JP6571802B2 - リソグラフィ装置、制御方法、及びコンピュータプログラム製品 - Google Patents
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Description
[001] 本願は2015年7月3日に提出された欧州特許出願第15175164.1号の優先権を主張するものであり、同出願は参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
・前述のパターンを適用する前に基板の全体にわたる多くの箇所で基板表面の高さに関係する測定信号を得るために動作可能なレベルセンサと、
・その測定信号を用いて基板の高さマップを表すデータを導出するプロセッサと、
・前述のパターンを1つ以上のターゲット箇所で基板に適用するときに、前述の高さマップデータを用いて前述の投影システムの合焦を制御するように構成されたコントローラと、
を含み、このプロセッサ及びコントローラはさらに、測定信号を直接的又は間接的に用いて基板表面上の高さ異常を識別するように、且つ投影システムの合焦を制御するときにそれらの高さ異常を少なくとも部分的に軽視するように構成されている。
・基板の高さマップを得ることと、
・その高さマップを用いて基板へのパターンの結像を制御し、その一方で高さ異常を少なくとも部分的に軽視することと、
を備える。
・基板の高さマップを得ることと、
・その高さマップを用いて基板へのパターンの結像を制御し、その一方で、得られた高さマップに表された高さ異常を少なくとも部分的に無視するステップと、
を備える。
いかなる手段であれ、プロセッサは、高さマップのうち図4(a)の領域Bのような領域を識別し、これらの領域を結像プロセスの制御において軽視されるべき高さ異常として識別する。
Claims (8)
- 基板上でのパターンの結像を制御する方法であって、
・前記基板の高さマップを得るステップと、
・前記高さマップから高さ異常領域を識別するステップと、
・前記高さマップを用いて前記基板への前記パターンの前記結像を制御するステップと、
・オーバーレイマップを生成し、前記高さマップ及び識別された前記高さ異常領域を用いてオーバーレイ異常領域を識別し、
・オーバーレイ異常を少なくとも部分的に無視する工程、
・前記オーバーレイマップの前記オーバーレイ異常領域のオーバーレイ値又はベクトルを、前記オーバーレイ異常領域に隣り合う箇所のオーバーレイ値又はベクトルから導出された値又はベクトルによって置換する工程、
・モデル化された高さ異常を前記オーバーレイマップのオーバーレイ値又はベクトルから減算する工程、又は
・前記オーバーレイ異常領域のオーバーレイ値又はベクトルに減少された重みを適用する工程
のうちいずれか1つによって前記オーバーレイマップの修正されたバージョンを生成するステップとを備える方法。 - 前記高さマップを用いる前記ステップは、前記高さ異常の表示が少なくとも部分的に除去された、修正されたバージョンの前記高さマップを生成することと、前記修正されたバージョンの前記高さマップを前記結像を制御する際に用いることと、を備える、請求項1に記載の方法。
- 前記高さマップを用いる前記ステップは、前記高さマップの高さ異常領域の高さ値が前記高さ異常領域に隣り合う箇所の高さ値から導出された値によって置換された、修正されたバージョンの前記高さマップを生成することを備える、請求項1に記載の方法。
- 前記高さマップを用いる前記ステップは、モデル化された高さ異常が前記高さマップの高さ値から減算された、修正されたバージョンの前記高さマップを生成することを備える、請求項1に記載の方法。
- 前記高さマップを用いる前記ステップは、前記高さ異常領域の高さ値に減少された重みが適用された、修正されたバージョンの前記高さマップを生成することを備える、請求項1に記載の方法。
- 前記高さマップを用いる前記ステップは、識別された前記高さ異常の箇所を特定する異常マップデータを生成することと、前記異常マップデータを前記高さマップと一緒に使用して特定された前記箇所における前記高さマップの影響を低減するように前記基板上での前記パターンの結像を制御することと、を備える、請求項1乃至5のいずれかに記載の方法。
- 前記オーバーレイマップは、各ベクトルがオーバーレイの大きさ及び方向を示す2次元のベクトルプロットを備える、請求項1乃至6のいずれかに記載の方法。
- 請求項1乃至7のいずれかの方法をリソグラフィ装置に実行させる機械読み取り可能命令を備えたコンピュータプログラム製品。
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