JP6565686B2 - シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
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Description
近年、この分野の発展は目覚ましく、それに対応して、用いられる材料に対しても益々高度な特性が要求される様になっている。即ち、単に耐熱性、耐溶剤性に優れるだけでなく、用途に応じた性能を多数あわせもつことが期待されている。
本発明は、下記の要旨を有する。
1.下記式(1)で表される無水マレイン酸化合物を、無水マレイン酸化合物に対して100質量倍以上の反応溶媒中で光二量化反応させることを特徴とする、式(2)で表される1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸−1,2:3,4−二無水物(1,3−DACBDA)誘導体の製造方法。
2.Rがメチル基である、上記1に記載の製造方法。
3.無水マレイン酸化合物に対して100〜300質量倍の反応溶媒中で光二量化反応させる、上記1又は2に記載の製造方法。
4.反応溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対して150〜250質量倍の反応溶媒中で光二量化反応させる、上記1又は2に記載の製造方法。
5.反応溶媒が、有機カルボン酸のエステル若しくは無水物、又は炭酸エステルである、上記1〜4のいずれかに記載の製造方法。
6.反応溶媒が、酢酸エチル又は炭酸ジメチルである、上記1〜5のいずれかに記載の製造方法。
7.ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンズアルデヒド、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、電子求引性基が置換したベンズアルデヒド、又はアントラキノンからなる増感剤の存在下に行う、上記1〜6のいずれかに記載の製造方法。
8.前記電子求引性基が、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、上記7に記載の製造方法。
9.電子求引性基の数が1〜5である、上記7又は8に記載の製造方法。
10.無水マレイン酸化合物に対し0.1〜20モル%の増感剤を用いる、上記6〜9のいずれかに記載の製造方法。
11.反応温度が0〜20℃である、上記1〜10のいずれかに記載の製造方法。
その具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、1−メチル−n−ブチル、2−メチル−n−ブチル、3−メチル−n−ブチル、1,1−ジメチル−n−プロピル、n−ヘキシル、1−メチル−n−ペンチル、2−メチル−n−ペンチル、1,1−ジメチル−n−ブチル、1−エチル−n−ブチル、1,1,2−トリメチル−n−プロピル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ドデシル、n−エイコシルなどの飽和アルキル基、1−メチルビニル、2−アリル、1−エチルビニル、2−メチルアリル、2−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、3−メチル−3−ブテニル、2−ヘキセニル、4−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、1−エチル−2−ペンテニル、3−ドデセニル、プロパルギル、3−ブチニル、3−メチル−2−プロピニル、9−デシニル等の不飽和アルキル基が挙げられる。
なお、nはノルマルを、iはイソを、sはセカンダリーを、tはターシャリーを、それぞれ表す。
有機カルボン酸のエステルの好ましい例としては、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸n−プロピル、ギ酸i−プロピル、ギ酸n−ブチル、ギ酸i−ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n−プロピル、プロピオン酸i−プロピル、プロピオン酸n−ブチル、プロピオン酸i−ブチルが挙げられる。更に、エチレングリコールジホルメート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジプロピオネートなども使用できる。
また、有機カルボン酸の無水物としては、式:(R1CO)2O(但し、R1は、好ましい態様も含めて上記と同義である。)で表されるものが好ましい。その好ましい具体例は、無水プロピオン酸、酪酸無水物、無水トリフルオロ酢酸、又は無水酢酸である。なかでも、より高回収率で1,3−DACBDAが得られる点から無水酢酸が好ましい。
上記溶媒は、それぞれの1種単独で、又は2種以上を併用してもよいが、単独で使用した場合は、反応後の処理のしやすい利点がある。
本発明において、反応溶媒が、酢酸エチル、炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、又はエチレングリコールジアセテートを含有する場合、原料の無水マレイン酸化合物の溶解度が高いにも拘わらず、生成した1,3−DACBDAの溶解度が低く、目的化合物が結晶として反応中に析出するため、DACBDAからの無水マレイン酸化合物への逆反応やオリゴマー生成等の副反応を抑制することができる。
更に、光化学反応装置として、光源冷却管を石英ガラスからパイレックス(登録商標)ガラスに変えることにより、光源冷却管への着色ポリマー付着や不純物が減少し、CBDA誘導体化合物の収率改善が見られる。
反応温度は、高温になると重合物が副生し、又低温になると無水マレイン酸化合物の溶解度が低下し、生産効率が減少することから、−20〜80℃で行うことが好ましく、更に好ましくは−10〜50℃である。特に0〜20℃では、副生物の生成が大幅に抑制され、高い選択率及び収率で1,3−DACBDAが得られる。
反応時間は、具体的には、通常、1〜200時間、好ましくは1〜100時間、さらに好ましくは、1〜60時間である。
なお、転化率はガスクロマトグラフィーなどで反応液を分析することにより、容易に求めることができる。
なお、反応は、バッチ式又は流通式で行うことができるが、バッチ式が好ましく用いられる。また、反応時の圧力は、常圧でも加圧でもよく、好ましくは、常圧である。
電子求引性基の数としては、1〜10個であるが、1〜5個が好ましく、1〜3個が特に好ましい。
電子求引性基の数が2以上の場合は、電子求引性基は同一でも、それぞれ異なるものであってもよい。また、電子求引性の効果があるカルボニル基がオルト位で架橋するアントラキノンでもよい。
増感剤は、上記のベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、又はベンズアルデヒド誘導体をそれぞれ単独で、あるいは、これらの1種以上を共存させて使用してもよいが、単独で使用した場合には、反応後の処理のし易い。
<GC分析条件>
装置 :GC−2010 Plus(SHIMADZU社製)、
カラム :DB−1(ジーエルサイエンス社製)直径0.25 mm×長さ30 m、膜厚0.25 um、
キャリアガス:He 、検出器:FID 、試料注入量:1 um 、注入口温度:160℃ 、検出器温度:220℃ 、カラム温度:70℃(20min)−40℃/min−220℃(15min) 、スプリット比:1:50 、内部標準物質:乳酸ブチル。
<1H NMR分析条件>
装置 :フーリエ変感型超伝導核磁気共鳴装置(FT−NMR)INOVA−400(Varian社製) 400 MHz、
溶媒:DMSO−d6 、内標準物質:テトラメチルシラン(TMS)。
<融点分析条件>
装置 :DSC1(メトラー・トレド社製)、
温度:35℃−5℃/min−400℃ 、パン:Au(密閉)。
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,3−DM−CBDA ): 1.38 ( s, 6H ), 3.89 ( s, 2H ).
1H NMR ( DMSO−d6, δ ppm ) ( 1,2−DM−CBDA ): 1.37 ( s, 6H ), 3.72 ( s, 2H ).
mp. ( 1,3−DM−CBDA ):316−317℃
以下の表1に示す溶媒、4,4‘−ジクロロベンゾフェノン(DClBP)の添加の有無、シトラコン酸無水物(CA)の仕込量、及び溶媒量を使用して、一連の操作は実施例1と同様に実施した。また、実施例1と同様の方法で、1,3−DM−CBDAと1,2−DM−CBDAの生成比(1,3−DM−CBDA:1,2−DM−CBDA)を算出した。
溶媒、DClBP添加の有無、CA仕込量、溶媒量、及び結果を以下の表に示す。また、ここで得られた反応液の1,3−DM−CBDAと1,2−DM−CBDAの生成比を算出し、実施例1で得られた結果と併せて表に示す。なお、表1中、Neatは無溶媒で行ったことを表す。また、DClBPは、シトラコン酸無水物に対して0.1〜10モル%を使用した。
なお、2014年1月17日に出願された日本特許出願2014−007185号の明細書、特許請求の範囲、及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
Claims (11)
- Rがメチル基である、請求項1に記載の製造方法。
- 無水マレイン酸化合物に対して100〜300質量倍の反応溶媒中で光二量化反応させる、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 反応溶媒の使用量が、無水マレイン酸化合物に対して150〜250質量倍の反応溶媒中で光二量化反応させる、請求項1又は2に記載の製造方法。
- 反応溶媒が、有機カルボン酸のエステル若しくは無水物、又は炭酸エステルである、請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 反応溶媒が、酢酸エチル又は炭酸ジメチルである、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンズアルデヒド、電子求引性基が置換したベンゾフェノン、電子求引性基が置換したアセトフェノン、電子求引性基が置換したベンズアルデヒド、又はアントラキノンからなる増感剤の存在下に行う、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記電子求引性基が、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ニトロ基、シアノ基、及びトリフルオロメチル基からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項7に記載の製造方法。
- 電子求引性基の数が1〜5である、請求項7又は8に記載の製造方法。
- 無水マレイン酸化合物に対し0.1〜20モル%の増感剤を用いる、請求項7〜9のいずれかに記載の製造方法。
- 反応温度が0〜20℃である、請求項1〜10のいずれかに記載の製造方法。
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