JP6598150B2 - 単結晶SiC基板の製造方法 - Google Patents
単結晶SiC基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6598150B2 JP6598150B2 JP2015147012A JP2015147012A JP6598150B2 JP 6598150 B2 JP6598150 B2 JP 6598150B2 JP 2015147012 A JP2015147012 A JP 2015147012A JP 2015147012 A JP2015147012 A JP 2015147012A JP 6598150 B2 JP6598150 B2 JP 6598150B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- crystal sic
- sic substrate
- substrate
- shape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 237
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 125
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 54
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 48
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 31
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 26
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 16
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 7
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 114
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 109
- 230000008569 process Effects 0.000 description 26
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 25
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 25
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 23
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 15
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 15
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 8
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 7
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 231100000647 material safety data sheet Toxicity 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011116 calcium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000003912 environmental pollution Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
正極:SiC+4H2O→SiO2+CO2+8H++8e- (1)
負極:8H++8e-→4H2 (2)
[1]厚みが1mmよりも小さい円板状の単結晶SiC基板であって、一方の面が鏡面であり、他方の面のRaが1nmより大きい値であり、かつ、SORIが30μmより小さい値であることを特徴とする単結晶SiC基板。
[2]結晶の方位の指標となる、オリエンテーションフラットまたはノッチを有することを特徴とする[1]に記載の単結晶SiC基板。
これらの指標が形成された単結晶SiC基板を製造する場合であっても、その過程において、当該指標を形成することによる支障はなく、製造された単結晶SiC基板は、当該指標が形成されていることにより、後続の処理中の向きを正しく制御することができる等の利点を有している。
[3]直径が70mmより大きい値であることを特徴とする[1]または[2]のいずれかに記載の単結晶SiC基板。
[4]前記厚みが0.6mmより小さい値であることを特徴とする[1]〜[3]のいずれか一つに記載の単結晶SiC基板。
[5]前記厚みが0.4mmより小さい値であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれか一つに記載の単結晶SiC基板。
[6]前記Raが10nmより大きい値であることを特徴とする[1]〜[5]のいずれか一つに記載の単結晶SiC基板。
本発明の単結晶SiC基板の形状の制御方法は、陽極酸化処理を行って、単結晶SiC基板の少なくとも片面における加工変質層を構成するSiCのうち、一部をSiO2に変換(改質)させるとともに、残部を除去する工程(第1工程)と、陽極酸化処理後の単結晶SiC基板の形状を測定する工程(第2工程)と、を有している。
まず、陽極酸化処理を行う単結晶SiC基板を準備する。陽極酸化する単結晶SiC基板の少なくとも片面は、CMP工程に進める前段階であるため、機械的加工により、平坦化されたものを用いる。
続いて、陽極酸化処理後の単結晶SiC基板の形状(例えば、基板の反り具合を示すパラメータであるSORI)を測定する。測定する基板は、CMPが行われておらず、表面に改質した一部の加工変質層が残存しているが、上述した通り、この加工変質層による残留応力は除去されているため、CMPを行った場合と同等の反り状態になっている。したがって、ここでの測定結果から、CMP加工を行った場合の基板の反り状態を実現することが可能となる。つまり、CMPを行わないで、CMP後の単結晶SiC基板の形状を評価することもできる。
本発明の単結晶SiC基板の製造方法は、上述した第1工程の陽極酸化処理を行い、それに伴って生成した生成物(不純物)を除去する工程を有している。生成物の除去は、例えばフッ化水素酸を用いて行うことができる。なお、フッ化水素酸を用いた生成物除去は、基板をフッ化水素酸に浸漬して行う洗浄処理に相当するものであり、電解エッチングとは異なり、安全上の問題は存在しない。
市販のas−slicedの状態の100mm径n型(0001)4H−SiC(4°オフ)単結晶基板を、株式会社東京精密製の研削装置HRG300にダイヤモンドホイールを装着して研削加工を行った。最終仕上げとして、Si面、C面ともに、#8000ダイヤモンドホイールを使用し、ホイール回転速度を1250rpm、ワーク回転速度を300rpm、ホイール送り速度を0.4μm/sとした研削条件にて、約10μm除去することで、鏡面に仕上げた。
第1の実施例で使用した単結晶SiC基板と共通の基板IDを有するものを、第1の実施例と同様に、Si面、C面ともに、#8000ダイヤモンドホイールを使用し、ホイール回転速度を1250rpm、ワーク回転速度を300rpm、ホイール送り速度を0.4μm/sとした研削条件にて、約10ミクロン除去することで鏡面に仕上げた。なお、使用した単結晶SiC基板は、処理ロット、加工条件が同じであれば、CMP後の反り状態も同じになるものと考えてよい。
市販の両鏡面加工された100mm径n型(0001)4H−SiC(4°オフ)単結晶基板を、#8000ダイヤモンドホイールを使用し、ホイール回転速度を1250rpm、ワーク回転速度を300rpm、ホイール送り速度を0.4μm/sとした研削条件にて、C面、Si面の順に、それぞれ約10ミクロンずつ除去した。基板のSi面で測定した厚みは333.8μmで、SORIの値は13.6μmであった。この基板を第1の実施例と同様に陽極酸化したところ、基板のSi面で測定したSORIの値は9.2μmであった。
第2の実施例で使用した単結晶SiC基板と共通の基板IDを有するものを、第2の実施例と同様に、#8000ダイヤモンドホイールを使用し、ホイール回転速度を1250rpm、ワーク回転速度を300rpm、ホイール送り速度を0.4μ/sの研削条件にて、C面、Si面の順に、それぞれ約10μmずつ除去した。基板のSi面で測定した厚みは334.7μmで、SORIの値は14.4μmであった。この基板を第1の比較例と同様にCMP加工したところ、Si面で測定したSORIの値は9.3μmであった。
Alをドープしたp型(0001)4H−SiC(4°オフ)単結晶基板の小片を準備し、電解質水溶液との接液面(Si面、C面)の一部を樹脂でマスキングすることで、陽極酸化が起こるか否かを確認するための試験を、実施例1と同様の手法で行った。
市販の両鏡面加工された100mm径n型(0001)4H−SiC(4°オフ)単結晶基板のC面を、#4000ダイヤモンドホイールを使用し、ホイール回転速度を1250rpm、ワーク回転速度を300rpm、ホイール送り速度を1μm/sとした研削条件にて、基板の厚み方向に約8μm除去した。さらに、#8000ダイヤモンドホイールを使用し、ホイール回転速度を1250rpm、ワーク回転速度を300rpm、ホイール送り速度を0.4μm/sとした研削条件にて、基板の厚み方向に約8μm除去した。
市販の両鏡面加工された100mm径n型(0001)4H−SiC(4°オフ)単結晶基板C面を、#4000ダイヤモンドホイールを使用し、ホイール回転速度を1250rpm、ワーク回転速度を300rpm、ホイール送り速度を1μm/sとした研削条件にて約14μm除去した。
Claims (7)
- 単結晶SiC基板の形状を制御する方法であって、
単結晶SiC基板は少なくとも片面が機械的加工により加工され、容器に入れた電解質水溶液に機械加工された片面のみを接液させ、
前記単結晶SiC基板が陽極となり、前記単結晶SiC基板の接液面との距離が一定になるよう陰極を配置した上で、前記陽極と前記陰極との間に直流電圧を印加し、
前記単結晶SiC基板の接液面を、生成物の溶解を伴わない状態で陽極酸化させ、前記生成物を当該単結晶SiC基板の表面に残存させる陽極酸化処理を行い、
前記単結晶SiC基板の反り形状を、CMPを行うことなく制御することを特徴とする単結晶SiC基板の形状を制御する方法。 - 前記陽極酸化処理において、前記電解質水溶液を、フッ化水素酸を含まないものとすることを特徴とする請求項1に記載の単結晶SiC基板の形状を制御する方法。
- 前記機械的加工が、ラップ、ポリッシュ、研削の少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1〜2のいずれか一項に記載の単結晶SiC基板の形状を制御する方法。
- 前記電解質水溶液の導電率が1ミリジーメンス/メートル(10マイクロジーメンス/センチメートル)以上、10ジーメンス/メートル(100ミリジーメンス/センチメートル)以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の単結晶SiC基板の形状を制御する方法。
- 前記少なくとも片面が機械的加工により加工された単結晶SiC基板が、第1の面と第2の面の両方の面が機械的加工により加工された単結晶SiC基板であって、第1の面と第2の面の両方の面の表面粗さRaが10nm以下となるまで機械的加工を行い、片面ずつ両面を陽極酸化させ、両面の加工変質層を除去することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の単結晶SiC基板の形状を制御する方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の単結晶SiC基板の形状を制御する方法で製造することを特徴とする単結晶SiC基板の製造方法。
- 前記陽極酸化処理の後において、当該処理後の前記単結晶SiC基板のSORIを測定する工程を、更に有することを特徴とする請求項6に記載の単結晶SiC基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015147012A JP6598150B2 (ja) | 2015-07-24 | 2015-07-24 | 単結晶SiC基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015147012A JP6598150B2 (ja) | 2015-07-24 | 2015-07-24 | 単結晶SiC基板の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017028162A JP2017028162A (ja) | 2017-02-02 |
JP2017028162A5 JP2017028162A5 (ja) | 2018-08-02 |
JP6598150B2 true JP6598150B2 (ja) | 2019-10-30 |
Family
ID=57945988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015147012A Active JP6598150B2 (ja) | 2015-07-24 | 2015-07-24 | 単結晶SiC基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6598150B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7245586B1 (ja) | 2022-06-02 | 2023-03-24 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板 |
JP7287588B1 (ja) | 2022-06-02 | 2023-06-06 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板 |
KR102607269B1 (ko) | 2022-06-02 | 2023-11-29 | 가부시끼가이샤 레조낙 | SiC 단결정 기판 |
EP4286571A1 (en) | 2022-06-02 | 2023-12-06 | Resonac Corporation | Sic single crystal substrate |
JP7435880B2 (ja) | 2023-03-09 | 2024-02-21 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板及びSiCエピタキシャルウェハ |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019112261A (ja) * | 2017-12-22 | 2019-07-11 | 昭和電工株式会社 | SiC単結晶の加工方法及びSiCインゴットの製造方法 |
JP7132454B1 (ja) * | 2022-05-31 | 2022-09-06 | 昭和電工株式会社 | SiC基板及びSiCエピタキシャルウェハ |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI335674B (en) * | 2007-07-11 | 2011-01-01 | Univ Nat Taiwan | Methos for forming an insulating layer over a silicon carbide substrate, silicon carbide transistors and methods for fabricating the same |
EP2394787B1 (en) * | 2009-02-04 | 2019-05-29 | Hitachi Metals, Ltd. | Manufacturing method for a silicon carbide monocrystal substrate |
JP5560774B2 (ja) * | 2010-03-03 | 2014-07-30 | 日立金属株式会社 | 炭化珪素単結晶基板の製造方法 |
JP2015211047A (ja) * | 2014-04-23 | 2015-11-24 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 炭化ケイ素基板の研磨方法 |
-
2015
- 2015-07-24 JP JP2015147012A patent/JP6598150B2/ja active Active
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7245586B1 (ja) | 2022-06-02 | 2023-03-24 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板 |
JP7287588B1 (ja) | 2022-06-02 | 2023-06-06 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板 |
KR102607269B1 (ko) | 2022-06-02 | 2023-11-29 | 가부시끼가이샤 레조낙 | SiC 단결정 기판 |
EP4286563A1 (en) | 2022-06-02 | 2023-12-06 | Resonac Corporation | 8-inch sic single crystal substrate |
EP4286571A1 (en) | 2022-06-02 | 2023-12-06 | Resonac Corporation | Sic single crystal substrate |
EP4286564A1 (en) | 2022-06-02 | 2023-12-06 | Resonac Corporation | 8-inch n-type sic single crystal substrate |
KR20230167728A (ko) | 2022-06-02 | 2023-12-11 | 가부시끼가이샤 레조낙 | SiC 단결정 기판 |
KR20230167719A (ko) | 2022-06-02 | 2023-12-11 | 가부시끼가이샤 레조낙 | n형 SiC 단결정 기판 |
JP2023177675A (ja) * | 2022-06-02 | 2023-12-14 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板 |
JP2023178199A (ja) * | 2022-06-02 | 2023-12-14 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板 |
US11859313B2 (en) | 2022-06-02 | 2024-01-02 | Resonac Corporation | 8-inch SiC single crystal substrate |
KR20240004190A (ko) | 2022-06-02 | 2024-01-11 | 가부시끼가이샤 레조낙 | n형 SiC 단결정 기판 |
JP7435880B2 (ja) | 2023-03-09 | 2024-02-21 | 株式会社レゾナック | n型SiC単結晶基板及びSiCエピタキシャルウェハ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017028162A (ja) | 2017-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6598150B2 (ja) | 単結晶SiC基板の製造方法 | |
JP3400765B2 (ja) | 半導体ウェハの製造方法および該製造方法の使用 | |
KR101103415B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 양면 연마 방법 | |
US6861360B2 (en) | Double-sided polishing process for producing a multiplicity of silicon semiconductor wafers | |
JP5839069B2 (ja) | 炭化珪素単結晶基板、炭化珪素エピタキシャル基板およびこれらの製造方法 | |
US11781244B2 (en) | Seed crystal for single crystal 4H—SiC growth and method for processing the same | |
KR101139054B1 (ko) | 반도체 웨이퍼의 양면 폴리싱 가공 방법 | |
JP2015057864A (ja) | 炭化ケイ素単結晶基板 | |
TWI610358B (zh) | 鏡面硏磨晶圓的製造方法 | |
JP2014187131A (ja) | 陽極酸化を援用した形状創成エッチング方法、研磨方法及び高精度形状創成方法 | |
JP2017028162A5 (ja) | 単結晶SiC基板の製造方法 | |
WO2015163256A1 (ja) | 炭化ケイ素基板の研磨方法 | |
JP2011029355A (ja) | レーザマーク付き半導体ウェーハの製造方法 | |
Pandey et al. | Chemically assisted polishing of monocrystalline silicon wafer Si (100) by DDMAF | |
JP2006528423A (ja) | SiC薄膜におけるエピ前表面処理方法 | |
JP2010021394A (ja) | 半導体ウェーハの製造方法 | |
Pandey et al. | Silicon wafers; Its manufacturing processes and finishing techniques: An Overview | |
JP5347807B2 (ja) | 半導体基板の研磨方法及び研磨装置 | |
TWI427690B (zh) | 雙面化學研磨半導體晶圓的方法 | |
JP5277722B2 (ja) | 炭化珪素単結晶ウェハ表面の研磨方法 | |
JP2004063883A (ja) | 半導体ウェーハの製造方法 | |
JP2016052991A (ja) | 炭化珪素単結晶基板、炭化珪素エピタキシャル基板およびこれらの製造方法 | |
TW202305915A (zh) | 矽晶圓的製造方法 | |
KR101086966B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 연마방법 | |
WO2013027762A1 (ja) | 半導体ウェーハの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180601 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20180601 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20181116 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20181116 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190208 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190219 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190419 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190528 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190724 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190827 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190924 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6598150 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |