JP6576712B2 - マイクロ波プラズマ生成装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ生成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6576712B2 JP6576712B2 JP2015130939A JP2015130939A JP6576712B2 JP 6576712 B2 JP6576712 B2 JP 6576712B2 JP 2015130939 A JP2015130939 A JP 2015130939A JP 2015130939 A JP2015130939 A JP 2015130939A JP 6576712 B2 JP6576712 B2 JP 6576712B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide
- microwave
- microwave plasma
- upstream
- downstream
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
ωce=2πf=eB/me ・・・(i)
[式(i)中、eは素電荷、meは電子の質量。]
式(i)を展開すると、B=f/28となる。例えば、マイクロ波の周波数が2.45GHzの場合、スロット位置には87.5mTの磁束密度が必要になる。また、マイクロ波の周波数が915MHzの場合、スロット位置には32.7mTの磁束密度が必要になる。
[マイクロ波プラズマ生成装置の構成]
まず、本実施形態のマイクロ波プラズマ生成装置の構成について説明する。図1に、本実施形態のマイクロ波プラズマ生成装置を備えるマイクロ波プラズマ処理装置を上方から見た断面図を示す。図2に、同マイクロ波プラズマ生成装置の前面図を示す。図3に、図2のIII−III断面図を示す。図1〜図3に示すように、マイクロ波プラズマ処理装置8は、真空容器80と、マイクロ波プラズマ生成装置1と、を備えている。
次に、マイクロ波プラズマ生成装置1の動作について説明する。まず、真空排気装置を作動させて、真空容器80の内部のガスを排出し、真空容器80の内部を減圧状態にする。次に、ガス供給管から、所定のガスを真空容器80内へ供給し、真空容器80内の圧力を所定の圧力にする。続いて、マイクロ波伝送部のマイクロ波電源をオンにして、マイクロ波発振器から周波数2.45GHzのマイクロ波を発振する。発振されたマイクロ波は、図1中、白抜き矢印で示すように、上流側第一導波管10Uを通って上流側第三導波管30U内を伝播する。上流側第三導波管30Uの内部には、石英製の第三誘電体31が充填されている。このため、上流側第三導波管30U内において、マイクロ波の波長は変換され短くなる。続いて、マイクロ波は、プラズマ生成部20の第二導波管41内を伝播する。第二導波管41内には、アルミナ製の第二誘電体45が充填されている。このため、第二導波管41内において、マイクロ波の波長はさらに短くなる。第二導波管41を通過したマイクロ波は、下流側第三導波管30Dを通って下流側第一導波管10Dに伝播する。
次に、本実施形態のマイクロ波プラズマ生成装置の作用効果について説明する。マイクロ波プラズマ生成装置1においては、第二導波管41の内部に第二誘電体45が配置されている。これにより、第二導波管41内を伝播するマイクロ波の波長は、上流側第一導波管10U内を伝播する時の波長よりも短くなる。これにより、スロットアンテナ44に多数のスロット440を形成することができるため、スロットアンテナ44の前面全体の電界強度が大きくなる。また、上流側第一導波管10Uと第二導波管41との間には、上流側第三導波管30Uが介在している。上流側第三導波管30U内の第三誘電体31の屈折率は、第二誘電体45の屈折率よりも小さい。よって、上流側第一導波管10Uから伝送されるマイクロ波は、一旦、上流側第三導波管30Uにおいて波長が変換された後に、第二導波管41へ伝送される。波長の変換を二段階で行うことにより、上流側第一導波管10Uから第二導波管41へ直接マイクロ波を伝送する場合と比較して、第二導波管41へ入射する際のマイクロ波の反射を抑制することができる。これにより、マイクロ波のエネルギーが低下するのを抑制することができる。
本実施形態のマイクロ波プラズマ生成装置と、第一実施形態のマイクロ波プラズマ生成装置と、の相違点は、上流側第一導波管および下流側第一導波管を途中で下方に傾斜させた点である。したがって、ここでは相違点を中心に説明する。また、上流側第一導波管の構成と下流側第一導波管の構成とは同じである。したがって、ここでは上流側第一導波管の構成について説明する。
以上、本発明のマイクロ波プラズマ生成装置の実施の形態について説明した。しかしながら、実施の形態は上記形態に限定されるものではない。当業者が行いうる種々の変形的形態、改良的形態で実施することも可能である。
[実施例1]
上記第一実施形態のマイクロ波プラズマ処理装置8を用いて、0.4Paの圧力下におけるマイクロ波プラズマの生成状態を確認した。以下の処理における部材の符号は、前出図1に対応している。
真空容器内に、永久磁石を備えない従来のマイクロ波プラズマ生成装置(前出図5参照)を配置して、実施例1と同じ条件でマイクロ波プラズマを生成させた。以下の処理における部材の符号は、図5に対応している。
マイクロ波の出力を変化させて、実施例1と同様にしてマイクロ波プラズマを生成し、スロットから前方に10mm離間した位置におけるマイクロ波プラズマの電子密度を測定した。電子密度の測定には、ラングミュアプローブを用いた。プローブ電極は、太さ0.2mm、長さ5mmである。プローブ電極に可変電圧を印加して、電極に流れる電流の変化を測定した。図6に、マイクロ波の出力に対する電子密度の測定結果を示す。図6中、グラフの縦軸の「1.00E+08」、「1.00E+09」、「1.00E+10」は、順に「1.00×108」、「1.00×109」、「1.00×1010」を意味する。図6に示すように、マイクロ波の出力が1.0〜2.0kWにおいて、108cm−3以上の電子密度が実現されていた。
Claims (7)
- 真空容器内のガスを電離してマイクロ波プラズマを生成するマイクロ波プラズマ生成装置であって、
マイクロ波を伝送する第一導波管と、
該真空容器内に配置され、磁性体からなる管壁部と、管内部を伝播する該マイクロ波が通過する複数のスロットが形成されたスロットアンテナと、管内部に少なくとも該スロットを覆うように配置される第二誘電体と、を有し一方向に延在する長尺状の第二導波管と、該スロットアンテナのプラズマ生成側を前方として、該第二導波管の外側かつ該スロットアンテナよりも前側に配置され、該スロットアンテナのプラズマ生成側の表面における該スロット位置に電子サイクロトロン共鳴が生じる磁場を形成する磁石と、を有するプラズマ生成部と、
該第一導波管と該第二導波管との間に介在し、管内部に該第二誘電体よりも屈折率が小さい第三誘電体を有する第三導波管と、
を備えることを特徴とするマイクロ波プラズマ生成装置。 - 前記第三導波管は前記真空容器内に配置され、
前記第二導波管の前記管内部および該第三導波管の前記管内部は真空である請求項1に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。 - 前記真空容器内の前記ガスの圧力は、0.05Pa以上20Pa以下である請求項1または請求項2に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。
- 前記第二誘電体は、石英、アルミナ、ジルコニア、窒化アルミニウム、酸化マグネシウムから選ばれる一種である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。
- 前記第二導波管の短手方向断面は矩形状を呈し、前記スロットアンテナは該第二導波管のH面に配置される請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。
- 前記第一導波管は、前記第二導波管の上流側に配置される上流側第一導波管と、下流側に配置される下流側第一導波管とを有し、
該上流側第一導波管および該下流側第一導波管は、該第二導波管を挟んで対称なL字状に配置され、
前記第三導波管は、少なくとも該上流側第一導波管と該第二導波管との間に介在する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。 - 前記下流側第一導波管は、終端位置を変化させる終端調整部材を有する請求項6に記載のマイクロ波プラズマ生成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015130939A JP6576712B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | マイクロ波プラズマ生成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015130939A JP6576712B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | マイクロ波プラズマ生成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017016828A JP2017016828A (ja) | 2017-01-19 |
JP6576712B2 true JP6576712B2 (ja) | 2019-09-18 |
Family
ID=57830807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015130939A Active JP6576712B2 (ja) | 2015-06-30 | 2015-06-30 | マイクロ波プラズマ生成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6576712B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102164480B1 (ko) * | 2019-02-14 | 2020-10-13 | 주식회사 쌤빛 | 개선된 ecr 균일 플라즈마 발생 장치 |
KR102164479B1 (ko) * | 2019-02-14 | 2020-10-13 | 주식회사 쌤빛 | 2개의 독립적인 마이크로파 제너레이터를 이용한 선형 ecr 플라즈마 발생 장치 |
KR102382759B1 (ko) * | 2020-03-30 | 2022-04-05 | 심승술 | Ecr 플라즈마 생성장치 및 이를 포함하는 중성입자 생성장치 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5837680B2 (ja) * | 1979-03-06 | 1983-08-17 | 理化学研究所 | 電子サイクロトロン共鳴プラズマ発生装置 |
JPH02144837A (ja) * | 1988-11-25 | 1990-06-04 | Erionikusu:Kk | スロットアンテナ |
US5714009A (en) * | 1995-01-11 | 1998-02-03 | Deposition Sciences, Inc. | Apparatus for generating large distributed plasmas by means of plasma-guided microwave power |
US7305935B1 (en) * | 2004-08-25 | 2007-12-11 | The United States Of America As Represented By The Administration Of Nasa | Slotted antenna waveguide plasma source |
JP2010092781A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Adtec Plasma Technology Co Ltd | プラズマ発生装置 |
WO2010140526A1 (ja) * | 2009-06-01 | 2010-12-09 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の給電方法 |
JP2011103257A (ja) * | 2009-11-11 | 2011-05-26 | Kochi Univ Of Technology | プラズマ発生装置及び成膜装置、エッチング装置、表面処理装置、イオン注入装置 |
JP2013108116A (ja) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Tokai Rubber Ind Ltd | プラズマ改質成膜装置 |
JP2014127267A (ja) * | 2012-12-25 | 2014-07-07 | Tokai Rubber Ind Ltd | マイクロ波プラズマ生成装置 |
-
2015
- 2015-06-30 JP JP2015130939A patent/JP6576712B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017016828A (ja) | 2017-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9506142B2 (en) | High density microwave plasma generation apparatus, and magnetron sputtering deposition system using the same | |
JP5747231B2 (ja) | プラズマ生成装置およびプラズマ処理装置 | |
US8039772B2 (en) | Microwave resonance plasma generating apparatus and plasma processing system having the same | |
JP5631088B2 (ja) | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | |
EP1976346A1 (en) | Apparatus for generating a plasma | |
JP6576712B2 (ja) | マイクロ波プラズマ生成装置 | |
JP5103223B2 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理装置の使用方法 | |
KR20100134629A (ko) | 고주파 안테나 유닛 및 플라즈마 처리장치 | |
WO2016136669A1 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
KR101256850B1 (ko) | 마이크로파 플라즈마 처리 장치 | |
JP2003086581A (ja) | 大面積プラズマ生成用アンテナ | |
WO2014103604A1 (ja) | マイクロ波プラズマ生成装置 | |
JP5686996B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP5798454B2 (ja) | マイクロ波プラズマ改質方法 | |
JP5829045B2 (ja) | マイクロ波プラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置 | |
JP6644617B2 (ja) | マグネトロンスパッタ成膜装置 | |
JP2009146837A (ja) | 表面波励起プラズマ処理装置 | |
US9307626B2 (en) | System for generating electromagnetic waveforms, subatomic paticles, substantially charge-less particles, and/or magnetic waves with substantially no electric field | |
JP5883274B2 (ja) | Ecrプラズマ生成装置、およびそれを用いたマグネトロンスパッタ成膜装置 | |
US11152193B2 (en) | Plasma generation apparatus | |
WO2014119653A1 (ja) | スパッタ成膜装置 | |
US10984989B2 (en) | Charge neutralizer and plasma generator | |
Tong et al. | Simulation Study of Microwave Microplasmas based on Microstrip Technology | |
Yukishige et al. | LOW-PRESSURE MICRO PLASMA GENERATION USING MICROWAVE IN A MIRROR MAGNETIC FIELD | |
JP2005336575A (ja) | 中空体容器用プラズマ成膜装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180305 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190129 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190329 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190730 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190821 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6576712 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |