JP6583176B2 - Dust countermeasure device - Google Patents

Dust countermeasure device Download PDF

Info

Publication number
JP6583176B2
JP6583176B2 JP2016145433A JP2016145433A JP6583176B2 JP 6583176 B2 JP6583176 B2 JP 6583176B2 JP 2016145433 A JP2016145433 A JP 2016145433A JP 2016145433 A JP2016145433 A JP 2016145433A JP 6583176 B2 JP6583176 B2 JP 6583176B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
dust
laser oscillator
conducting wire
oscillator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016145433A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018015765A (en
Inventor
村上 隆史
隆史 村上
三宅 和夫
和夫 三宅
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2016145433A priority Critical patent/JP6583176B2/en
Priority to CN201710499200.XA priority patent/CN107658125B/en
Priority to TW106121537A priority patent/TWI660378B/en
Publication of JP2018015765A publication Critical patent/JP2018015765A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6583176B2 publication Critical patent/JP6583176B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/04Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
    • H01F41/06Coil winding
    • H01F41/064Winding non-flat conductive wires, e.g. rods, cables or cords
    • H01F41/066Winding non-flat conductive wires, e.g. rods, cables or cords with insulation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01RELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
    • H01R43/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining, or repairing of line connectors or current collectors or for joining electric conductors
    • H01R43/28Apparatus or processes specially adapted for manufacturing, assembling, maintaining, or repairing of line connectors or current collectors or for joining electric conductors for wire processing before connecting to contact members, not provided for in groups H01R43/02 - H01R43/26

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Description

本発明は、粉塵対策装置に関する。   The present invention relates to a dust countermeasure device.

従来、コイル部品を製造するには、特開2009−224599号公報(特許文献1)に示されるように、導線をコアに巻回している途中で、レーザ発振器から導線の絶縁膜にレーザ光を照射して、導線の絶縁膜を剥離している。   Conventionally, to manufacture a coil component, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-224599 (Patent Document 1), a laser beam is emitted from a laser oscillator to an insulating film of a conductive wire while the conductive wire is wound around a core. Irradiation is performed to peel off the insulating film of the conductive wire.

特開2009−224599号公報JP 2009-224599 A

ところで、前記従来のように、コイル部品を製造すると、次の問題があることを見出した。   By the way, when the coil component is manufactured as in the conventional case, it has been found that there are the following problems.

導線の絶縁膜にレーザ光を照射して絶縁膜を剥離する際に、粉塵が発生する。そして、この粉塵がレーザ発振器内に入り込んで、レーザ発振器が故障するおそれがある。レーザ発振器が故障した場合、レーザ発振器のメンテナンスのコストが大きくなる。   Dust is generated when the insulating film of the conducting wire is irradiated with laser light to peel off the insulating film. This dust may enter the laser oscillator and cause the laser oscillator to fail. When the laser oscillator fails, the maintenance cost of the laser oscillator increases.

そこで、本発明の課題は、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止できる粉塵対策装置を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a dust countermeasure device that can prevent a laser oscillator from being broken due to dust.

前記課題を解決するため、本発明の粉塵対策装置は、
コアを支持するコア支持部と、
前記コアに巻き回されると共に導体を絶縁膜で覆われてなる導線を、保持する導線保持部と、
前記導線にレーザ光を照射して前記導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、
前記導線におけるレーザ光が照射される被照射部分と前記レーザ発振器との間に配置され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、
前記レーザ保護ガラスにおける前記導線側の一面に気流を発生させ、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引して、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を除去する粉塵除去部と
を備える。
In order to solve the above problems, the dust countermeasure device of the present invention is:
A core support for supporting the core;
A conductor holding part for holding a conductor wound around the core and covered with an insulating film; and
A laser oscillator that irradiates the conducting wire with laser light and peels off at least a part of the insulating film of the conducting wire;
A laser protective glass that is disposed between an irradiated portion irradiated with laser light in the conductive wire and the laser oscillator, and transmits laser light emitted from the laser oscillator;
A dust removing unit configured to generate an air flow on one surface of the laser protective glass on the conductive wire side, suck the dust on the one surface of the laser protective glass, and remove the dust on the one surface of the laser protective glass;

本発明の粉塵対策装置によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分とレーザ発振器との間に配置され、レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させる。これにより、レーザ光の照射により絶縁膜を剥離する際に粉塵が発生するが、レーザ保護ガラスが、粉塵のレーザ発振器への進入を防止する。したがって、レーザ発振器が粉塵により故障することを防止できる。   According to the dust countermeasure apparatus of the present invention, the laser protective glass is disposed between the irradiated portion of the conducting wire and the laser oscillator, and transmits the laser light emitted from the laser oscillator. Thereby, dust is generated when the insulating film is peeled off by laser light irradiation, but the laser protective glass prevents the dust from entering the laser oscillator. Therefore, it is possible to prevent the laser oscillator from being damaged by dust.

また、粉塵除去部は、レーザ保護ガラスの一面に気流を発生させ、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を吸引して、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を除去する。これにより、粉塵がレーザ保護ガラスの一面に付着することを防止する。したがって、粉塵がレーザ光の光路を遮らない。   The dust removing unit generates an air flow on one surface of the laser protection glass, sucks the dust on the one surface of the laser protection glass, and removes the dust on the one surface of the laser protection glass. This prevents dust from adhering to one surface of the laser protection glass. Therefore, dust does not block the optical path of the laser beam.

したがって、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止し、さらに、粉塵によるレーザ光の強度低下を防止できる。   Therefore, failure of the laser oscillator due to dust can be prevented, and further, the intensity of the laser beam can be prevented from lowering due to dust.

また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の下側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの下側に配置されている。   In one embodiment of the dust countermeasure apparatus, the laser protection glass is disposed below the irradiated portion of the conducting wire, and the laser oscillator is disposed below the laser protection glass.

前記実施形態によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分の下側に配置され、レーザ発振器は、レーザ保護ガラスの下側に配置されている。これにより、レーザ発振器から出射されたレーザ光は、レーザ保護ガラスを下側から通過して、導線を下側から照射する。このため、粉塵(特に、固体の状態の粉塵)が、重力の影響により、レーザ保護ガラスの一面に落下しても、粉塵除去部により、落下した粉塵を有効に除去できる。   According to the embodiment, the laser protection glass is disposed below the irradiated portion of the conducting wire, and the laser oscillator is disposed below the laser protection glass. Thereby, the laser beam emitted from the laser oscillator passes through the laser protective glass from below and irradiates the conductive wire from below. For this reason, even if dust (especially dust in a solid state) falls on one surface of the laser protection glass due to the influence of gravity, the dust removal unit can effectively remove the fallen dust.

また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の上側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの上側に配置されている。   Moreover, in one Embodiment of a dust countermeasure device, the said laser protection glass is arrange | positioned above the irradiated part of the said conducting wire, and the said laser oscillator is arrange | positioned above the said laser protection glass.

前記実施形態によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分の上側に配置され、レーザ発振器は、レーザ保護ガラスの上側に配置されている。これにより、レーザ発振器から出射されたレーザ光は、レーザ保護ガラスを上側から通過して、導線を上側から照射する。このため、粉塵が、上昇気流の影響により、レーザ保護ガラスに到達するまで上昇しても、粉塵除去部により、上昇した粉塵を有効に除去できる。   According to the embodiment, the laser protection glass is disposed above the irradiated portion of the conductive wire, and the laser oscillator is disposed above the laser protection glass. Thereby, the laser beam emitted from the laser oscillator passes through the laser protective glass from above and irradiates the conductive wire from above. For this reason, even if dust rises until it reaches the laser protection glass due to the influence of the rising airflow, the dust removal unit can effectively remove the raised dust.

また、粉塵対策装置の一実施形態では、
前記レーザ発振器は、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器とを有し、
前記第1レーザ発振器と前記第2レーザ発振器とは、前記導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されている。
In one embodiment of the dust countermeasure device,
The laser oscillator includes a first laser oscillator and a second laser oscillator,
The first laser oscillator and the second laser oscillator are arranged at positions facing each other with respect to the irradiated portion of the conducting wire.

ここで、対向する位置とは、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器のレーザ光の光軸が、同軸上にあってもよいし、同軸上になくてもよいことを意味する。レーザ光の光軸同士が平行、かつ、所定距離ずれていてもよい。レーザ光の光軸同士が平行でない角度(179°等の180°以外の角度)で交わっていてもよい。   Here, the facing position means that the optical axes of the laser beams of the first laser oscillator and the second laser oscillator may be on the same axis or not on the same axis. The optical axes of the laser beams may be parallel to each other and shifted by a predetermined distance. The optical axes of the laser beams may intersect at an angle that is not parallel (an angle other than 180 ° such as 179 °).

前記実施形態によれば、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器とは、導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されているので、第1レーザ発振器および第2レーザ発振器からレーザ光を照射して、導線の絶縁膜の全周を剥離することができる。   According to the embodiment, since the first laser oscillator and the second laser oscillator are arranged at positions facing each other with respect to the irradiated portion of the conducting wire, the laser beam is emitted from the first laser oscillator and the second laser oscillator. , And the entire circumference of the insulating film of the conductive wire can be peeled off.

また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、前記導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にある。   Moreover, in one embodiment of the dust countermeasure apparatus, the laser light emission hole of the laser oscillator is located at a position shifted without overlapping with the portion directly under the irradiated portion of the conducting wire.

前記実施形態によれば、レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にあるので、レーザ発振器のレーザ光を導線の被照射部分の斜め下方から照射することができる。これにより、粉塵がレーザ発振器の出射孔の直上に落下せず、レーザ光の強度低下を防止できる。   According to the above-described embodiment, the laser light emission hole of the laser oscillator is located at a position that does not overlap with the portion directly under the conductor to be irradiated, so that the laser light of the laser oscillator is obliquely below the portion to be irradiated with the conductor. Can be irradiated. Thereby, dust does not fall directly on the emission hole of the laser oscillator, and the intensity of the laser beam can be prevented from being lowered.

また、粉塵対策装置の一実施形態では、前記粉塵除去部は、前記レーザ保護ガラスの前記一面にエアを吹き付けるブロワと、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引するバキュームとを有する。   Moreover, in one Embodiment of a dust countermeasure device, the said dust removal part has a blower which blows air on the said one surface of the said laser protection glass, and a vacuum which attracts | sucks the dust of the said one surface of the said laser protection glass.

前記実施形態によれば、粉塵除去部は、ブロワとバキュームとを有する。これにより、粉塵除去部を簡単な構成とできる。   According to the embodiment, the dust removing unit has a blower and a vacuum. Thereby, a dust removal part can be made into a simple structure.

本発明の粉塵対策装置によれば、レーザ保護ガラスは、導線の被照射部分とレーザ発振器との間に配置され、レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるので、粉塵によるレーザ発振器の故障を防止できる。また、粉塵除去部は、レーザ保護ガラスの一面に気流を発生させ、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を吸引して、レーザ保護ガラスの一面の粉塵を除去するので、粉塵によるレーザ光の強度低下を防止できる。   According to the dust countermeasure apparatus of the present invention, the laser protective glass is disposed between the irradiated portion of the conducting wire and the laser oscillator, and transmits the laser light emitted from the laser oscillator. Can be prevented. In addition, the dust removal unit generates an air flow on one surface of the laser protection glass, sucks the dust on one surface of the laser protection glass, and removes the dust on one surface of the laser protection glass, so that the intensity of the laser beam is reduced by the dust. Can be prevented.

本発明の粉塵対策装置の第1実施形態を示す簡略構成図である。It is a simple lineblock diagram showing a 1st embodiment of a dust countermeasure device of the present invention. 図1のコアの拡大図である。It is an enlarged view of the core of FIG. 第1レーザ発振器によりレーザ光を照射したときの状態を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining a state when irradiating a laser beam with a 1st laser oscillator. 第2レーザ発振器によりレーザ光を照射したときの状態を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining a state when irradiating a laser beam with a 2nd laser oscillator. コイル部品の製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing method of coil components. コイル部品の製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing method of coil components. コイル部品の製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing method of coil components. 本発明の粉塵対策装置の第2実施形態を示す簡略構成図である。It is a simple block diagram which shows 2nd Embodiment of the dust countermeasure apparatus of this invention.

以下、本発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments.

(第1実施形態)
図1は、本発明の粉塵対策装置の第1実施形態を示す簡略構成図である。図2は、図1のコアの拡大図である。図1と図2に示すように、粉塵対策装置1は、コア10を支持するコア支持部60と、コア10に巻き回される導線21を保持する導線保持部80とを有する。コア10に導線21が巻き回されてコイル部品を構成する。
(First embodiment)
FIG. 1 is a simplified configuration diagram showing a first embodiment of the dust countermeasure apparatus of the present invention. FIG. 2 is an enlarged view of the core of FIG. As shown in FIGS. 1 and 2, the dust countermeasure device 1 includes a core support portion 60 that supports the core 10 and a lead wire holding portion 80 that holds the lead wire 21 wound around the core 10. A conducting wire 21 is wound around the core 10 to constitute a coil component.

粉塵対策装置1は、さらに、導線21にレーザ光Lを照射して導線21の絶縁膜を剥離する第1レーザ発振器31と、第1レーザ発振器31から出射されたレーザ光Lを透過させる第1レーザ保護ガラス41と、第1レーザ保護ガラス41上の粉塵を除去する第1粉塵除去部51とを有する。   The dust countermeasure apparatus 1 further includes a first laser oscillator 31 that irradiates the conducting wire 21 with the laser light L and peels off the insulating film of the conducting wire 21, and a first laser beam L emitted from the first laser oscillator 31. It has the laser protection glass 41 and the 1st dust removal part 51 which removes the dust on the 1st laser protection glass 41. FIG.

粉塵対策装置1は、さらに、導線21にレーザ光Lを照射して導線21の絶縁膜を剥離する第2レーザ発振器32と、第2レーザ発振器32から出射されたレーザ光Lを透過させる第2レーザ保護ガラス42と、第2レーザ保護ガラス42上の粉塵を除去する第2粉塵除去部52とを有する。   The dust countermeasure apparatus 1 further includes a second laser oscillator 32 that irradiates the conducting wire 21 with the laser beam L to peel off the insulating film of the conducting wire 21 and a second laser beam L that is emitted from the second laser oscillator 32. It has the laser protection glass 42 and the 2nd dust removal part 52 which removes the dust on the 2nd laser protection glass 42. FIG.

コア10は、巻芯部13と、巻芯部13の一端に設けられた第1鍔部11と、巻芯部13の他端に設けられた第2鍔部12とを有する。コア10の材料としては、例えば、アルミナ(非磁性体)や、Ni−Zn系フェライト(磁性体、絶縁体)や、樹脂などの材料を用いる。   The core 10 includes a core portion 13, a first flange portion 11 provided at one end of the core portion 13, and a second flange portion 12 provided at the other end of the core portion 13. As a material of the core 10, for example, a material such as alumina (non-magnetic material), Ni—Zn-based ferrite (magnetic material, insulator), or resin is used.

巻芯部13の形状は、例えば、直方体である。第1鍔部11の形状と第2鍔部12の形状は、例えば、矩形の平板である。第1鍔部11の底面には、第1電極14が設けられている。第2鍔部12の底面には、第2電極15が設けられている。第1、第2電極14,15の材料は、例えば、Ag等である。コア10は、第1鍔部11と第2鍔部12を結ぶ方向に延在する巻芯部13の中心AがY方向に一致し、第1、第2電極14,15がX方向を向くように、XY面上に設置される。Z方向は、上下方向に一致する。   The shape of the core part 13 is a rectangular parallelepiped, for example. The shape of the 1st collar part 11 and the shape of the 2nd collar part 12 are rectangular flat plates, for example. A first electrode 14 is provided on the bottom surface of the first flange 11. A second electrode 15 is provided on the bottom surface of the second flange 12. The material of the first and second electrodes 14 and 15 is, for example, Ag. In the core 10, the center A of the core portion 13 extending in the direction connecting the first flange portion 11 and the second flange portion 12 coincides with the Y direction, and the first and second electrodes 14 and 15 face the X direction. Thus, it is installed on the XY plane. The Z direction coincides with the vertical direction.

導線21は、巻芯部13に中心Aに沿ってコイル状に巻き回される。後述するように、導線21の一端側は、第1電極14に接続され、導線21の他端側は、第2電極15に接続されて、導線21は、第1、第2電極14,15に電気的に接続される。導線21は、導体を絶縁膜で覆われてなる。導体は、例えば、銅線から構成される。絶縁膜は、例えば、耐熱性材料であるポリアミドイミド(AIW)から構成される。   The conducting wire 21 is wound around the winding core portion 13 along the center A in a coil shape. As will be described later, one end side of the conducting wire 21 is connected to the first electrode 14, the other end side of the conducting wire 21 is connected to the second electrode 15, and the conducting wire 21 is connected to the first and second electrodes 14, 15. Is electrically connected. The conducting wire 21 is formed by covering a conductor with an insulating film. The conductor is made of, for example, a copper wire. The insulating film is made of, for example, polyamideimide (AIW) which is a heat resistant material.

導線保持部80は、第1鍔部11および第2鍔部12のそれぞれの中心A方向外側の端面に、設けられている。導線保持部80は、例えば、板金から構成される。第1鍔部11側の導線保持部80は、第1鍔部11の端面に固定される固定部81と、中心A方向(Y方向)に沿って延在すると共に固定部81に折曲可能に接続される折曲部82とを有する。折曲部82の一端は、固定部81に接続され、折曲部82は、この一端を中心としてX方向に揺動可能に折り曲げられる。折曲部82の他端には、係止部82aが設けられ、この係止部82aに導線21の端部が係止される。第2鍔部12側の導線保持部80は、第1鍔部11側の導線保持部80と同様の構成である。   The conducting wire holding portion 80 is provided on the outer end surface of each of the first flange portion 11 and the second flange portion 12 on the outer side in the center A direction. The conducting wire holding unit 80 is made of sheet metal, for example. The lead holding part 80 on the first flange part 11 side is fixed to the end face of the first flange part 11 and extends along the center A direction (Y direction) and can be bent to the fixing part 81. And a bent portion 82 connected to the. One end of the bent portion 82 is connected to the fixed portion 81, and the bent portion 82 is bent so as to be swingable in the X direction with the one end as a center. At the other end of the bent portion 82, a locking portion 82a is provided, and the end of the conducting wire 21 is locked to the locking portion 82a. The conductor holding part 80 on the second flange part 12 side has the same configuration as the conductor holding part 80 on the first flange part 11 side.

したがって、巻芯部13に巻き回された導線21の一端は、第1鍔部11側の導線保持部80の折曲部82の係止部82aに係止され、巻芯部13に巻き回された導線21の他端は、第2鍔部12側の導線保持部80の折曲部82の係止部82aに係止される。   Therefore, one end of the conducting wire 21 wound around the winding core portion 13 is locked to the locking portion 82a of the bent portion 82 of the conducting wire holding portion 80 on the first flange portion 11 side, and the winding wire is wound around the winding core portion 13. The other end of the conducting wire 21 is engaged with the engaging portion 82a of the bent portion 82 of the conducting wire holding portion 80 on the second flange 12 side.

コア支持部60は、ベース板70の上側に取り付けられる。ベース板70は、支持脚75を介して水平面に設置される。コア支持部60は、コア10の第2鍔部12を保持できるように構成される。具体的に述べると、コア支持部60は、第2鍔部12をZ方向の両側から挟む。   The core support portion 60 is attached to the upper side of the base plate 70. The base plate 70 is installed on a horizontal plane via support legs 75. The core support part 60 is configured to hold the second flange part 12 of the core 10. Specifically, the core support portion 60 sandwiches the second flange portion 12 from both sides in the Z direction.

コア支持部60は、コア支持部60に支持されたコア10を、巻芯部13の中心Aに沿って移動可能とするように、構成されている。これにより、コア10に巻き回された導線21の所望の位置に、レーザ光Lを照射させることができる。   The core support portion 60 is configured to allow the core 10 supported by the core support portion 60 to move along the center A of the core portion 13. Thereby, the laser beam L can be irradiated to the desired position of the conducting wire 21 wound around the core 10.

第1、第2レーザ発振器31,32は、それぞれ、導線21の予め定められた接続位置に向けてレーザ光Lを照射して、導線21の絶縁膜の少なくとも一部を剥離する。導線21の接続位置は、第1、第2電極14,15のそれぞれに対向する位置であり、第1、第2電極14,15のそれぞれに接続される位置である。導線21において、レーザ光Lが照射される部分を被照射部分21aとする。被照射部分21aについて、図1では黒丸で示し、図2ではハッチングで示す。   Each of the first and second laser oscillators 31 and 32 irradiates the laser beam L toward a predetermined connection position of the conducting wire 21 to peel off at least a part of the insulating film of the conducting wire 21. The connection position of the conducting wire 21 is a position facing each of the first and second electrodes 14 and 15 and is a position connected to each of the first and second electrodes 14 and 15. A portion of the conducting wire 21 that is irradiated with the laser light L is referred to as an irradiated portion 21a. The irradiated portion 21a is indicated by a black circle in FIG. 1 and hatched in FIG.

ここで、第1、第2レーザ発振器31,32は、それぞれ、レーザ光Lを走査させながら300ミリ角の範囲を照射でき、この300ミリ角のレーザ照射範囲に導線21を配置させてレーザ光Lをそれぞれ照射する。なお、1回の照射時間は約数ms程度であり、連続的に複数回照射して複数の剥離を行ったとしても全体にかかる時間は約1秒以内となる。   Here, the first and second laser oscillators 31 and 32 can irradiate a 300 mm square range while scanning the laser beam L, respectively, and arrange the conducting wire 21 in the 300 mm square laser irradiation range to thereby emit the laser beam. Each L is irradiated. In addition, the time of one irradiation is about several ms, and even if it irradiates several times continuously and performs several peeling, the time concerning the whole will be less than about 1 second.

レーザ光Lは、例えば、第2高調波(SHG(second harmonic generation))のレーザ光であり、このレーザの波長は約532nm程度である。そのため、耐熱性材料であるポリアミドイミドからなる各導線21の絶縁膜を透過することができ、絶縁膜と導体との界面位置で絶縁膜を最適に除去することが可能となる。   The laser light L is, for example, second harmonic generation (SHG) laser light, and the wavelength of the laser is about 532 nm. Therefore, the insulating film of each conductor 21 made of polyamideimide, which is a heat resistant material, can be transmitted, and the insulating film can be optimally removed at the interface position between the insulating film and the conductor.

第1レーザ発振器31と第2レーザ発振器32とは、導線21の被照射部分21aに対して互いに対向する位置に配置されている。ここで、対向する位置とは、第1レーザ発振器31と第2レーザ発振器32のレーザ光Lの光軸が、同軸上にあってもよいし、同軸上になくてもよいことを意味する。レーザ光Lの光軸同士が平行、かつ、所定距離ずれていてもよい。レーザ光Lの光軸同士が平行でない角度(179°等の180°以外の角度)で交わっていてもよい。   The first laser oscillator 31 and the second laser oscillator 32 are disposed at positions facing each other with respect to the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21. Here, the facing position means that the optical axes of the laser beams L of the first laser oscillator 31 and the second laser oscillator 32 may be on the same axis or not on the same axis. The optical axes of the laser beams L may be parallel to each other and shifted by a predetermined distance. The optical axes of the laser beams L may intersect at an angle that is not parallel (an angle other than 180 ° such as 179 °).

第1レーザ発振器31は、導線21の被照射部分21aの下側に配置され、第2レーザ発振器32は、導線21の被照射部分21aの上側に配置されている。これにより、第1レーザ発振器31および第2レーザ発振器32からレーザ光Lを照射して、導線21の絶縁膜の全周を剥離することができる。したがって、絶縁膜を剥離するのに必要とされる工程作業時間(タクトタイム)をより短縮することが可能となる。   The first laser oscillator 31 is disposed below the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21, and the second laser oscillator 32 is disposed above the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21. As a result, the entire circumference of the insulating film of the conducting wire 21 can be peeled off by irradiating the laser beam L from the first laser oscillator 31 and the second laser oscillator 32. Therefore, it is possible to further shorten the process work time (takt time) required for peeling off the insulating film.

第1レーザ発振器31は、ベース板70の下側に配置されている。ベース板70は、第1レーザ発振器31から出射されるレーザ光Lが通過する貫通孔71を有する。貫通孔71は、例えば、スリット状に形成され、レーザ光Lがスリットに沿って走査できるようになっている。   The first laser oscillator 31 is disposed below the base plate 70. The base plate 70 has a through hole 71 through which the laser light L emitted from the first laser oscillator 31 passes. The through hole 71 is formed in a slit shape, for example, so that the laser beam L can be scanned along the slit.

第1レーザ保護ガラス41は、導線21の被照射部分21aと第1レーザ発振器31との間に配置され、第1レーザ発振器31から出射されたレーザ光Lを透過させる。第1レーザ保護ガラス41は、導線21の被照射部分21aの下側に配置され、第1レーザ発振器31は、第1レーザ保護ガラス41の下側に配置されている。第1レーザ保護ガラス41は、ベース板70の下側に配置されている。ベース板70の貫通孔71は、上下方向、第1レーザ保護ガラス41に重なる。   The first laser protection glass 41 is disposed between the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21 and the first laser oscillator 31, and transmits the laser light L emitted from the first laser oscillator 31. The first laser protection glass 41 is disposed below the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21, and the first laser oscillator 31 is disposed below the first laser protection glass 41. The first laser protection glass 41 is disposed below the base plate 70. The through hole 71 of the base plate 70 overlaps the first laser protection glass 41 in the vertical direction.

第2レーザ保護ガラス42は、導線21の被照射部分21aと第2レーザ発振器32との間に配置され、第2レーザ発振器32から出射されたレーザ光Lを透過させる。第2レーザ保護ガラス42は、導線21の被照射部分21aの上側に配置され、第2レーザ発振器32は、第2レーザ保護ガラス42の上側に配置されている。第2レーザ保護ガラス42は、ベース板70の上側に配置されている。   The second laser protection glass 42 is disposed between the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21 and the second laser oscillator 32, and transmits the laser light L emitted from the second laser oscillator 32. The second laser protection glass 42 is disposed above the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21, and the second laser oscillator 32 is disposed above the second laser protection glass 42. The second laser protection glass 42 is disposed on the upper side of the base plate 70.

第1粉塵除去部51は、第1レーザ保護ガラス41における導線21側の一面41a(この実施形態では上面)に気流を発生させ、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵を吸引して、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵を除去する。第1粉塵除去部51は、第1レーザ保護ガラス41の一面41aにエアを吹き付けるブロワ55と、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵を吸引するバキューム56とを有する。ブロワ55とバキューム56は、ブロワ55の吹出側とバキューム56の吸込側とが対向するように、第1レーザ保護ガラス41の一面41a側に配置されている。このように、第1粉塵除去部51はブロワ55およびバキューム56から構成されているので、第1粉塵除去部51を簡単な構成とできる。   The first dust removing unit 51 generates an air flow on one surface 41a (upper surface in this embodiment) of the first laser protection glass 41 on the conductive wire 21 side, sucks the dust on the one surface 41a of the first laser protection glass 41, The dust on one surface 41a of the first laser protection glass 41 is removed. The first dust removing unit 51 includes a blower 55 that blows air onto one surface 41 a of the first laser protection glass 41 and a vacuum 56 that sucks dust on the one surface 41 a of the first laser protection glass 41. The blower 55 and the vacuum 56 are arranged on the one surface 41a side of the first laser protection glass 41 so that the blow-out side of the blower 55 and the suction side of the vacuum 56 face each other. Thus, since the 1st dust removal part 51 is comprised from the blower 55 and the vacuum 56, the 1st dust removal part 51 can be made into a simple structure.

第2粉塵除去部52は、第2レーザ保護ガラス42における導線21側の一面42a(この実施形態では下面)に気流を発生させ、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵を吸引して、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵を除去する。第2粉塵除去部52は、第1粉塵除去部51と同様に、第2レーザ保護ガラス42の一面42aにエアを吹き付けるブロワ55と、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵を吸引するバキューム56とを有する。   The second dust removing unit 52 generates an air flow on one surface 42a (the lower surface in this embodiment) of the second laser protection glass 42 on the conductive wire 21 side, sucks the dust on the one surface 42a of the second laser protection glass 42, The dust on one surface 42a of the second laser protection glass 42 is removed. Similarly to the first dust removing unit 51, the second dust removing unit 52 is configured to blow air to the one surface 42 a of the second laser protection glass 42, and to vacuum the dust on the one surface 42 a of the second laser protection glass 42. 56.

次に、コイル部品の製造方法について説明する。コイル部品の製造方法では、導線21を、コア10に巻き回し、第1、第2電極14,15にそれぞれ接続する。この工程について以下に詳細に説明する。   Next, the manufacturing method of a coil component is demonstrated. In the manufacturing method of the coil component, the conductive wire 21 is wound around the core 10 and connected to the first and second electrodes 14 and 15, respectively. This process will be described in detail below.

図2に示すように、コア10に導線21を巻き回し、導線21の両端を導線保持部80の係止部82aに係止させて、コア支持部60によってコア10の第2鍔部12を掴んで固定する。   As shown in FIG. 2, the conducting wire 21 is wound around the core 10, both ends of the conducting wire 21 are engaged with the engaging portions 82 a of the conducting wire holding portion 80, and the second flange portion 12 of the core 10 is held by the core support portion 60. Grab and fix.

そして、第1鍔部11の第1電極14に接続される導線21の接続位置の絶縁膜を全周剥離する。具体的に述べると、導線21の接続位置を、コア支持部60により、第1、第2レーザ発振器31,32のレーザ光Lの照射範囲に移動させ、第1、第2レーザ発振器31,32からレーザ光Lを照射して、導線21の被照射部分21aの絶縁膜を全周剥離する。レーザ光Lを照射する際、図5Aに示すように、導線保持部80により、導線21の接続位置を第1電極14から離隔した状態に保持する。つまり、導線21の被照射部分21aは、第1電極14に接触していない。   Then, the entire circumference of the insulating film at the connection position of the conducting wire 21 connected to the first electrode 14 of the first flange portion 11 is peeled off. More specifically, the connection position of the conducting wire 21 is moved to the irradiation range of the laser light L of the first and second laser oscillators 31 and 32 by the core support portion 60, and the first and second laser oscillators 31 and 32 are moved. Then, the insulating film of the irradiated portion 21a of the conducting wire 21 is peeled all around by irradiating the laser beam L. When irradiating the laser beam L, as shown in FIG. 5A, the connecting position of the conducting wire 21 is held in a state separated from the first electrode 14 by the conducting wire holding unit 80. That is, the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21 is not in contact with the first electrode 14.

ここで、第1レーザ発振器31によりレーザ光Lを照射したときの状態を説明する。図3に示すように、第1レーザ発振器31から出射されたレーザ光Lは、第1レーザ保護ガラス41を下側から通過して、導線21を下側から照射する。   Here, a state when the laser beam L is irradiated by the first laser oscillator 31 will be described. As shown in FIG. 3, the laser light L emitted from the first laser oscillator 31 passes through the first laser protection glass 41 from the lower side and irradiates the conductive wire 21 from the lower side.

レーザ光Lの照射により導線21の被照射部分21aの絶縁膜を剥離する際に、粉塵Fが発生する。粉塵F(特に、固体の状態の粉塵F)は、重力の影響により、ベース板70の貫通孔71を通って、第1レーザ発振器31側に落下する。図3では、分かりやすくするために、粉塵Fの量を多く描いている。このとき、第1レーザ保護ガラス41は、粉塵Fの第1レーザ発振器31への進入を防止する。したがって、第1レーザ発振器31が粉塵Fにより故障することを防止できる。   When the insulating film of the irradiated portion 21a of the conducting wire 21 is peeled off by irradiation with the laser light L, dust F is generated. The dust F (particularly, the dust F in a solid state) falls to the first laser oscillator 31 side through the through hole 71 of the base plate 70 due to the influence of gravity. In FIG. 3, a large amount of dust F is drawn for easy understanding. At this time, the first laser protection glass 41 prevents the dust F from entering the first laser oscillator 31. Therefore, it is possible to prevent the first laser oscillator 31 from being damaged by the dust F.

さらに、第1粉塵除去部51のブロワ55は、第1レーザ保護ガラス41の一面41aにエアを吹き付け、第1粉塵除去部51のバキューム56は、第1レーザ保護ガラス41の一面41aの粉塵Fを吸引する。これにより、粉塵Fが第1レーザ保護ガラス41の一面41aに落下しても、第1粉塵除去部51により、落下した粉塵Fを除去できて、粉塵Fが第1レーザ保護ガラス41の一面41aに積もることを防止する。したがって、粉塵Fがレーザ光Lの光路を遮らない。   Further, the blower 55 of the first dust removing unit 51 blows air to the one surface 41a of the first laser protection glass 41, and the vacuum 56 of the first dust removing unit 51 is a dust F on the one surface 41a of the first laser protection glass 41. Aspirate. Thereby, even if the dust F falls on the one surface 41 a of the first laser protection glass 41, the dropped dust F can be removed by the first dust removing unit 51, and the dust F becomes one surface 41 a of the first laser protection glass 41. To prevent accumulation. Therefore, the dust F does not block the optical path of the laser light L.

このように、粉塵対策装置1は、第1レーザ保護ガラス41および第1粉塵除去部51を有するので、粉塵Fによる第1レーザ発振器31の故障を防止し、さらに、粉塵Fによるレーザ光Lの強度低下を防止できる。   Thus, since the dust countermeasure apparatus 1 has the 1st laser protection glass 41 and the 1st dust removal part 51, failure of the 1st laser oscillator 31 by the dust F is prevented, and also the laser beam L by the dust F is prevented. Strength reduction can be prevented.

続いて、第2レーザ発振器32によりレーザ光Lを照射したときの状態を説明する。図4に示すように、第2レーザ発振器32から出射されたレーザ光Lは、第2レーザ保護ガラス42を上側から通過して、導線21を上側から照射する。   Subsequently, a state when the laser beam L is irradiated by the second laser oscillator 32 will be described. As shown in FIG. 4, the laser light L emitted from the second laser oscillator 32 passes through the second laser protection glass 42 from above and irradiates the conductive wire 21 from above.

レーザ光Lの照射により導線21の被照射部分21aの絶縁膜を剥離する際に、粉塵Fが発生する。粉塵Fは、上昇気流の影響により、第2レーザ保護ガラス42に到達するまで上昇する。図4では、分かりやすくするために、粉塵Fの量を多く描いている。このとき、第2レーザ保護ガラス42は、粉塵Fの第2レーザ発振器32への進入を防止する。したがって、第2レーザ発振器32が粉塵Fにより故障することを防止できる。   When the insulating film of the irradiated portion 21a of the conducting wire 21 is peeled off by irradiation with the laser light L, dust F is generated. The dust F rises until it reaches the second laser protection glass 42 due to the influence of the rising airflow. In FIG. 4, the amount of dust F is drawn in a large amount for easy understanding. At this time, the second laser protection glass 42 prevents the dust F from entering the second laser oscillator 32. Therefore, it is possible to prevent the second laser oscillator 32 from being damaged by the dust F.

さらに、第2粉塵除去部52のブロワ55は、第2レーザ保護ガラス42の一面42aにエアを吹き付け、第2粉塵除去部52のバキューム56は、第2レーザ保護ガラス42の一面42aの粉塵Fを吸引する。これにより、粉塵Fが第2レーザ保護ガラス42の一面42aに到達しても、第2粉塵除去部52により、上昇した粉塵Fを除去できて、粉塵Fが第2レーザ保護ガラス42の一面42aに付着することを防止する。したがって、粉塵Fがレーザ光Lの光路を遮らない。   Further, the blower 55 of the second dust removing unit 52 blows air to the one surface 42a of the second laser protection glass 42, and the vacuum 56 of the second dust removing unit 52 is a dust F on the one surface 42a of the second laser protection glass 42. Aspirate. Thereby, even if the dust F reaches the one surface 42 a of the second laser protective glass 42, the raised dust F can be removed by the second dust removing unit 52, and the dust F is one surface 42 a of the second laser protective glass 42. Prevents from adhering to. Therefore, the dust F does not block the optical path of the laser light L.

このように、粉塵対策装置1は、第2レーザ保護ガラス42および第2粉塵除去部52を有するので、粉塵Fによる第2レーザ発振器32の故障を防止し、さらに、粉塵Fによるレーザ光Lの強度低下を防止できる。   Thus, since the dust countermeasure apparatus 1 has the 2nd laser protection glass 42 and the 2nd dust removal part 52, the failure of the 2nd laser oscillator 32 by the dust F is prevented, and also the laser beam L by the dust F is prevented. Strength reduction can be prevented.

そして、第2鍔部12の第2電極15に接続される導線21の接続位置の絶縁膜をそれぞれ全周剥離する。具体的に述べると、導線21の接続位置を、コア支持部60により、第1、第2レーザ発振器31,32のレーザ光Lの照射範囲に移動させ、第1、第2レーザ発振器31,32からレーザ光Lを照射して、導線21の被照射部分21aの絶縁膜を全周剥離する。レーザ光Lを照射する際、導線21の接続位置は、導線保持部80により、第2電極15から離隔した状態に保持される。第1、第2レーザ発振器31,32によりレーザ光Lを照射したときの状態は、上述の図3、図4で説明した通りである。   And the insulating film of the connection position of the conducting wire 21 connected to the 2nd electrode 15 of the 2nd collar part 12 is each peeled all around. More specifically, the connection position of the conducting wire 21 is moved to the irradiation range of the laser light L of the first and second laser oscillators 31 and 32 by the core support portion 60, and the first and second laser oscillators 31 and 32 are moved. Then, the insulating film of the irradiated portion 21a of the conducting wire 21 is peeled all around by irradiating the laser beam L. When irradiating the laser beam L, the connection position of the conducting wire 21 is held in a state separated from the second electrode 15 by the conducting wire holding unit 80. The state when the first and second laser oscillators 31 and 32 irradiate the laser beam L is as described with reference to FIGS.

図5Aに示すように、第1電極14に対向する導線21の被照射部分21aは、導線保持部80により、第1電極14から離隔した状態にある。その後、図5Bに示すように、折曲部82を固定部81側に折り曲げて、導線21の被照射部分21aを第1電極14に接触させる。そして、図5Cに示すように、導線21の被照射部分21aと第1電極14とを、レーザ溶接によって接続して、導線21に接続部21bを形成する。このとき、導線21の余分なリード部21cは、折曲部82の弾性などにより、接続部21bから離隔する。図5Bと図5Cに示す工程は、コア10をコア支持部60から取り外して行ってもよく、または、コア10をコア支持部60に取り付けたまま行ってもよい。なお、第2電極15に対向する導線21の被照射部分21aについても、同様の工程を行う。   As shown in FIG. 5A, the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21 facing the first electrode 14 is in a state separated from the first electrode 14 by the conducting wire holding unit 80. Thereafter, as shown in FIG. 5B, the bent portion 82 is bent toward the fixed portion 81, and the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21 is brought into contact with the first electrode 14. Then, as shown in FIG. 5C, the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21 and the first electrode 14 are connected by laser welding to form a connecting portion 21 b on the conducting wire 21. At this time, the excessive lead portion 21c of the conducting wire 21 is separated from the connection portion 21b due to the elasticity of the bent portion 82 or the like. 5B and 5C may be performed with the core 10 removed from the core support 60, or may be performed with the core 10 attached to the core support 60. The same process is performed on the irradiated portion 21a of the conducting wire 21 that faces the second electrode 15.

最後に、導線保持部80の折曲部82を切断して、折曲部82とともにリード部21cを除去する。これにより、コイル部品を製造する。   Finally, the bent portion 82 of the conductor holding portion 80 is cut, and the lead portion 21 c is removed together with the bent portion 82. Thereby, a coil component is manufactured.

前記粉塵対策装置1によれば、第1、第2レーザ保護ガラス41,42を有するので、粉塵が第1、第2レーザ発振器31,32に進入することを防止する。したがって、第1、第2レーザ発振器31,32が粉塵により故障することを防止できる。   According to the dust countermeasure apparatus 1, since the first and second laser protection glasses 41 and 42 are provided, the dust is prevented from entering the first and second laser oscillators 31 and 32. Therefore, it is possible to prevent the first and second laser oscillators 31 and 32 from being damaged by dust.

また、第1、第2粉塵除去部51,52を有するので、粉塵が第1、第2レーザ保護ガラス41,42の一面41a,42aに付着することを防止する。したがって、粉塵がレーザ光Lの光路を遮らない。   Moreover, since it has the 1st, 2nd dust removal parts 51 and 52, it prevents that dust adheres to one surface 41a, 42a of the 1st, 2nd laser protection glass 41,42. Therefore, dust does not block the optical path of the laser beam L.

したがって、粉塵による第1、第2レーザ発振器31,32の故障を防止し、さらに、粉塵によるレーザ光Lの強度低下を防止できる。   Therefore, failure of the first and second laser oscillators 31 and 32 due to dust can be prevented, and further, a decrease in intensity of the laser light L due to dust can be prevented.

(第2実施形態)
図6は、本発明の粉塵対策装置の第2実施形態を示す簡略構成図である。第2実施形態は、第1実施形態とは、第1レーザ発振器の位置が相違する。この相違する構成を以下に説明する。なお、第2実施形態において、第1実施形態と同一の符号は、第1実施形態と同じ構成であるため、その説明を省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is a simplified configuration diagram showing a second embodiment of the dust countermeasure apparatus of the present invention. The second embodiment is different from the first embodiment in the position of the first laser oscillator. This different configuration will be described below. Note that in the second embodiment, the same reference numerals as those in the first embodiment have the same configurations as those in the first embodiment, and a description thereof will be omitted.

図6に示すように、第1レーザ発振器31のレーザ光Lの出射孔31aは、導線21の被照射部分21aの直下(矢印Z方向)と重ならずにずれた位置にある。つまり、レーザ光Lの光軸は、被照射部分21aの直下方向(矢印Z方向)に一致せず、矢印Z方向と交差する。   As shown in FIG. 6, the emission hole 31 a of the laser beam L of the first laser oscillator 31 is located at a position that does not overlap with the portion directly below the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21 (in the arrow Z direction). That is, the optical axis of the laser beam L does not coincide with the direction directly below the irradiated portion 21a (arrow Z direction) and intersects the arrow Z direction.

これにより、第1レーザ発振器31のレーザ光Lを導線21の被照射部分21aの斜め下方から照射することができる。したがって、粉塵が第1レーザ発振器31の出射孔31aの直上に落下せず、レーザ光Lの強度低下を防止できる。   Thereby, the laser beam L of the first laser oscillator 31 can be irradiated obliquely from below the irradiated portion 21 a of the conducting wire 21. Therefore, dust does not fall directly above the emission hole 31a of the first laser oscillator 31, and the intensity of the laser light L can be prevented from being lowered.

なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計変更可能である。例えば、第1から第2実施形態のそれぞれの特徴点を様々に組み合わせてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and the design can be changed without departing from the gist of the present invention. For example, the feature points of the first to second embodiments may be variously combined.

前記実施形態では、上下の2つのレーザ発振器を用いているが、下側の第1レーザ発振器または上側の第2レーザ発振器の何れかを用いてもよい。このとき、好ましくは、1つのレーザ発振器により、導線の一部に向けてレーザ照射し導線の周方向の略半分を剥離した後に、絶縁膜が剥離された側を反転させて絶縁膜が残っている側をレーザ発振器に対向させて再度レーザ照射し残っている絶縁膜を剥離して全周を剥離する。   In the above embodiment, the upper and lower laser oscillators are used, but either the lower first laser oscillator or the upper second laser oscillator may be used. At this time, it is preferable that the laser beam is irradiated toward a part of the conducting wire by one laser oscillator and the half of the circumferential direction of the conducting wire is peeled off, and then the side on which the insulating film is peeled is reversed to leave the insulating film. The remaining insulating film is peeled off by irradiating the laser again with the laser beam facing the laser oscillator, and the entire circumference is peeled off.

前記実施形態では、2つのレーザ発振器を上下に配置しているが、2つのレーザ発振器を、水平方向に配置するようにしてもよい。このとき、好ましくは、2つのレーザ発振器を、導線の被照射部分に対して対向するように配置する。   In the embodiment, the two laser oscillators are arranged above and below, but the two laser oscillators may be arranged in the horizontal direction. At this time, preferably, the two laser oscillators are disposed so as to face the irradiated portion of the conducting wire.

前記実施形態では、1本の導線をコアに巻き回しているが、2本以上の導線をコアに巻き回すようにしてもよい。また、前記実施形態では、導線保持部は、板金から構成されているが、この構成に限定されない。   In the above-described embodiment, one conductor is wound around the core, but two or more conductors may be wound around the core. Moreover, in the said embodiment, although the conducting wire holding part is comprised from the sheet metal, it is not limited to this structure.

前記実施形態では、導線の絶縁膜の全周を剥離して、導線と第1電極、第2電極を接続しているが、導線の絶縁膜の周方向の略半分のみを剥離して、導線と第1電極、第2電極を接続してもよい。   In the above embodiment, the entire circumference of the insulating film of the conducting wire is peeled to connect the conducting wire to the first electrode and the second electrode. However, only about half of the circumferential direction of the insulating film of the conducting wire is peeled off to obtain the conducting wire. And the first electrode and the second electrode may be connected.

1 粉塵対策装置
10 コア
11 第1鍔部
12 第2鍔部
13 巻芯部
14 第1電極
15 第2電極
21 導線
21a 被照射部分
31 第1レーザ発振器
31a 出射孔
32 第2レーザ発振器
32a 出射孔
41 第1レーザ保護ガラス
41a 一面
42 第2レーザ保護ガラス
42a 一面
51 第1粉塵除去部
52 第2粉塵除去部
55 ブロワ
56 バキューム
60 コア支持部
70 ベース板
71 貫通孔
80 導線保持部
81 固定部
82 折曲部
82a 係止部
F 粉塵
L レーザ光
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dust countermeasure apparatus 10 Core 11 1st collar part 12 2nd collar part 13 Core part 14 1st electrode 15 2nd electrode 21 Conductor 21a Irradiation part 31 1st laser oscillator 31a Output hole 32 2nd laser oscillator 32a Output hole 41 1st laser protection glass 41a 1 surface 42 2nd laser protection glass 42a 1 surface 51 1st dust removal part 52 2nd dust removal part 55 Blower 56 Vacuum 60 Core support part 70 Base board 71 Through-hole 80 Conductive wire holding part 81 Fixing part 82 Bending part 82a Locking part F Dust L Laser light

Claims (4)

コアを支持するコア支持部と、
前記コアに巻き回されると共に導体を絶縁膜で覆われてなる導線にレーザ光を照射して前記導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、
前記導線におけるレーザ光が照射される被照射部分と前記レーザ発振器との間に配置され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、
前記レーザ保護ガラスにおける前記導線側の一面に気流を発生させ、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引して、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を除去する粉塵除去部と
を備え、
前記レーザ保護ガラスは、前記導線の被照射部分の下側に配置され、前記レーザ発振器は、前記レーザ保護ガラスの下側に配置され、
前記レーザ発振器のレーザ光の出射孔は、前記導線の被照射部分の直下と重ならずにずれた位置にある、粉塵対策装置。
A core support for supporting the core;
A laser oscillator that wraps around the core and irradiates a conductor wire covered with an insulating film with a laser beam to peel off at least a part of the insulating film of the conductor wire;
A laser protective glass that is disposed between an irradiated portion irradiated with laser light in the conductive wire and the laser oscillator, and transmits laser light emitted from the laser oscillator;
An air flow is generated on one surface of the laser protective glass on the conductive wire side, the dust on the one surface of the laser protective glass is sucked, and a dust removing unit for removing the dust on the one surface of the laser protective glass is provided.
The laser protective glass is disposed below the irradiated portion of the conducting wire, the laser oscillator is disposed below the laser protective glass,
The laser beam emitting hole of the laser oscillator is a dust countermeasure device in a position shifted without overlapping with a portion directly under the irradiated portion of the conducting wire.
前記レーザ発振器は、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器とを有し、
前記第1レーザ発振器と前記第2レーザ発振器とは、前記導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されている、請求項1に記載の粉塵対策装置。
The laser oscillator includes a first laser oscillator and a second laser oscillator,
2. The dust countermeasure device according to claim 1, wherein the first laser oscillator and the second laser oscillator are arranged at positions facing each other with respect to an irradiated portion of the conducting wire.
コアを支持するコア支持部と、
前記コアに巻き回されると共に導体を絶縁膜で覆われてなる導線にレーザ光を照射して前記導線の絶縁膜の少なくとも一部を剥離するレーザ発振器と、
前記導線におけるレーザ光が照射される被照射部分と前記レーザ発振器との間に配置され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を透過させるレーザ保護ガラスと、
前記レーザ保護ガラスにおける前記導線側の一面に気流を発生させ、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引して、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を除去する粉塵除去部と
を備え、
前記レーザ発振器は、第1レーザ発振器と第2レーザ発振器とを有し、
前記第1レーザ発振器と前記第2レーザ発振器とは、前記導線の被照射部分に対して互いに対向する位置に配置されている、粉塵対策装置。
A core support for supporting the core;
A laser oscillator that wraps around the core and irradiates a conductor wire covered with an insulating film with a laser beam to peel off at least a part of the insulating film of the conductor wire;
A laser protective glass that is disposed between an irradiated portion irradiated with laser light in the conductive wire and the laser oscillator, and transmits laser light emitted from the laser oscillator;
An air flow is generated on one surface of the laser protective glass on the conductive wire side, the dust on the one surface of the laser protective glass is sucked, and a dust removing unit for removing the dust on the one surface of the laser protective glass is provided.
The laser oscillator includes a first laser oscillator and a second laser oscillator,
The said 1st laser oscillator and the said 2nd laser oscillator are dust countermeasure apparatuses arrange | positioned in the position which mutually opposes with respect to the to-be-irradiated part of the said conducting wire.
前記粉塵除去部は、前記レーザ保護ガラスの前記一面にエアを吹き付けるブロワと、前記レーザ保護ガラスの前記一面の粉塵を吸引するバキュームとを有する、請求項1からの何れか一つに記載の粉塵対策装置。 The said dust removal part has a blower which blows air on the said one surface of the said laser protective glass, and a vacuum which attracts | sucks the dust of the said one surface of the said laser protective glass, It is any one of Claim 1 to 3 Dust countermeasure device.
JP2016145433A 2016-07-25 2016-07-25 Dust countermeasure device Active JP6583176B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016145433A JP6583176B2 (en) 2016-07-25 2016-07-25 Dust countermeasure device
CN201710499200.XA CN107658125B (en) 2016-07-25 2017-06-27 Dust countermeasure device
TW106121537A TWI660378B (en) 2016-07-25 2017-06-28 Dust countermeasure device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016145433A JP6583176B2 (en) 2016-07-25 2016-07-25 Dust countermeasure device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018015765A JP2018015765A (en) 2018-02-01
JP6583176B2 true JP6583176B2 (en) 2019-10-02

Family

ID=61075485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016145433A Active JP6583176B2 (en) 2016-07-25 2016-07-25 Dust countermeasure device

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6583176B2 (en)
CN (1) CN107658125B (en)
TW (1) TWI660378B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7469243B2 (en) 2021-03-02 2024-04-16 株式会社日立産機システム Manufacturing method of electrical equipment

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52114493U (en) * 1976-02-27 1977-08-31
JP2585652B2 (en) * 1987-12-04 1997-02-26 宮本 勇 Ceramic joining method
JPH01114188U (en) * 1988-01-25 1989-08-01
JPH0437491A (en) * 1990-05-31 1992-02-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for peeling heat resistant resin film
AU709049B2 (en) * 1996-02-12 1999-08-19 Smartrac Ip B.V. Process and device for contacting a wire conductor
JP3630065B2 (en) * 2000-03-03 2005-03-16 株式会社村田製作所 Ceramic green sheet manufacturing method and ceramic green sheet manufacturing apparatus
JP3496203B2 (en) * 2000-08-31 2004-02-09 住友重機械工業株式会社 Processed lens protection mechanism and method
JP2005211908A (en) * 2004-01-27 2005-08-11 Phoeton Corp Wire stripper device
JP5194367B2 (en) * 2006-02-20 2013-05-08 日産自動車株式会社 Laser processing head and laser processing method
JP4836056B2 (en) * 2008-03-17 2011-12-14 Tdk株式会社 Coil component manufacturing method and coil component manufacturing apparatus
JP5305223B2 (en) * 2008-06-26 2013-10-02 Tdk株式会社 Method for stripping insulated conductors
JP5392947B2 (en) * 2009-09-13 2014-01-22 株式会社エイシン技研 Winding body cutting device
EP2395522B1 (en) * 2010-06-08 2017-08-09 ABB Schweiz AG Method for manufacture of transformer cores, a method for manufacture of a transformer having such core
FI126588B2 (en) * 2013-08-20 2019-07-15 Outokumpu Oy Method for removing dust and sulphur oxides from process gases

Also Published As

Publication number Publication date
TWI660378B (en) 2019-05-21
CN107658125A (en) 2018-02-02
JP2018015765A (en) 2018-02-01
CN107658125B (en) 2020-04-28
TW201804486A (en) 2018-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI458411B (en) Method for manufacturing printed circuit board
JP4970292B2 (en) Electronic component repair method, repair device, and wiring board unit
US10553340B2 (en) Coil component
US9232643B2 (en) Ceramic wiring board, multi-piece ceramic wiring board, and method for producing same
US20210090967A1 (en) Electronic device and method for manufacturing same
JP4275120B2 (en) Coil parts manufacturing method and manufacturing apparatus
JP2009164310A (en) Electronic parts repair equipment and electronic parts repairing method
JP6583176B2 (en) Dust countermeasure device
JP2018192515A (en) Bonding structure of thin metal plate and substrate and welding method of thin metal plate and substrate
KR20090097103A (en) Excimer lamp and method for manufacturing the excimer lamp
US10957836B2 (en) Printed board and light emitting device
JP2007151319A (en) Covering stripping apparatus and covering stripping method
JP6776801B2 (en) Electronic device and its manufacturing method
JP6596393B2 (en) Coil parts manufacturing equipment
JP5305223B2 (en) Method for stripping insulated conductors
US20230093320A1 (en) Coil device, pulse transformer, and electronic component
JP2014027032A (en) Method of manufacturing thin film solar cell module
JP2000023428A (en) Method for removing insulation coating from coil end
JP2021044890A (en) Method for joining conductive wire
JP2013140876A (en) Manufacturing method of electronic device, electronic device, piezoelectric oscillator, and electronic apparatus
JP7458582B2 (en) Method for manufacturing a light emitting device
JP6809049B2 (en) How to inspect the light emitting device
US9806434B2 (en) Coaxial cable connection structure
JP2022175884A (en) Laser welding method and laser welding device
JP2018133385A (en) Light-emitting device, mounting substrate, and light-emitting body

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180911

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180912

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180925

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190226

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190313

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190806

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190819

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6583176

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150