JP6534381B2 - タッチパネル、表示装置、並びに、タッチパネルの製造方法 - Google Patents

タッチパネル、表示装置、並びに、タッチパネルの製造方法 Download PDF

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Description

本発明は、タッチパネルに関する。特に本発明は、投影型静電容量方式のタッチパネルに関する。また本発明は、当該タッチパネルを備えた表示装置に関する。さらに本発明は、当該タッチパネルの製造方法に関する。
従来から、コンピューターや携帯情報端末等の電子機器への入力装置として投影型静電容量方式のタッチパネルが知られている。
この投影型静電容量方式のタッチパネルは、所定の方向（以下、Ｘ軸方向という）に延びたＸ軸電極と、前記所定の方向に対して直交方向（以下、Ｙ軸方向という）に延びたＹ軸電極がそれぞれ多数内蔵されている。また、これらのＸ軸電極とＹ軸電極は、マトリクス状に配されており、各Ｘ軸電極及び各Ｙ軸電極にはコントローラが接続されている。そして、使用者が指等で操作する際に、各電極と指等との間の静電容量値を検出して、使用者の操作位置を特定する構造となっている。
ところで、大画面のディスプレイ装置等に使用するために、これらのＸ軸電極とＹ軸電極に金などの金属細線を用いたタッチパネルが知られている（例えば、特許文献１，２）。
この金属細線を用いたタッチパネルは、金などの金属層が積層された基板をパターニングすることにより、基板上に微細な金属細線が多数形成されたものである。
例えば、この金属細線を用いたタッチパネルには、多数の金属細線を互いに平行になるように配置された２枚の基板を作製し、これらの基板を重ね合わせることによって、上記したＸ軸電極及びＹ軸電極を形成したものがある。
この金属細線を用いたタッチパネルは、金属細線で配線を平行に多数形成しているので、配線の低抵抗化が可能であり、大画面のディスプレイ装置等でも好適に使用できる。また、このタッチパネルは、周辺配線も金属細線と同じ物質で、同一平面上に一括形成が可能であり、製造工程の削減も可能となる。
ところで、一般的なディスプレイ装置の表示面には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各副画素を有した画素部と、各副画素を区切る格子状のブラックマトリクスを備えている。
上記したタッチパネルでは、金属細線がＸ軸方向及びＹ軸方向に格子状に敷き詰められることとなる。そのため、ディスプレイ装置の表示面にこのタッチパネルを設置すると、金属細線が色情報を表示する画素部に重なってしまい、金属細線が副画素部からの光を遮断してしまう。すなわち、このタッチパネルは、金属細線によって画素部の一部が塞がれ、画素部の開口率が低下しまうので、ディスプレイ装置の輝度が低下するという問題がある。また、規則正しい繰り返し形状を有する金属細線と、同じく規則正しい繰り返し形状を有するブラックマトリクスが平面的に斜めに重なることで、金属細線とブラックマトリクスに周期的な交差部分が発生し、当該周期的に発生した交差部位が画素部からの光を遮光してしまう。そのため、モアレが発生し、品位が悪化するという問題がある。
そこで、この特許文献１では、金属細線をブラックマトリクスの幅よりも狭く形成し、ブラックマトリクスと重ねて配置することによって、金属細線の非視認性を向上させ、ディスプレイ装置の輝度の低下を防止する方策が提案されている。なお、上記の他、本発明に関連する先行技術を記載した文献として、特許文献３，４がある。
特開２００９−２５９０６３号公報 特開平０９−２５８８９４号公報 特開２０１２−１０３７６１号公報 特開２０１３−０６９２５７号公報
近年、ディスプレイ装置の高精細化が進んでおり、副画素部の大きさは小さくなり、ブラックマトリクスの幅も細くなってきている。すなわち、金属細線の非視認性を維持するためには、ブラックマトリクスの幅の減少に合わせて金属細線を細くする必要がある。
そこで、本発明者は、図２９に示されるようなタッチパネル２００を試作し、金属細線の細線化を図った。
この試作したタッチパネル２００は、図２９，図３０から読み取れるように、片面に多数の金属細線２０１，２０２を有した２枚のフィルム基板２０５，２０６を、金属細線２０１，２０２同士が対面するように透明光学粘着フィルム２０７で貼り合わせて形成されたものである。
この試作したタッチパネル２００は、金属細線２０１，２０２を銅等の有色金属で形成し、図３０に示されるように、平面視したときに金属細線２０１と金属細線２０２を格子状に配置した。そして、金属細線２０１，２０２に図示しないコントローラを接続し、金属細線２０１，２０２ごとに静電容量を検出することによって、使用者の操作位置を特定する構造とした。
この試作したタッチパネル２００は、通常の金属細線よりも金属細線２０１，２０２を細線化するために、金属細線２０１，２０２の線幅を狭めるとともに厚みを厚くすることで導電経路の確保を図った。そして、この試作したタッチパネル２００を、図２９から読み取れるように、ブラックマトリクス２０９に金属細線２０１，２０２が厚み方向に重なるようにディスプレイ装置２０８に設置し、表示装置２１０を形成した。
この表示装置２１０について、検討を行ったところ、以下のような問題点が見受けられた。
すなわち、試作したタッチパネル２００では、十分な配線抵抗を確保するために、金属細線２０１，２０２の厚みを厚くしている。当然、金属細線２０１，２０２の厚みを厚くすれば、断面積が大きくなるので、タッチパネル２００における配線抵抗を下げることができる。
しかしながら、試作したタッチパネル２００は、金属細線２０１，２０２の厚みが厚いので、ディスプレイ装置２０８の画素からの光の一部が、金属細線２０１，２０２の側面で反射されて使用者に向かってしまう。そのため、タッチパネル２００で金属細線２０１，２０２の色が目立ってしまい、見栄え（品位）が悪化するという問題が生じていた。
そこで、本発明は、配線の細線化が可能であり、かつ、配線見えを抑制し、見栄えが向上するタッチパネル及びそれを用いた表示装置を提供することを目的とする。また、配線の細線化が可能であり、かつ、配線見えを抑制し、見栄えが向上するタッチパネルの製造方法を提供することを目的とする。
上記した課題を解決するための本発明の一つの様相は、複数の副画素部を有し色情報を表示する画素部と、前記副画素部間を区切る遮光部を備えたディスプレイ装置に取り付けられ、前記画素部と前記遮光部を覆うように設置されるタッチパネルにおいて、第１電極部と、第２電極部と、第１電極部と第２電極部との間に介在する誘電部を有し、前記第１電極部は、１又は複数の第１配線からなる第１電極群を有し、前記第２電極部は、１又は複数の第２配線からなる第２電極群を有し、前記第１電極群は、平面視したときに、前記第２電極群と交差する方向に延びており、前記第１配線の大部分又は全部は、平面視したときに、その線幅全体が遮光部と重なるように配されており、前記ディスプレイ装置を基準としたときに、前記第１電極部は、誘電部の外側に位置しており、前記第１配線及び／又は前記第２配線は、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さいタッチパネルである。
ここでいう「線幅」とは、平面視したときの延び方向に対して直交する長さを表す。
ここでいう「大部分」とは、第１配線全体の８０パーセント（％）以上の部分をいう。
ここでいう「誘電部」とは、導電性よりも誘電性が優位な物質で形成されている部位又は部材をいう。
本様相によれば、ディスプレイ装置側から順に第２電極部、誘電部、第１電極部の位置関係となっており、第２電極部に対して第１電極部は、使用者側に近い位置となっている。
また、本様相によれば、第１配線及び／又は第２配線はディスプレイ装置からの光が拡散する方向（使用者に向かう方向）に狭まっているので、画素部からの光が第１配線及び／又は第２配線の側面に当たりにくく、第１配線及び／又は第２配線の非視認性を高めることができる。
さらに、本様相によれば、第１配線及び／又は第２配線は、最も外側（使用者側）の線幅が最も内側の線幅よりも小さいので、第１配線及び／又は第２配線の厚み方向の外側端部の面積が内側端部の面積に比べて小さい。そのため、使用者側からの光が当該外側端部で反射しにくく、反射による眩しさも抑制できる。
本様相によれば、１又は複数の第１配線からなる第１電極群と、１又は複数の第２配線からなる第２電極群は、平面視したときに、互いに交差する関係となっている。すなわち、使用者が操作する際に、各電極群での静電容量を検知することによって、使用者の操作位置を特定できる。
本様相によれば、第１配線の大部分又は全部は、平面視したときに、その線幅全体が遮光部と重なるように配されている。すなわち、ディスプレイ装置から光が照射されない部位に第１配線を配置するので、従来に比べて、透過率が向上し、低消費電力化が可能である。また、本様相によれば、従来に比べて、第１配線の非視認性を向上でき、表示品位も向上できる。
好ましい様相は、前記第１配線は、前記ディスプレイ装置を基準として、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さく、さらに外側端部から内側にかけて線幅が漸次大きくなっていることである。
本様相によれば、第１配線の側面の一部又は全部に、少なくとも外側端部から内側にかけて傾斜した傾斜部位を有している。そのため、第１配線の非視認性の効果がより顕著に表れる。
好ましい様相は、前記第１配線の最大線幅は、前記第２配線の最大線幅よりも小さいことである。
本様相によれば、使用者の目に近い側の第１配線の最大線幅が、使用者の目から遠い側の第２配線の最大線幅よりも小さい。すなわち、位置関係による使用者の見え方を利用して、第２配線の最大線幅を第１配線の最大線幅よりも大きくしているので、第１配線に比べて、第２配線の厚みを抑制することができる。そのため、タッチパネル全体の厚みを抑えることができる。
好ましい様相は、前記第２配線は、前記ディスプレイ装置を基準として、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さく、さらに外側端部から内側に掛けて線幅が漸次大きくなっていることである。
本様相によれば、第２配線の側面の一部又は全部に、少なくとも外側端部から内側にかけて傾斜した傾斜部位を有している。そのため、第２配線の非視認性の効果がより顕著に表れる。
ところで、試作したタッチパネル２００は、上記したように組み立てる際にフィルム基板２０５，２０６を一体化させる方策として、透明光学粘着フィルム２０７を使用して接着した。
しかしながら、上記したように試作したタッチパネル２００では、金属細線２０１，２０２の厚みを厚く取っている。そのため、図３１から読み取れるように、透明光学粘着フィルム２０７を貼り付ける際に、金属細線２０１，２０２の角部に透明光学粘着フィルム２０７が当接してしまう。すなわち、金属細線２０１，２０２の角部に透明光学粘着フィルム２０７が閊えてしまい、金属細線２０１，２０２の側面と透明光学粘着フィルム２０７の間に隙間２１１が形成されてしまっていた。そのため、試作したタッチパネル２００は、当該隙間２１１の存在によって、金属細線２０１，２０２と透明光学粘着フィルム２０７が十分に密着されず、大きな気泡等が入っているように見えてしまい、見栄えが悪いものが形成される場合が生じていた。それ故に、試作したタッチパネル２００は、歩留まりが悪いものとなっていた。
そこで、より好ましい様相は、前記誘電部は、フィルム状の粘着部を有し、前記粘着部は、前記ディスプレイ装置を基準として、外側から前記第２配線に覆い被さっており、前記第２配線の側面において実質的に隙間無く密着していることである。
ここでいう「実質的に隙間が無く密着する」とは、直径が１００ｎｍ以上の大きさの気泡等が入らずに密着している状態を表す。
本様相によれば、フィルム状の粘着部が外側端部から内側に掛けて線幅が漸次大きくなっている第２配線の側面に覆い被さって実質的に隙間無く密着している。そのため、第２配線と誘電部との間に気泡が入りにくく、見栄えがよい。また、不良品の発生を抑えることもでき、歩留まりが良いタッチパネルとなる。
好ましい様相は、前記第１電極群は、少なくとも２つの第１配線を有し、前記２つの第１配線は、所定の間隔を空けて並列に配置されており、前記第１電極群は、前記２つの第１配線を接続する第１冗長線を備えることである。
本様相によれば、一の第１電極群に属する２つの第１配線が、第１冗長線によって接続されているので、２つの第１配線が第１冗長線によって電気的に並列接続の関係となる。そのため、第１配線の一部が断線したとしても、第１冗長線を介して通電を補償でき、第１電極群全体での導電経路が確保できる。それ故に、検知不良品の発生を抑制でき、歩留まりを高めることができる。
ところで、第１冗長線は、第１電極群の導電経路を確保するという観点からは、必ずしも第１配線と同様の断面積を必要としない。すなわち、第１冗長線は、第１配線等の主要配線に比べてある程度の細線化が可能である。
そこで、より好ましい様相は、前記第１冗長線は、平面視したときに、線幅全体が第２配線と重なっており、前記第１冗長線の最大線幅は、前記第２配線の最大線幅よりも小さいことである。
本様相によれば、平面視したときに使用者に近い側の第１冗長線を使用者から遠い側の第２配線に重ねて配置しており、第１冗長線の最大線幅を第２配線の最大線幅よりも小さくしている。そのため、第１冗長線の存在による開口率の低下を防止しつつ、第１冗長線の設置位置を確保できる。
好ましい様相は、前記第２電極群は、少なくとも２つの第２配線を有し、前記２つの第２配線は、所定の間隔を空けて並列されており、前記第２電極群は、前記２つの第２配線を接続する第２冗長線を備えることである。
本様相によれば、一の第２電極群に属する２つの第２配線が、第２冗長線によって接続されているので、２つの第２配線が第２冗長線によって電気的に並列接続の関係となる。そのため、第２配線の一部が断線したとしても、第２冗長線を介して通電を補償でき、第２電極群全体での導電経路が確保できる。それ故に、検知不良品の発生を抑制でき、歩留まりを高めることができる。
上記した様相は、前記第１配線の一部は、平面視したときに、線幅全体が第２冗長線と重なっていてもよい。
この様相によれば、第２冗長線の設置位置を確保できる。
より好ましい様相は、前記第１配線は、金属で形成されており、不透明であることである。
ここでいう「不透明」とは、光の透過率が５％以下の状態をいう。
本様相によれば、第１配線は、金属製で不透明となる程度の厚みを有している。このような場合であっても、本様相によれば、第１配線の非視認性が高い。
上記した様相は、第２配線は、金属で形成されており、不透明であってもよい。
この様相によれば、第２配線は金属製で不透明となる程度の厚みを有している。このような場合であっても、第２配線の非視認性が高い。
上記した様相は、前記ディスプレイ装置を基準としたときに、前記第１配線及び／又は前記第２配線は、最も外側部位である外側端面と、最も内側部位である内側端面を有し、平面視したときに外側端面が内側端面の幅方向の中央に位置していてもよい。
上記した発明に関連する様相は、複数の副画素部を有し色情報を表示する画素部と、前記副画素部間を区切る遮光部を備えたディスプレイ部と、前記画素部と前記遮光部を覆うように配されたタッチパネル部を有した表示装置において、第１電極部と、第２電極部と、第１電極部と第２電極部との間に介在する誘電部を有し、前記第１電極部は、１又は複数の第１配線からなる第１電極群を有し、前記第２電極部は、１又は複数の第２配線からなる第２電極群を有し、前記第１電極群は、平面視したときに、前記第２電極群と交差する方向に延びており、前記第１配線の大部分又は全部は、平面視したときに、その線幅全体が遮光部と重なるように配されており、前記ディスプレイ部を基準としたときに、前記第１電極部は、誘電部の外側に位置しており、前記第１配線及び／又は第２配線は、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さい表示装置である。
この様相によれば、第１配線及び／又は第２配線の非視認性を向上できるとともに、使用者側からの光が当該外側端部で反射しにくく、反射による眩しさや見栄えの悪化を抑制できる。
この様相によれば、従来に比べて、透過率が向上し、低消費電力化が可能である。また、従来に比べて、第１配線の非視認性を向上でき、表示品位も向上できる。
本発明の一つの様相は、上記様相のタッチパネルと、画素部と遮光部を備えたディスプレイ装置を有している表示装置である。
本様相によれば、タッチパネルの第１電極群及び第２電極群が視認されにくい表示装置となる。
ところで、液晶パネル等のディスプレイ装置の場合、一般的に視野角が狭い。そのため、その視野角を広げるために、液晶からの光を屈折させてタッチパネル上に表示することがある。このような場合、画素部とタッチパネルの間の部材の屈折率を調整したり、新たに部材を導入したりして、液晶から発せられた光を屈折させ、所定の角度に広がった状態でタッチパネルに入射させる。
こうすることにより、視野角は広くなるが、その反面、光がタッチパネルに鋭角で入射する場合には、使用者側にある第１配線の側面で反射されやすくなる。すなわち、使用者から第１配線が見えやすくなるという問題がある。
そこで、好ましい様相は、前記副画素部からの光を屈折させる屈折部材を有し、前記屈折部材は、前記タッチパネルと前記副画素部との間に介在しており、前記第１配線は、誘電部と当接する第１端部と、第１端部に対して交差する方向に延びた側面部を有し、前記側面部は、第１端部に対して傾斜した傾斜面であり、副画素部から屈折部材に対して垂直に光が入射し、前記屈折部材で屈折された光のタッチパネルへの入射角をσとすると、当該傾斜面の第１端部に対する傾斜角は、（９０−σ）度以下であることである。
本様相によれば、屈折部材で屈折された光は、第１配線を避けて透過するので、第１配線が側面部で反射することによる品位の悪化を防止できる。また、第１配線での反射を防止できるので、光の透過率を向上させることができる。
また、上記した様相は、前記第１配線は、誘電部と当接する第１端部と、第１端部に対して交差する方向に延びた側面部を有し、前記側面部は、第１端部に対して傾斜した傾斜面であり、前記ディスプレイ装置側からの光のタッチパネルへの入射角をδとすると、当該傾斜面の第１端部に対する傾斜角は、（９０−δ）度以下であってもよい。
上記した様相は、平面視したときに、第１配線の９０％以上の部位が遮光部と重なるように配されていてもよい。
上記した様相は、平面視したときに、第２配線の９０％以上の部位が遮光部と重なるように配されていてもよい。
上記した様相は、第１配線及び／又は第２配線は、長手方向に対して直交する断面形状が三角形状、台形状、半円状、半楕円状、六角形状のいずれかであってもよい。
本発明の一つの様相は、上記様相のタッチパネルの製造方法であって、前記第１電極群又は第２電極群を支持する基材を有し、前記基材に支持された第１配線又は第２配線は、少なくともその側面が導電層によって形成されており、前記基材上に第１電極群又は第２電極群を形成する電極群形成工程を有し、前記電極群形成工程は、前記基材上に下地層を形成する下地層形成工程と、前記下地層上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層に貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記貫通孔を介して下地層上に導電層を形成する導電層形成工程と、前記下地層からレジスト層を除去するレジスト除去工程を含み、前記貫通孔は、所定の方向に延びた長溝であって、貫通孔の延び方向に対して直交する断面における内側面間の間隔がレジスト層の厚み方向で漸次変化しているタッチパネルの製造方法である。
ここでいう「貫通孔の延び方向に対して直交する断面」は、レジスト層に対して直交方向の断面であり、貫通孔の幅方向成分と深さ方向成分とによって形成された平面である。
本様相によれば、貫通孔形成工程において第１配線又は第２配線の内側面の少なくとも一部を傾斜させているので、導電層形成工程において当該内側面の傾斜を反映させて第１配線又は第２配線の側面を形成できる。そのため、容易に第１配線又は第２配線の側面形状を制御できる。また、タッチパネルが複数の第１配線又は第２配線を備える場合には、レジスト層の貫通孔を複数形成することで、複数の第１配線又は第２配線の側面形状を同時に形成することができるので、製造時間の短縮化が可能である。
本発明の一つの様相は、上記様相のタッチパネルの製造方法であって、前記第１電極群又は前記第２電極群を支持する基材を有し、前記基材に支持された第１配線又は第２配線は、少なくともその側面が導電層によって形成されており、前記基材上に第１電極群又は第２電極群を形成する電極群形成工程を有し、前記電極群形成工程は、基材上に導電層を形成する導電層形成工程と、前記導電層上に所定の形状にパターニングされたレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記導電層の一部又は全部をエッチング液によりエッチングするエッチング工程と、前記導電層からレジスト層を除去するレジスト除去工程を含み、前記エッチング工程において、第１配線又は第２配線の側面形状を形成するタッチパネルの製造方法である。
本様相によれば、エッチング工程において第１配線又は第２配線の側面形状を形成するので容易に側面形状を制御できる。また、タッチパネルが複数の第１配線又は第２配線を備える場合には、複数の第１配線又は第２配線の側面形状を同時に形成することができるので、製造時間の短縮化が可能である。
本発明の一つの様相は、上記様相のタッチパネルの製造方法であって、前記第１電極群又は前記第２電極群を支持する基材を有し、前記基材に支持された第１配線又は第２配線は、少なくともその側面が導電層によって形成されており、前記基材上に第１電極群又は第２電極群を形成する電極群形成工程を有し、前記電極群形成工程は、前記基材上に導電層を形成する導電層形成工程と、レーザー光を照射し、前記導電層の一部を除去するレーザー工程とを含み、前記レーザー工程において、レーザー光の強度分布によって第１配線又は第２配線の側面形状を形成するタッチパネルの製造方法である。
ここでいう「レーザー光の強度分布」とは、レーザー発生装置からレーザー光を照射する直前の強度分布をいう。
本様相によれば、レーザー光の強度分布によって、第１配線又は第２配線の側面形状を形成するので、レジスト等を用いずとも、第１配線又は第２配線のパターニングが可能である。そのため、製造コストを低減できる。
本発明のタッチパネル及び表示装置によれば、第１配線及び／又は第２配線の非視認性を向上させることができ、それに伴い、表示品位を向上させることができる。また、第１配線及び／又は第２配線の存在による光の遮りを抑制できるので、透過率も向上させることができる。さらに、配線の細線化が可能であり、かつ、配線見えを抑制し、見栄えが向上する。
本発明のタッチパネルの製造方法によれば、容易に第１配線の側面形状を形成できる。
本発明の第１実施形態に係る表示装置を模式的に表す斜視図である。 図１の表示装置の分解斜視図である。 図１のタッチパネルの分解斜視図である。 図３のタッチパネルの要部の分解斜視図である。 図４のタッチパネルの説明図であり、（ａ）はタッチパネルの要部のＡ−Ａ断面図であり、（ｂ）はタッチパネルの要部のＢ−Ｂ断面図である。 図４のタッチパネルの説明図であり、（ａ）はタッチパネルの要部のＣ−Ｃ断面図であり、（ｂ）はタッチパネルの要部のＤ−Ｄ断面図である。 図３のタッチパネルの説明図であり、（ａ）は第１電極部を表す平面図であり、（ｂ）は第２電極部を表す平面図である。 図４のタッチパネルの要部を示す説明図であり、第１電極群と第２電極群の位置関係を模式的に表す斜視図である。 図２のディスプレイ装置の一部を模式的に表す斜視図である。 本発明の第１実施形態におけるディスプレイ装置の表示面と第１電極群及び第２電極群との位置関係を示す説明図である。 本発明の第１実施形態のタッチパネルの製造方法の説明図であり、（ａ）〜（ｅ）は第１電極群形成工程の各製造工程での断面図を表す。 本発明の第１実施形態のタッチパネルの製造方法の説明図であり、（ａ）〜（ｄ）は第１電極群形成工程の各製造工程での断面図を表す。 図２のディスプレイ装置の断面図であり、理解を容易にするために、遮光部及び薄膜トランジスタ以外の部位は、ハッチングを省略している。 本発明の第１実施形態にかかるタッチパネルの説明図であり、第２電極部に誘電部材を貼り付けたときの断面図である。 本発明の第１実施形態にかかる表示装置の機能を説明する概念図であり、（ａ）は第１配線の側面部に傾斜面を持つ場合の説明図であり、（ｂ）は第１配線の側面部に傾斜面を持たない場合の説明図である。 本発明の第１実施形態にかかる表示装置の機能を説明する概念図であり、（ａ）は第１配線の側面部に傾斜面を持つ場合の説明図であり、（ｂ）は第１配線の側面部に傾斜面を持たない場合の説明図である。 第２実施形態のタッチパネルの製造方法の説明図であり、（ａ）〜（ｆ）は第１電極群形成工程の各工程での断面図を表す。 第２実施形態のタッチパネルの製造方法の説明図であり、（ａ）〜（ｄ）は第１電極群形成工程の各工程での断面図を表す。 第２実施形態のタッチパネルの製造方法の説明図であり、（ａ）〜（ｃ）は第２電極群形成工程の各工程での断面図を表す。 第３実施形態のタッチパネルの製造方法の説明図であり、（ａ）〜（ｄ）は第１電極群形成工程の各製造工程での断面図を表す。 第３実施形態のタッチパネルの製造方法の説明図であり、（ａ）〜（ｄ）は第２電極群形成工程の各製造工程での断面図を表す。 本発明の他の実施形態における第１配線の説明図であり、（ａ）〜（ｄ）はそれぞれ異なる実施形態での断面図を表す。 本発明の他の実施形態における表示装置を模式的に示した断面図である。 図２３の表示装置内での光路の説明図である。 本発明の他の実施形態におけるタッチパネルの説明図であり、（ａ）は断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。 本発明の他の実施形態におけるタッチパネルの説明図であり、（ａ）は断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。 本発明の他の実施形態におけるタッチパネルの説明図であり、（ａ）は断面図であり、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。 本発明の他の実施形態におけるタッチパネルの断面図である。 試作した表示装置を模式的に示した断面図である。 試作した金属細線の位置関係を表す平面図である。 試作したタッチパネルにおいて、金属細線に透明光学粘着フィルムを貼り付けたときの断面図である。
本発明は、表示装置１に係るものである。以下、上下位置関係は、特に断りのない限り、図１の姿勢を基準に説明する。すなわち、タッチパネル２側が上でディスプレイ装置３側が下である。また、以下の説明において、物性は、特に断りのない限り、標準状態（１気圧、摂氏２５度）での値とする。
本実施形態の表示装置１は、図１，図２に示されるようにタッチパネル２と、ディスプレイ装置３を備えている。
タッチパネル２は、投影型静電容量方式のタッチパネルであり、指先等の操作を検知し、ディスプレイ装置３やコンピューター等の外部機器に入力することが可能となっている。また、タッチパネル２は、投影型静電容量方式のタッチパネルの中でもマトリックス型のタッチパネルである。
タッチパネル２は、図３に示されるように、第１電極部１０と、誘電部材１１（誘電部）と、第２電極部１２を有している。
第１電極部１０は、図７（ａ）のように、第１基材１５（基材）上に複数の第１電極群２０が面状に広がって分布したものである。第１電極部１０は、各第１電極群２０が縦方向Ｙに所定の間隔を空けて並列されている。また、各第１電極群２０は、互いに平行となっている。
第１基材１５は、第１電極群２０を支持する透明基材であり、板状又はフィルム状の絶縁基材である。
第１基材１５としては、絶縁性を有していれば特に限定されるものではなく、例えば、ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンナフタレートなどの透明材料からなる絶縁基材が採用できる。
また、第１基材１５の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。
本実施形態の第１基材１５はＰＥＴフィルムを使用しており、その屈折率は１．５８程度である。
第１電極群２０は、図３に示されるように少なくとも一本の第１配線２１を備えている。
第１電極群２０を構成する第１配線２１の本数は、特に限定されないが、２本以上であることが好ましく、３本以上であることがより好ましい。
第１電極群２０が複数本の第１配線２１で形成されることによって、使用者の操作に伴う静電容量の検知がより正確となる。また、各第１配線２１が互いに電気的に並列接続されることから配線抵抗が下がり、応答速度が向上する。
一方、１つの第１電極群２０が有する第１配線２１の本数が多すぎると、第１電極群２０によってディスプレイ装置３からの光が遮断されてしまい、ディスプレイ装置３の輝度が低下すること及び使用者側から第１配線２１が見えることで見栄えが悪くなる。そのため、ディスプレイ装置３のサイズにもよるが、各第１電極群２０を構成する第１配線２１の本数は、５０本以下であることが好ましく、２０本以下であることがより好ましく、１０本以下であることがさらに好ましい。
なお、本実施形態では、各第１電極群２０が１９本の第１配線２１を実際に備えているが、理解を容易にするために、各図面では、１つの第１電極群２０につき、それぞれ３本のみ第１配線２１を描写している。
また、第１電極群２０は、図４，図７（ａ）のように、複数の第１配線２１を有している。さらに、第１電極群２０は、隣接する第１配線２１，２１間を接続する第１冗長線２２及び第１接続部２３，２４を有している。
第１配線２１は、使用者の操作位置を検知する機能を果たす部位であり、横方向Ｘに直線上に延びた導電線である。各第１配線２１は、縦方向Ｙにおいて所定の間隔を空けて平行に配列されている。
第１配線２１は、導電体であれば特に限定されるものではない。例えば、銅や銀、金、白金、アルミニウム、クロム等の金属や、金属合金、金属複合体等によって形成できる。
本実施形態では、第１配線２１は、有色金属である銅で形成されており、一定以上の厚みがあって、不透明となっている。
第１配線２１中の非導体成分の含有率は、より抵抗を小さくする観点から全成分の０％以上１０％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。
ここでいう「非導体成分」とは、導体以外の成分であり、樹脂や有機物等の導電性を実質的に有さない不純物成分を表す。
第１接続部２３，２４は、隣接する第１配線２１，２１の端部間を接続する部位であり、各第１配線２１を電気的に並列に結ぶ部位である。
第１冗長線２２は、図４，図７（ａ）のように第１配線２１と交差する方向に延びた導電線であり、隣接する第１配線２１，２１の中間部を接続するものである。
本実施形態の第１冗長線２２は、第１配線２１の長手方向と直交しており、縦方向Ｙ（横方向Ｘに対して直交する方向）に延びている。
なお、ここでいう「中間部」とは、長手方向の中間の部位であって、端部以外の部位である。
第１冗長線２２は、導電体であれば特に限定されるものではない。例えば、銅や銀、金、白金、アルミニウム、クロム等の金属や、金属合金、金属複合体等によって形成できる。
本実施形態では、第１冗長線２２は、第１配線２１と同一材料で形成されている。
ここで、第１電極群２０の各部位の断面形状について説明する。
第１配線２１は、図５（ａ）の拡大図に示されるように、断面形状（長手方向に対して直交する断面）が等脚台形状をしており、第１基材１５側から基端面３０と、側面部３１，３２と、先端面３３（第１端部）を有している。
なお、以下の第１配線２１，第１冗長線２２、第２配線２６及び第２冗長線２７の説明においては、基材から近い側の面を基端面、基材から遠い側の面を先端面ともいう。
基端面３０は、第１基材１５と接合され、界面を形成する部位である。すなわち、基端面３０は、第１基材１５を基準として、第１配線２１の最も内側（ディスプレイ装置３から遠い側）に位置する部位である。
側面部３１，３２は、第１配線２１の側面を形成する部位であり、少なくとも傾斜面３５，３６を有している。
傾斜面３５，３６は、基端面３０に対して交差する方向に傾斜した部位であり、基端面３０側から先端面３３側に向かうにつれて、互いに離反している。すなわち、第１配線２１は、基端面３０側から先端面３３側に向かうにつれて、厚み方向に対して直交する断面積が漸次大きくなっている。別の観点からみると、第１配線２１の断面形状は、第１基材１５に対して逆テーパー状をしているとも言える。つまり、第１配線２１は、高さによって線幅が相違している。
また、本実施形態の傾斜面３５，３６は、基端面３０から先端面３３にかけて側面部３１，３２全体に形成されている。
図５（ａ）で示される先端面３３と傾斜面３５でなす角度θ１及び先端面３３と傾斜面３６でなす角度θ２は、それぞれ２５度以上であることが好ましく、３０度以上であることがより好ましい。
角度θ１，θ２をこの範囲にすることで、使用者側からの光（環境光）が傾斜面３５，３６で反射することにより、使用者側から第１配線２１が見えることを抑制できる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
また、傾斜面３５，３６の傾斜角度θ１，θ２は、８０度以下であることが好ましく、７０度以下であることがより好ましい。
角度θ１，θ２をこの範囲にすることで、ディスプレイ装置３側からの光を傾斜面３５，３６により遮断することを抑制できるので、ディスプレイ装置３の輝度の低下を防止し、使用者側から第１配線２１が見えることを抑制することができる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
なお、本実施形態では、傾斜面３５，３６の角度θ１，θ２は、共に６０度となっている。
先端面３３は、基端面３０と対面する部位であり、第１基材１５を基準として、第１配線２１の最も外側（図５では下側）に位置する部位である。
先端面３３の線幅Ｗ１は、基端面３０の線幅Ｗ２よりも大きく、基端面３０の線幅Ｗ２の１．１倍以上３倍以下であることが好ましく、１．２倍以上２倍以下であることがより好ましい。
また、図５（ａ）の拡大図で示される第１配線２１の厚みＤ１（基端面３０から先端面３３の距離）は、十分な導電経路を確保する観点から、０．５μｍ以上であることが好ましく、０．８μｍ以上であることがより好ましい。
第１配線２１の厚みＤ１は、ディスプレイ装置３からの光の側面部３１，３２での反射を抑制する観点から、２μｍ以下であることが好ましく、１．５μｍ以下であることがより好ましい。
なお、本実施形態では、第１配線２１の厚みＤ１は、１μｍ程度となっている。
第１冗長線２２は、図６（ｂ）の拡大図に示されるように、第１配線２１と概ね同様の形状をしている。すなわち、第１冗長線２２は、第１基材１５側から基端面４０と、側面部４１，４２と、先端面４３を有している。
基端面４０は、第１基材１５と接合され、界面を形成する部位であり、第１基材１５を基準として、第１冗長線２２の最も内側に位置する部位である。
側面部４１，４２は、第１冗長線２２の側面を形成する部位であり、少なくとも傾斜面４５，４６を有している。
傾斜面４５，４６は、基端面４０に対して交差する方向に傾斜しており、基端面４０側から先端面４３側に向かうにつれて、互いに離反している。
また、本実施形態の傾斜面４５，４６は、逆テーパー状をしており、基端面４０から先端面４３にかけて側面部４１，４２全体に形成されている。
図６（ｂ）に示される先端面４３と傾斜面４５でなす角度θ３及び先端面４３と傾斜面４６でなす角度θ４は、それぞれ２５度以上であることが好ましく、３０度以上であることがより好ましい。
角度θ３，θ４をこの範囲にすることで、使用者側からの光（環境光）が傾斜面４５，４６で反射することにより、使用者側から第１冗長線２２が見えることを抑制できる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
また、傾斜面４５，４６の傾斜角度θ３，θ４は、それぞれ８０度以下であることが好ましく、７０度以下であることがより好ましい。
角度θ３，θ４をこの範囲にすることで、ディスプレイ装置３側からの光を傾斜面４５，４６により遮断することを抑制できるので、ディスプレイ装置３の輝度の低下を防止し、使用者側から第１冗長線２２が見えることを抑制することができる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
なお、本実施形態では、傾斜面４５，４６の角度θ３，θ４は、共に６０度となっている。
先端面４３は、基端面４０と対面する部位であり、第１基材１５を基準として、第１冗長線２２の最も外側に位置する部位である。
先端面４３の線幅Ｗ３は、基端面４０の線幅Ｗ４よりも大きいことが好ましく、基端面４０の線幅Ｗ４の１．１倍以上３倍以下であることがより好ましく、１．２倍以上２倍以下であることがさらに好ましい。
また、第１冗長線２２の厚みＤ２（基端面４０から先端面４３の距離）は、十分な導電経路を確保する観点から、０．５μｍ以上であることが好ましく、０．８μｍ以上であることがより好ましい。
第１冗長線２２の厚みＤ２は、ディスプレイ装置３からの光の側面部４１，４２での反射を抑制する観点から、２μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましい。
本実施形態では、第１冗長線２２の厚みＤ２は、第１配線２１の厚みＤ１と同程度の厚みとなっている。
第１電極部１０と第２電極部１２を接続する誘電部材１１に目を移すと、誘電部材１１は、透明性を有し、導電性よりも誘電性が優位な部材である。
誘電部材１１の比誘電率は、標準状態において、２以上４以下であることが好ましい。
また誘電部材１１は、図４に示されるように、板状又はフィルム状をしており、接着性又は粘着性を有している。
誘電部材１１は、表面に粘着機能を備えたフィルム状又は板状の粘着剤を備えた板状体又はフィルム状体であってもよいし、流動体の接着剤を固化させてフィルム状又は板状にしてもよい。
また、誘電部材１１の屈折率は、第１基材１５や第２基材１６の材質等によって適宜設定されるが、１．４０〜１．６０であることが好ましい。
本実施形態では、屈折率１．４８の透明光学粘着フィルム（ＯＣＡフィルム）を採用しており、両面に粘着部を有している。
誘電部材１１の平均厚みは、第１電極部１０と第２電極部１２間の電気伝導を確実に防止する観点から、１０μｍ以上であることが好ましく、ノイズ等の影響を抑制する観点から、２０μｍ以上であることがより好ましい。
また誘電部材１１の平均厚みは、第２電極部１２で静電容量を正確に感知する観点から、１２０μｍ以下であることが好ましく、第２電極部１２で静電容量を確実に感知する観点から、１００μｍ以下であることがより好ましい。
第２電極部１２は、図４のように、第２基材１６（基材）上に複数の第２電極群２５が面状に広がって分布したものである。第２電極部１２は、図７（ｂ）に示されるように、各第２電極群２５が横方向Ｘ（縦方向Ｙに対して直交する方向であって、かつ、厚み方向に対して直交する方向）に所定の間隔を空けて並列されている。また各第２電極群２５は互いに平行となっている。
第２基材１６は、第２電極群２５を支持する透明基材であり、板状又はフィルム状の絶縁基材である。
第２基材１６としては、絶縁性を有していれば特に限定されるものではない。例えば、ガラス、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンナフタレートなどの透明材料で形成された絶縁基材が採用できる。
第２基材１６の屈折率は、１．４０〜１．７０であることが好ましい。
本実施形態の第２基材１６は、第１基材１５と同様、ＰＥＴフィルムを採用しており、その屈折率は１．５８程度である。すなわち、第２基材１６の屈折率は、誘電部材１１の屈折率よりも大きい。
各第２電極群２５は、図７（ｂ）のように、少なくとも一つの第２配線２６を備えている。
各第２電極群２５を構成する第２配線２６の本数は、特に限定されないが、２本以上であることが好ましく、３本以上であることがより好ましい。
第２電極群２５を複数本の第２配線２６で形成されることによって、使用者の操作に伴う静電容量の検知がより正確となる。また、各第２配線２６が電気的に並列接続されることから配線抵抗が下がり応答速度が向上する。
一方、１つの第２電極群２５が有する第２配線２６の本数が多すぎると、第２電極群２５によってディスプレイ装置３からの光が遮断されてしまい、ディスプレイ装置３の輝度が低下すること及び使用者側から第２配線２６が見えることで見栄えが悪くなる。そのため、ディスプレイ装置３のサイズにもよるが、各第２電極群２５を構成する第２配線２６の本数は、５０本以下であることが好ましく、２０本以下であることがより好ましく、１０本以下であることがさらに好ましい。
なお、本実施形態では、各第２電極群２５が１９本の第２配線２６を実際に備えているが、理解を容易にするために、各図面では、１つの第２電極群２５につき、それぞれ３本のみ第２配線２６を描写している。
第２電極群２５は、図７（ｂ）に示されるように、複数の第２配線２６を有している。さらに、第２電極群２５は、隣接する第２配線２６，２６間を接続する第２冗長線２７及び第２接続部２８，２９を有している。
第２配線２６は、使用者の操作位置を検知する機能を果たす部位であり、縦方向Ｙに直線上に延びた導電線である。各第２配線２６は、横方向Ｘにおいて所定の間隔を空けて平行に配列されている。
第２配線２６は、導電体であれば特に限定されるものではない。例えば、第１配線２１と同様、銅や銀、金、白金、アルミニウム、クロム等の金属や、金属合金、金属複合体等によって形成できる。
本実施形態では、第２配線２６は、有色金属である銅によって形成されており、一定以上の厚みがあって、不透明となっている。
第２配線２６中の非導体成分の含有率は、より抵抗を小さくする観点から全成分の０％以上１０％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。
第２接続部２８，２９は、隣接する第２配線２６，２６の端部間を接続する部位であり、各第２配線２６を電気的に並列に結ぶ部位である。
第２冗長線２７は、第２配線２６と交差する方向に延びた導電線であり、隣接する第２配線２６，２６の中間部を接続するものである。
本実施形態の第２冗長線２７は、第２配線２６と直交しており、横方向Ｘに延びている。
第２冗長線２７は、導電体であれば特に限定されるものではない。例えば、銅や銀、金、白金、アルミニウム、クロム等の金属や、金属合金、金属複合体等によって形成できる。
本実施形態では、第２冗長線２７は、第２配線２６と同一材料によって形成されている。
ここで、第２電極群２５の各部位の断面形状について説明する。
第２配線２６は、図６（ａ）の拡大図に示されるように、第１配線２１の天地を逆転した形状をしており、断面形状（長手方向に対して直交する断面）が等脚台形状をしている。
第２配線２６は、第２基材１６側から基端面５０と、側面部５１，５２と、先端面５３を有している。
基端面５０は、第２基材１６と接合され、界面を形成する部位であり、第２基材１６を基準として、第２配線２６の最も内側（ディスプレイ装置３から近い側）に位置する部位である。
側面部５１，５２は、第２配線２６の側面を形成する部位であり、少なくとも傾斜面５５，５６を有している。
傾斜面５５，５６は、基端面５０に対して交差する方向に傾斜した部位であり、基端面５０側から先端面５３側に向かうにつれて、互いに近接している。すなわち、第２配線２６は、基端面５０側から先端面５３側に向かうにつれて、厚み方向に対して直交する断面積が漸次小さくなっている。
別の観点からみると、第２配線２６の断面形状は、テーパー状をしているとも言える。つまり、第２配線２６は、高さによって線幅が相違している。
また、本実施形態の傾斜面５５，５６は、基端面５０から先端面５３にかけて側面部５１，５２全体に形成されている。すなわち、先端面５３と傾斜面５５，５６とがなす角度は、鈍角となっている。言い換えると、先端面５３と側面部５１，５２でなす角部は、先端面５３と側面部５１，５２が直交する場合（先端面５３と側面部５１，５２でなす角が９０度）に比べて緩やかとなっている。
基端面５０と傾斜面５５でなす角度θ５及び基端面５０と傾斜面５６でなす角度θ６は、それぞれ２５度以上であることが好ましく、３０度以上であることがより好ましい。
角度θ５，θ６をこの範囲にすることで、使用者側からの光（環境光）が傾斜面５５，５６で反射することにより、使用者側から第２配線２６が見えることを抑制できる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
また、傾斜面５５，５６の傾斜角度θ５，θ６は、８０度以下であることが好ましく、７０度以下であることがより好ましい。
角度θ５，θ６をこの範囲にすることで、ディスプレイ装置３側からの光を傾斜面５５，５６により遮断することを抑制できるので、ディスプレイ装置３の輝度の低下を防止し、使用者側から第２配線２６が見えることを抑制することができる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
また、傾斜面５５，５６の角度θ５，θ６は、第１冗長線２２の傾斜面４５，４６の角度θ３，θ４（図６（ｂ）参照）と同一角度か、角度θ３，θ４からプラスマイナス５％以内の範囲であることが好ましい。
なお、本実施形態では、傾斜面５５，５６の角度θ５，θ６は、共に６０度となっており、第１冗長線２２の傾斜面４５，４６の角度θ３，θ４（図６（ｂ）参照）と同一角度となっている。
先端面５３は、基端面５０と対面する部位であり、第２基材１６を基準として、第２配線２６の最も外側に位置する部位である。
基端面５０の線幅Ｗ６は、先端面５３の線幅Ｗ５よりも大きいことが好ましく、先端面５３の線幅Ｗ５の１．１倍以上３倍以下であることがより好ましく、１．２倍以上２倍以下であることがさらに好ましい。
また、第２配線２６の厚みＤ３（基端面５０から先端面５３の距離）は、十分な導電経路を確保する観点から、０．３μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましい。
第２配線２６の厚みＤ３は、ディスプレイ装置３からの光の側面部５１，５２での反射を抑制する観点から、１．５μｍ以下であることが好ましく、１．２μｍ以下であることがより好ましい。
なお、本実施形態では、第２配線２６の厚みＤ３は、第２配線２６の抵抗率を第１配線２１の抵抗率と同程度にするために、第１配線２１の厚みＤ１（図５（ａ）参照）及び第１冗長線２２の厚みＤ２（図６（ｂ）参照）よりも薄くしている。具体的には、第２配線２６の厚みＤ３は、０．８μｍ程度となっている。
第２冗長線２７は、図５（ｂ）の拡大図に示されるように、第２配線２６と概ね同様の形状をしており、第２基材１６側から基端面６０と、側面部６１，６２と、先端面６３を有している。
基端面６０は、第２基材１６を基準として、第２冗長線２７の最も内側に位置する部位である。
側面部６１，６２は、第２冗長線２７の側面を形成する部位であり、少なくとも傾斜面６５，６６を有している。
傾斜面６５，６６は、基端面６０に対して交差する方向に傾斜した部位であり、基端面６０側から先端面６３側に向かうにつれて、互いに近接している。
また、本実施形態の傾斜面６５，６６は、テーパー状をしており、基端面６０から先端面６３にかけて側面部６１，６２全体に形成されている。
基端面６０と傾斜面６５でなす角度θ７及び基端面６０と傾斜面６６でなす角度θ８は、それぞれ２５度以上であることが好ましく、３０度以上であることがより好ましい。
角度θ７，θ８をこの範囲にすることで、使用者側からの光（環境光）が傾斜面６５，６６で反射することにより、使用者側から第２冗長線２７が見えることを抑制できる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
また、傾斜面６５，６６の傾斜角度θ７，θ８は、８０度以下であることが好ましく、７０度以下であることがより好ましい。
角度θ７，θ８をこの範囲にすることで、ディスプレイ装置３側からの光を傾斜面６５，６６により遮断することを抑制できるので、ディスプレイ装置３の輝度の低下を防止し、使用者側から第２冗長線２７が見えることを抑制することができる。そのため、表示装置１の見栄えが向上する。
また、傾斜面６５，６６の角度θ７，θ８は、第１配線２１の傾斜面３５，３６の角度θ１，θ２（図５（ａ）参照）と同一角度か、角度θ１，θ２からプラスマイナス５％以内の範囲であることが好ましい。
なお、本実施形態では、傾斜面６５，６６の角度θ７，θ８は、共に６０度となっており、第１配線２１の傾斜面３５，３６の角度θ１，θ２（図５（ａ）参照）と同一角度となっている。
先端面６３は、図５（ｂ）に示されるように、基端面６０と対面する部位であり、第２基材１６を基準として、第２冗長線２７の最も外側に位置する部位である。
基端面６０の線幅Ｗ８は、先端面６３の線幅Ｗ７よりも大きいことが好ましく、先端面６３の線幅Ｗ７の１．１倍以上３倍以下であることがより好ましく、１．２倍以上２倍以下であることがさらに好ましい。
また、第２冗長線２７の厚みＤ４（基端面６０から先端面６３の距離）は、十分な導電経路を確保する観点から、０．５μｍ以上であることが好ましく、０．８μｍ以上であることがより好ましい。
第２冗長線２７の厚みＤ４は、ディスプレイ装置３からの光の側面部６１，６２での反射を抑制する観点から、２μｍ以下であることが好ましく、１．５μｍ以下であることがより好ましい。
本実施形態の第２冗長線２７の厚みＤ４は、第２配線２６の厚みＤ３と同程度の厚みとなっており、第１配線２１の厚みＤ１よりも薄くなっている。
ここで、タッチパネル２の各部位の位置関係について説明する。
タッチパネル２は、図３に示されるように、第１電極部１０と第２電極部１２の間に誘電部材１１が介在した積層構造をとっている。
すなわち、第１基材１５と第２基材１６との間には、図４に示されるように、厚み方向（積層方向）において、第１電極群２０、誘電部材１１、及び第２電極群２５がこの順に介在している。
第１配線２１は、平面視したときに、第２配線２６と交差しており、第１冗長線２２は、第２冗長線２７と交差している。本実施形態では、第１配線２１は、第２配線２６と直交しており、第１冗長線２２は、第２冗長線２７と直交している。
本実施形態では、以下に説明するように、基本的には第１配線２１と第２冗長線２７の位置関係と第１冗長線２２と第２配線２６の位置関係は同じである。
第１配線２１は、図８に示されるように、厚み方向に第２冗長線２７と重なっている。第１配線２１の側面部３１，３２は、図５（ｂ）に示されるように、第２冗長線２７の側面部６１，６２よりも内側（中央側）に位置している。すなわち、第１配線２１は、第２冗長線２７の厚み方向の投影面上に収まっている。
図５（ａ）に示される第１配線２１の最大線幅Ｗ１は、図５（ｂ）に示される第２冗長線２７の最大線幅Ｗ８と同一か最大線幅Ｗ８よりも小さいことが好ましい。
具体的には、第１配線２１の最大線幅Ｗ１は、第２冗長線２７の最大線幅Ｗ８の５０％以上１００％以下であることが好ましく、７５％以上９０％以下であることが好ましい。
この範囲であれば、第１配線２１として十分な導電を確保しつつ、第２冗長線２７の近傍を通過した光の光路の妨げになりにくい。
同様に、第１冗長線２２は、図８に示されるように厚み方向に第２配線２６と重なっている。第１冗長線２２の側面部４１，４２は、図６（ｂ）に示されるように、第２配線２６の側面部５１，５２の内側（中央側）に位置している。すなわち、第１冗長線２２は、第２配線２６の厚み方向の投影面上に収まっている。
図６（ｂ）に示される第１冗長線２２の最大線幅Ｗ３は、図６（ａ）に示される第２配線２６の最大線幅Ｗ６と同一か最大線幅Ｗ６よりも小さいことが好ましい。
具体的には、第１冗長線２２の最大線幅Ｗ３は、第２配線２６の最大線幅Ｗ６の５０％以上１００％以下であることが好ましく、７５％以上９０％以下であることが好ましい。
この範囲であれば、第１冗長線２２として十分な導電を確保しつつ、第２配線２６の近傍を通過した光の光路の妨げになりにくい。
続いて、ディスプレイ装置３について説明する。
ディスプレイ装置３は、図９に示されるように、少なくとも片面に所望の画像や文字等を表示する表示面７０を有している。
表示面７０は、画素部７１と、遮光部７２を有している。
画素部７１は、所望の色情報を表示可能な部位である。画素部７１は、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）等の単色発光する副画素部７３が碁盤状に配されて形成されたものである。
遮光部７２は、副画素部７３間を区切るように配された部位であり、格子状の部位である。また、遮光部７２は、各副画素部７３の間を遮光する部位であり、黒色や白色などの所定の色に着色された部位である。
本実施形態の遮光部７２は、黒色に着色されており、いわゆるブラックマトリクスと呼ばれるものである。
遮光部７２は、図９のように、第１遮光部７６と、第２遮光部７７から形成されている。
第１遮光部７６は、横方向Ｘに直線状に延びた部位であり、各副画素部７３を縦方向Ｙに区切る部位である。
図９に示される第１遮光部７６の幅Ｗ９は、第１配線２１の最大線幅Ｗ１（図５（ａ）の先端面３３の幅）よりも大きく、第２冗長線２７の最大線幅Ｗ８（図５（ｂ）の基端面６０の幅）よりも大きい。第１遮光部７６の幅Ｗ９は、第２冗長線２７の最大線幅Ｗ８の１．２倍以上２倍以下であることが好ましい。
第２遮光部７７は、縦方向Ｙに直線状に延びた部位であり、各副画素部７３を横方向Ｘに区切る部位である。
図９に示される第２遮光部７７の幅Ｗ１０は、第１冗長線２２の最大線幅Ｗ３（図６（ｂ）の先端面４３の幅）よりも大きく、第２配線２６の最大線幅Ｗ６（図６（ａ）の基端面５０の幅）よりも大きい。第２遮光部７７の幅Ｗ１０は、第２配線２６の線幅Ｗ６の１．２倍以上２倍以下であることが好ましい。
続いて、表示装置１の各構成部材の位置関係について説明する。
タッチパネル２は、図２に示されるように、ディスプレイ装置３の表示面７０を覆うように配されている。
第１遮光部７６の厚み方向の投影面は、図５，図１０から読み取れるように第２冗長線２７の基端面６０が覆っている。また、第２遮光部７７の厚み方向の投影面は、図６，図１０から読み取れるように第２配線２６の基端面５０が覆っている。
第１配線２１の一部は、図１０に示されるように第２冗長線２７と重なっており、さらに第１遮光部７６と重なっている。また、第１配線２１の線幅全体が第２冗長線２７と重なっており、第２冗長線２７の線幅全体が第１遮光部７６と重なっている。つまり、第１配線２１の線幅全体が第１遮光部７６と重なっている。
また別の観点からみると、第１配線２１、第２冗長線２７、第１遮光部７６をディスプレイ装置３の表示面７０と平行な平面に投影した場合において、第１配線２１の一部は、第２冗長線２７の外縁の内側（中央側）に位置している。また第２冗長線２７は、第１遮光部７６の外縁（副画素部７３との境界部位）の内側に位置している。
第１冗長線２２の一部は、図１０に示されるように第２配線２６と重なっており、第２配線２６は、第２遮光部７７と重なっている。また、第１冗長線２２の線幅全体が第２配線２６と重なっており、第２配線２６の線幅全体が第２遮光部７７と重なっている。つまり、第１冗長線２２の線幅全体が第２遮光部７７と重なっている。
また別の観点からみると、第１冗長線２２、第２配線２６、第２遮光部７７をディスプレイ装置３の表示面７０と平行な平面に投影した場合において、第１冗長線２２の一部は、第２配線２６の外縁の内側（中央側）に位置している。また第２配線２６は、第２遮光部７７の外縁（副画素部７３との境界部位）の内側に位置している。
ディスプレイ装置３の表示面７０を平面視したときに、隣接する第１配線２１，２１の間には、図１０のように、３つの副画素部７３が位置しており、隣接する第１冗長線２２，２２の間には、６つの副画素部７３が位置している。隣接する第２配線２６，２６の間には、３つの副画素部７３が位置しており、隣接する第２冗長線２７，２７の間には、６つの副画素部７３が位置している。第１電極群２０の第１配線２１の中には、第２冗長線２７が重なる箇所と、重ならない箇所が存在し、第２電極群２５の第２配線２６の中には、第１冗長線２２が重なる箇所と、重ならない箇所が存在する。
続いて、表示装置１の製造方法について説明する。特に本発明の特徴の一つであるタッチパネル２に重点をおいて説明する。
〔セミアディティブ法を用いたタッチパネル２の製造方法〕
まず、タッチパネル２の製造方法から説明する。
本実施形態のタッチパネル２の製造方法では、セミアディティブ法を用いて、第１基材１５上に第１電極群２０を形成する（第１電極群形成工程（電極群形成工程））。
第１電極群形成工程では、まず第１基材１５上に下地層８４を形成する下地層形成工程を行う。具体的には、図１１（ａ），図１１（ｂ）のように第１基材１５の片面に金属触媒を付与してシード層８０を形成する（シード層形成工程）。
このとき、シード層８０は、第１基材１５の全面に形成されている。
このときに形成されるシード層８０の平均膜厚は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。
シード層８０を構成する金属触媒には、例えば、パラジウムなどが採用できる。
次に、まず図１１（ｃ）のように無電解めっき法によって、シード層８０が形成された第１基材１５（以下、積層構造を含めて基材ともいう）上に第１めっき層８１を形成する（第１めっき工程）。
このとき、第１めっき層８１がシード層８０の全面に形成されて、シード層８０と第１めっき層８１からなる下地層８４が形成される。
このときに形成される第１めっき層８１の平均膜厚は、１００ｎｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
次に、図１１（ｄ）のように、下地層形成工程において、下地層８４が形成された基材上にレジスト層８２を形成する（レジスト層形成工程）。
このとき、レジスト層８２は、下地層８４の表面を形成する第１めっき層８１上の全面に形成されている。
なお、本実施形態で使用されるレジスト層８２は、感光性樹脂によって形成されたポジ型フォトレジスト層である。
次に、レジスト層８２に所定の形状の貫通孔９０を形成する貫通孔形成工程を行う。
具体的には、図１１（ｅ）に示されるように、フォトマスク８６を配置し、フォトマスク８６の外側からレジスト層８２に対して紫外線を照射する（露光工程）。
なお、このフォトマスク８６は、レジスト層８２を覆うように所望のパターンが形成された開口８５を備えている。
このとき、開口８５から紫外線がレジスト層８２に照射され、レジスト層８２の一部が感光し、感光部８７が形成される。
その後、図１２（ａ）に示されるように、フォトマスク８６を取り外し、現像を行い、レジスト層８２の感光部８７を除去する（現像工程）。
このとき、レジスト層８２には、所定のパターン状の貫通孔９０が形成され、当該貫通孔９０から第１めっき層８１の一部が露出している。
またこのとき、貫通孔９０は、スリット状に延びた長溝であって、内側面に傾斜面９１が形成されている。すなわち、貫通孔９０は、延び方向に対して直交する断面形状が内側面間の間隔がレジスト層８２の厚み方向で漸次変化している。
次に、図１２（ｂ）に示されるように、貫通孔形成工程によって貫通孔９０が形成された基材に対して、めっき法によって第２めっき層８３を形成する（第２めっき工程）。
このとき、下地となる第１めっき層８１のレジスト層８２からの露出部位を基点としてめっきされ、所定の形状にパターンニングされた第２めっき層８３（導電層）が形成される。
またこのとき傾斜面９１の形状が反映され、第２めっき層８３の側面に傾斜面が形成される。すなわち、第１配線２１の傾斜面３５，３６及び第１冗長線２２の傾斜面４５，４６が形成される。
なお、このとき行われるめっき法は、電解めっき法でも無電解めっき法でもよい。
本実施形態では、電解めっき法によって第２めっき層８３を形成する。
その後、図１２（ｂ），図１２（ｃ）から読み取れるように、レジスト除去剤を用いて、第２めっき層８３が形成された基材からレジスト層８２を除去し（レジスト除去工程）、図１２（ｄ）に示されるように、当該レジスト層８２の除去により露出した下地層８４を除去する。
その後、水洗い等を行うことで、第１基材１５に所望の第１電極群２０が形成されて第１電極群形成工程が終了する。
本実施形態のタッチパネル２の製造方法では、別途工程にて、セミアディティブ法により第２基材１６上に第２電極群２５を形成する第２電極群形成工程（電極群形成工程）を行う。
この第２電極群形成工程は、上記した第１電極群形成工程と同様であるため、説明を省略する。
上記した第１電極群形成工程及び第２電極群形成工程により、第１電極群２０を実装した第１基材１５と、第２電極群２５を実装した第２基材１６を、第１電極群２０と第２電極群２５が対向するように誘電部材１１で接着し（接着工程）、タッチパネル２を形成する。
具体的には、第２電極群２５を覆うように誘電部材１１の片面を接着し、その後、第１電極群２０を覆うように誘電部材１１の他面を接着する。
このとき、第２配線２６の側面部５１，５２は、誘電部材１１と当接する先端面５３から基端面５０にかけて傾斜した傾斜面５５，５６を有しているので、先端面５３と傾斜面５５，５６でなす角部が緩やかとなっている。そのため、第２電極部１２に誘電部材１１の粘着部を貼りつける際に、図１４のように、誘電部材１１が傾斜面５５，５６に沿いやすく、第２配線２６と誘電部材１１の粘着部の間に気泡が入りにくい。
同様に、第２冗長線２７の側面部６１，６２は、誘電部材１１と当接する先端面６３から基端面６０にかけて傾斜した傾斜面６５，６６を有しているので、先端面６３と傾斜面６５，６６でなす角部が緩やかとなっている。そのため、誘電部材１１の粘着部を貼りつける際に、誘電部材１１が傾斜面６５，６６に沿いやすく、第２冗長線２７と誘電部材１１の間に気泡が入りにくい。
このように、誘電部材１１の粘着部が第２電極群２５との間で実質的に隙間無く密着しているので、一体化強度が高い。
そして、別途工程によって製造されたディスプレイ装置３上にタッチパネル２を載置し、図示しない接着剤によって互いに接着する。
このとき、タッチパネル２の各電極群２０，２５は、図１０のように、ディスプレイ装置３の遮光部７２と厚み方向において重なるように配されている。すなわち、第１配線２１及び第２冗長線２７は、第１遮光部７６の上方に位置しており、第２配線２６及び第１冗長線２２は、第２遮光部７７の上方に位置している。
本実施形態の表示装置１は、以上の工程を得て、製造できる。
続いて、本実施形態のディスプレイ装置３の内部構造について図１３に基づいて説明する。
ディスプレイ装置３は、いわゆるＴＦＴ方式を採用した液晶ディスプレイであり、液晶部１００と、光源部１０１とから形成されている。
液晶部１００は、図１３に示されるように、第１偏光部材１０２、第１絶縁基板１０３、第１透明電極層１０５、薄膜トランジスタ１０６、第１配向層１０７、液晶層１０８、第２配向層１１０、第２透明電極層１１１、遮光層１１２、カラーフィルタ１１３、第２絶縁基板１１４、及び第２偏光部材１１５を備えている。
具体的には、液晶部１００は、図１３のように第１絶縁基板１０３の下面（光源部１０１側の面）に第１偏光部材１０２が形成されており、第１絶縁基板１０３の上面（タッチパネル２側の面）に第１透明電極層１０５及び薄膜トランジスタ１０６が形成されている。
また、第１透明電極層１０５及び薄膜トランジスタ１０６の上面には、第１配向層１０７が形成されており、第１配向層１０７の上面には、液晶層１０８が形成されている。
さらに液晶層１０８の上面には、第２配向層１１０が形成されており、第２配向層１１０の上面には、第２透明電極層１１１が形成されている。
第２透明電極層１１１の上面には、遮光層１１２及びカラーフィルタ１１３が形成されており、遮光層１１２及びカラーフィルタ１１３の上面に第２絶縁基板１１４が載置されている。第２絶縁基板１１４の上面には、第２偏光部材１１５が形成されている。
第１偏光部材１０２は、光源部１０１からの入射光を制限する部材であり、所定の振動方向の光のみを通過させるものである。
第１絶縁基板１０３は、透明性を有し、第１透明電極層１０５を通過する電気を外部から遮断する透明絶縁基板である。
第１透明電極層１０５は、導電性を有した導電層であって、液晶層１０８に電圧を印加するための電極層である。
薄膜トランジスタ１０６は、公知の薄膜トランジスタである。
第１配向層１０７は、液晶層１０８内の液晶分子を一定方向に配列させるための層である。
液晶層１０８は、液体と固体の中間の状態にある液晶分子で形成されており、自然状態では、液晶分子がゆるやかな規則性をもって並んだものである。
液晶層１０８は、電圧をかけると液晶分子の並び方が変わる性質を有しており、第１透明電極層１０５と第２透明電極層１１１との間に電圧を印加することによって分子の並び方を変化させることが可能である。
本実施形態の液晶層１０８は、負の誘電異方性を有しており、液晶分子の長軸方向の誘電率が短軸方向の誘電率よりも小さい。
第２配向層１１０は、液晶層１０８の液晶分子を一定方向に配列させるための層である。
第１配向層１０７及び第２配向層１１０は同一材料で形成されていても良いし、異なる材料で形成されていてもよい。
第２透明電極層１１１は、導電性を有した導電層であって、第１透明電極層１０５と対をなす層であり、液晶層１０８に電圧を印加するための電極層である。
遮光層１１２は、平面視したときに、薄膜トランジスタ１０６を覆い隠す層であり、表示面７０の遮光部７２を構成する層である。
また、遮光層１１２は、カラーフィルタ１１３の不必要な光を遮光し、コントラストを向上させるものである。
カラーフィルタ１１３は、平面視したときに、表示面７０の副画素部７３を構成するフィルタである。
また、カラーフィルタ１１３は、通過する可視光を特定の波長領域の光に制限するフィルタであり、Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の三原色の光のうち所望の色の光を取り出すことが可能となっている。
第２絶縁基板１１４は、透明性を有し、第２透明電極層１１１を通過する電気を外部から遮断する透明絶縁基板である。
第２偏光部材１１５は、第２絶縁基板１１４からの透過光を制限する部材であり、所定の振動方向の光のみを通過させるものである。
光源部１０１は、液晶部１００に向かって光を照射する部位である。
光源部１０１は、光源としての機能を有すれば、特に限定されるものではなく、例えば、ＬＥＤ装置や有機ＥＬ装置などの発光装置が使用できる。
続いて、第１実施形態の表示装置１の機能について説明する。
表示装置１は、ディスプレイ装置３のカラーフィルタ１１３から照射された光の一部は、第２絶縁基板１１４を透過して、第２偏光部材１１５に至る。そして、特定の振動方向の光のみが第２偏光部材１１５を通過して、第２偏光部材１１５とタッチパネル２の第１基材１５との界面で屈折し、タッチパネル２に導入される。
第１配線２１の側面部３２（側面部３１）が先端面３３に対して直立している場合には、図１５（ｂ）のように光が側面部３２（側面部３１）で反射される。そのため、使用者側に側面部３２での反射光が伝わり、使用者側から第１配線２１の側面部３２が見えて、見栄えが悪化する場合がある。
一方、本実施形態のタッチパネル２は、第１配線２１の側面部３２（側面部３１）に傾斜面３６（傾斜面３５）を有するので、図１５（ａ）のように、光が側面部３２（側面部３１）で反射せずに通過することができる。そのため、使用者側に側面部３１，３２の傾斜面３５，３６での反射光が伝わることを防止できる。
また、使用者側からの光が入射した場合について注目すると、本実施形態の表示装置１は、使用者側に近い基端面３０の線幅が使用者側から遠い先端面３３の線幅よりも狭い。そのため、図１６（ｂ）に示される第１配線２１の側面部３２（側面部３１）が先端面３３に対して直立している場合に比べて、図１６（ａ）のように基端面３０で全反射が起こりにくく、使用者に反射光が届きにくい。それ故に、使用者側から第１配線２１の基端面３０での反射により、第１配線２１が見えることを抑制することができる。
第１実施形態の表示装置１の製造方法によれば、セミアディティブ法によって各電極群２０，２５を形成するため、金属使用量を低減することができる。
第１実施形態のタッチパネル２は、第２配線２６の最大線幅Ｗ６が第１配線２１の最大線幅Ｗ１よりも大きい。そのため、タッチパネル２は、第２配線２６を第１配線２１と同程度の導電面積を確保する際に、第２配線２６の厚みＤ３を第１配線２１の厚みＤ１よりも小さくすることができ、タッチパネル２全体の厚みを抑えることができる。
第１実施形態の表示装置１によれば、第１遮光部７６の幅Ｗ９が第１配線２１の最大線幅Ｗ１や第２冗長線２７の最大線幅Ｗ８よりも大きいので、モアレの発生を抑制でき、品位の悪化を防止することができる。
同様に、第１実施形態の表示装置１によれば、第２遮光部７７の幅Ｗ１０が第１冗長線２２の最大線幅Ｗ３や第２配線２６の最大線幅Ｗ６よりも大きいので、モアレの発生を抑制でき、品位の悪化を防止することができる。
続いて、第２実施形態における表示装置について説明する。なお、第１実施形態と同様の構成については、同様の符番を付して、説明を省略する。
第２実施形態の表示装置は、第１実施形態の表示装置１とタッチパネルの製造方法が異なる。
すなわち、第２実施形態のタッチパネル１２０は、サブトラクティブ法によって第１電極群２０及び／又は第２電極群２５を形成する。
〔サブトラクティブ法を用いたタッチパネル１２０の製造方法〕
以下、第２実施形態におけるタッチパネル１２０の製造方法について説明する。
本第２実施形態の第１電極群形成工程（電極群形成工程）では、まず第１基材１５上に導電層１２４を形成する導電層形成工程を行う。
具体的には、まず、図１７（ａ），図１７（ｂ）のように、第１基材１５の片面に金属触媒を付与してシード層８０を形成する（シード層形成工程）。
その後、図１７（ｃ）のように、無電解めっき法によって、シード層８０が形成された第１基材１５上に第１めっき層８１を形成する（第１めっき工程）。
その後、図１７（ｄ）のように、第１めっき工程において、第１めっき層８１が形成された基材上に、電解めっき法にて第２めっき層１２１を形成する（第２めっき工程）。
このとき、第２めっき層１２１は、第１めっき層８１の全面に形成されて、シード層８０と第１めっき層８１と第２めっき層１２１からなる導電層１２４が形成される。
次に、導電層１２４上に所定の形状にパターニングされたレジスト層１２２を形成するレジスト工程を行う。
具体的には、図１７（ｅ）に示されるように第２めっき層１２１が形成された基材上にレジスト層１２２を形成する（レジスト層形成工程）。
このとき、レジスト層１２２は、ポジ型フォトレジスト層であり、導電層１２４の表面を形成する第２めっき層１２１上の全面に形成されている。
その後、図１７（ｆ）に示されるようにレジスト層１２２を覆うように所望のパターンが形成された開口１２５を備えたフォトマスク１２６を配置し、フォトマスク１２６の外側からレジスト層１２２に対して紫外線を照射する（露光工程）。
このとき、開口１２５から紫外線がレジスト層１２２に照射され、レジスト層１２２の一部が感光し、感光部１２３が形成される。
また、開口１２５の位置は、第１実施形態のフォトマスク８６の開口８５の位置と逆である。
その後、図１８（ａ）に示されるようにフォトマスク１２６を取り外し、現像を行い、レジスト層１２２の感光部１２３を除去する（現像工程）。
このとき、レジスト層１２２には、所定のパターン状の貫通孔１２７が形成され、当該貫通孔から第２めっき層１２１の一部が露出した露出部１２８が形成される。
次に、レジスト工程により、図１８（ｂ）のようにパターニングされたレジスト層１２２が形成された基材をエッチング液に浸して、第２めっき層１２１の露出部１２８をエッチング液に晒して、導電層１２４を部分的に除去する。こうすることによって導電層１２４をパターニングする（第１エッチング工程）。
このとき、導電層１２４には、溶解穴１３０が形成されている。この溶解穴１３０の側面１３１，１３２は、ほぼ平面となっており、基材に対して直立している。
その後、エッチング液を洗い流し、図１８（ｃ）に示されるように所定のレートで溶解穴１３０内にエッチング液を導入し、エッチングを行う（第２エッチング工程）。
このとき、溶解穴１３０の側面１３１，１３２が底部側（第１基材１５側）から浸食され、導電層１２４の側面に傾斜面１４４が形成される。すなわち、第１配線２１の傾斜面３５，３６及び第１冗長線２２の傾斜面４５，４６が形成される。
その後、図１８（ｄ）に示されるようにレジスト除去剤を用いて、レジスト層１２２を除去し（レジスト除去工程）、水洗い等を行って、第１基材１５に所望の第１電極群２０が形成され、第１電極群形成工程を終了する。
本実施形態のタッチパネル１２０の製造方法では、別途工程にて、サブトラクティブ法により第２基材１６上に第２電極群２５を形成する第２電極群形成工程（電極群形成工程）を行う。
この第２電極群形成工程は、上記した第１電極群形成工程と、基本的な工程は、ほぼ同様であるため、異なる工程について説明する。
レジスト工程により、図１９（ａ），図１９（ｂ）のようにパターニングされたレジスト層１３６が形成された基材をエッチング液に浸して、第２めっき層１２１の露出部１３８をエッチング液に晒し、導電層１２４を部分的に除去する。こうすることによって、導電層１２４をパターニングする（第３エッチング工程）。
このとき、エッチング速度等を制御して導電層１２４に対してサイドエッチングを行い、導電層１２４の側面に傾斜面１４５を形成する。すなわち、第２配線２６の傾斜面５５，５６及び第２冗長線２７の傾斜面６５，６６が形成される。
またこのときのエッチファクタは、０．４７以上５．６７以下であることが好ましい。
なお、ここでいう「エッチファクタ」とは、導体の厚さ方向におけるエッチング深さと、導体の幅方向におけるエッチング深さの比である。すなわち、エッチファクタは、厚さ方向におけるエッチング深さＴを幅方向におけるエッチング深さＤで割った値である。
その後、図１９（ｃ）のように、レジスト除去剤を用いて、レジスト層１３６を除去し（レジスト除去工程）、水洗い等を行うことで、第２基材１６に所望の第２電極群２５が形成されて第２電極群形成工程を終了する。
本第２実施形態のタッチパネル１２０の製造方法によれば、サイドエッチングによって、第２電極群２５の傾斜面５５，５６，６５，６６を形成するため、一度に複数の傾斜面を同時に形成することができる。
続いて、第３実施形態における表示装置について説明する。なお、第１，２実施形態と同様の構成については、同様の符番を付して、説明を省略する。
第３実施形態の表示装置は、第１実施形態の表示装置１とタッチパネルの製造方法が異なる。
具体的には、第３実施形態のタッチパネル１５０の各電極群２０，２５のパターニングをレーザースクライブによって行う。
以下、第３実施形態のタッチパネル１５０の製造方法について説明する。なお、第１電極群２０を形成する第１電極群形成工程及び第２電極群２５を形成する第２電極群形成工程以外は、第１実施形態のタッチパネル２の製造方法と同様であるため、説明を省略する。
〔レーザー発生装置を用いたタッチパネル２の製造方法〕
まず、第３実施形態の第１電極群形成工程（電極群形成工程）では、図２０（ａ），図２０（ｂ）のように第１基材１５上に導電層１５１を形成する（導電層形成工程）。
このときの導電層１５１の形成方法は特に限定されるものではない。例えば、スパッタ法や真空蒸着法、めっき法等が採用できる。
その後、レーザースクライブ装置（レーザー発生装置）を用いて、図２０（ｃ）に示されるように導電層１５１に対して、第１基材１５側からレーザー光を照射させ、導電層１５１の一部を除去していく（第１レーザー工程）。
このとき使用されるレーザー光は、強度分布がガウシアン分布となるガウシアンビームを使用している。
そのため、残った導電層１５１の面方向の端面は、図２０（ｄ）のように傾斜面１５２を形成している。すなわち、第１配線２１の傾斜面３５，３６及び第１冗長線２２の傾斜面４５，４６が形成される。
なお、レーザースクライブ装置は、Ｘ・Ｙテーブルと、レーザー発生装置及び光学系部材を有するものである。第１レーザースクライブ工程は、基材をＸ・Ｙテーブル上に設置し、レーザー光線を照射しつつ、基材を縦方向に一定の速度で直線移動させることによって行う。そしてＸ・Ｙテーブルを横方向に移動してレーザー光線の照射位置をずらし、レーザー光線を照射しつつ基材を再度縦方向に直線移動させることによって行う。
その後、水洗い等を行い、第１電極群２０が形成される。
また別途工程によって、第２電極群形成工程（電極群形成工程）を行う。
まず、第２電極群形成工程では、図２１（ａ），図２１（ｂ）のように第２基材１６上に導電層１５５を形成する（導電層形成工程）。
このときの導電層１５５の形成方法は、特に限定されるものではない。例えば、スパッタ法や真空蒸着法、めっき法等が採用できる。
その後、レーザースクライブ装置を用いて、図２１（ｃ）に示されるように、導電層１５５の表面側（第２基材１６と反対側）からレーザー光を照射させ、導電層１５５の一部を除去していき、第２電極群２５を形成する（第２レーザー工程）。
すなわち、第２レーザー工程のレーザー光の照射は、第１レーザー工程と反対側から照射している。そのため、残った導電層１５５の面方向の端面は、図２１（ｄ）のように傾斜面１５４を形成している。すなわち、第２配線２６の傾斜面５５，５６及び第２冗長線２７の傾斜面６５，６６が形成される。
その後、水洗い等を行い、第２電極群２５が形成される。
第３実施形態のタッチパネル１５０の製造方法によれば、化学エッチングを必要とせずにパターンニングできるため、各電極群２０，２５がアルカリ等の影響を受けにくい。
また、第３実施形態のタッチパネル１５０の製造方法によれば、レジスト層を使用する必要がないため、レジスト層を使用する場合に比べてコストを低減できる。
上記した実施形態では、第１配線２１、第１冗長線２２、第２配線２６及び第２冗長線２７の断面形状をいずれも等脚台形状としたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、第１配線２１、第１冗長線２２、第２配線２６及び第２冗長線２７の断面形状は、図２２（ａ）のように三角形状であってもよいし、図２２（ｂ）のように六角形状であってもよい。また、図２２（ｃ）のように先端面が丸みを帯びていてもよいし、それぞれ脚の長さが異なる台形状であってもよい。さらに、第１配線２１、第１冗長線２２、第２配線２６及び第２冗長線２７の断面形状は、半円状であってもよいし、半楕円状であってもよい。
これらの中でも、粘着剤との接着し易いこと、ディスプレイ装置３側及び使用者側からの光の反射が生じ難い形状である観点から、第１配線２１、第１冗長線２２、第２配線２６及び第２冗長線２７の断面形状は、等脚台形状や三角形状であることが好ましい。
上記した実施形態では、第１配線２１、第１冗長線２２、第２配線２６及び第２冗長線２７のそれぞれの断面形状が等脚台形状であるから、平面視したときに、ディスプレイ装置３側の端面（内側端面）の幅方向（長手方向に対して直交する方向）の中央に使用者側の面（外側端面）が位置していたが、本発明はこれに限定されるものではなく、図２２（ｄ）のように、外側端面は、内側端面の中央からずれた位置にあってもよい。
上記した実施形態では、第１配線２１，２１間のピッチや第２配線２６，２６間のピッチを一義的に決めていたが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、実際の表示装置１の製造において、複数種類のディスプレイ装置に合わせて、タッチパネル２を製造する必要が生じる場合がある。
このような場合において、冗長線２２，２７を全ての遮光部７２内に設置するのは、冗長線２２，２７の本数が多くなり、困難である。
また、ディスプレイ装置の種類によって、固有の遮光部７２の間隔（第１遮光部７６，７６間の間隔や第２遮光部７７，７７間の間隔）がある。そのため、冗長線２２，２７を全ての遮光部７２内に設置するには、それぞれのディスプレイ装置の遮光部７２の間隔に合わせて冗長線２２，２７を設計する必要が生じる。
そこで、本発明のタッチパネル２は、Ｍ種類のディスプレイ装置の遮光部７２，７２のピッチをそれぞれＮ1，Ｎ2，Ｎ3，・・・，ＮM（Ｎ，Ｍはいずれも整数）としたときに、第１冗長線２２，２２間のピッチ及び／又は第２冗長線２７，２７間のピッチを、そのそれぞれの遮光部７２の間隔Ｎ1，Ｎ2，Ｎ3，・・・，ＮMの最小公倍数ＬＣＭ（Ｎ1，Ｎ2，Ｎ3，・・・，ＮM）の長さとしてもよい。
例えば、タッチパネル２を２種類（Ｍ種類）のディスプレイ装置に対応させる場合について説明する。
つまり、タッチパネル２を、第２遮光部７７，７７間のピッチ（Ｎ1）が２ｍｍのディスプレイ装置と、第２遮光部７７，７７間のピッチ（Ｎ2）が３ｍｍのディスプレイ装置で適用させる場合では、タッチパネル２の第１冗長線２２，２２間のピッチを２ｍｍ（Ｎ1）と３ｍｍ（Ｎ2）の最小公倍数である６ｍｍ（ＬＣＭ（Ｎ1，Ｎ2））とする。こうすることで、タッチパネル２を２種類のディスプレイ装置に対応することができる。
このようにタッチパネル２の冗長線２２，２７の間隔を設定することによって、生産性を向上させることができる。
上記した実施形態では、第１配線２１の最大線幅Ｗ１を第２冗長線２７の最大線幅Ｗ８とほぼ同じかそれより小さいものとしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、第１配線２１の最大線幅Ｗ１を第２冗長線２７の最大線幅Ｗ８よりも大きいものとしてもよい。
この場合、使用者側からは第２冗長線２７が第１配線２１に隠れて見えないため、第２冗長線２７の存在による開口率の低下を防止できる。
上記した実施形態では、第１冗長線２２及び第２冗長線２７を設けたが、本発明はこれに限定されるものではなく、第１冗長線２２及び第２冗長線２７を設けなくてもよい。
上記した実施形態では、第１冗長線２２及び第２冗長線２７をディスプレイ装置３の遮光部７２と重なるように設置したが、本発明はこれに限定されるものではなく、平面視したときに第１冗長線２２及び第２冗長線２７は副画素部７３と重なって配されていてもよい。
上記した実施形態では、ディスプレイ装置３上にタッチパネル２を直接載置したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ディスプレイ装置３とタッチパネル２との間に他の部材が介在していてもよい。
例えば、図２３のように、ディスプレイ装置３からの光を屈折させる屈折シート１９０（屈折部材）を設けて、ディスプレイ装置３の視野角を拡大させてもよい。
この場合、屈折シート１９０からの光路に合わせて各電極群２０，２５の側面形状を形成することが好ましい。
具体的には、図２４のように、ディスプレイ装置３から屈折シート１９０に対して垂直に光が入射し、屈折シート１９０を透過した光のタッチパネル２の入射角をσとすると、各傾斜面の傾斜角度θ１〜θ８は、角度（９０−σ）以下であることが好ましい。
こうすることによって、傾斜面で屈折シート１９０を透過した光が反射することを防止できる。
なお、屈折シート１９０が介在しない場合であっても、同様の理由により、タッチパネル２の入射角をδとすると、各傾斜面の傾斜角度θ１〜θ８を角度（９０−δ）以下としてもよい。
上記した実施形態では、金属触媒を付与してシード層８０を形成し、シード層８０上に第１めっき層８１を形成することで第２めっき層８３の形成時の下地層としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、下地層の形成方法は、特に限定されるものではない。例えば、スパッタ法によって下地層を形成してもよい。また、下地層は、３以上の多層構造であってもよいし、単層構造であってもよい。
上記した第１実施形態では、第１電極部１０と第２電極部１２を、第１電極群２０と第２電極群２５が対向するように誘電部材１１で接着してタッチパネル２を形成したが、第１電極部１０と第２電極部１２の各部位の位置関係はこれに限定されるものではない。
例えば、図２５のように、第１電極群２０と第２電極群２５の間に第１基材１５が位置する構造としてもよい。
この場合、第１電極群２０では、図２５（ａ）のように使用者側に位置する先端面３３の線幅が使用者側から遠い基端面３０の線幅よりも小さくなる。すなわち、第１電極群２０の断面形状は、側面部３１，３２（側面部４１，４２）がテーパー状となっている。
つまり、第１配線２１は、厚み方向において基端側から先端側に向けて断面面積が漸次減少しており、基端面３０の線幅が先端面３３の線幅に比べて大きい。同様に第１冗長線２２も、厚み方向において基端側から先端側に向けて断面面積が漸次減少しており、基端面４０の線幅が先端面４３の線幅に比べて大きい。
また、第２電極群２５では、図２５（ｂ）のように使用者側に位置する先端面５３の線幅が使用者側から遠い基端面５０の線幅よりも小さくなる。すなわち、第２電極群２５の断面形状は、側面部５１，５２（側面部６１，６２）がテーパー状となっている。
つまり、第２配線２６は、厚み方向において基端側から先端側に向けて断面面積が漸次減少しており、基端面５０の線幅が先端面５３の線幅に比べて大きい。同様に第２冗長線２７も、厚み方向において基端側から先端側に向けて断面面積が漸次減少しており、基端面６０の線幅が先端面６３の線幅に比べて大きい。
上記した実施形態では、２枚の基材１５，１６に各電極群２０，２５を支持させてタッチパネル２を形成したが、本発明はこれに限定されるものではない。
例えば、図２６のように、基材１８０の両面に第１電極群２０と第２電極群２５を形成してもよい。
この場合、第１電極群２０では、図２６（ａ）のように使用者側に位置する先端面３３の線幅が使用者側から遠い基端面３０の線幅よりも小さくなる。
また、第２電極群２５では、図２６（ｂ）のように使用者側に位置する基端面５０の線幅が使用者側から遠い先端面５３の線幅よりも小さくなる。
すなわち、第１電極群２０の断面形状は、側面部３１，３２（側面部４１，４２）がテーパー状となっており、第２電極群２５の断面形状は、側面部５１，５２（側面部６１，６２）が逆テーパー状となっている。
上記した実施形態では、第１電極部１０と第２電極部１２を貼り合わせてタッチパネル２を形成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、図２７のタッチパネル１８４のように一つの基材１８５上に順次積層して形成してもよい。
このタッチパネル１８４は、基材１８５上に第２電極群２５、絶縁シート１８６、及び第１電極群２０の順に積層している。
この場合、第１電極群２０では、図２７（ａ）のように使用者側に位置する先端面３３の線幅が使用者側から遠い基端面３０の線幅よりも小さくなる。
また、第２電極群２５では、図２７（ｂ）のように使用者側に位置する先端面５３の線幅が使用者側から遠い基端面５０の線幅よりも小さくなる。
すなわち、第１電極群２０及び第２電極群２５の断面形状は、側面部３１，３２（側面部４１，４２）及び側面部５１，５２（側面部６１，６２）がともにテーパー状となっている。
上記した実施形態では、平面視したときに、第２冗長線２７の幅方向（縦方向Ｙ）の中央に第１配線２１が位置し、第２配線２６の幅方向（横方向Ｘ）の中央に第１冗長線２２が位置していたが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、図２８のように、第１配線２１が第２冗長線２７の中央からの幅方向にずれた位置に配されていてもよい。同様に、第２配線２６が第１冗長線２２の中央からの幅方向にずれた位置に配されていてもよい。
上記した実施形態では、第１配線２１と第２配線２６の抵抗をほぼ同程度にするために、第２配線２６の厚みを第１配線２１の厚みに比べて薄くしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、第１配線２１と第２配線２６の厚みは同じであってもよい。この場合、第１配線２１の配線本数を第２配線２６の配線本数に比べて多く形成することが好ましい。
上記した第１実施形態では、第１配線２１及び第２配線２６が縦横方向に配列していたが、本発明はこれに限定されるものではなく、第１配線２１及び第２配線２６は斜め方向に配列していてもよい。すなわち、第１配線２１及び第２配線２６が互いに交差して菱形状に配列していてもよい。
上記した第１実施形態では、第１電極部１０及び第２電極部１２を同一手法によってパターニングしたが、本発明はこれに限定されるものではなく、異なる手法によって形成してもよい。
例えば、第１電極部１０をレーザースクライブによってパターンニングし、第２電極部１２をサブトラクティブ法によってパターンニングしてもよい。
上記した第１，２実施形態では、レジスト層として、ポジ型のレジスト材料を採用していたが、本発明はこれに限定されるものではなく、ネガ型のレジスト材料を採用してもよい。この場合、レジスト層のパターニング位置は、ポジ型の場合と反転する。
上記した第３実施形態では、強度分布がガウシアン分布をもったレーザー光で導電層１５１の一部を除去したが、本発明はこれに限定されるものではなく、レーザー光の強度分布は限定されない。また、レーザー光の導電層１５１への入射角によって傾斜面を形成してもよい。
上記した実施形態では、誘電部材１１は、一部材で形成されていたが、本発明はこれに限定されるものではなく、複数部材から形成されていてもよい。
上記した実施形態では、ディスプレイ装置とタッチパネルとが別体で形成され、ディスプレイ装置上にタッチパネルを載置した、いわゆるオンセル型の表示装置であったが、ディスプレイ装置（ディスプレイ部）内にタッチパネル（タッチパネル部）が組み込まれた、インセル型の表示装置であってもよい。
加工が容易である点からは、上記した実施形態のように、オンセル型の表示装置であることが好ましい。
上記した実施形態では、第１配線２１、第１冗長線２２、第２配線、及び第２冗長線を、めっき法を利用して形成したが、本発明はこれに限定されるものではなく、印刷法等の他の方法によって形成してもよい。また、めっき法の種類も問わない。電解めっき法でも無電解めっき法であってもよい。
また、第１配線２１と第１冗長線２２は、上記した実施形態のように同時に形成しても良いし、別途形成してもよい。同様に、第２配線２６と第２冗長線２７は、上記した実施形態のように同時に形成しても良いし、別途形成してもよい。
上記した実施形態では、ディスプレイ装置３としてＴＦＴ方式の液晶ディスプレイを用いた場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ディスプレイ装置は、有機ＥＬディスプレイやプラズマディスプレイなどの自発光タイプのディスプレイであってもよい。
１ 表示装置
２，１２０，１５０ タッチパネル（タッチパネル部）
３ ディスプレイ装置（ディスプレイ部）
１０ 第１電極部
１１ 誘電部材（誘電部）
１２ 第２電極部
１５ 第１基材（基材）
１６ 第２基材（基材）
２０ 第１電極群
２１ 第１配線
２２ 第１冗長線
２５ 第２電極群
２６ 第２配線
２７ 第２冗長線
３１，３２ 側面部
３３ 先端面（第１端部）
３５，３６ 傾斜面
７１ 画素部
７２ 遮光部
７３ 副画素部
７６ 第１遮光部
７７ 第２遮光部
８２，１２２ レジスト層
８３ 第２めっき層（導電層）
８４ 下地層
９０ 貫通孔
１２４，１５１，１５５ 導電層
１９０ 屈折シート（屈折部材）

Claims (11)

  1. 複数の副画素部を有し色情報を表示する画素部と、前記副画素部間を区切る遮光部を備えたディスプレイ装置に取り付けられ、前記画素部と前記遮光部を覆うように設置されるタッチパネルにおいて、
    第１電極部と、第２電極部と、第１電極部と第２電極部との間に介在する誘電部を有し、
    前記第１電極部は、１又は複数の第１配線からなる第１電極群を有し、
    前記第２電極部は、１又は複数の第２配線からなる第２電極群を有し、
    前記第１電極群は、平面視したときに、前記第２電極群と交差する方向に延びており、
    前記第１配線の大部分又は全部は、平面視したときに、その線幅全体が遮光部と重なるように配されており、
    前記ディスプレイ装置を基準としたときに、前記第１電極部は、誘電部の外側に位置しており、
    前記第１配線及び／又は前記第２配線は、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さく、
    前記第１配線の最大線幅は、前記第２配線の最大線幅よりも小さいことを特徴とするタッチパネル。
  2. 複数の副画素部を有し色情報を表示する画素部と、前記副画素部間を区切る遮光部を備えたディスプレイ装置に取り付けられ、前記画素部と前記遮光部を覆うように設置されるタッチパネルにおいて、
    第１電極部と、第２電極部と、第１電極部と第２電極部との間に介在する誘電部を有し、
    前記第１電極部は、１又は複数の第１配線からなる第１電極群を有し、
    前記第２電極部は、１又は複数の第２配線からなる第２電極群を有し、
    前記第１電極群は、平面視したときに、前記第２電極群と交差する方向に延びており、
    前記第１配線の大部分又は全部は、平面視したときに、その線幅全体が遮光部と重なるように配されており、
    前記ディスプレイ装置を基準としたときに、前記第１電極部は、誘電部の外側に位置しており、
    前記第１配線及び／又は前記第２配線は、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さく、
    前記第１電極群は、少なくとも２つの第１配線を有し、
    前記２つの第１配線は、所定の間隔を空けて並列に配置されており、
    前記第１電極群は、前記２つの第１配線を接続する第１冗長線を備え、
    前記第１冗長線は、平面視したときに、線幅全体が第２配線と重なっており、
    前記第１冗長線の最大線幅は、前記第２配線の最大線幅よりも小さいことを特徴とするタッチパネル。
  3. 前記第１配線は、前記ディスプレイ装置を基準として、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さく、さらに外側端部から内側にかけて線幅が漸次大きくなっていることを特徴とする請求項１又は２に記載のタッチパネル。
  4. 前記第２配線は、前記ディスプレイ装置を基準として、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さく、さらに外側端部から内側に掛けて線幅が漸次大きくなっていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル。
  5. 前記誘電部は、フィルム状の粘着部を有し、
    前記粘着部は、前記ディスプレイ装置を基準として、外側から前記第２配線に覆い被さっており、
    前記第２配線の側面において実質的に隙間無く密着していることを特徴とする請求項４に記載のタッチパネル。
  6. 前記第２電極群は、少なくとも２つの第２配線を有し、
    前記２つの第２配線は、所定の間隔を空けて並列されており、
    前記第２電極群は、前記２つの第２配線を接続する第２冗長線を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル。
  7. 前記第１配線は、金属で形成されており、不透明であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のタッチパネル。
  8. 複数の副画素部を有し色情報を表示する画素部と、前記副画素部間を区切る遮光部を備えたディスプレイ装置に取り付けられ、前記画素部と前記遮光部を覆うように設置されるタッチパネルと、前記ディスプレイ装置を有する表示装置であって、
    前記タッチパネルは、第１電極部と、第２電極部と、第１電極部と第２電極部との間に介在する誘電部を有し、
    前記第１電極部は、１又は複数の第１配線からなる第１電極群を有し、
    前記第２電極部は、１又は複数の第２配線からなる第２電極群を有し、
    前記第１電極群は、平面視したときに、前記第２電極群と交差する方向に延びており、
    前記第１配線の大部分又は全部は、平面視したときに、その線幅全体が遮光部と重なるように配されており、
    前記ディスプレイ装置を基準としたときに、前記第１電極部は、誘電部の外側に位置しており、
    前記第１配線及び／又は前記第２配線は、高さによって線幅が相違し、最も外側部位の線幅が最も内側部位の線幅よりも小さいものであり、
    前記副画素部からの光を屈折させる屈折部材を有し、
    前記屈折部材は、前記タッチパネルと前記副画素部との間に介在しており、
    前記第１配線は、誘電部と当接する第１端部と、第１端部に対して交差する方向に延びた側面部を有し、
    前記側面部は、第１端部に対して傾斜した傾斜面であり、
    副画素部から屈折部材に対して垂直に光が入射し、前記屈折部材で屈折された光のタッチパネルへの入射角をσとすると、
    当該傾斜面の第１端部に対する傾斜角は、（９０−σ）度以下であることを特徴とする表示装置。
  9. 請求項１〜７のいずれかに記載のタッチパネルの製造方法であって、
    前記第１電極群又は第２電極群を支持する基材を有し、
    前記基材に支持された第１配線又は第２配線は、少なくともその側面が導電層によって形成されており、
    前記基材上に第１電極群又は第２電極群を形成する電極群形成工程を有し、
    前記電極群形成工程は、前記基材上に下地層を形成する下地層形成工程と、前記下地層上にレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記レジスト層に貫通孔を形成する貫通孔形成工程と、前記貫通孔を介して下地層上に導電層を形成する導電層形成工程と、前記下地層からレジスト層を除去するレジスト除去工程を含み、
    前記貫通孔は、所定の方向に延びた長溝であって、貫通孔の延び方向に対して直交する断面における内側面間の間隔がレジスト層の厚み方向で漸次変化していることを特徴とするタッチパネルの製造方法。
  10. 請求項１〜７のいずれかに記載のタッチパネルの製造方法であって、
    前記第１電極群又は前記第２電極群を支持する基材を有し、
    前記基材に支持された第１配線又は第２配線は、少なくともその側面が導電層によって形成されており、
    前記基材上に第１電極群又は第２電極群を形成する電極群形成工程を有し、
    前記電極群形成工程は、基材上に導電層を形成する導電層形成工程と、前記導電層上に所定の形状にパターニングされたレジスト層を形成するレジスト層形成工程と、前記導電層の一部又は全部をエッチング液によりエッチングするエッチング工程と、前記導電層からレジスト層を除去するレジスト除去工程を含み、
    前記エッチング工程において、第１配線又は第２配線の側面形状を形成することを特徴とするタッチパネルの製造方法。
  11. 請求項１〜７のいずれかに記載のタッチパネルの製造方法であって、
    前記第１電極群又は前記第２電極群を支持する基材を有し、
    前記基材に支持された第１配線又は第２配線は、少なくともその側面が導電層によって形成されており、
    前記基材上に第１電極群又は第２電極群を形成する電極群形成工程を有し、
    前記電極群形成工程は、前記基材上に導電層を形成する導電層形成工程と、レーザー光を照射し、前記導電層の一部を除去するレーザー工程とを含み、
    前記レーザー工程において、レーザー光の強度分布によって第１配線又は第２配線の側面形状を形成することを特徴とすることを特徴とするタッチパネルの製造方法。
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