JP6593504B2 - インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 - Google Patents
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かかるインプリントモールド用ブランクスにおいて、前記凸部は、前記第1の面上に複数設けられており、前記各凸部は、前記第1の面側からの平面視において、前記凸構造部を中心とした対称性を有する位置に設けられていればよい。
また、本発明は、上記インプリントモールド用ブランクスの前記凸構造部の上面に微細凹凸パターンが形成されているインプリントモールドを用い、被転写基板に転写パターンを形成することを特徴とするインプリント方法を提供する。かかるインプリント方法において、前記インプリントモールドを用い、前記被転写基板の複数の領域にステップアンドリピート方式により前記転写パターンを形成すればよく、前記凸部の寸法が、前記被転写基板のスクライブラインよりも小さい寸法であればよい。
再生対象たるインプリントモールドとして、微細凹凸パターン5を有しない以外は、図1に示す構成を有するインプリントモールド1を被験試料として準備した。
研磨スラリー:コロイダルシリカを含む研磨スラリー
研磨装置:自転公転式研磨装置
研磨パッド:スウェード系研磨パッド
研磨量:1000nm
凸部4を有しない以外は、実施例1と同様の構成を有するインプリントモールドを用意し、実施例1と同様に凸構造部3の上面3Aに研磨処理を施した。
2…基部
2A…第1の面
2B…第2の面
3…凸構造部
4…凸部
5…微細凹凸パターン
6…窪み部
Claims (5)
- インプリントモールドを作製するために用いられるインプリントモールド用ブランクスであって、
前記インプリントモールドは、複数の領域と隣接する前記領域間に位置するスクライブラインとを有する被転写基板の前記複数の領域のそれぞれにステップアンドリピート方式のインプリント処理により転写パターンを形成するために用いられるものであり、
前記インプリントモールド用ブランクスは、
第1の面及び当該第1の面に対向する第2の面を有する基部と、
前記第1の面から突出する凸構造部及び凸部と
を備え、
前記凸部は、前記第1の面側からの平面視において前記凸構造部の周囲に位置しており、
前記凸部の高さは、前記凸構造部の高さと実質的に同一であり、
前記基部の前記第2の面には、窪み部が形成されており、
前記窪み部は、前記基部の平面視において当該窪み部を前記第1の面側に投影した投影領域が前記凸構造部を包摂するように、前記第2の面に形成されており、
前記凸部は、前記第1の面側に前記窪み部を投影した前記投影領域の内側に設けられており、
前記凸構造部は、平面視矩形状であり、
前記凸部は、前記インプリントモールドを用いたインプリント処理により前記転写パターンが形成される前記被転写基板の前記スクライブラインに相当する位置に設けられていることを特徴とするインプリントモールド用ブランクス。 - 前記凸部は、前記第1の面上に複数設けられており、
前記各凸部は、前記第1の面側からの平面視において、前記凸構造部を中心とした対称性を有する位置に設けられていることを特徴とする請求項1に記載のインプリントモールド用ブランクス。 - 請求項1に記載のインプリントモールド用ブランクスの前記凸構造部の上面に微細凹凸パターンが形成されているインプリントモールドを用い、被転写基板に転写パターンを形成することを特徴とするインプリント方法。
- 前記インプリントモールドを用い、前記被転写基板の複数の領域にステップアンドリピート方式により前記転写パターンを形成することを特徴とする請求項3に記載のインプリント方法。
- 前記凸部の寸法が、前記被転写基板のスクライブラインよりも小さい寸法であることを特徴とする請求項3又は4に記載のインプリント方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018165676A JP6593504B2 (ja) | 2018-09-05 | 2018-09-05 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018165676A JP6593504B2 (ja) | 2018-09-05 | 2018-09-05 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014087188A Division JP6398284B2 (ja) | 2014-04-21 | 2014-04-21 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018201042A JP2018201042A (ja) | 2018-12-20 |
JP6593504B2 true JP6593504B2 (ja) | 2019-10-23 |
Family
ID=64667381
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018165676A Expired - Fee Related JP6593504B2 (ja) | 2018-09-05 | 2018-09-05 | インプリントモールド、インプリントモールド用ブランクス、並びにインプリントモールド用基板の製造方法及びインプリントモールドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6593504B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7122934B2 (ja) | 2018-10-25 | 2022-08-22 | Toyo Tire株式会社 | 空気入りタイヤ |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080160129A1 (en) * | 2006-05-11 | 2008-07-03 | Molecular Imprints, Inc. | Template Having a Varying Thickness to Facilitate Expelling a Gas Positioned Between a Substrate and the Template |
EP2177951A1 (en) * | 2003-05-14 | 2010-04-21 | Molecular Imprints, Inc. | Method, system, holder and assembly for transferring templates during imprint lithography processes |
US8850980B2 (en) * | 2006-04-03 | 2014-10-07 | Canon Nanotechnologies, Inc. | Tessellated patterns in imprint lithography |
WO2009085286A1 (en) * | 2007-12-28 | 2009-07-09 | Molecular Imprints, Inc. | Template pattern density doubling |
JP2009170773A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-30 | Toppan Printing Co Ltd | インプリントモールドおよびインプリント装置 |
US8361371B2 (en) * | 2008-02-08 | 2013-01-29 | Molecular Imprints, Inc. | Extrusion reduction in imprint lithography |
JP5200814B2 (ja) * | 2008-09-24 | 2013-06-05 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリントモールド |
NL2004932A (en) * | 2009-07-27 | 2011-01-31 | Asml Netherlands Bv | Imprint lithography template. |
JP5703600B2 (ja) * | 2010-06-21 | 2015-04-22 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用モールド、アライメント方法、インプリント方法、およびインプリント装置 |
JP5620827B2 (ja) * | 2011-01-06 | 2014-11-05 | 富士フイルム株式会社 | ナノインプリントモールドの洗浄方法 |
JP2013168604A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-08-29 | Fujifilm Corp | ナノインプリント用モールドの製造方法 |
JP5935385B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2016-06-15 | 大日本印刷株式会社 | ナノインプリント用レプリカテンプレートの製造方法及びレプリカテンプレート |
JP2014049658A (ja) * | 2012-08-31 | 2014-03-17 | Toshiba Corp | パターン形成方法及びテンプレート |
JP5823938B2 (ja) * | 2012-09-07 | 2015-11-25 | 株式会社東芝 | モールド洗浄装置及びモールド洗浄方法 |
JP6102519B2 (ja) * | 2013-05-28 | 2017-03-29 | 大日本印刷株式会社 | テンプレート基板、テンプレートブランク、ナノインプリント用テンプレート、および、テンプレート基板の製造方法、並びに、テンプレート基板の再生方法 |
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- 2018-09-05 JP JP2018165676A patent/JP6593504B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018201042A (ja) | 2018-12-20 |
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