JP6537293B2 - X線トールボット干渉計及びx線トールボット干渉計システム - Google Patents
X線トールボット干渉計及びx線トールボット干渉計システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6537293B2 JP6537293B2 JP2015026752A JP2015026752A JP6537293B2 JP 6537293 B2 JP6537293 B2 JP 6537293B2 JP 2015026752 A JP2015026752 A JP 2015026752A JP 2015026752 A JP2015026752 A JP 2015026752A JP 6537293 B2 JP6537293 B2 JP 6537293B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- ray
- source
- analyzer
- talbot interferometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H lead(2+);trioxido(oxo)-$l^{5}-arsane Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][As]([O-])([O-])=O.[O-][As]([O-])([O-])=O LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H 0.000 title claims description 94
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 33
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 23
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 claims description 21
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000011295 pitch Substances 0.000 claims 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 46
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 description 32
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 21
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 21
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 18
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 15
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000013507 mapping Methods 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20075—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials by measuring interferences of X-rays, e.g. Borrmann effect
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/48—Diagnostic techniques
- A61B6/484—Diagnostic techniques involving phase contrast X-ray imaging
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
- G21K1/067—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators using surface reflection, e.g. grazing incidence mirrors, gratings
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2207/00—Particular details of imaging devices or methods using ionizing electromagnetic radiation such as X-rays or gamma rays
- G21K2207/005—Methods and devices obtaining contrast from non-absorbing interaction of the radiation with matter, e.g. phase contrast
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Medical Informatics (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Surgery (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
前記線源格子の前記複数のX線透過部のピッチd 0 が下記式で表されることを特徴とする。
但し、d 1 を前記ビームスプリッター格子の格子周期、n 1 、mを正の整数、L 01 を前記線源格子と前記ビームスプリッター格子との間の距離、L 12 を前記ビームスプリッター格子と前記X線検出器の検出面又はこれらの間に備えたアナライザー格子との間の距離とする。またα 1 を、
の範囲にある定数とする。但しw S を前記X線源におけるX線発光点の発光強度分布の半値全幅とする
また、本発明のX線トールボット干渉計の第二の側面は、複数のX線透過部を有し、X線源からのX線の一部を透過する線源格子と、前記X線透過部からのX線を周期構造により回折し、干渉パターンを形成するビームスプリッター格子と、前記干渉パターンの一部を遮蔽するアナライザー格子と、前記アナライザー格子からのX線を検出するX線検出器と、を備え、前記線源格子の前記複数のX線透過部のピッチd 0 と前記アナライザー格子の格子周期d 2 とが下記式で表されることを特徴とする。
但し、d 1 を前記ビームスプリッター格子の格子周期、n 1 、mを正の整数、L 01 を前記線源格子と前記ビームスプリッター格子との間の距離、L 12 を前記ビームスプリッター格子と前記アナライザー格子との間の距離とする。またα 1 を、
の範囲にある定数とする。但しw S を前記X線源におけるX線発光点の発光強度分布の半値全幅、w D を前記X線検出器に固有の点拡がり関数の半値全幅とする。
本発明のその他の側面は発明を実施するための形態において説明をする。
本実施形態は、線源格子が干渉パターンの搬送波からずれた特定の周波数成分を強調するX線トールボット・ロー干渉計(以下、単に干渉計と呼ぶことがある)に係る。
とすれば良い。但し、n1は正の整数、L01Cは線源格子とビームスプリッター格子との距離、L12Cはビームスプリッター格子とアナライザー格子との距離である。各構成間の距離は、各構成の中心間の距離とする。n1は、干渉パターン同士がパターン周期の何周期分ずれて重畳するかを示す値であり、n1=1で、図6の干渉パターン18a、18b、18cのように、干渉パターン同士がパターン周期分だけずれて重畳する。
と表せる。ここで、L01は線源格子とビームスプリッター格子との距離、L12はビームスプリッター格子とアナライザー格子との距離である。またここで、α1は負値も取り得るものとするが、α1≠0とする。尚、α1が0の時は、線源格子の設計条件は比較例1と等しくなる。また、通常のトールボット・ロー干渉計において干渉パターン同士のずれ量がパターン周期の2以上の整数倍であっても良い。これと同様に、本実施形態のトールボット・ロー干渉計においても干渉パターン同士のずれ量をパターン周期の2以上の整数倍に対して一定のずれ率を与える形で設計しても良い。しかしながら、このような設計(つまり、n1が2以上の整数であること)には線源格子全体のX線透過率が低下するという欠点があり、一般には好ましくないことから、以下、n1=1の場合を中心に説明する。尚、X線トールボット干渉計がビームスプリッター格子とX線検出器との間にアナライザー格子を備えない場合は、L12C及びL12はビームスプリッター格子とX線検出器の検出面との距離とすることができる。
と書ける。ここで、a(x,y)は被検体のX線透過率分布を反映した干渉パターンの平均的強度の分布、b(x,y)は被検体のX線透過率分布と干渉パターンの周期方向に関するX線小角散乱能分布を反映した干渉パターンの振幅分布、をそれぞれ表している。また、φ(x,y)は被検体を透過したX線の位相分布(波面形状)を干渉パターンの周期方向に関して微分した分布を反映した干渉パターンの位相分布を表している。またこの時、本実施形態における干渉パターンに固有の空間周波数成分は、周期方向がx軸方向であり空間周波数が1/dIPである空間周波数成分である。さらにこの干渉パターン固有の空間周波数成分は、被検体情報であるb(x,y)及びφ(x,y)により振幅変調及び位相変調されているとみなすことができる。本明細書では、この被検体情報により変調される干渉パターンに固有の空間周波数成分のことを搬送波と呼ぶことがある。尚、干渉パターンの基本波成分の代わりに高調波成分を搬送波として用いることも可能であるが、一般には干渉パターンの高調波成分は基本波成分に比べて非常に小さいため搬送波として用いられることは稀である。またここで、
とおけば、式(2)は、
と書き直せる。ここで*は複素共役を表している。両辺を2次元フーリエ変換すると、
となる。ここで、大文字はそれぞれの関数のフーリエ変換を表している(以下も同様とする)。また、ξはx軸方向の空間周波数、ηはy軸方向の空間周波数をそれぞれ表している。
と書ける。さらにこの時、アナライザー格子上のX線強度分布gIP(x,y)は近似的にgIPo(x,y)とX線発光点の実効的な発光強度分布に起因するボケを表す点拡がり関数hS0(x,y)とのコンボリューションとして、
と表せる。ここで*はコンボリューションを表している。尚、gIP(x,y)は、実際にアナライザー格子上に形成される干渉パターン(つまり、線源格子を透過したX線全体が作る干渉パターン)の強度分布を示す点がgIPo(x,y)と異なる。
と書ける。ここでhS(x,y)を、
と表せる関数とする。ただしhS(x,y)は、線源格子が存在しない場合における上述の点拡がり関数である。
と書ける。さらに、干渉パターン同士の相対ずれ量d0´は線源格子のピッチd0及び干渉計のジオメトリ(L12,L01)を用いて、
と書ける。この時式(8)は、
と書き直せる。尚、gIP(x,y)は線源格子の複数のX線透過部からのX線の作る、複数の干渉パターンを重畳した結果として生ずる強度分布とみなすこともできる。この時、hS0(x,y)のフーリエ変換であるHS0(ξ,η)は、
となる。従って、式(5)、(7)、(13)と畳み込み定理によりgIP(x,y)のフーリエ変換であるGIP(ξ,η)は、
と書ける。但しここではa(x,y)、b(x,y)、φ(x,y)、hS(x,y)の空間的変化の速さはdIP、d0´に比べて十分に遅いと仮定している。
とする。ここでd2はアナライザー格子の格子周期、φrはアナライザー格子の位相(格子のx方向に関する位置に相当する)を表している。尚、線源格子の場合と同様に、アナライザー格子の格子周期d2がdIPの2以上の整数倍もしくはそれに近い値をとることも可能であるが、こちらについてもX線透過率が低下するという点から一般に好ましくない。従って、以下ではd2がdIPに近い値を有している場合について述べる。また通常、アナライザー格子はX線検出器の検出面のごく近傍に配置されることから、ここではアナライザー格子と検出面とが同位置にあると近似する。また、使用するX線検出器による強度分布計測に固有の点拡がり関数(PSF)をhD(x,y)と表すとする。すると、最終的に計測されるX線強度分布gM(x,y)は、アナライザー格子を透過したX線の強度分布(gIP(x,y)t2(x,y))と検出器の点広がり関数から、
と書ける。従って、gM(x,y)のフーリエ変換であるGM(ξ,η)は、
と書ける。但しここでは関数の中心が(ξ,η)空間において原点から大きく離れた領域に位置する項はHD(ξ,η)によるフィルタリングの際に値が十分に小さくなると考えて無視している。また、ここで|HD(ξ,η)|は検出器の変調伝達関数(MTF)に相当する関数である。
のように変化させたとすれば、周波数領域で表現した被検体情報であるA(ξ,η)及びC(ξ,η)の復元値(計測結果から実際に取得される値のことを指す)AR(ξ,η)及びCR(ξ,η)はそれぞれ、
のように算出できる。ここでξ0、ξ2はそれぞれ、
である。
と定義すれば、式(20)は、
と書き直せる。尚、ここではアナライザー格子を移動させながら強度分布計測を行う手法を例にとって説明したが、干渉パターンとアナライザー格子とのx軸における相対位置を移動させながら強度分布計測を行えばよい。例えば、ビームスプリッター格子や線源格子を移動させることでも同様の情報取得が可能である。また、このようなスペクトルの分離は位相シフト法以外の方法により行っても良い。例えば、比較的周期の短いモアレパターンを発生させ、X線検出器で検出した強度分布をフーリエ変換し、周波数空間においてスペクトルをフィルタリングすることでスペクトルを分離することもできる。これらの演算は、被検体情報取得部で行われる。
と書ける。ここで、σSはX線発光点の空間的広がりの規模を決める定数である。この時hS(x,y)は式(9)より、
と書ける。ただしここでσS´は、
である。またこの時hS(x,y)のフーリエ変換であるHS(ξ,η)は係数を無視すれば、
と書け、こちらもガウシアン形状となる。ただしここでσSFはHS(ξ,η)の幅を決める定数であり、
となる。
と書ける。ここで、σDはhD(x,y)の幅を決める定数である。この時hD(x,y)のフーリエ変換であるHD(ξ,η)はやはり係数を無視すれば、
となり、σDFは、
となる。
と書ける。ただしここでξCとσCFはそれぞれ、
となる。
と書ける(但しα1<<1とする)。また、ガウシアン形状を有するHSの幅を表すσSFは式(29)のように表される。一方、被検体情報のスペクトルであるC(ξ−1/dIP,η)は、搬送波を中心として搬送波の周囲に2次元的に分布する。但し、φ(x,y)が前述のように被検体を透過したX線の位相分布を搬送波の方向に沿って微分した分布を反映していることから、C(ξ−1/dIP,η)の成分はこの場合、搬送波方向であるξ軸方向に関して特に強く現れる。よって、フィルターHSはξ軸に沿ってシフトさせる(ξ0≠0とする)ことが好ましい。ここで、|ξ0|を大きくとればc(x、y)におけるより高い周波数成分を多く伝送することが可能となるが、同時に低周波成分が欠落することにより得られる画像が不自然なものとなるという欠点がある。このような低周波成分の欠落を防ぎつつ高周波成分の伝送量を増大させる効果を得るためにはξ0を、
となる程度に選べばよい。|ξ0|の値が0.5σSF付近の時は、得られる高周波成分の増強効果は比較的小さい。しかしながら低周波成分が大きく低減しないため、比較的サイズの大きい物体や構造の特徴を、従来通り効率良く伝送することができる。一方|ξ0|の値が3.0σSF付近の時は、高周波数成分の伝送量を大幅に増大させることができるため、特にサイズの小さい物体や構造の特徴を効率良く伝送することができる。しかしながら低周波成分が大きく低減するため、サイズの大きい物体や構造の特徴は取得が難しくなる。ここで、gS(x0,y0)の半値全幅をwSとすると、gS(x0,y0)がガウシアン形状を持つ時にはwS=2σS(2ln2)0.5の関係があることから式(37)は、
と書き直せる。係数部分を計算しα1を用いて書き直せば、
と書ける。式(39)は、本実施形態において、X線発光点の発光強度分布(gS0(x0,y0))の幅のみを考慮した場合の、d0の値を決めるためのずれ率α1の好適な範囲を与える式である。本説明ではX線発光点の発光強度分布gS(x0、y0)がガウシアン形状を有する場合を想定した。しかしながら、それ以外の一般的な、例えば矩形関数状の形状を有する場合等についても、HSの形状がより複雑になるものの、α1の値の好適な範囲は式(39)により与えられる範囲と一致する。
と書ける。ここで、検出器の固有の点拡がり関数であるhD(x,y)の半値全幅をwDとすれば、hD(x,y)がガウシアン形状を持つ時にはwD=2σD(2ln2)0.5の関係があることから、式(40)は、
と書き直せる。係数部分を計算しα1を用いて書き直せば、
と書ける。式(42)は、X線発光点の発光強度分布と検出器の点拡がり関数とを考慮した場合の、d0の値を決めるためのずれ率α1の好適な範囲を与える式である。
と書ける。ここでmは正の整数である。mの好適な値は、ビームスプリッター格子のパターンと干渉パターンとの関係により決まるが、一般にはm=1又は2とすることが好ましい。m=1とすることが好ましい場合の代表的な例は、ビームスプリッター格子として所謂π/2変調型の位相格子の位相格子を用いる場合である。一方、m=2とすることが好ましい場合の代表的な例は、ビームスプリッター格子として所謂π変調型の位相格子を用いる場合である。またこのほか、干渉パターンにおける高調波成分を搬送波として用いる場合も、mが1以外の値を持つことに相当する。式(43)を用いると式(39)と式(42)はd1を用いてそれぞれ、
と書き直せる。式(44)と式(45)はそれぞれ、検出器の点拡がり関数を考慮に入れる場合と入れない場合に関するα1の値の好適な範囲を与える式である。また、この時のd0の値はd1を用いて、
と書き直せる。
と書ける値であることが好ましい。尚、n2は正の整数であり、上述のように透過率の観点から、n2=1であることが好ましい。この式は、式(43)を用いて
と書き直せる。
本実施形態では、線源格子を備えないトールボット干渉計において、被検体による変調により発生する側波帯中の一成分をアナライザー格子によって強調する形態について説明をする。従来のX線トールボット干渉計(X線トールボット・ロー干渉計を含む)においては、アナライザー格子はアナライザー格子上に形成される干渉パターンの搬送波を中心とした帯域を周波数シフトさせ、X線検出器で検出可能にしていた。本実施形態は、アナライザー格子により周波数シフトさせ、X線検出器で検出可能にする帯域の中心を搬送波からずらすことで空間分解能を向上させる。詳細は以下で説明をする。
と表す。ここで、α2は負値も取り得るものとするが、α2≠0とする。尚、α2=0の時は、アナライザー格子の設計条件は比較例2と等しくなる。また、通常のトールボット・ロー干渉計及び実施形態1においてd2CがdIPCの整数倍であっても良いのと同様に、本実施形態においてもd2をdIPの2以上の整数倍に対して一定のずれ率を与えることで装置を構成しても良い。このとき、n2は2以上の整数をとる。しかしながら、このような構成ではアナライザー格子全体のX線透過率が低下するという欠点があり一般には好ましくないことから、n2は1であることが好ましい。以下ではd2がdIPに対してわずかなずれ率α2を有している場合(つまり、n2=1)を例に説明する。
と書ける。式(3)を用いると、式(50)は、
と書き直せる。両辺を2次元フーリエ変換すると、
となる。ξはx軸方向の空間周波数、ηはy軸方向の空間周波数をそれぞれ表している。
とする。ここで、φrはアナライザー格子の位相(格子のx方向に関する位置に相当する)を表している。尚、アナライザー格子は通常X線検出器の検出面のごく近傍に配置されることから、ここではアナライザー格子と検出面とが同位置にあると近似する。実施形態1と同様に、使用するX線検出器による強度分布計測に固有の点拡がり関数(PSF)をhD(x,y)と表せば最終的に計測されるX線強度分布gM(x,y)は、
である。従って、gM(x,y)のフーリエ変換であるGM(ξ,η)は、式(52)〜(54)より
と書ける。但しここでは関数の中心が(ξ,η)空間において原点から大きく離れた領域に位置する項はHD(ξ,η)によるフィルタリングの際に値が十分に小さくなると考えて無視している。また、ここで|HD(ξ,η)|は検出器の変調伝達関数(MTF)に相当する関数である。このように、アナライザー格子の機能は、干渉パターンの情報を空間周波数シフトすることで、干渉パターンの一部の空間周波数帯域の情報をHD(ξ,η)がゼロよりも有意に大きい値を持つ範囲に移動させることにより検出可能にすることであると理解できる。
のように変化させたとすれば、周波数領域で表現した被検体情報であるA(ξ,η)及びC(ξ,η)の復元値AR(ξ,η)及びCR(ξ,η)はそれぞれ、
のように算出できる。尚、ξ2は、式(22)と同様に、
である。
と書ける。ここで、σDはhD(x,y)の幅を決める定数である。この時hD(x,y)のフーリエ変換であるHD(ξ,η)は係数を無視すれば、
と書ける。ここでσDFはHD(ξ,η)の幅を決める定数であり
となる。
と書ける(但し|α2|<<1とする)。
となる程度に選べばよい。ここで、hS(x,y)の半値全幅をwDとすると、hS(x,y)がガウシアン形状を持つ時にはwD=2σD(2ln2)0.5の関係があることから式(64)は、
と書き直せる。係数部分を計算しα2を用いて書き直せば、
と書ける。
と書ける。ここでmは正の整数である。mの好適な値は、ビームスプリッター格子のパターンと干渉パターンとの関係により決まるが、一般にはm=1又は2とすることが好ましい。m=1とすることが好ましい場合の代表的な例は、ビームスプリッター格子として所謂π/2変調型の位相格子を用いる場合である。一方、m=2とすることが好ましい場合の代表的な例は、ビームスプリッター格子として所謂π変調型の位相格子を用いる場合である。またこのほか、干渉パターンにおける高調波成分を搬送波として用いる場合も、mが1以外の値を持つことに相当する。式(67)を用いると式(66)はd1を用いて、
と書き直せる。式(68)は、検出器に固有の点拡がり関数を考慮した場合のα2の値の好適な範囲を与える式である。また、この時のd2の値はd1を用いて、
と書き直せる。
実施例1は実施形態1の具体的な実施例である。X線源として、X線管を用いる。陽極材料はタングステンであり、管電圧やフィルターによる調整により、放射されるX線のエネルギースペクトルは22keVの位置に概ねの極大値が位置するものとする。また、X線管の焦点の実効的な発光強度分布は半値全幅300μmの2次元ガウシアン形状である。線源格子、ビームスプリッター格子、アナライザー格子のパターンは図2と同様である。ビームスプリッター格子はシリコン製の位相格子であり、格子周期d1はd1=12.00μmである。ビームスプリッター格子の位相進行部と位相遅延部の違いはシリコン基板の厚さの違いにより実現されており、22keVの透過X線に対してπradの位相差を与えるように設計されている。また、線源格子とアナライザー格子は共に、シリコン基板上に厚さ100μmの金めっき膜をX線遮蔽部として形成することにより作製されている。
実施例2は実施形態1の具体的な実施例である。干渉計はX線源として、タングステン陽極を備えたX線管を備える。X線管は管電圧やフィルターの調整により25keV付近の光子エネルギーを中心に一定のエネルギーバンド幅を持つX線を出射口より放射する。尚、本干渉計は波長0.05nm付近のX線(光子エネルギー約25keV)に対して特に効果的に機能するように設計されている。X線発光点の実効的な発光強度分布は半値全幅500μmの2次元ガウシアン形状を有している。線源格子、ビームスプリッター格子、アナライザー格子のパターンは図2に示した通りである。ビームスプリッター格子はシリコン製の位相格子であり、格子周期d1は8.0μmである。位相進行部と位相遅延部では格子基板の厚さが32μm異なることにより、波長0.05nm付近の入射X線に対して約πradの位相変調を与える。尚、位相進行部と位相遅延部の幅は等しい。線源格子とアナライザー格子は共に、シリコン基板上にX線遮蔽部として厚さ100μmの金めっき膜を形成したような構造を有している。また、X線検出器はピクセルピッチ50μmのフラットパネル検出器である。検出器の固有の点拡がり関数は半値全幅100μmの2次元ガウシアン形状を有している。
実施例3は実施形態2の具体的な実施例である。干渉計は線源格子を備えず、X線発光点の実効的サイズが10μmのX線源を用いる点が実施例2と異なる。
2 線源格子
3 ビームスプリッター格子
4 アナライザー格子
5 X線検出器
21 X線透過部
Claims (12)
- 複数のX線透過部を有し、X線源からのX線の一部を透過する線源格子と、前記X線透過部からのX線を周期構造により回折し、干渉パターンを形成するビームスプリッター格子と、前記ビームスプリッター格子からのX線を検出するX線検出器と、前記干渉パターンの一部を遮蔽するアナライザー格子と、を備え、
前記線源格子の前記複数のX線透過部のピッチd0が下記式で表されることを特徴とするX線トールボット干渉計。
但し、d1を前記ビームスプリッター格子の格子周期、n1、mを正の整数、L01を前記線源格子と前記ビームスプリッター格子との間の距離、L12を前記ビームスプリッター格子と前記X線検出器の検出面又はこれらの間に備えたアナライザー格子との間の距離とする。またα1を、
の範囲にある定数とする。但しwSを前記X線源におけるX線発光点の発光強度分布の半値全幅とする。 - 前記X線検出器は前記アナライザー格子からのX線を検出することを特徴とする請求項1に記載のX線トールボット干渉計。
- 複数のX線透過部を有し、X線源からのX線の一部を透過する線源格子と、前記X線透過部からのX線を周期構造により回折し、干渉パターンを形成するビームスプリッター格子と、前記干渉パターンの一部を遮蔽するアナライザー格子と、前記アナライザー格子からのX線を検出するX線検出器と、を備え、前記線源格子の前記複数のX線透過部のピッチd0と前記アナライザー格子の格子周期d2とが下記式で表されることを特徴とするX線トールボット干渉計。
但し、d1を前記ビームスプリッター格子の格子周期、n1、mを正の整数、L01を前記線源格子と前記ビームスプリッター格子との間の距離、L12を前記ビームスプリッター格子と前記アナライザー格子との間の距離とする。またα1を、
の範囲にある定数とする。但しwSを前記X線源におけるX線発光点の発光強度分布の半値全幅、wDを前記X線検出器に固有の点拡がり関数の半値全幅とする。 - 前記mが1又は2であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のX線トールボット干渉計。
- 前記X線源を備えることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のX線トールボット干渉計。
- 前記干渉パターンと前記アナライザー格子との相対位置を動かす移動手段を有し、
前記検出器は、移動手段による前記干渉パターンと前記アナライザー格子との移動の前後に検出を行うことで、前記干渉パターンと前記アナライザー格子との相対位置が異なる複数の検出結果を取得することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のX線トールボット干渉計。 - 前記移動手段は、前記ビームスプリッター格子、前記アナライザー格子のうち少なくともいずれか一つの格子の位置を移動させることを特徴とする請求項6に記載のX線トールボット干渉計。
- 前記移動手段は、前記線源格子の位置を移動させることを特徴とする請求項6に記載のX線トールボット干渉計。
- 請求項1乃至8のいずれか1項に記載のX線トールボット干渉計と、
前記X線検出器による検出結果の情報を用いて被検体の情報を取得する被検体情報取得部を備えることを特徴とするX線トールボット干渉計システム。 - 前記被検体情報取得部は、前記複数の検出結果の情報を用いて被検体の情報を取得することを特徴とする請求項9に記載のX線トールボット干渉計システム。
- 前記被検体情報取得部は、前記X線検出器によるX線強度分布を取得する際のピクセルピッチよりも細かいデータ間隔により画像データを記録することを特徴とする請求項9又は10に記載のX線トールボット干渉計システム。
- 前記被検体情報取得部が取得した被検体の情報に基づいた画像を表示する表示手段を備え、前記表示手段は前記X線検出器によるX線強度分布取得時のピクセルピッチよりも細かいデータ間隔で画像を表示することを特徴とする請求項9乃至11のいずれか1項に記載のX線トールボット干渉計システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015026752A JP6537293B2 (ja) | 2014-02-14 | 2015-02-13 | X線トールボット干渉計及びx線トールボット干渉計システム |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014026677 | 2014-02-14 | ||
JP2014026677 | 2014-02-14 | ||
JP2015026752A JP6537293B2 (ja) | 2014-02-14 | 2015-02-13 | X線トールボット干渉計及びx線トールボット干渉計システム |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015166735A JP2015166735A (ja) | 2015-09-24 |
JP2015166735A5 JP2015166735A5 (ja) | 2018-03-01 |
JP6537293B2 true JP6537293B2 (ja) | 2019-07-03 |
Family
ID=52682871
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015026752A Active JP6537293B2 (ja) | 2014-02-14 | 2015-02-13 | X線トールボット干渉計及びx線トールボット干渉計システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10393681B2 (ja) |
EP (1) | EP3105763B1 (ja) |
JP (1) | JP6537293B2 (ja) |
CN (2) | CN109115816A (ja) |
WO (1) | WO2015122542A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109561864B (zh) * | 2016-07-28 | 2022-05-17 | 株式会社岛津制作所 | X射线相位差摄像装置 |
JP6753342B2 (ja) * | 2017-03-15 | 2020-09-09 | 株式会社島津製作所 | 放射線格子検出器およびx線検査装置 |
EP3391821B1 (en) * | 2017-04-20 | 2024-05-08 | Shimadzu Corporation | X-ray phase contrast imaging system |
CN110832309B (zh) * | 2017-10-31 | 2022-08-23 | 株式会社岛津制作所 | X射线相位差摄像*** |
JP6987345B2 (ja) * | 2018-01-18 | 2021-12-22 | 富士フイルムヘルスケア株式会社 | 放射線撮像装置 |
CN112189134B (zh) * | 2018-06-15 | 2023-09-19 | 株式会社岛津制作所 | X射线成像装置 |
EP3922180A1 (en) * | 2020-06-09 | 2021-12-15 | Koninklijke Philips N.V. | Apparatus for processing data acquired by a dark-field and/or phase contrast x-ray imaging system |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5812629A (en) * | 1997-04-30 | 1998-09-22 | Clauser; John F. | Ultrahigh resolution interferometric x-ray imaging |
JP4445397B2 (ja) | 2002-12-26 | 2010-04-07 | 敦 百生 | X線撮像装置および撮像方法 |
EP1731099A1 (en) * | 2005-06-06 | 2006-12-13 | Paul Scherrer Institut | Interferometer for quantitative phase contrast imaging and tomography with an incoherent polychromatic x-ray source |
EP1879020A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-16 | Paul Scherrer Institut | X-ray interferometer for phase contrast imaging |
CN101576515B (zh) * | 2007-11-23 | 2012-07-04 | 同方威视技术股份有限公司 | X射线光栅相衬成像***及方法 |
CN101873828B (zh) * | 2007-11-26 | 2013-03-27 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于x射线相位对比成像的探测装置 |
CN101413905B (zh) * | 2008-10-10 | 2011-03-16 | 深圳大学 | X射线微分干涉相衬成像*** |
CN103876761B (zh) * | 2008-10-29 | 2016-04-27 | 佳能株式会社 | X射线成像装置和x射线成像方法 |
CN102325498B (zh) * | 2009-02-05 | 2013-07-10 | 中国科学院高能物理研究所 | 基于低剂量单步光栅的x射线相位衬度成像 |
US7949095B2 (en) * | 2009-03-02 | 2011-05-24 | University Of Rochester | Methods and apparatus for differential phase-contrast fan beam CT, cone-beam CT and hybrid cone-beam CT |
JP2010249533A (ja) * | 2009-04-10 | 2010-11-04 | Canon Inc | タルボ・ロー干渉計用の線源格子 |
CN101599800A (zh) * | 2009-04-27 | 2009-12-09 | 北京邮电大学 | 利用铌酸锂调制器产生8倍频光载毫米波的装置与方法 |
CN102802529B (zh) * | 2009-06-16 | 2015-09-16 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于微分相衬成像的校正方法 |
CN101943668B (zh) * | 2009-07-07 | 2013-03-27 | 清华大学 | X射线暗场成像***和方法 |
JP5578868B2 (ja) | 2010-01-26 | 2014-08-27 | キヤノン株式会社 | 光源格子、該光源格子を備えたx線位相コントラスト像の撮像装置、x線コンピューター断層撮影システム |
CN102221565B (zh) * | 2010-04-19 | 2013-06-12 | 清华大学 | X射线源光栅步进成像***与成像方法 |
JP2012030039A (ja) * | 2010-07-09 | 2012-02-16 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及びその画像処理方法 |
JP2014012029A (ja) * | 2010-10-27 | 2014-01-23 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び画像処理方法 |
CN103460251A (zh) * | 2010-12-13 | 2013-12-18 | 保罗·谢勒学院 | 利用对具有光栅布置的相衬成像的约束优化的图像积分的方法和*** |
JP2012125343A (ja) * | 2010-12-14 | 2012-07-05 | Fujifilm Corp | 放射線撮影システム及び画像処理方法 |
JP2012143490A (ja) * | 2011-01-14 | 2012-08-02 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影装置および放射線画像検出器 |
US9066704B2 (en) * | 2011-03-14 | 2015-06-30 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray imaging apparatus |
US20130108015A1 (en) * | 2011-10-28 | 2013-05-02 | Csem Centre Suisse D'electronique Et De Microtechnique S.A - Recherche Et Developpement | X-ray interferometer |
US20130259194A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | Kwok L. Yip | Hybrid slot-scanning grating-based differential phase contrast imaging system for medical radiographic imaging |
CN103365067B (zh) * | 2012-04-01 | 2016-12-28 | 中国科学院高能物理研究所 | 可实现三维动态观测的光栅剪切成像装置和方法 |
US9357975B2 (en) * | 2013-12-30 | 2016-06-07 | Carestream Health, Inc. | Large FOV phase contrast imaging based on detuned configuration including acquisition and reconstruction techniques |
-
2015
- 2015-02-12 EP EP15710011.6A patent/EP3105763B1/en active Active
- 2015-02-12 WO PCT/JP2015/054503 patent/WO2015122542A1/en active Application Filing
- 2015-02-12 CN CN201811127026.7A patent/CN109115816A/zh active Pending
- 2015-02-12 CN CN201580008324.2A patent/CN105992557B/zh active Active
- 2015-02-12 US US15/117,957 patent/US10393681B2/en active Active
- 2015-02-13 JP JP2015026752A patent/JP6537293B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015122542A1 (en) | 2015-08-20 |
CN105992557B (zh) | 2020-01-14 |
US10393681B2 (en) | 2019-08-27 |
CN105992557A (zh) | 2016-10-05 |
CN109115816A (zh) | 2019-01-01 |
EP3105763B1 (en) | 2019-09-11 |
US20160356730A1 (en) | 2016-12-08 |
JP2015166735A (ja) | 2015-09-24 |
EP3105763A1 (en) | 2016-12-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6537293B2 (ja) | X線トールボット干渉計及びx線トールボット干渉計システム | |
JP5538936B2 (ja) | 解析方法、プログラム、記憶媒体、x線位相イメージング装置 | |
JP5777360B2 (ja) | X線撮像装置 | |
JP4445397B2 (ja) | X線撮像装置および撮像方法 | |
US8559594B2 (en) | Imaging apparatus and imaging method | |
JP2011153969A (ja) | X線撮像装置、波面計測装置 | |
US9006656B2 (en) | Imaging apparatus using talbot interference and adjusting method for imaging apparatus | |
JP2014171799A (ja) | X線撮像装置及びx線撮像システム | |
JP2013050441A (ja) | 波面測定装置、波面測定方法、及びプログラム並びにx線撮像装置 | |
JP2012005820A (ja) | X線撮像装置 | |
JP5792961B2 (ja) | トールボット干渉計及び撮像方法 | |
JP2013116270A (ja) | X線撮像装置 | |
JP5885405B2 (ja) | 撮像装置、干渉縞解析プログラム及び干渉縞解析方法 | |
JP6604772B2 (ja) | X線トールボット干渉計 | |
US20160162755A1 (en) | Image processing apparatus and image processing method | |
WO2015156379A1 (en) | Image processing unit and control method for image processing unit | |
WO2020129709A1 (ja) | 干渉縞解析装置、干渉縞解析方法、および距離測定装置 | |
JP2017006468A (ja) | 放射線撮像装置および微分方向推定方法 | |
CN105103238A (zh) | 用于谱滤波的基于泰伯效应的近场衍射 | |
JP2020101517A (ja) | 干渉縞解析装置、干渉縞解析方法、および距離測定装置 | |
JP2015227784A (ja) | 干渉計 | |
JP2014006247A (ja) | 被検体情報取得装置、被検体情報取得方法及びプログラム | |
JP2011237773A (ja) | 撮像装置及び撮像方法 | |
JP2016061608A (ja) | 画像処理方法、画像処理装置、撮像システム | |
JP2013042983A (ja) | トモシンセシス撮像装置及びトモシンセシス画像の撮像方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180116 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180116 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180925 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180919 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190604 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6537293 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |