JP6581417B2 - 露光装置、露光方法及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
例えば、図2(a)や図2(b)に示す第1ショット領域22に対して図4に示す手法で走査露光を行った場合、図14を参照すると、第2ショット領域21に対しては、図5又は図8に示す手法で走査露光を行う必要がある。但し、処理時間を考慮すると、図5に示す手法で第2ショット領域21を走査露光するとよい。また、第3ショット領域20に対しては、図14を参照すると、図3又は図10に示す手法で走査露光を行う必要がある。但し、処理時間を考慮すると、図3に示す手法で第3ショット領域20を走査露光するとよい。なお、第1ショット領域22に対して図6に示す手法で走査露光を行った場合も同様に、第2ショット領域21及び第3ショット領域20のそれぞれに対して走査露光を行う際の手法を決定することができる。
Claims (15)
- マスクと基板とを走査方向に走査しながら前記基板を露光する走査露光を行う走査型の露光装置であって、
光源からの光を整形するための開口を形成するブレードと、
前記ブレードに対して前記走査方向に沿って移動可能に設けられ、前記開口を通過した光の前記走査方向の幅を規定する1つの遮蔽板と、
前記基板上に前記走査方向に沿って、第1ショット領域、第2ショット領域、及び、第3ショット領域の順に行われる前記走査露光を制御する制御部と、
を有し、
前記第2ショット領域は、前記走査方向に沿って、前記第1ショット領域に重なり合う第1つなぎ領域と、前記第3ショット領域に重なり合う第2つなぎ領域とを含み、
前記制御部は、前記遮蔽板を移動させながら前記第2ショット領域に対して前記走査露光を行う際に、前記第2ショット領域の露光量を制御するために、前記第2ショット領域の前記第1ショット領域の側の前記第1つなぎ領域の走査露光時と前記第2ショット領域の前記第3ショット領域の側の前記第2つなぎ領域の走査露光時とで前記遮蔽板の移動方向が異なるように、前記遮蔽板の移動を制御することを特徴とする露光装置。 - 前記遮蔽板は、前記走査方向において、前記開口を遮蔽しない第1位置から、前記開口を挟んで前記第1位置とは異なる、前記開口を遮蔽しない第2位置に移動可能なストロークを有することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記第2ショット領域に対して前記走査露光を行う際に、前記第1ショット領域の側の前記第1つなぎ領域の走査露光時には前記幅が増加するように前記遮蔽板を前記走査方向に沿って第1方向に移動させ、且つ、前記第3ショット領域の側の前記第2つなぎ領域の走査露光時には前記幅が減少するように前記遮蔽板を前記走査方向に沿って前記第1方向とは逆の第2方向に移動させるように、前記遮蔽板の移動を制御することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記第1つなぎ領域は、前記第1ショット領域に対して前記走査露光を行う際にも露光され、
前記第2つなぎ領域は、前記第3ショット領域に対して前記走査露光を行う際にも露光されることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。 - 前記制御部は、
前記第1つなぎ領域の走査露光の開始前に、前記遮蔽板が前記開口を遮蔽して前記基板の露光量がゼロとなる遮蔽状態となるように前記遮蔽板を位置決めし、
前記第1つなぎ領域の走査露光を開始してから終了するまでに、前記遮蔽状態から前記基板の露光量が最大となる全開状態となるように、前記遮蔽板を連続的に移動させることを特徴とする請求項3又は4に記載の露光装置。 - 前記制御部は、
前記第1つなぎ領域の走査露光の終了後、前記第2つなぎ領域の走査露光が開始されるまで、前記全開状態を維持し、
前記第2つなぎ領域の走査露光が開始されてから終了するまでに、前記全開状態から前記遮蔽状態となるように、前記遮蔽板を連続的に移動させることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。 - 前記制御部は、
前記第1つなぎ領域の走査露光を行う期間において、前記遮蔽板を等速で移動させ、
前記第2つなぎ領域の走査露光を行う期間において、前記遮蔽板を等速で移動させることを特徴とする請求項3乃至6のうちいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記制御部は、前記マスク及び前記基板の走査方向及び走査速度のうちの少なくとも一方に基づいて、前記第1つなぎ領域の走査露光を行う期間における前記遮蔽板の移動速度と、前記第2つなぎ領域の走査露光を行う期間における前記遮蔽板の移動速度とを異ならせることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記第2ショット領域に対して前記走査露光を行う際に、前記遮蔽板の同一のエッジで前記開口を遮蔽するように、前記遮蔽板の移動を制御することを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記基板上の全てのショット領域に対して前記走査露光を行う際の前記基板の移動距離に基づいて、前記全てのショット領域に対して前記走査露光を行うのに要する時間が最も短くなるように、前記全てのショット領域に対して前記走査露光を行う際の前記遮蔽板の移動方向を決定することを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記第1つなぎ領域の露光量と前記第1ショット領域の前記第2ショット領域の側のつなぎ領域の露光量との和、及び、前記第2つなぎ領域の露光量と前記第3ショット領域の前記第2ショット領域の側のつなぎ領域の露光量との和が、前記全開状態での前記基板の露光量と等しくなるように、前記遮蔽板の移動を制御する請求項5に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記第1つなぎ領域の走査露光時には前記遮蔽板の第1エッジで前記開口を遮蔽し、前記第1ショット領域の前記第2ショット領域の側のつなぎ領域の走査露光時には前記遮蔽板の前記第1エッジとは反対側の第2エッジで前記開口を遮蔽するように、前記遮蔽板の移動を制御することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記制御部は、前記第2つなぎ領域の走査露光時には前記遮蔽板の第3エッジで前記開口を遮蔽し、前記第3ショット領域の前記第2ショット領域の側のつなぎ領域の走査露光時には前記遮蔽板の前記第3エッジとは反対側の第4エッジで前記開口を遮蔽するように、前記遮蔽板の移動を制御することを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- マスクと基板とを走査方向に走査しながら前記基板を露光する走査露光を行う露光方法であって、
光源からの光を整形するための開口を形成するブレードに対して前記走査方向に沿って移動可能に設けられ、前記開口を通過した光の前記走査方向の幅を規定する1つの遮蔽板を用いて、前記基板上に前記走査方向に沿って、第1ショット領域、第2ショット領域、及び、第3ショット領域の順に行われる前記走査露光を制御する工程を有し、
前記第2ショット領域は、前記走査方向に沿って、前記第1ショット領域に重なり合う第1つなぎ領域と、前記第3ショット領域に重なり合う第2つなぎ領域とを含み、
前記工程では、前記遮蔽板を移動させながら前記第2ショット領域に対して前記走査露光を行う際に、前記第2ショット領域の露光量を制御するために、前記第2ショット領域の前記第1ショット領域の側の前記第1つなぎ領域の走査露光時と前記第2ショット領域の前記第3ショット領域の側の前記第2つなぎ領域の走査露光時とで前記遮蔽板の移動方向が異なるように、前記遮蔽板の移動を制御することを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至13のうちいずれか1項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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JP2015149811A JP6581417B2 (ja) | 2015-07-29 | 2015-07-29 | 露光装置、露光方法及び物品の製造方法 |
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JP7381279B2 (ja) * | 2019-10-02 | 2023-11-15 | キヤノン株式会社 | 露光方法 |
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