下流に配置された各熱移動ボディよりも低い温度であるように、流れの方向に順々に配置された熱移動ボディの温度は異なる。従って、それらの熱移動ボディは流れの方向において徐々に高くなる温度を有する。望ましくは、より低い気化温度を持つエアロゾルが少なくとも1つの上流の熱移動ボディの中にあるか、またはそこに供給されることができ、かつより高い気化温度を持つエアロゾルが少なくとも1つの下流の熱移動ボディの中にあるか、またはそこに供給されることができるように、それらの熱移動ボディの温度は選択される。より高い温度を有する少なくとも1つの下流の気化ボディにおける気化されたエアロゾルの少ない接触期間または保持期間に起因して、たとえあるとしても無視できるほどの蒸気の分散があるのみである。最も単純なケースでは、その装置または方法は、順々に配置された2つの熱移動ボディを有する装置の中に実装される。流れの方向に見られる第1の熱移動ボディは、流れの方向においてその前に配置された予熱ボディを持つことができる。この予熱ボディは、キャリアガスを予熱するために使用される。予熱されたキャリアガスは、直接に、またはフリー隙間空間を通過した後で、第1の熱移動ボディの中に流れる。第1のエアロゾルのための第1の供給ラインは、第1の移動ボディの中に開くか、または第1の移動ボディの前の隙間空間の中に開く。第1のエアロゾルは、第1の熱移動ボディの中に供給される。第1のエアロゾルは、熱移動ボディの熱移動面と接触するエアロゾル粒子によって気化される。第2の熱移動ボディは、第1の熱移動ボディから下流に位置している。隙間空間は、第1の熱移動ボディと第2の熱移動ボディの間に与えられることができる。第2のエアロゾル供給ラインは、隙間空間の中に開くか、または第2の熱移動ボディの中に直接開くことができる。第2のエアロゾルはこの第2のエアロゾル供給ラインを通って第2の熱移動ボディの中に供給され、第2のエアロゾルの粒子は第2の熱移動ボディの熱移動面と接触する。複数の追加の熱移動ボディが流れの方向において第2の熱移動ボディの後ろに配置されることができ、それらの中に他の個別のエアロゾルが供給されることができる。これは、直列の気化デバイスに帰着する。気化ボディは、電流を流すことによって気化温度に加熱される。異なる熱移動ボディの気化温度はお互いに異なることができる。特に、個々の熱移動ボディの気化温度が流れの方向に高くなり、そのため、最も低い気化温度を持つエアロゾルが流れの方向において最初の気化ボディの中に供給され、最も高い気化温度を持つエアロゾルが流れの方向において最後の気化ボディの中に供給されることが提供される。熱移動ボディも予熱ボディも特許文献1、特許文献2、または特許文献3に開示されている種類の固体発泡体から成るという事実によってエアロゾルボディと熱移動面の接触は最小化される。この理由のために、これらの特許文献の開示内容は本出願の開示内容にそっくりそのまま含まれる。インチ当たり500個から200個、望ましくは100個の細孔の多孔率を持った固体発泡体がここに含まれる。固体発泡体の表面における全てのオープンエリアの割り当ては90%より大きい。全てのオープンセルの壁は、電流を流すことによって気化温度に至らせられる。最後の加熱可能なまたは冷却さえ可能な固体発泡体は、流れの方向において個別にエアロゾルが供給される最後の熱移動ボディの後ろに配置されることができる。この発泡体ボディは、蒸気の流れを調節する役目を果たす。部分的な凝結がその温度を下げることによってそこで起こることができる。流れの方向においてキャリアガスによって運ばれて最後の気化ボディまたは固体ボディに存在する蒸気が、PVD反応炉のプロセスチャンバーの中に導入される。これは、シャワーヘッドの形のガス注入ユニットを通って起こることができる。けれどもまた、流れの方向における最後の発泡体ボディのガス排気面から直接に蒸気は供給されることができる。冷却されたサセプタは、複数の材料から成っている蒸気でコーティングされる基板を支える。コーティングは凝結によって起こる。
流れの方向において最後に配置された熱移動ボディは、個々の蒸気を均一的に混合する性質を有する。この理由のために、流れの方向において最後に配置された熱移動ボディはガス排気面を形成することができ、ガス排気面は同時にプロセスチャンバーのガス注入面を形成する。従って、ガス排気面を持って流れの方向において最後に配置される熱移動ボディは、プロセスチャンバーの上側の境界であることができる。熱移動ボディは、丸い外形または長方形の外形を有することができる。それらは端よりも真ん中で薄いことができる。結果として、それらはメニスカス状の上面と底面を有することができる。
添付図面に基づいて、本発明の実施形態を以下に説明する。
多段のエアロゾル気化器を有するコーティングデバイスの構造の概略図である。 図1のII−II線断面図である。 多段のエアロゾル気化器がPVD反応炉26のガス注入ユニット14に供給する本発明の第2の実施形態を示す。 多段のエアロゾル気化器のもう一つの実施形態を示す。
図1は、反応炉ハウジング26の概略図を示す。反応炉ハウジング26は1つまたは複数の基板20が配置される冷却可能なサセプタ19を含む。
キャリアガスは、最上部から底へ反応炉ハウジング26を通って流れる。キャリアガスは、供給ライン7を通って送り込まれる。第1のエアロゾルは供給ライン5を通って送り込まれる。本実施形態では、2つまたは4つの供給ライン5が存在する。そして、第2のエアロゾルは供給ライン6を通って送り込まれる。2つのエアロゾルは、化学的にお互いと異なり、異なる気化温度を持つ。第1のエアロゾルの気化温度は、第2のエアロゾルの気化温度より低い。
反応炉ハウジング26の断面全体に広がる予熱ボディ4は、流れの方向においてキャリアガス供給ラインの開口7’の後ろに直接配置される。電気コンタクト22を介して予熱ボディ4に導入される電流は、第1のエアロゾルの気化温度におおよそ相当する温度に予熱ボディ4を加熱するために使われることができる。
パイプから成る供給ライン5,6は、予熱ボディ4を貫通する。第1の供給ライン5の開口5’は中間空間10に位置する。中間空間10は予熱ボディ4から上流に配置され、第1の気化ボディ1から下流に配置される。気化ボディ1は、反応炉ハウジング26の断面全体に広がる。コンタクト23を介して第1の気化ボディ1に導入される電流は、気化ボディ1を第1の気化温度に至らせる。予熱ボディ4に存在する加熱されたキャリアガスと中間空間10に供給される第1のエアロゾルは、第1の気化ボディ1の中に入る。そのとき、エアロゾルの粒子は、第1の熱移動ボディ1の気化面と物理的に接触する。第1のエアロゾルは第1の熱移動ボディ1の内側で完全に気化する。後者は第1の熱移動ボディ1から第2の中間空間11の中にキャリアガスの流れによって運ばれる。第2の中間空間11は流れの方向において第1の熱移動ボディ1の後ろに位置し、流れの方向において第2の熱移動ボディ2の前に位置する。
第2のエアロゾル供給ライン6の開口6’が第2の中間空間11の中に位置する。第2のエアロゾル供給ライン6を通って第2のエアロゾルがより高い気化温度で供給される。
コンタクト24を介して第2の熱移動ボディ2に導入される電流は、第2の熱移動ボディ2を第2の気化温度に加熱するために使われることができる。第2の気化温度は第1の気化温度よりも高い。開口6’に存在するエアロゾルの流れと、キャリアガスによって運ばれて第1の熱移動ボデイ1に存在する蒸気とは、第2の気化ボディ2の中に入る。
第2のエアロゾルの粒子は第2の熱移動ボディ2の中で気化される。第1の原材料からの蒸気は、本質的に散らされず、かつ影響を受けずに第2の熱移動ボディ2を通って流れる。
第3の中間空間12が、流れの方向において第2の熱移動ボディ2の後ろに位置している。第3の中間空間12は、流れの方向において最後の熱移動ボディ3の上に位置している。最後の熱移動ボディ3は、コンタクト25に電流を導入することによってある温度に加熱されることができる。また、最後の熱移動ボディ3を冷却するための手段が提供される。そのため、熱移動ボディ3に凝結が生じる。例えば、そのような手段は(図示されない)供給ラインから成る。その供給ラインを通って冷却されたキャリアガスが中間空間12に供給される。けれども、基板20をコーティングするために、熱移動ボディ3はその熱移動面に凝結が生じない温度に保たれる。そのとき、2つの異なる蒸気から成るプロセスガスが、熱移動ボディ3の排気面に存在する。蒸気は基板20の表面に凝結する。基板20はサセプタ19によって堆積温度に保たれる。
熱移動ボディ1と2の仕事は、それらに供給される各エアロゾルを気化することである。従って、熱移動ボディ1,2は気化ボディを構成する。
エアロゾルは、層構成原材料とドーピング原材料を含むことができる。また、それらは複数の層構成材料を含むことができる。特に、OLEDを堆積するために使われる有機材料であることができる。
図1に示される本実施形態では、流れの方向における最後の熱移動ボディ3の低い側または幅広面であってサセプタの方を向いている面は、ガス排気面を含み、プロセスチャンバーの上面を形成する。プロセスチャンバーの底面はサセプタ19の上面から成る。
予熱ボディ4と共に熱移動ボディ1から3は、固体発泡体から成っている。固体発泡体は、例えばインチ当たり100個の細孔の適切な多孔率を示す。意図される用途に依存して、多孔率はインチ当たり50個と500個の細孔の間であることができる。熱移動ボディは、環状の外形を示すことができる。本実施形態では、予熱ボディ4と共に熱移動ボディ1から3は長方形の外形を示す。それらは、設計において端よりも真ん中で少し薄い。結果として、発泡体ボディ1から4の端が接触して重ねて置かれているとき、発泡体ボディ1から4のメニスカス状の底面と上面によって中間空間が形成される。供給ライン5と6はパイプから成り、それらは槍のように発泡体ボディ4または1の中に孔を貫通する。
図3に示される第2の実施形態は図1に示された実施形態と基本的に同様の気化デバイスを有するので、上述した説明が参照される。第1のエアロゾル供給ライン5は、第1のエアロゾル発生器15によって供給される。第2のエアロゾル供給ライン6は、第2のエアロゾル発生器16によって供給される。 キャリアガスライン7は、キャリアガス源17によって供給される。キャリアガス源17は、水素源、窒素源または不活性ガス源であることができる。
流れの方向において最後の熱移動面3から下流にじょうご状のガス排気チャンネルが配置され、その壁9は加熱される。ガス排気チャンネルはガス排気開口13で終わる。ガス排気開口13を通ってキャリアガスによって運ばれる蒸気混合物がCVD反応炉26のガス注入ユニット14の中に入ることができる。本実施形態では、気化デバイスはそれ自身のハウジング8を有している。ハウジング8は、加熱される壁9を経てガス排気開口13のエリアで反応炉ハウジング26と結合する。
ガス注入ユニット14はシャワーヘッドから成る。シャワーヘッドは複数のガス排気開口を有しており、ガス排気開口を通ってキャリアガス−蒸気混合物から成るプロセスガスがプロセスチャンバ−18の中に流れることができる。プロセスチャンバ−18の中には堆積温度に冷却された基板20が配置される。
ポンプを持つ真空装置21はプロセスチャンバーを空にするか、またはプロセスチャンバーを低圧に保つために使われることができる。
図4に示される第3の実施形態は、3段の気化器を有する。供給ライン7を介して供給されるキャリアガスは、ここで同様に予熱ユニット4で予熱される。第1のエアロゾル供給ライン5は、第1の熱移動ボディ1の中に開く。第2のエアロゾルのための第2のエアロゾル供給ライン6は、第2の熱移動ボディ2の中に開く。第3のエアロゾル供給ライン28は、第3のエアロゾルを第3の熱移動ボディ27の中に供給することができる。第3のエアロゾル供給ライン28は、第3の熱移動ボディ27の中に開く。ここで同様に流れの方向において最後の熱移動ボディ3が提供される。熱移動ボディ3を通って3つの生成された蒸気の全てが流れなければならない。
3つの熱移動ボディ1,2,27は、キャリアガスの流れの方向に順々に配置される。複数のエアロゾルのカスケードされた気化が、キャリアガスの流れの方向に順々に起こる。エアロゾルは、各気化ボディ1,2,27に個々に供給される。順々に配置された気化ボディ1,2,27は、異なる気化温度に加熱される。下流に位置する気化ボディは、常にその上流に位置するそれぞれの気化ボディよりも高い温度に加熱される。最も低い気化温度を持つエアロゾルは流れの方向において最初の気化ボディの中に供給される。一方、最も高い気化温度を持つエアロゾルは流れの方向において最後の気化ボディの中に供給される。
ここで同様に、供給ラインパイプ5,6,28は熱移動ボディ1,2,4の中に孔を貫通し、パイプの伸長方向はキャリアガスの流れの方向と一致する。
複数の異なるエアロゾルを同時に気化することができる気化デバイスを使用することは、付加的な混合デバイスのための必要性を無くする。付加的な混合デバイスの中では、別々に生成された蒸気は他の方法で混合されなければならない。気化ボディ2で第2の原材料が気化されるのみならず、また、第1の原材料を気化させることによって生成された蒸気が第2の原材料を気化させることによって生成された蒸気と一様に混合される。更に、流れの方向において最後に配置された熱移動ボディ3で混合が起こる。
図4に示される実施形態では、第3の気化ボディ27において2つの生成済みの蒸気がそこで生成された第3の原材料の蒸気と混合される。
結果として、複数の化学的に異なる原材料の一様な蒸気混合物が、流れの方向における最後の熱移動ボディ3の排気面から出る。この蒸気混合物は加熱された接続チャンネルを通ってサセプタ19に運ばれ、そこで凝結が起こる。流れの方向における最後の熱移動ボディのガス排気面は、プロセスチャンバーの天井を構成することができる。
上述した実施形態は、全体として本出願に含まれる発明を説明する役目を果たす。更に、特にそれらは各々独立して少なくとも以下の特徴の組み合わせによって先行技術を改善する。:
第2の原材料の固体または液体の粒子が第2の熱移動ボディ2の中に供給され、当該第2の熱移動ボディ2の熱移動面と当該粒子を接触させることによって気化熱が当該粒子に伝わり、従って第2の蒸気を生じ、第1の蒸気と共に当該第2の蒸気が前記第2の熱移動ボディ2の外にキャリアガスによって運ばれることを特徴とする蒸気発生方法。
キャリアガスの流れの方向において前記第2の熱移動ボディ2の後ろにある距離を持って配置された第3の熱移動ボディ3の中に前記第1と第2の蒸気がキャリアガスによって運ばれることを特徴とする蒸気発生方法。
キャリアガスの流れの方向において前記第1の熱移動ボディ1の前に配置された予熱ボディ4の中でキャリアガスが加熱されることを特徴とする蒸気発生方法。
前記第2の熱移動ボディ2の第2の温度が、少なくとも前記第1の熱移動ボディ1の第1の温度に相当し、特に前記第1の温度よりも高いことを特徴とする蒸気発生方法。
前記熱移動面が、熱移動ボディ1,2,27を構成する各固体発泡体のオープンセルの表面であることを特徴とする蒸気発生方法。
第2の供給ライン6が前記第2の熱移動ボディ2の中に直接、または前記第2の熱移動ボディ2の前で開き、当該第2の供給ライン6を通って第2の原材料の液体または固体の粒子が前記第2の熱移動ボディ2の中に供給されることができ、そのため、気化熱が当該粒子に伝わることができ、前記第1の蒸気と共に当該粒子を気化させることによって生成された前記第2の蒸気が前記第2の熱移動ボディ2の外にキャリアガスによって運ばれることができることを特徴とする蒸気発生装置。
前記熱移動面がオープンセルの発泡体ボディの壁の表面から成っており、特に当該発泡体ボディが導電性材料でできており、電流を流すことによって加熱されることができ、インチ当たり500個から200個、望ましくは100個の細孔の多孔率を有するか、および/または前記発泡体ボディの表面における全てのオープンエリアの割り当てが90%より大きいことが提供されることを特徴とする蒸気発生装置。
第3の熱移動ボディ3がキャリアガスの流れの方向において前記第2の熱移動ボディ2の下流に配置されており、特に前記第2の熱移動ボディ2と前記第3の熱移動ボディ3の間に隙間空間9が置かれることを特徴とする蒸気発生装置。
キャリアガスを加熱することができる予熱ボディ4が、流れの方向において前記第1の熱移動ボディ1の前に配置されていることを特徴とする蒸気発生装置。
予熱ボディ4はもちろん全ての気化ボディ1,2,3がオープンセルの発泡体ボディから成っており、電気的に加熱されることができることを特徴とする蒸気発生装置または蒸気発生方法。
前記第1と第2の原材料がそれぞれ供給ライン5,6を通って個別のエアロゾルとして供給されることができ、当該供給ライン5,6が2つの発泡体ボディの間の中間空間10,11の中に開くことを特徴とする蒸気発生装置または蒸気発生方法。
当該蒸気発生装置がガス注入ユニット14とサセプタ19を有するCVDまたはPVD反応炉26の一部であり、キャリアガスによって運ばれる前記第1および第2の蒸気が前記サセプタ19の上に置かれた基板20の方向に前記ガス注入ユニット14を通って運ばれ、当該蒸気が化学反応または温度低下に反応して凝結し、特に真空ポンプ21がCVDまたはPVD反応炉の内部を空にするために提供されることを特徴とする蒸気発生装置または蒸気発生方法。
複数の熱移動ボディ1,2,27がキャリアガスの流れの方向に順々に配置されており、各熱移動ボディ1,2,27の前または中に個別のエアロゾル供給ライン5,6,28が開き、個別のエアロゾルとして前記熱移動ボディ1,2,27の中に前記エアロゾル供給ライン5,6,28を通って異なる原材料が供給されることができることを特徴とする蒸気発生装置または蒸気発生方法。
流れの方向において最後に配置された熱移動ボディ3のガス排気面が、基板を運ぶサセプタ19に直接対向して置かれており、特にプロセスチャンバーの天井を構成することを特徴とする蒸気発生装置または蒸気発生方法。
開示される全ての特徴は(個々にであろうと、組み合わせてであろうと)本発明に不可欠である。これによってまた、関連した/添付される優先権書類(先願のコピー)の開示内容が全体として本出願の開示に含められ、また、本出願の請求項にこれらの書類の特徴を組み込む目的のために包含される。それらの特徴を持った従属項は、特にこれらの請求項に基づいて部分的な出願を行うために、先行技術の独立した発明の更なる改良を特徴づける。
1…熱移動ボディ
2…熱移動ボディ
3…熱移動ボディ
4…予熱ボディ
5…供給ライン
5’…開口
6…供給ライン
6’…開口
7…供給ライン
7’…開口
8…ハウジング
9…隙間空間
10…中間空間
11…中間空間
12…中間空間
13…ガス排気開口
14…ガス注入ユニット
15…エアロゾル発生器
16…エアロゾル発生器
17…キャリアガス源
18…プロセスチャンバー
19…サセプタ
20…基板
21…真空ポンプ
22…電気コンタクト
23…コンタクト
24…コンタクト
25…コンタクト
26…反応炉ハウジング
27…熱移動ボディ
28…供給ライン

Claims (18)

  1. CVDまたはPVD装置における蒸気発生方法であって、
    第1の原材料の液体または固体の粒子を第1の熱移動ボディ(1)の熱移動面と接触させることによって気化の熱が当該粒子に伝えられ、当該第1の熱移動ボディ(1)が第1の温度になり、そのため、第1の蒸気が生じ、当該第1の蒸気がキャリアガスによって前記第1の熱移動ボディ(1)の外に運ばれ、
    第2の熱移動ボディ(2)がキャリアガスの流れの方向において前記第1の熱移動ボディ(1)の後に配置されており、前記第1の蒸気がキャリアガスによって前記第2の熱移動ボディ(2)の中に運ばれ、前記第2の熱移動ボディ(2)が第2の温度になり、
    第2の原材料の固体または液体の粒子が前記第2の熱移動ボディ(2)の中に供給され、前記第2の熱移動ボディ(2)の熱移動面と当該粒子を接触させることによって気化熱が当該粒子に伝わり、従って第2の蒸気を生じ、前記第1の蒸気と共に当該第2の蒸気が前記第2の熱移動ボディ(2)の外にキャリアガスによって運ばれ、
    前記第2の熱移動ボディ(2)の前記第2の温度は、前記第1の熱移動ボディ(1)の前記第1の温度に相当するかまたは前記第1の温度よりも高いことを特徴とする蒸気発生方法。
  2. キャリアガスの流れの方向において前記第2の熱移動ボディ(2)の後ろにある距離を持って配置された第3の熱移動ボディ(3)の中に前記第1と第2の蒸気がキャリアガスによって運ばれることを特徴とする請求項1に記載の蒸気発生方法。
  3. キャリアガスの流れの方向において前記第1の熱移動ボディ(1)の前に配置された予熱ボディ(4)の中でキャリアガスが加熱されることを特徴とする請求項1または2に記載の蒸気発生方法。
  4. 前記熱移動面が、熱移動ボディ(1,2,27)を構成する各固体発泡体のオープンセルの表面であることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項に記載の蒸気発生方法。
  5. CVDまたはPVD装置用の蒸気発生装置であって、
    第1の熱移動ボディ(1)を備えており、当該第1の熱移動ボディ(1)が第1の供給ライン(5)を経て前記第1の熱移動ボディ(1)に供給される第1の原材料の液体または固体の粒子に気化の熱を伝えるための熱移動面を有し、
    第2の熱移動ボディ(2)がキャリアガスの流れの方向において前記第1の熱移動ボディ(1)の後に配置されており、前記粒子を気化させることによって生成される蒸気がキャリアガスの流れの方向においてキャリアガスによって前記第1の熱移動ボディ(1)から当該第2の熱移動ボディ(2)の中に運ばれることができ、
    前記第1の熱移動ボディ(1)が第1の温度に加熱されることができ、前記第2の熱移動ボディ(2)が第2の温度に加熱されることができ、
    第2の供給ライン(6)が前記第2の熱移動ボディ(2)の中に直接、または前記第2の熱移動ボディ(2)の前で開き、当該第2の供給ライン(6)を通って第2の原材料の液体または固体の粒子が前記第2の熱移動ボディ(2)の中に供給されることができ、そのため、気化熱が当該粒子に伝わることができ、前記第1の蒸気と共に当該粒子を気化させることによって生成された第2の蒸気が前記第2の熱移動ボディ(2)の外にキャリアガスによって運ばれることができ
    前記第1および第2の熱移動ボディ(1、2)が、電流を流すことによって加熱されることができる発泡体ボディであることを特徴とする蒸気発生装置。
  6. 前記熱移動面がオープンセルの前記発泡体ボディの壁の表面から成っており、
    記発泡体ボディが、導電性材料でできており、インチ当たり500個から200個、望ましくは100個の細孔の多孔率を有するか、および/または前記発泡体ボディの表面における全てのオープンエリアの割り当てが90%より大きいことが提供される、
    ことを特徴とする請求項に記載の蒸気発生装置。
  7. 第3の熱移動ボディ(3)がキャリアガスの流れの方向において前記第2の熱移動ボディ(2)の下流に配置されており、
    特に前記第2の熱移動ボディ(2)と前記第3の熱移動ボディ(3)の間に隙間空間(9)が置かれる、
    ことを特徴とする請求項またはに記載の蒸気発生装置。
  8. キャリアガスを加熱することができる予熱ボディ(4)が、流れの方向において前記第1の熱移動ボディ(1)の前に配置されていることを特徴とする請求項ないしのいずれか1項に記載の蒸気発生装置。
  9. 予熱ボディ(4)はもちろん全ての気化ボディ(1,2,3)がオープンセルの発泡体ボディから成っており、電気的に加熱されることができることを特徴とする請求項ないしのいずれか1項に記載の蒸気発生装置。
  10. 前記第1と第2の原材料がそれぞれ供給ライン(5,6)を通って個別のエアロゾルとして供給されることができ、当該供給ライン(5,6)が2つの発泡体ボディの間の中間空間(10,11)の中に開くことを特徴とする請求項に記載の蒸気発生装置。
  11. 当該蒸気発生装置がガス注入ユニット(14)とサセプタ(19)を有するCVDまたはPVD反応炉(26)の一部であり、キャリアガスによって運ばれる前記第1および第2の蒸気が前記サセプタ(19)の上に置かれた基板(20)の方向に前記ガス注入ユニット(14)を通って運ばれ、当該蒸気が化学反応または温度低下に反応して凝結し、特に真空ポンプ(21)がCVDまたはPVD反応炉の内部を空にするために提供されることを特徴とする請求項ないし10のいずれか1項に記載の蒸気発生装置。
  12. 複数の熱移動ボディ(1,2,27)がキャリアガスの流れの方向に順々に配置されており、当該各熱移動ボディ(1,2,27)の前または中に個別のエアロゾル供給ライン(5,6,28)が開き、個別のエアロゾルとして前記熱移動ボディ(1,2,27)の中に前記エアロゾル供給ライン(5,6,28)を通って異なる原材料が供給されることができることを特徴とする請求項ないし11のいずれか1項に記載の蒸気発生装置。
  13. 流れの方向において最後に配置された熱移動ボディ(3)のガス排気面が、基板を運ぶサセプタ(19)に直接対向して置かれており、特にプロセスチャンバーの天井を構成することを特徴とする請求項ないし12のいずれか1項に記載の蒸気発生装置。
  14. 予熱ボディ(4)はもちろん全ての気化ボディ(1,2,3)がオープンセルの発泡体ボディから成っており、電気的に加熱されることができることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項に記載の蒸気発生方法。
  15. 前記第1と第2の原材料がそれぞれ供給ライン(5,6)を通って個別のエアロゾルとして供給されることができ、当該供給ライン(5,6)が2つの発泡体ボディの間の中間空間(10,11)の中に開くことを特徴とする請求項14に記載の蒸気発生方法。
  16. 当該蒸気発生装置がガス注入ユニット(14)とサセプタ(19)を有するCVDまたはPVD反応炉(26)の一部であり、キャリアガスによって運ばれる前記第1および第2の蒸気が前記サセプタ(19)の上に置かれた基板(20)の方向に前記ガス注入ユニット(14)を通って運ばれ、当該蒸気が化学反応または温度低下に反応して凝結し、特に真空ポンプ(21)がCVDまたはPVD反応炉の内部を空にするために提供されることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項または請求項14または15に記載の蒸気発生方法。
  17. 複数の熱移動ボディ(1,2,27)がキャリアガスの流れの方向に順々に配置されており、当該各熱移動ボディ(1,2,27)の前または中に個別のエアロゾル供給ライン(5,6,28)が開き、個別のエアロゾルとして前記熱移動ボディ(1,2,27)の中に前記エアロゾル供給ライン(5,6,28)を通って異なる原材料が供給されることができることを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項または請求項14ないし16のいずれか1項に記載の蒸気発生方法。
  18. 流れの方向において最後に配置された熱移動ボディ(3)のガス排気面が、基板を運ぶサセプタ(19)に直接対向して置かれており、特にプロセスチャンバーの天井を構成することを特徴とする請求項1ないしのいずれか1項または請求項14ないし17のいずれか1項に記載の蒸気発生方法。
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