JP6598668B2 - 研削装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ウエーハを研削する研削装置に関する。
ウエーハを研削加工する研削装置では、ウエーハが仮置きテーブルからチャックテーブルに搬送され、チャックテーブルの保持面に吸引保持される。そして、ウエーハを保持するチャックテーブルの保持面高さとウエーハの被研削面(上面)高さとを2つのハイトゲージで測定して、その差が所定の仕上げ厚みになるまでウエーハを研削している(例えば、特許文献1)。ウエーハの被研削面の反対面には保護テープが貼着されており、保護テープを介してウエーハはチャックテーブルの保持面に吸引保持されている。
ウエーハに荷重をかけて研削する場合、ウエーハに貼着された保護テープの基材や粘着層は研削荷重により潰れてしまい、ウエーハの被研削面の平坦度が低下してしまう。これを防止するために、ウエーハがSiC基板やサファイア基板等の硬い基板であり研削荷重を必要とする場合には、ウエーハに保護テープの代わりにガラスやセラミックスなどの支持基板(サブストレート)を貼着してチャックテーブルに保持している。
上記した厚みが均一な保護テープと違い、サブストレートは個体ごとに厚みが異なっている場合がある。よって、サブストレートの厚みを測定しなければ、ウエーハの仕上げ厚みを正確に算出できず、ウエーハを所定の厚みにすることができない。ウエーハを貼着させたサブストレートの厚みを測定する場合、研削装置に設けられたハイトゲージを用いてチャックテーブルの保持面高さを測定した後に、サブストレートの上面高さを測定する。そして、サブストレートの上面高さとチャックテーブルの保持面高さの差からサブストレートの厚みを算出し、ウエーハの厚みが所定の厚みになるように研削している。
特開2008−073785号公報
しかしながら、ウエーハを貼着させたサブストレートをチャックテーブルに搬送する前にチャックテーブルの保持面高さを測定し、チャックテーブルに搬送した後にサブストレートの上面高さを測定すると、測定動作を2回繰り返す必要がある。このため、ウエーハを研削し始めるまでに時間がかかってしまう。
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、サブストレートに貼着されたウエーハを研削し始めるまでの時間を短縮して、ウエーハの厚みを所定の仕上げ厚みに研削することができる研削装置を提供することを目的とする。
本発明の研削装置は、ウエーハより外径が大きい円板状のサブストレートにウエーハを貼り合わせてはみ出し部を形成した貼り合わせワークを保持する保持面を有するチャックテーブルと、保持面側をチャックテーブルが保持する貼り合わせワークのウエーハを研削砥石で研削する研削手段と、保持面の高さを測定する第1の測定手段と、チャックテーブルに保持される貼り合わせワークのウエーハ上面の高さを測定する第2の測定手段と、チャックテーブルに貼り合わせワークを搬送する搬送手段と、貼り合わせワークを仮置きする仮置き手段と、を備える研削装置であって、仮置き手段は、貼り合わせワークを仮置きする仮置きテーブルと、仮置きテーブル上面の高さとはみ出し部のサブストレート上面の高さとの差によりサブストレートの厚みを算出するサブストレート厚み測定手段と、を含み、サブストレート厚み測定手段で測定したサブストレート厚み値と、第1の測定手段で保持面の高さを測定した保持面高さ値と、第2の測定手段でチャックテーブルに搬送された貼り合わせワークのウエーハ上面の高さを測定したウエーハ上面高さ値とを用い、ウエーハ厚み=ウエーハ上面高さ値−(保持面高さ値+サブストレート厚み値)の式により、ウエーハの厚みを算出する算出部を含み、算出部で算出するウエーハ厚みが予め設定する仕上げ厚みに達するまで研削する。
この構成によれば、サブストレート厚み測定手段で測定したサブストレート厚み値と、第1の測定手段及び第2の測定手段で測定した保持面高さ値及びウエーハ上面高さ値とを用いて、研削中のウエーハの厚みを算出し、ウエーハを所定の仕上げ厚みに研削することができる。また、貼り合わせワークを仮置きテーブルからチャックテーブルに搬送する前に、仮置きテーブルにおいて、サブストレート厚み測定手段により、仮置きテーブルの上面の高さとはみ出し部のサブストレート上面の高さとの差によりサブストレートの厚みを算出することができる。このため、仮置きテーブルで、先行する貼り合わせワークのウエーハの研削時間を利用して、後続の貼り合わせワークのサブストレートの厚みを事前に算出しておくことができる。よって、貼り合わせワークを仮置きテーブルからチャックテーブルに搬送した後に、サブストレートの厚みを測定する時間が省略されるため、ウエーハの研削時間を短縮することができる。
本発明によれば、サブストレートに貼着されたウエーハを研削し始めるまでの時間を短縮して、ウエーハの厚みを所定の仕上げ厚みに研削することができる。
本実施の形態に係る研削装置の斜視図である。 本実施の形態に係る仮置き手段の模式図である。 本実施の形態に係る仮置き手段の位置決め動作の一例を示す図である。 本実施の形態に係るサブストレートの厚みの測定動作の一例を示す図である。 本実施の形態に係るウエーハの厚みの測定動作の一例を示す図である。 変形例に係る仮置き手段の図である。
以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係る研削装置について説明する。図1は、本実施の形態に係る研削装置の斜視図である。なお、本実施の形態に係る研削装置は、図1に示すように研削加工専用の装置構成に限定されず、例えば、研磨加工装置や、研削加工、研磨加工、洗浄加工等の一連の加工が全自動で実施されるフルオートタイプの加工装置に組み込まれてもよい。
図1に示すように、研削装置1は、フルオートタイプの加工装置であり、被加工物であるウエーハWに対して搬送処理、粗研削加工、仕上げ研削加工、洗浄処理、搬出処理からなる一連の作業を全自動で実施するように構成されている。ウエーハWは、略円板状に形成されており、カセットCに収容された状態で研削装置1に搬送される。ウエーハWの下面には、ウエーハWより外径が大きい円板状のサブストレートSがワックス、接着剤等で貼着され、貼り合わせワークWSを形成している。ウエーハWからはみ出されたサブストレートSは、はみ出し部87を形成している(図2A参照)。なお、ウエーハWは、研削対象になる板状のウエーハであればよく、シリコン、ガリウムヒ素等の半導体基板でもよいし、セラミック、ガラス、サファイア等の無機材料基板でもよいし、さらに半導体製品のパッケージ基板等でもよい。また、サブストレートSは、ガラス、セラミック等から形成されていてもよい。
研削装置1の基台11の前側には、複数の貼り合わせワークWSが収容された一対のカセットCが載置されている。一対のカセットCの後方には、カセットCに対して貼り合わせワークWSを出し入れするカセットロボット16が設けられている。カセットロボット16の両斜め後方には、加工前の貼り合わせワークWSを仮置きする仮置き手段21と、加工済みの貼り合わせワークWSを洗浄する洗浄機構14とが設けられている。仮置き手段21と洗浄機構14の間には、加工前の貼り合わせワークWSをチャックテーブル41に搬送する搬送手段31と、チャックテーブル41から加工済みの貼り合わせワークWSを搬出する搬出手段36とが設けられている。
カセットロボット16は、多節リンクからなるロボットアーム17の先端にハンド部18を設けて構成されている。カセットロボット16では、カセットCから仮置き手段21に加工前の貼り合わせワークWSが搬送される他、洗浄機構14からカセットCに加工済みの貼り合わせワークWSが搬送される。
搬送手段31は、基台11上で旋回可能な搬送アーム32の先端に搬送パッド33を設けて構成される。搬送手段31では、搬送パッド33によって仮置きテーブル22から貼り合わせワークWSが持ち上げられ、搬送アーム32によって搬送パッド33が旋回されることでチャックテーブル41に貼り合わせワークWSが搬送される。
仮置き手段21は、仮置きテーブル22の周囲に、一対の位置決めピン23a、23b、サブストレートSの厚みを算出するサブストレート厚み測定手段24、及び測定テーブル25を配置して構成される。仮置き手段21では、仮置きテーブル22で貼り合わせワークWSが浮上されてサブストレートSの外周縁に位置決めピン23a、23bが突き当てられることで、貼り合わせワークWSのサブストレートSの中心O2が仮置きテーブル22の中心O1(図3参照)に位置決めされる。なお、サブストレート厚み測定手段24、及び測定テーブル25の詳細については後述する。
搬出手段36は、基台11上で旋回可能な搬出アーム37の先端に搬出パッド38を設けて構成される。搬出手段36では、搬出パッド38によってチャックテーブル41から貼り合わせワークWSが持ち上げられ、搬出アーム37によって搬出パッド38が旋回されることでチャックテーブル41から貼り合わせワークWSが搬出される。
洗浄機構14は、スピンナーテーブル15に向けて洗浄水及び乾燥エアを噴射する各種ノズル(不図示)を設けて構成される。洗浄機構14では、貼り合わせワークWSを保持したスピンナーテーブル15が基台11内に降下され、基台11内で洗浄水が噴射されて貼り合わせワークWSのウエーハWがスピンナー洗浄された後、乾燥エアが吹き付けられて貼り合わせワークWSのウエーハWが乾燥される。
搬送手段31及び搬出手段36の後方には、3つのチャックテーブル41が周方向に均等間隔で備えられたターンテーブル40が設けられている。チャックテーブル41の下方にはチャックテーブル41を回転させる回転手段(不図示)が設けられている。各チャックテーブル41の上面には、貼り合わせワークWSの下面を保持する保持面42が形成されている。
ターンテーブル40が回転することで、チャックテーブル41に保持された貼り合わせワークWSが搬送及び搬出される搬送搬出位置、粗研削手段46に対応する粗研削位置、仕上げ研削手段51に対応する仕上げ研削位置に順に位置づけられる。
また、ターンテーブル40の周囲には、コラム12、13が立設されている。コラム12には、粗研削手段46を上下動させる移動機構61が設けられている。移動機構61は、コラム12の前面に配置されたZ軸方向に平行な一対のガイドレール62と、一対のガイドレール62にスライド可能に設置されたモータ駆動のZ軸テーブル63とを有している。
Z軸テーブル63の前面には、ハウジング64を介して粗研削手段46が支持されている。Z軸テーブル63の背面側にはボールネジ65が螺合されており、ボールネジ65の一端には駆動モータ66が連結されている。駆動モータ66によってボールネジ65が回転駆動され、粗研削手段46がガイドレール62に沿ってZ軸方向に移動される。
同様に、コラム13には、仕上げ研削手段51を上下動させる移動機構71が設けられている。移動機構71は、コラム13の前面に配置されたZ軸方向に平行な一対のガイドレール72と、一対のガイドレール72にスライド可能に設置されたモータ駆動のZ軸テーブル73とを有している。
Z軸テーブル73の前面には、ハウジング74を介して仕上げ研削手段51が支持されている。Z軸テーブル73の背面側にはボールネジ75が螺合されており、ボールネジ75の一端には駆動モータ76が連結されている。駆動モータ76によってボールネジ75が回転駆動され、仕上げ研削手段51がガイドレール72に沿ってZ軸方向に移動される。
粗研削手段46及び仕上げ研削手段51は、円筒状のスピンドルの下端にマウント47、52を設けて構成されている。粗研削手段46では、チャックテーブル41に保持された貼り合わせワークWSのウエーハWが粗研削される。粗研削手段46のマウント47の下面には、複数の粗研削砥石48が環状に配設された研削ホイール49が回転可能に装着される。粗研削砥石48は、例えば、ダイヤモンド砥粒をレジンボンドやビトリファイドボンド等の結合剤で固めたダイヤモンド砥石で構成される。
また、仕上げ研削手段51では、チャックテーブル41に保持された貼り合わせワークWSのウエーハWが仕上げ研削される。仕上げ研削手段51のマウント52の下面には、複数の仕上げ研削砥石53が環状に配設された仕上げ研削用の加工具としての研削ホイール54が装着される。仕上げ研削砥石53は、粗研削砥石48よりも粒径が細かい砥粒で形成される。粗研削加工及び仕上げ研削加工では、研削砥石48、53によって貼り合わせワークWSのウエーハWが所定の厚みまで研削されて薄化される。
また、粗研削位置及び仕上げ研削位置の近傍には、チャックテーブル41の保持面の高さを測定する第1の測定手段91、93と、チャックテーブル41が保持する貼り合わせワークWSのウエーハWの被研削面(上面)の高さを測定する第2の測定手段92、94とが設けられている。第1の測定手段91、93及び第2の測定手段92、94は接触式のゲージで構成される。第1の測定手段91、93及び第2の測定手段92、94によって得られた各値(測定値)は、装置各部を統括制御する制御部85に出力される。
制御部85には、算出部86が設けられている。算出部86では、各測定手段91−94、及び後述するサブストレート厚み測定手段24におけるゲージ24aで(図2参照)測定された値からウエーハWの厚みを算出する。制御部85は、各種処理を実行するプロセッサやメモリ等により構成される。メモリは、用途に応じてROM(Read Only Memory)、RAM(Random Access Memory)等の一つ又は複数の記憶媒体で構成される。制御部85は、算出部86からの出力結果に応じ、粗研削手段46及び仕上げ研削手段51のZ軸方向に移動量を制御する。なお、ウエーハWの厚みの算出方法については後述する。
このような研削装置1では、カセットC内から貼り合わせワークWSが仮置き手段21に搬送されて、仮置き手段21で貼り合わせワークWSが位置決めされる。次に、チャックテーブル41上に貼り合わせワークWSが搬送され、ターンテーブル40の回転によって、チャックテーブル41に保持された貼り合わせワークWSが粗研削位置、仕上げ研削位置の順に位置づけられる。粗研削位置では貼り合わせワークWSのウエーハWが粗研削加工され、仕上げ研削位置では貼り合わせワークWSのウエーハWが仕上げ研削加工される。そして、洗浄機構14で貼り合わせワークWSのウエーハWが洗浄され、洗浄機構14からカセットCへ貼り合わせワークWSが搬出される。
ところで、一般的な研削装置の研削では、ウエーハWの上面高さとチャックテーブルの保持面高さとの差から、サブストレートSの厚みを含む貼り合わせワークWSの厚みが求められ、ウエーハWの研削量が調整されている。しかし、サブストレートSの厚みにはバラツキがあると、ウエーハWの厚みを正確に算出することができず、ウエーハWを精度よく研削することができない。
このため、通常は、貼り合わせワークWSをチャックテーブルに載置する前にチャックテーブルの保持面高さを第1の測定手段を用いて測定し、チャックテーブルに貼り合わせワークWSを搬送した後にサブストレートSの上面高さを測定している。しかしながら、この方法では、第1の測定手段で保持面高さを測定した後に、再び第1の測定手段でサブストレートSの上面高さを測定しているため、測定動作を2回繰り返すことになる。このため、ウエーハWを研削し始めるまでに時間がかかってしまう。
そこで本実施の形態では、先行の貼り合わせワークWSのウエーハWを研削している間の待機時間を利用して、仮置き手段21において、後続の貼り合わせワークWSのサブストレートSの厚みを事前に算出しておくようにしている。これにより、貼り合わせワークWSを仮置きテーブル21からチャックテーブル41に搬送した後に、チャックテーブル41でサブストレートSの厚みを測定する時間を省略することができるため、研削装置1における一連の動作のスループットを向上することができる。
以下、図2を参照して、仮置き手段ついて詳細に説明する。図2は、本実施の形態に係る仮置き手段の模式図である。図2Aは、本実施の形態に係る仮置き手段を示す上面図であり、図2Bは、本実施の形態に係る仮置き手段を図2Aの矢印A方向から見た側面図である。
図2A及び図2Bに示すように、仮置き手段21は、基台11上のボックス台26で貼り合わせワークWSを位置決めすると共に、サブストレートSの厚みを測定している。仮置き手段21のボックス台26の上面の中心には、仮置きテーブル22が設けられている。仮置きテーブル22の周囲には、一対の位置決めピン23a、23bが置かれている。一対の位置決めピン23a、23bの間には、測定テーブル25が仮置きテーブル22から径方向外側に向かって延在するように配置されている。測定テーブル25の上方には、サブストレートの厚みを算出するサブストレート厚み測定手段24が設けられている。ボックス台26の上面は、角度θだけ傾斜している。このため、仮置きテーブル22、及び測定テーブル25の上面も、ボックス台26の上面に倣って傾斜している。
一対の位置決めピン23a、23bは円筒状に形成され、それぞれ仮置きテーブル22の中心O1から等距離になるように配置されている。仮置きテーブル22上に載置されたウエーハWの外周縁に一対の位置決めピン23a、23bが突き当てられることで、貼り合わせワークWSの中心O2が仮置きテーブル22の中心O1に位置決めされる。
各位置決めピン23a、23bの真下には、ボックス台26の内側にモータ27a(位置決めピン23bに該当するモータは不図示)が設けられている。位置決めピン23a、23bは、モータ27aの出力軸に鉛直軸周りに回転可能に取り付けられている。なお、貼り合わせワークWSを浮上させ外周縁が位置決めピン23a、23bに接触した際に、位置決めピン23a、23bを回転させることにより、光学系(不図示)によりウエーハWの外周から中心を測定して、サブストレートSに対するウエーハWの貼着ズレを検出することができる。
測定テーブル25の上面と仮置きテーブル22の上面とは面一に連なっており、各テーブル25、22内のエア流路28が連通している。測定テーブル25の上面には、エアを吹き上げる複数の吹き上げ口25aが径方向に二列に並んで形成されている。また、仮置きテーブル22の中心O1には、中心口22aが形成され、テーブル内のエア流路28と連通している。ボックス台26の下面には供給ノズル96が取り付けられ、供給ノズル96はバルブ97を介してエア供給源98に接続されている。バルブ97を開くことにより、エアが供給ノズル96に供給され、供給ノズル96からボックス台26に設けられた吹き出し路26aを通ってエア流路28に送られ、中心口22a及び吹き出し口25aから吹き出される。
ここで図3及び図4を参照して、貼り合わせワークWSの位置決め動作、及びサブストレートSの厚みの測定動作について詳細に説明する。図3は、本実施の形態に係る仮置き手段の位置決め動作の一例を示す図である。図4は、本実施の形態に係るサブストレートの厚みの測定動作の一例を示す図である。なお、以下の説明ではサブストレートSに対してウエーハWの貼着ズレがないものとして、ウエーハWの中心検出の説明は省略する。
図3Aに示すように、仮置き手段21においては、貼り合わせワークWSが仮置きテーブル22に搬送され、ボックス台26の傾斜に伴って傾斜している仮置きテーブル22に載置される。図の例では、貼り合わせワークWSの中心O2は、仮置きテーブル22の中心O1に合っておらず、貼り合わせワークWSはズレが生じた状態で仮置きテーブ22に置かれる。このとき、バルブ97は閉じられ、エア供給源98からエアは供給されていない。
次に、図3Bに示すように、バルブ97が開かれ、エア供給源98から供給ノズル96を介してエア流路28にエアが供給され、エア流路28に連通する中心口22a、及び吹き上げ口25aからエアが吹き上げられる。このとき、エアが貼り合わせワークWSの下面に向かって吹き上げられ、仮置きテーブル22及び測定テーブル25に置かれている貼り合わせワークWSは水平に浮上する。浮上した貼り合わせワークWSと、仮置きテーブル22及び測定テーブル25との間には空気の層が生じて、貼り合わせワークWSと各テーブル22、25との間の摩擦は小さくなる。これにより、貼り合わせワークWSは、仮置きテーブル22の傾斜に沿って滑り、貼り合わせワークWSは浮上した状態で、その外周縁が位置決めピン23a、23bに接触する。
次に、図3Cに示すように、バルブ97が閉じられ、エア供給源98からのエアの供給が停止され、中心口22a及び吹き上げ口25aからエアの吹き上げが停止される。これにより、貼り合わせワークWSは外周縁を位置決めピン23a、23bに接触させて浮上している状態から、仮置きテーブル22に降ろされる。再び仮置きテーブル22に置かれた貼り合わせワークWSの中心O2は、仮置きテーブ22の中心O1と合っており、貼り合わせワークWSの位置決めが完了する。
図4に示すように、サブストレート厚み測定手段24は、アーム24bの先端にピン状の接触式のゲージ24aを備えて構成され、測定テーブル25の近傍に配設される支持部24cによって支持されている。ゲージ24aは、測定テーブル25の上面に対して垂直になるように備えられている。また、ゲージ24aは、貼り合わせワークWSのはみ出し部87の上方で支持される。
貼り合わせワークWSの中心O2と仮置きテーブル22の中心O1が合っている状態で貼り合わせワークWSが仮置きテーブル22に載置されると、サブストレート厚み測定手段24は、先行の貼り合わせワークWSのウエーハWが研削されている間に、サブストレートSの厚みΔH1を算出する。サブストレート厚み測定手段24は、ゲージ24aを後続の貼り合わせワークWSのはみ出し部87に接触させてサブストレートSの上面82の高さH2を測定する。測定結果は算出部86(図1参照)に出力され、ゲージ24aで測定されたH2の値と、予めゲージ24aで測定し算出部86のメモリに記録されている仮置きテーブル22(測定テーブル25)の上面22bの高さH1の値との差ΔH1から、貼り合わせワークWSのサブストレート厚み値が算出される。このように、サブストレート厚み値ΔH1が、先行するウエーハWの研削中に算出されることにより、貼り合わせワークWSを仮置きテーブル22からチャックテーブル41に搬送した後にサブストレートSの上面82の高さH2を測定する必要がなくなるため、ウエーハWを研削し始めるまでの時間を短縮することができる。
なお、サブストレートSの上面82の高さH2は、サブストレートSの複数箇所で測定し、平均の高さを算出してもよい。この場合、サブストレート厚み測定手段24によりサブストレートSの上面82の高さH2を測定した後に、再び中心口22a及び吹き上げ口25aにからエアを吹き上げて貼り合わせワークWSを浮上させ、貼り合わせワークWSを位置決めピン23a、23bに接触させる。位置決めピン23a、23bを回転させて貼り合わせワークWSを回転させる。そして、中心口22a及び吹き上げ口25aからのエアの吹き上げを停止し、貼り合わせワークWSを降ろし、サブストレートSの別の箇所の高さH2を測定する。
次に、図5を参照して、ウエーハWの厚みの測定動作について詳細に説明する。図5は、本実施の形態に係るウエーハの厚みの測定動作の一例を示す図である。
ターンテーブル40の回転によりチャックテーブル41が公転され、チャックテーブル41の保持面42に保持される貼り合わせワークWSが粗研削手段46の粗研削位置に位置付けられると、研削ホイール49の外周が貼り合わせワークWSのウエーハWの中心を通過する位置に位置づけられる。このとき、貼り合わせワークWSの外側の保持面42に第1の測定手段91が接触し、保持面42の高さH3が測定される。また、貼り合わせワークWSのウエーハWの上面81に第2の測定手段92が接触し、ウエーハWの上面81の高さH4が測定される。測定結果は算出部86に出力される。
次に、チャックテーブル41が回転しつつ研削ホイール49が回転し、研削ホイール49がウエーハWの上面81に近付けられ、研削ホイール49がウエーハWの上面81に接触されて、ウエーハWの上面81が研削ホイール49によって粗研削される。第2の測定手段92によってウエーハWの上面81の高さH4の変化がリアルタイムで測定される。
このとき、算出部86(図1参照)では、ウエーハWの上面81の高さH4と保持面42の高さH3との差ΔH2から、貼り合わせワークWSの厚み(サブストレートSの厚みとウエーハWの厚みとの合計値)が算出される。そして、このΔH2から、予め仮置き手段21のサブストレート厚み測定手段24で算出しておいたサブストレート厚み値ΔH1を差し引き、ウエーハWの厚みΔH3とする。即ち、算出部86では、下記式(1)を用いて、ウエーハWの厚みが算出される。
ウエーハ厚み(ΔH3)=ウエーハ上面高さ値(H4)−(保持面高さ値(H3)+サブストレート厚み値(ΔH1))(1)
算出されたウエーハWの厚みΔH3により、制御部85(図1参照)によって粗研削手段46の移動量が制御される。この制御によって、ウエーハWの厚みΔH3が所定の厚みになるまでウエーハWの粗研削が続けられ、所定の厚みになると粗研削手段46が上昇し、ウエーハWから研削ホイール49が離されてウエーハWの粗研削が完了する。また、仕上げ研削手段51による仕上げ研削において粗研削手段46による粗研削と同様に研削している。
以上のように、本実施の形態に係る研削装置1では、サブストレート厚み測定手段24で測定したサブストレート厚み値ΔH1と、第1の測定手段91、93及び第2の測定手段92、94で測定した保持面高さ値H3及びウエーハ上面高さ値H4とを用いて、研削中のウエーハWの厚みΔH3を算出し、ウエーハWを所定の仕上げ厚みに研削することができる。また、貼り合わせワークWSを仮置きテーブル22からチャックテーブル41に搬送する前に、仮置きテーブル22において、サブストレート厚み測定手段24により、仮置きテーブル22の上面22bの高さH1とはみ出し部87のサブストレート上面82の高さH2との差によりサブストレートSの厚みΔH1を算出することができる。このため、仮置きテーブル22で、先行する貼り合わせワークWSのウエーハWの研削時間を利用して、後続の貼り合わせワークWSのサブストレートSの厚みΔH1を事前に算出しておくことができる。よって、貼り合わせワークWSを仮置きテーブル22からチャックテーブル41に搬送した後に、サブストレートSの厚みΔH1を測定する時間が省略されるため、ウエーハWの研削時間を短縮することができる。
なお、上記実施の形態では、サブストレート厚み測定手段24として接触式のゲージ24aを用いたが、この構成に限定されない。図6に示すように、サブストレート厚み測定手段24は光学式厚み測定器29を用いてもよい。図6は、変形例に係る仮置き手段の図である。図6Aは、変形例に係る仮置き手段を示す平面図であり、図6Bは、変形例に係る仮置き手段を図6Aの矢印A方向から見た側面図である。光学式厚み測定器29としては、例えば反射型の光変位センサであり、貼り合わせワークWSのサブストレートSに向けて測定光を照射し、サブストレートSの上面で反射した反射光とサブストレートSの下面で反射した反射光とを受光して、上面で反射した反射光と下面で反射した反射光との光路差によってサブストレートSの厚みΔH1を測定する。光学式厚み測定器29を用いる場合、中心口22aからエアを供給して貼り合わせワークWSを浮上させた状態で、サブストレートSの厚みΔH1を測定することができる。
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状、方向などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。
例えば、上記した実施の形態においては、貼り合わせワークWSを浮上させ、貼り合わせワークWSを位置決めピン23a、23bに接触させ、位置決めピン23a、23bを回転させることにより貼り合わせワークWSを回転させる構成としたが、この構成に限定されない。貼り合わせワークWSが載置されている仮置きテーブル22を回転させることで、貼り合わせワークWSを回転させる構成としてもよい。
また、位置決めピン23a、23bによって貼り合わせワークWSを位置決めする構成にしたが、この構成に限定されない。サブストレート厚み測定手段24でのサブストレートSの測定箇所が1箇所の場合には、貼り合わせワークWSは、板状の位置決めブロックで位置決めされてもよい。
以上説明したように、本発明は先行する貼り合わせワークのウエーハの研削時間を利用して、後続の貼り合わせワークのウエーハを研削し始めるまでの時間を短縮することができるという効果を有し、特に、サファイア等の硬い基板を研削する研削装置に有用である。
1 研削装置
21 仮置き手段
22 仮置きテーブル
22a 中心口
23a、23b 位置決めピン
24 サブストレート厚み測定手段
24a ゲージ
24b アーム
24c 支持部
25 測定テーブル
25a 吹き上げ口
29 光学式厚み測定器
31 搬送手段
41 チャックテーブル
42 チャックテーブルの保持面
46 粗研削手段
48、53 研削砥石
51 仕上げ研削手段
81 ウエーハの上面
82 サブストレートの上面
86 算出部
87 はみ出し部
91、93 第1の測定手段
92、94 第2の測定手段
O1 仮置きテーブルの中心
O2 貼り合わせワークの中心
H1 仮置きテーブル上面の高さ
H2 サブストレート上面の高さ
H3 チャックテーブルの保持面の高さ
H4 貼り合わせワークのウエーハ上面の高さ
ΔH1 サブストレート厚み値
ΔH3 ウエーハ厚み
S サブストレート
W ウエーハ
WS 貼り合わせワーク

Claims (1)

  1. ウエーハより外径が大きい円板状のサブストレートにウエーハを貼り合わせてはみ出し部を形成した貼り合わせワークを保持する保持面を有するチャックテーブルと、該保持面側を該チャックテーブルが保持する貼り合わせワークのウエーハを研削砥石で研削する研削手段と、該保持面の高さを測定する第1の測定手段と、該チャックテーブルに保持される貼り合わせワークのウエーハ上面の高さを測定する第2の測定手段と、該チャックテーブルに貼り合わせワークを搬送する搬送手段と、貼り合わせワークを仮置きする仮置き手段と、を備える研削装置であって、
    該仮置き手段は、貼り合わせワークを仮置きする仮置きテーブルと、該仮置きテーブル上面の高さと該はみ出し部のサブストレート上面の高さとの差によりサブストレートの厚みを算出するサブストレート厚み測定手段と、を含み、
    該サブストレート厚み測定手段で測定したサブストレート厚み値と、
    該第1の測定手段で該保持面の高さを測定した保持面高さ値と、
    該第2の測定手段で該チャックテーブルに搬送された貼り合わせワークのウエーハ上面の高さを測定したウエーハ上面高さ値とを用い、
    ウエーハ厚み=ウエーハ上面高さ値−(保持面高さ値+サブストレート厚み値)
    の式により、ウエーハの厚みを算出する算出部を含み、
    該算出部で算出するウエーハ厚みが予め設定する仕上げ厚みに達するまで研削する研削装置。
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