JP6587939B2 - 真空乾燥装置及び真空乾燥方法 - Google Patents
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Description
内部空間に対象物が収容される本体、
対象物が収容された本体の内部空間に蒸気を供給する蒸気供給制御部、
蒸気が供給された後、本体の内部空間に収容された対象物を所定の乾燥時間にわたって、真空乾燥させる真空乾燥制御部、
を備えた真空乾燥装置において、
本体の内部空間に供給された蒸気の乾き度を測定する乾き度測定部を備えており、
真空乾燥制御部は、乾き度測定部が測定した乾き度に基づいて乾燥時間を制御する、
ことを特徴としている。
対象物が収容された本体の内部空間に蒸気を供給し、
蒸気が供給された後、本体の内部空間に収容された対象物を所定の乾燥時間にわたって真空乾燥させる、
ことを備えた真空乾燥方法において、
本体の内部空間に供給された蒸気の乾き度を測定し、
測定した乾き度に基づいて乾燥時間を制御する、
ことを特徴としている。
実施形態において示す主な用語は、それぞれ本願に係る真空乾燥装置及び真空乾燥方法の下記の構成要素に対応している。
オートクレーブ2…本体
内釜21の内部…内部空間
手術用具等…対象物
電磁弁51、ストレーナ69及び減圧弁59を含む蒸気を供給するためのシステム…蒸気供給制御部
電磁弁55、56及び真空ポンプ4を含む真空乾燥のためのシステム…真空乾燥制御部
乾き度計6…乾き度測定部
平均値Ka…乾き度平均値
図2に示す乾燥工程に要する時間…乾燥時間
(装置の全体構成の説明)
図1に、本願に係る真空乾燥装置及び真空乾燥方法の第1の実施形態である蒸気滅菌装置の全体構成の概要を示す。耐圧性機器であるオートクレーブ2は内釜21と外釜22の二重構造を備えており、内釜21と外釜22との間にジャケット部23が形成されている。内釜21の内部空間には、カート等に並べられた滅菌処理の対象物となる手術用具等が収容され(図示せず)、その後オートクレーブ2は密閉される。
次に、図1に示した蒸気滅菌装置の動作を説明する。この装置の動作は、内釜21の内圧の変化を表した図2に示すように、(1)予熱工程、(2)滅菌工程、(3)排気行程、(4)乾燥工程から構成される。以下に、各工程の概要を説明する。
まず、手術用具等の滅菌に先立つ準備的な工程として、予熱工程においてオートクレーブ2の内釜21に収容された手術用具等を加熱する。この工程の目的は、仮に手術用具等を加熱しない状態で滅菌工程に入り高温・高圧の蒸気を供給した場合、その温度差によって手術用具等の表面で蒸気が凝集しドレンが発生して水分が付着してしまうため、これを回避することである。
予熱工程が終了した後、滅菌工程に進み手術用具等の滅菌を行う。滅菌工程においては、電磁弁52、53を開いて内釜21内部に高温・高圧の蒸気を供給し、この状態を所定時間維持することによって手術用具等に付着した細菌類等の微生物を殺滅する。滅菌工程が終了した後、電磁弁55を開いて内釜21内の蒸気を外部に排気する。
排気工程の後、続いて乾燥工程に進む。上述の(2)滅菌工程において手術用具等には蒸気が供給されているため、(1)準備工程において手術用具等が十分加熱されていたとしても、滅菌工程を経た手術用具等の表面には少量の水分が付着してしまう。仮に、この水分が付着したままで手術用具等をオートクレーブ2から取り出した場合、空気中の細菌類等の微生物が水分に付着し増殖することによって滅菌処理が無駄になるおそれがある。このため、滅菌工程終了後、引き続きこの乾燥工程に入り、手術用具等を十分に乾燥させる。
次に、本願に係る蒸気滅菌装置の真空乾燥装置及び真空乾燥方法の第2の実施形態である蒸気滅菌装置を説明する。上述の第1の実施形態では、図3に示すように乾き度に応じて乾燥時間T1を求めて乾燥工程を終了したが、本実施形態においては乾燥工程における真空状態と熱風による昇温状態との回繰り返し回数を選択することによって乾燥時間を制御する。
続いて、本願に係る蒸気滅菌装置の真空乾燥装置及び真空乾燥方法の第3の実施形態である蒸気滅菌装置を説明する。上述の第1の実施形態及び第2の実施形態においては、供給される蒸気の乾き度は、蒸気の供給開始から停止までの間については一定となるように制御されていることを前提とした。しかし、この場合、蒸気の乾き度を一定に保持するための制御システムが必要であり、装置のコストが高くなる。
上述の各実施形態では、本願に係る真空乾燥装置及び真空乾燥方法を蒸気滅菌装置に適用した例を示したが、これに限定されるものではなく、真空乾燥機能を有しており、乾燥工程先立って(又は同時に)蒸気を供給する工程を備えているものであれば本願に係る真空乾燥装置及び真空乾燥方法を適用することができる。
4:真空ポンプ
6:乾き度計
21:内釜
51,55、56:電磁弁
59:減圧弁
69:ストレーナ
Ka:平均値
Claims (4)
- 内部空間に対象物が収容される本体、
対象物が収容された本体の内部空間に蒸気を供給する蒸気供給制御部、
蒸気が供給された後、本体の内部空間に収容された対象物を所定の乾燥時間にわたって、真空乾燥させる真空乾燥制御部、
を備えた真空乾燥装置において、
本体の内部空間に供給された蒸気の乾き度を測定する乾き度測定部を備えており、
真空乾燥制御部は、乾き度測定部が測定した乾き度に基づいて乾燥時間を制御し、
乾き度測定部は、真空乾燥の直前に本体の内部空間に供給された蒸気を対象とし、その乾き度を測定する、
ことを特徴とする真空乾燥装置。 - 請求項1に係る真空乾燥装置において、
真空乾燥制御部は、本体の内部空間を真空にする真空状態と、対象物を加熱する加熱状態とを、複数回繰り返すことによって対象物を真空乾燥させ、真空状態と加熱状態との繰り返し回数を選択することによって乾燥時間を制御する、
ことを特徴とする真空乾燥装置。 - 請求項1又は請求項2に係る真空乾燥装置において、
乾き度測定部は、所定の時間内において変化する蒸気の乾き度を測定し、その平均値を乾き度平均値とし、
真空乾燥制御部は、当該乾き度平均値に基づいて乾燥時間を制御する、
ことを特徴とする真空乾燥装置。 - 対象物が収容された本体の内部空間に蒸気を供給し、
蒸気が供給された後、本体の内部空間に収容された対象物を所定の乾燥時間にわたって真空乾燥させる、
ことを備えた真空乾燥方法において、
本体の内部空間に供給された蒸気の乾き度を測定し、
測定した乾き度に基づいて乾燥時間を制御し、
真空乾燥の直前に本体の内部空間に供給された蒸気を対象とし、その乾き度を測定する、
ことを特徴とする真空乾燥方法。
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JP2016003157A JP6587939B2 (ja) | 2016-01-12 | 2016-01-12 | 真空乾燥装置及び真空乾燥方法 |
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JP2016003157A JP6587939B2 (ja) | 2016-01-12 | 2016-01-12 | 真空乾燥装置及び真空乾燥方法 |
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JP2017125625A JP2017125625A (ja) | 2017-07-20 |
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JP2016003157A Active JP6587939B2 (ja) | 2016-01-12 | 2016-01-12 | 真空乾燥装置及び真空乾燥方法 |
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