JP6512104B2 - Ｎ−ベンジルラクタム化合物の製造方法 - Google Patents

Ｎ−ベンジルラクタム化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6512104B2
JP6512104B2 JP2015543914A JP2015543914A JP6512104B2 JP 6512104 B2 JP6512104 B2 JP 6512104B2 JP 2015543914 A JP2015543914 A JP 2015543914A JP 2015543914 A JP2015543914 A JP 2015543914A JP 6512104 B2 JP6512104 B2 JP 6512104B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
sodium
alkyl
formula
tetra
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015543914A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2015060402A1 (ja
Inventor
義之 楠岡
義之 楠岡
明星　知宏
知宏 明星
知明 井尾
知明 井尾
中村　大輔
大輔 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Publication of JPWO2015060402A1 publication Critical patent/JPWO2015060402A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6512104B2 publication Critical patent/JP6512104B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/36—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids
    • C07C303/40—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of amides of sulfonic acids by reactions not involving the formation of sulfonamide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C313/00—Sulfinic acids; Sulfenic acids; Halides, esters or anhydrides thereof; Amides of sulfinic or sulfenic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfinic or sulfenic groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
    • C07C313/02—Sulfinic acids; Derivatives thereof
    • C07C313/06—Sulfinamides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D205/00—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D205/02—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D205/06—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D205/08—Heterocyclic compounds containing four-membered rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with one oxygen atom directly attached in position 2, e.g. beta-lactams
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/18—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D207/22—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/24—Oxygen or sulfur atoms
    • C07D207/26—2-Pyrrolidones
    • C07D207/263—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms
    • C07D207/27—2-Pyrrolidones with only hydrogen atoms or radicals containing only hydrogen and carbon atoms directly attached to other ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals directly attached to the ring nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
    • C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D211/68—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
    • C07D211/72—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms, with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D211/74—Oxygen atoms
    • C07D211/76—Oxygen atoms attached in position 2 or 6

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)

Description

本発明は、医農薬製造中間体として有用なトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法、及びその中間体として有用であるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物及びその製造方法に関する。
ある種のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物は、除草活性を有することが知られており（例えば、特許文献１、２参照）、トリフルオロメタンスルホンアニリドの製造法に関してもいくつか知られている（例えば、特許文献１〜７参照）。一方、トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造法に関してもいくつか知られている（例えば、特許文献３、非特許文献１、２参照）。
また、トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の中間体となりえるＮ−ベンジルラクタム化合物の合成方法としては、例えば特許文献８〜１０のようにベンジルハライド化合物とラクタム化合物を縮合させる方法が知られている。
Figure 0006512104
国際公開第２０１０／０２６９８９号 国際公開第２０１０／１１９９０６号 日本特開平１０−２１８８５７号公報 日本特開平９−２８６７７１号公報 米国特許第４３８０４６４号明細書 米国特許第４３２１６６３号明細書 米国特許第３６３９４７４号明細書 国際公開第２００４／０９４３７５号 国際公開第２００３／０７８３９４号 日本特開２０１１−０３７７４６号公報
テトラヘドロン １９９９年, ５５巻, ７２４３頁 ジャーナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサイエティ ２００５年, １２１巻, ３８号, １３１１２頁
トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造法に関しては、特許文献１、２、５、６及び７では、トリフルオロメタンスルホニル化剤による製造法が開示されているが、高価なトリフルオロメタンスルホン酸無水物、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルフルオリド等をトリフルオロメタンスルホニル化剤とする製造法しか開示されていない。また、特許文献３には、モノペルオキシフタル酸マグネシウムやｍ−クロロ過安息香酸を酸化剤として使用し、ある種のトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物から対応するトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物を製造することが記載されているが、本発明に係るトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物に関しては、何ら開示が無い。
また、トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造法に関しては、非特許文献１、２に記載されているが、出発原料であるアニリン化合物１当量に対してトリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウムを２当量使用しており、出発原料であるアニリン化合物に対してトリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウムを大過剰使用している例しか知られておらず、本発明に係るトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物に関しては、何ら開示が無い。
また、Ｎ−ベンジルラクタム化合物の製造法に関しては、特許文献８、９に記載の方法に準じてＮ−ベンジルラクタム化合物を製造する場合、禁水試薬である水素化ナトリウム、ヘキサメチルジシラザンリチウムを用いる必要があるため、工業的製法としては取り扱い方法及び安全面で課題がある。特許文献１０に準じてＮ−ベンジルラクタム化合物を製造する場合は酸存在下で加熱するため、酸に弱い原料、生成物には応用できない。
本発明者は上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の工業的な製造中間体として有利なトリフルオロメタンスルフィニル化合物及びその製造法、さらにトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物に関する工業的に有用な製造法を見いだした。
また、工業原料として入手できるベンジルハライド化合物及びラクタム化合物を、取り扱い容易な塩基存在下で反応させることによりＮ−ベンジルラクタム化合物を合成する方法を見出した。また、ベンジルハライド化合物とアミド化合物を、同様の条件で縮合反応させた後、分子内環化反応させることによってＮ−ベンジルラクタム化合物を合成する方法も見いだし、本発明を完成させた。
本発明の要旨は下記〔１〕〜〔３０〕にある。
〔１〕式（１）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は硫黄原子を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシカルボニルを表し、
Ｑは、ＣＨ２ＯＲ２、Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２、シアノ又はＣＨ２Ｎ（Ｑ１）Ｑ２の何れかを表し、
Ｒ２は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシ、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシカルボニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル、（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニルを表し、
Ｙは、ハロゲン原子を表し、
ｎは、１、２、３、４又は５の整数を表し、
ｍは、１、２、３、４又は５の整数を表す。］で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物を、酸化剤と反応させることを特徴とする、式(２)：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａ、Ｒ１及びＱは前記と同じ意味を表す］で表されるトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法。
〔２〕Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル又は（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニルを表す、上記〔１〕に記載のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法。
〔３〕酸化剤が、過酸、ヨウ素過酸化物、過硫酸塩及びヒドロペルオキシドからなる群から選ばれる１種である、上記〔１〕又は〔２〕に記載のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法。
〔４〕酸化剤が、ｍ−クロロ過安息香酸、モノペルオキシフタル酸マグネシウム、過ヨウ素酸ナトリウム及び過酸化水素水からなる群から選ばれる１種である、上記〔３〕に記載のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法。
〔５〕酸化剤が過ヨウ素酸ナトリウムであり、３塩化ルテニウムの存在下で反応を行う、上記〔４〕に記載のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法。
〔６〕酸化剤が過酸化水素水であり、タングステン酸ナトリウム及び／又は相間移動触媒の存在下で行う、上記〔４〕に記載のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法。
〔７〕相間移動触媒が４級アンモニウム塩である、上記〔６〕に記載のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法。
〔８〕式（３）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は硫黄原子を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシカルボニルを表し、
Ｑは、ＣＨ２ＯＲ２、Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２、シアノ又はＣＨ２Ｎ（Ｑ１）Ｑ２の何れかを表し、
Ｒ２は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシ、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシカルボニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル、（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニルを表し、
Ｙは、ハロゲン原子を表し、
ｎは、１、２、３、４又は５の整数を表し、
ｍは、１、２、３、４又は５の整数を表す］で表されるアミン化合物を、式（４）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ｘは、ハロゲン原子を表す。］で表される化合物と反応させることを特徴とする、式（１）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａ、Ｒ１及びＱは、前記と同じ意味を表す］で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法。
〔９〕Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル又は（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニルを表す、上記〔８〕に記載のトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法。
〔１０〕塩基の存在下で反応を行う、上記〔８〕又は〔９〕に記載のトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法。
〔１１〕式（５）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ｍは、ナトリウム又はカリウムを表す。］で表される化合物を、ハロゲン化剤と反応させて式（４）で表される化合物を製造し、製造した式（４）で表される化合物を用いる、上記〔８〕、〔９〕又は〔１０〕に記載のトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法。
〔１２〕ハロゲン化剤が塩化チオニルである、上記〔１１〕に記載のトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法。
〔１３〕式（１）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は硫黄原子を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ１２アルコキシカルボニルを表し、
Ｑは、ＣＨ２ＯＲ２、Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２、シアノ又はＣＨ２Ｎ（Ｑ１）Ｑ２の何れかを表し、
Ｒ２は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシ、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシカルボニル、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル、（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニルを表し、
Ｙは、ハロゲン原子を表し、
ｎは、１、２、３、４又は５の整数を表し、
ｍは、１、２、３、４又は５の整数を表す］で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物又はその塩。
〔１４〕Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
Ｑ１、Ｑ２は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル又は（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニルを表す、上記〔１３〕に記載のトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物又はその塩。
〔１５〕式（６）：
Figure 0006512104
 ［Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立して、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニルを表す］で表されるトリフルオロメタンスルホンアミド化合物又はその塩。
〔１６〕式（７）：
Figure 0006512104
 ［Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
Ｑ１は、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルコキシカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルチオ（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル、Ｃ１〜Ｃ６アルキルスルフィニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニル又はＣ１〜Ｃ６アルキルスルホニル（Ｃ１〜Ｃ６）アルキルカルボニルを表す］で表されるアミノベンジルアミン化合物。
〔１７〕式（８）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は硫黄原子を表し、
Ｘ１は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はｐ−トルエンスルホニルオキシを表し、
Ｙは、−ＮＯ２、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯ２Ｒ１、−ＮＨＳＯＲ１又は−ＮＨＳＯ２Ｒ１を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表す。］で表されるベンジル化合物と、式(９)：
Figure 0006512104
 ［式中、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ２とＲ３はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ４とＲ５はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
ｎは、０、１、２又は３の整数を表す。］で表されるラクタム化合物を、塩基の存在下で反応させることを特徴とする、式（１０）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びｎは上記と同じ意味を表す。］で表されるＮ−ベンジルラクタム化合物の製造方法。
〔１８〕式（８）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は硫黄原子を表し、
Ｘ１は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はｐ−トルエンスルホニルオキシを表し、
Ｙは、−ＮＯ２、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯ２Ｒ１、−ＮＨＳＯＲ１又は−ＮＨＳＯ２Ｒ１を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表す。］で表されるベンジル化合物と、式(１１)：
Figure 0006512104
 ［式中、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ２とＲ３はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ４とＲ５はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
ｎは、０、１、２又は３の整数を表し、
Ｘ２は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はｐ−トルエンスルホニルオキシを表す。］で表されるアミド化合物を塩基の存在下で反応させることを特徴とする、式（１２）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎ及びＸ２は上記と同様の意味を表す。］で表されるＮ−ベンジルアミド化合物の製造方法。
〔１９〕式（１２）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は硫黄原子を表し、
Ｙは、−ＮＯ２、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯ２Ｒ１、−ＮＨＳＯＲ１又は−ＮＨＳＯ２Ｒ１を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ２とＲ３はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ４とＲ５はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
ｎは、０，１，２又は３の整数を表し、
Ｘ２は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はｐ−トルエンスルホニルオキシを表す。］で表されるＮ−ベンジルアミド化合物を塩基の存在下で反応させることを特徴とする、式（１０）：
Figure 0006512104
 ［式中、Ａ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びｎは上記と同様の意味を表す。］で表されるＮ−ベンジルラクタム化合物の製造方法。
〔２０〕添加物として相間移動触媒を加える上記〔１７〕乃至〔１９〕に記載の製造方法。
〔２１〕ｎは、０を表す上記〔１７〕乃至〔２０〕に記載の製造方法。
〔２２〕ｎは、１の整数を表す上記〔１７〕乃至〔２０〕に記載の製造方法。
〔２３〕ｎは、２の整数を表す上記〔１７〕乃至〔２０〕に記載の製造方法。
〔２４〕ｎは、３の整数を表す上記〔１７〕乃至〔２０〕に記載の製造方法。
〔２５〕塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐酸一水素ナトリウム又は燐酸一水素カリウムである上記〔１７〕〜〔２４〕に記載の製造方法。
〔２６〕塩基が、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム又は燐酸カリウムである上記〔２５〕に記載の製造方法。
〔２７〕相間移動触媒が、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨージド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロリド又はテトラフェニルホスホニウムブロミドである上記〔２０〕乃至〔２６〕に記載のＮ−ベンジルラクタム化合物の製造方法。
〔２８〕相間移動触媒が、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミドである上記〔２７〕に記載の製造方法。
〔２９〕前記式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−を表す上記〔１７〕乃至〔２８〕に記載の製造方法。
〔３０〕前記式中、Ａは、硫黄原子を表す上記〔１７〕乃至〔２８〕に記載の製造方法。
本発明によれば、医農薬及び各種化学品の製造中間体として工業的に有用なＮ−ベンジルラクタム化合物、トリフルオロメタンスルホンアミド化合物の製造方法並びにその中間体として有用なトリフルオロメタンスルフィニル化合物及びその製造方法が提供される。
本発明の製造方法に用いる原材料となる化合物が１個又は２個以上の不斉炭素原子を有する場合には、本発明は全ての光学活性体、ラセミ体又はジアステレオマーを包含する。
次に、本明細書において示した各置換基の具体例を以下に示す。ここでは、n−はノルマル、i−はイソ、s−はセカンダリー及びt−はターシャリーを各々意味し、ｍ−はメタ及びｐ−はパラを意味する。
本発明におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。尚、本明細書中「ハロ」の表記もこれらのハロゲン原子を表す。
本発明に包含される化合物のうちで、常法に従って塩にすることができるものは、例えば、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等のハロゲン化水素の塩、硝酸、硫酸、燐酸、塩素酸、過塩素酸等の無機酸の塩、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のスルホン酸の塩、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、フマール酸、酒石酸、蓚酸、マレイン酸、リンゴ酸、コハク酸、安息香酸、マンデル酸、アスコルビン酸、乳酸、グルコン酸、クエン酸等のカルボン酸の塩、グルタミン酸、アスパラギン酸等のアミノ酸の塩、リチウム、ナトリウム、カリウムといったアルカリ金属の塩、カルシウム、バリウム、マグネシウムといったアルカリ土類金属の塩、アルミニウムの塩、テトラメチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩等の四級アンモニウム塩とすることでき、本発明書中におけるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の塩とは、これらの塩を表す。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルの表記は、炭素原子数がa〜b個よりなる直鎖状又は分岐鎖状の炭化水素基を表し、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、t−ブチル基、s−ブチル基、n−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１−ヘプチル基、１−オクチル基、１−ノニル基、１−デシル基、１−ウンデシル基、１−ドデシル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルコキシの表記は、前記の意味であるＣa〜Ｃbアルキル−O-基を表し、例えば、メチル−O-基、エチル−O-基、n−プロピル−O-基、i−プロピル−O-基、n−ブチル−O-基、i−ブチル−O-基、t−ブチル−O-基、s−ブチル−O-基、ペンチル−O-基、１−メチルブチル−O-基、２−メチルブチル−O-基、３−メチルブチル−O-基、１−エチルプロピル−O-基、１，１−ジメチルプロピル−O-基、１，２−ジメチルプロピル−O-基、ネオペンチル−O-基、n−ヘキシル−O-基、１−メチルペンチル−O-基、２−メチルペンチル−O-基、３−メチルペンチル−O-基、４−メチルペンチル−O-基、１−エチルブチル−O-基、２−エチルブチル−O-基、１，１−ジメチルブチル−O-基、１，２−ジメチルブチル−O-基、１，３−ジメチルブチル−O-基、２，２−ジメチルブチル−O-基、２，３−ジメチルブチル−O-基、３，３−ジメチルブチル−O-基、１，１，２−トリメチルプロピル−O-基、１−エチル−１−メチルプロピル−O-基、１−エチル−２−メチルプロピル−O-基、１−ヘプチル−O-基、１−オクチル−O-基、１−ノニル−O-基、１−デシル−O-基、１−ウンデシル−O-基、１−ドデシル−O-基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルコキシ(Ｃa〜Ｃb)アルキルの表記は、前記の意味であるＣa〜Ｃbアルコキシによって炭素原子に結合した水素原子が任意に置換された前記の意味であるＣa〜Ｃbアルキルを表し、例えば、メチル−O-メチル基、エチル−O-メチル基、n−プロピル−O-メチル基、i−プロピル−O-メチル基、n−ブチル−O-メチル基、i−ブチル−O-メチル基、t−ブチル−O-メチル基、s−ブチル−O-メチル基、ペンチル−O-メチル基、１−メチルブチル−O-メチル基、２−メチルブチル−O-メチル基、３−メチルブチル−O-メチル基、１−エチルプロピル−O-メチル基、１，１−ジメチルプロピル−O-メチル基、１，２−ジメチルプロピル−O-メチル基、ネオペンチル−O-メチル基、n-ヘキシル−O-メチル基、１−メチルペンチル−O-メチル基、２−メチルペンチル−O-メチル基、３−メチルペンチル−O-メチル基、４−メチルペンチル−O-メチル基、１−エチルブチル−O-メチル基、１−（メチル−O-）エチル基、２−（メチル−O−）エチル基、３−（メチル−O−）プロピル基、４−（メチル−O−）ブチル基、５−（メチル−O−）ペンチル基、６−（メチル−O−）ヘキシル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルコキシカルボニルの表記は、前記の意味であるＣa〜Ｃbアルキル−O−C(O)−基を表し、例えば、メチル−O−C(O)−基、エチル−O−C(O)−基、n−プロピル−O−C(O)−基、i−プロピル−O−C(O)−基、n−ブチル−O−C(O)−基、i−ブチル−O−C(O)−基、ｔ−ブチル−O−C(O)−基、s−ブチル−O−C(O)−基、n−ペンチル−O−C(O)−基、１−メチルブチル−O−C(O)−基、２−メチルブチル−O−C(O)−基、３−メチルブチル−O−C(O)−基、１−エチルプロピル−O−C(O)−基、１，１−ジメチルプロピル−O−C(O)−基、１，２−ジメチルプロピル−O−C(O)−基、ネオペンチル−O−C(O)−基、n-ヘキシル−O−C(O)−基、１−メチルペンチル−O−C(O)−基、２−メチルペンチル−O−C(O)−基、３−メチルペンチル−O−C(O)−基、４−メチルペンチル−O−C(O)−基、１−エチルブチル−O−C(O)−基、２−エチルブチル−O−C(O)−基、１，１−ジメチルブチル−O−C(O)−基、１，２−ジメチルブチル−O−C(O)−基、１，３−ジメチルブチル−O−C(O)−基、２，２−ジメチルブチル−O−C(O)−基、２，３−ジメチルブチル−O−C(O)−基、３，３−ジメチルブチル−O−C(O)−基、１，１，２−トリメチルプロピル−O−C(O)−基、１−エチル−１−メチルプロピル−O−C(O)−基、１−エチル−２−メチルプロピル−O−C(O)−基、１−ヘプチル−O−C(O)−基、１−オクチル−O−C(O)−基、１−ノニル−O−C(O)−基、１−デシル−O−C(O)−基、１−ウンデシル−O−C(O)−基、１−ドデシル−O−C(O)−基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
本明細書におけるハロ（Ｃa〜Ｃb）アルキルの表記は、前記の意味であるハロゲン原子によって炭素原子に結合した水素原子が任意に置換された前記の意味であるＣa〜Ｃbアルキルを表し、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、３−フルオロプロピル基、３−クロロプロピル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、４−クロロブチル基、４−フルオロブチル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbアルキルカルボニルの表記は、炭素原子数がa〜b個よりなる前記の意味であるアルキル-C(O)-基を表し、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、2-メチルブタノイル基、ピバロイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
本明細書におけるハロ（Ｃa〜Ｃb）アルキルカルボニルの表記は、炭素原子数がa〜b個よりなる前記の意味であるハロアルキル-C(O)-基を表し、例えばフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ジフルオロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロジフルオロアセチル基、ブロモジフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ヘプタフルオロブタノイル基、3-クロロ-2,2-ジメチルプロパノイル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
本明細書におけるＣa〜Ｃbシクロアルキルの表記は、炭素原子数がa〜b個よりなる環状の炭化水素基を表し、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が具体例として挙げられ、各々の指定の炭素数の範囲で選択される。
次に、本発明の、式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法について説明する。
Ｒ１が水素原子以外の置換基を表す場合、式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物は、例えば以下の方法により製造することができる。
反応式１
Figure 0006512104
すなわち、式（１３）[式中、Ａ及びＱは前記と同じ意味を表す。]で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物と、式（１４）[式中、Ｒ１はＣ１〜Ｃ１２アルコキシカルボニルを表し、Ｔはハロゲン原子を表す。]で表される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより、式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物を製造することができる。
式（１４）で表される化合物は、式（１３）で表される化合物１当量に対して１〜５当量用いることができる。
塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属重炭酸塩、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イミダゾール、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどの有機塩基等を、式（１３）で表される化合物に対して１〜５当量用いることができる。
溶媒を用いる場合、用いられる溶媒としては反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、四塩化炭素、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等のハロゲン系炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のカルボン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の含窒素非プロトン性極性溶媒、水等が挙げられ、好ましくは、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素、水を用いることができる。これらの溶媒は２種以上を混合しても使用することができる。
反応温度は、通常−９０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃である。
反応時間は、反応基質の濃度、反応温度によって変化するが、通常１０分〜１００時間、好ましくは１０分〜２４時間である。
本発明のトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造において、式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物及びそれを酸化して得られる式（２）で表されるトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物は、各置換基が上記したものであるが、なかでも、各置換基が以下のものである、トリフルオロメタンスルフィンアニリド及びトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物が望ましい。
Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
Ｑは、ＣＨ２ＯＲ２、Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２、シアノ又はＣＨ２Ｎ（Ｑ１）Ｑ２の何れかを表し、
Ｒ２は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｑ１、Ｑ２はそれぞれ独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル又は（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニルを表し、
Ｙはハロゲン原子を表し、
ｎは、１、２、３、４又は５の整数を表し、
ｍは、１、２、３、４又は５の整数を表す。
上記トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法に関しては、必要に応じて溶媒を使用できる。用いられる溶媒としては反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、四塩化炭素、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等のハロゲン系炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、ギ酸、酢酸等の酸類、水等が挙げられ、好ましくは、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、水を用いることができる。これらの溶媒は２種以上を混合して使用することもできる。
上記トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法に関しては、必要に応じて酸を添加して行うことができる。使用される酸に特に制限はないが、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪酸類、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、４−メチルベンゼンスルホン酸等のスルホン酸類、安息香酸等のカルボン酸類、アミノメチルホスホン酸、フェニルホスホン酸等のホスホン酸類、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸類が挙げられる。好ましくは、酢酸、塩酸、硫酸、リン酸、フェニルホスホン酸等が使用される。酸は式（１）又は式（３）で表される化合物１当量に対して通常１００当量以下、好ましくは２当量以下、より好ましくは０．０１乃至２当量使用される。
上記トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法における酸化剤の具体例として、ｍ-クロロ過安息香酸、モノペルオキシフタル酸マグネシウム、過酢酸等の過酸、過ヨウ素酸ナトリウム、ヨードソベンゼン等のヨウ素過酸化物、過硫酸水素カリウム等の過硫酸塩、過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド等のヒドロペルオキシドが挙げられる。
酸化剤としては、過酸、ヨウ素過酸化物、過硫酸塩及びヒドロペルオキシドからなる群から選ばれる１種であることが好ましい。その具体例としては、ｍ−クロロ過安息香酸、モノペルオキシフタル酸マグネシウム、過ヨウ素酸ナトリウム及び過酸化水素水からなる群から選ばれる１種であることが望ましい。
酸化剤として過酸化水素を使用する場合、好ましくは、１〜５０質量％過酸化水素水、過酸化水素尿素等を使用することができ、より好ましくは、３０〜３６質量％過酸化水素水を使用することができる。酸化剤は、式（１）で表される化合物１当量に対して通常０．５乃至１００当量、好ましくは１乃至５当量使用される。
酸化剤として過ヨウ素酸ナトリウムを使用する場合、３塩化ルテニウムの存在下で反応を行うことが望ましい。３塩化ルテニウムは、式（１）で表される化合物１当量に対して通常０．００１乃至１００当量、好ましくは０．０１乃至２当量使用される。
酸化剤として過酸化水素水を使用する場合、タングステン酸ナトリウム及び／又は相間移動触媒の存在下で反応を行うことが望ましい。
タングステン酸ナトリウムの存在下で反応を行う場合、タングステン酸ナトリウムは、式（１）で表される化合物１当量に対して通常０．００１乃至１００当量、好ましくは０．０１乃至２当量使用される。
上記相間移動触媒の存在下で反応を行う場合、相間移動触媒の具体例として、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラエチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラプロピルアンモニウム硫酸水素塩、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩、メチルトリオクチルアンモニウムクロリド等の４級アンモニウム塩、塩化セチルピリジニウム等のピリジニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロミド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムクロリド等のホスホニウム塩等が挙げられる。テトラメチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラエチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラプロピルアンモニウム硫酸水素塩、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラヘキシルアンモニウム硫酸水素塩、メチルトリオクチルアンモニウム硫酸水素塩等の４級アンモニウム塩を使用することが好ましく、テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩を使用することがより好ましい。相間移動触媒は、式（１）で表される化合物１当量に対して通常１００当量以下、好ましくは２当量以下、より好ましくは、０．０１乃至１当量使用される。
上記トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法における反応は、０．００１〜１００ＭＰａ、好ましくは０．１〜１０ＭＰａの圧力の範囲で実施することができる。反応温度は、通常−２０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃である。反応時間は、通常１０分〜１００時間、好ましくは１０分〜２４時間である。必要であれば窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施できる。
反応後の処理方法は特に制限はないが、反応終了後の反応混合物は、直接濃縮、又は有機溶媒に溶解した後、水投入、分液、必要に応じて濃縮、又は水に投入、有機溶媒抽出、必要に応じて濃縮等の通常の後処理を行ない、製造化合物を得ることができる。また、必要に応じて、還元剤、酸、塩基等で反応混合物、反応処理にて得た溶液を処理することもできる。また、反応終了後の反応混合物は、そのまま次工程に使用することができる。また、製造した化合物は後処理によって得た溶液のまま、次工程に使用することもできる。精製の必要が生じたときには、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフ、薄層クロマトグラフ、液体クロマトグラフ分取等の任意の精製方法によって分離、精製することができる。
次に本発明における式（３）で表されるアミン化合物を出発原料とする式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法について説明する。
上記トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法で使用される式（３）で表されるアミン化合物は、各置換基が上記したものであるが、なかでも、以下のものであるアミン化合物が好ましい。
なお、この製造方法は、下記Ａが−ＣＨ＝ＣＨ−であるベンゼン環上のアミノ基だけではなく、Ａが硫黄原子であるヘテロ環上のアミノ基にも適用可能である。
Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表し、
Ｑは、ＣＨ２ＯＲ２、Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２、シアノ又はＣＨ２ＮＨＱ１の何れかを表し、
Ｒ２は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｑ１は、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルキル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキル、Ｃ１〜Ｃ１２アルキルカルボニル、ハロ（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルカルボニル、フェニル、（Ｙ）ｎによって置換されたフェニル、フェニルカルボニル又は（Ｙ）ｍによって置換されたフェニルカルボニルを表し、
Ｙはハロゲン原子を表し、
ｎは、１、２、３、４又は５の整数を表し、
ｍは、１、２、３、４又は５の整数を表す。
上記トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法で使用される式（４）で表される化合物としては、トリフルオロメタンスルフィニルフルオリド、トリフルオロメタンスルフィニルクロリド、トリフルオロメタンスルフィニルブロミド、トリフルオロメタンスルフィニルヨージドが挙げられる。トリフルオロメタンスルフィニルクロリドは、文献記載の一般的な合成方法に準じて合成することができる。例えば、特開平１０-２１８８５７号公報記載、ケミッシェ ベリヒテ １９７４年、１０７巻、５０８頁、テトラヘドロン １９９９年, ５５巻, ７２４３頁又はテトラヘドロン １９７６年，３２巻，１６２７頁記載の方法により製造可能である。式（４）で表される化合物は、式（３）で表される化合物１当量に対して通常０．５乃至２当量使用される。
上記トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法における、式（５）で表されるトリフルオロメタンスルフィン酸の塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウムといったアルカリ金属の塩が挙げられる。これらのうち、トリフルオロメタンスルフィン酸のナトリウムの塩であるトリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウムは、市販品として入手可能であり、トリフルオロメタンスルフィン酸のカリウムの塩であるトリフルオロメタンスルフィン酸カリウムは、文献記載の一般的な合成方法に準じて合成することができる。例えば、ジャーナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサイエティ １９７４年, ９６巻, ２２７５頁記載の方法により製造可能である。式（５）で表されるトリフルオロメタンスルフィン酸の塩は、式（３）で表される化合物１当量に対して通常０．５乃至２当量使用される。
上記トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法に関しては、必要に応じて溶媒を使用できる。用いられる溶媒としては反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、n−ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、n−ヘプタン、ベンゼン、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、四塩化炭素、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のカルボン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の含窒素非プロトン性極性溶媒、水等が挙げられ、好ましくは、ベンゼン、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、水を用いることができる。これらの溶媒は２種以上を混合して使用することもできる。
上記トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法において、式（３）で表されるアミン化合物と式（４）で表される化合物との反応は塩基の存在下で行うことも出来る。
使用される塩基に特に制限はないが、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、リン酸カリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、５−エチル−２−メチルピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２，６−ジメチルピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、n−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム等の有機リチウム化合物類、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド等のリチウムアミド類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムi-プロポキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類等が挙げられる。好ましくは、トリエチルアミン、トリブチルアミン、５−エチル−２−メチルピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２，６−ジメチルピリジン、ピリジンが使用される。塩基は式（１）又は式（３）で表される化合物１当量に対して通常１０当量以下、好ましくは４当量以下、より好ましくは０．０１乃至２当量使用される。
上記式（４）で表される化合物は、前記式（５）で表される化合物をハロゲン化剤と反応させて製造することが出来る。
使用されるハロゲン化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等が挙げられる。好ましくは、塩化チオニルが挙げられる。ハロゲン化剤は、式（３）で表される化合物に対して、通常０．５乃至１００当量、好ましくは１乃至１０当量使用される。
上記トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法において、式（５）で表される化合物から式（４）で表される化合物を製造する際に、添加物としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド化合物、トリエチルアミンなどのアミン化合物を添加することができる。添加物は、式（３）で表される化合物に対し、通常１００当量以下、好ましくは１０当量以下、特に好ましくは、０．００１乃至１当量使用される。
上記トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の製造方法における反応は、０．００１〜１００ＭＰａ、好ましくは０．１〜１０ＭＰａの圧力の範囲で実施することができる。反応温度は、通常−９０〜２００℃、好ましくは−５０〜５０℃である。反応時間は、通常１０分〜１００時間、好ましくは１０分〜２４時間である。必要であれば窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施できる。
反応後の処理方法は特に制限はないが、反応終了後の反応混合物は、直接濃縮、又は有機溶媒に溶解した後、水投入、分液、必要に応じて濃縮、又は水に投入、有機溶媒抽出、必要に応じて濃縮等の通常の後処理を行ない、製造化合物を得ることができる。また、必要に応じて、還元剤、酸、塩基等で反応混合物、反応処理にて得た溶液を処理することもできる。また、反応終了後の反応混合物は、そのまま次工程に使用することができる。また、製造した化合物は後処理によって得た溶液のまま、次工程に使用することもできる。精製の必要が生じたときには、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフ、薄層クロマトグラフ、液体クロマトグラフ分取等の任意の精製方法によって分離、精製することができる。
なお、上記本発明の製造方法にかかわる酸、塩基、添加物、酸化剤、ハロゲン化剤、タングステン酸ナトリウム、３塩化ルテニウム及び相間移動触媒については、水和物等の溶媒和物、溶媒に希釈したものも使用できる。
ここで用いられる、式（３）で表される（ただし、ＱはＣ（＝Ｏ）ＯＲ２又はシアノであり、Ｒ１は前記と同じ意味を表す）化合物は公知化合物であり、一部は市販品としても入手できる。また、それ以外のものも公知化合物に関する文献記載の一般的な合成方法に準じて合成することができる。
本発明はまた前記式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物又はその塩である。式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物における置換基の好ましいものについても前記の通りである。
前記式（１）で表されるトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物の塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩等が挙げられる。
上記式（７）で表されるアミノベンジルアミン化合物は、例えば、以下の反応式２で示される方法により製造される。
反応式２
Figure 0006512104
つまり、式（１５）[式中、Ｑ１は前記と同じ意味を表す。]で表されるニトロベンジルアミン化合物を還元することにより、式（７）[式中、Ｒ１は水素原子を表し、Ｑ１は前記と同じ意味を表す。]で表されるアミノベンジルアミン化合物を製造することが出来る。
工程２で用いる還元方法としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウムなどの金属ヒドリドによる方法、パラジウム触媒存在下での水素添加による方法、鉄、塩化亜鉛、塩化スズ等の金属還元による方法を用いることが出来る。
用いる還元剤の量は、式（１５）で表される化合物１当量に対して０．０１〜５当量を用いることができる。
溶媒を用いる場合、用いられる溶媒としては反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、四塩化炭素、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等のハロゲン系炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられる。好ましくは、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、水を用いることができる。これらの溶媒は２種以上を混合して使用することもできる。
反応温度は、通常−９０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃である。
反応時間は、反応基質の濃度、反応温度によって変化するが、通常１０分〜１００時間、好ましくは１０分〜２４時間である。
上記アミノベンジルアミン化合物の製造方法における反応は、０．００１〜１００ＭＰａ、好ましくは０．１〜１０ＭＰａの圧力の範囲で実施することができる。反応温度は、通常−２０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃である。反応時間は、通常１０分〜１００時間、好ましくは１０分〜２４時間である。必要であれば窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施できる。
反応後の処理方法は特に制限はないが、反応終了後の反応混合物は、直接濃縮、又は有機溶媒に溶解した後、水投入、分液、必要に応じて濃縮、又は水に投入、有機溶媒抽出、必要に応じて濃縮等の通常の後処理を行ない、製造化合物を得ることができる。また、必要に応じて、還元剤、酸、塩基等で反応混合物、反応処理にて得た溶液を処理することもできる。また、反応終了後の反応混合物は、そのまま次工程に使用することができる。また、製造した化合物は後処理によって得た溶液のまま、次工程に使用することもできる。精製の必要が生じたときには、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフ、薄層クロマトグラフ、液体クロマトグラフ分取等の任意の精製方法によって分離、精製することができる。
上記式（７）で表されるアミノベンジルアミン化合物は、例えば、以下の反応式３で示される方法によっても製造される。
反応式３
Figure 0006512104
つまり、式（１６）[式中、Ｒ１は、水素原子又はＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニルを表す。]で表されるアミノベンジルアミン化合物と式（１７）[式中、Ｌはハロゲン原子等の脱離基を表し、Ｑ１は前記と同じ意味を表す。]で表される化合物を反応させることにより、式（７）[式中、Ｒ１びＱ１は前記と同じ意味を表す。]で表されるアミノベンジルアミン化合物を製造することが出来る。
上記アミノベンジルアミン化合物の製造方法において、式（１６）で表されるアミノベンジルアミン化合物と式（１７）で表される化合物との反応は、塩基の存在下で行われることが好ましい。
使用される塩基に特に制限はないが、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム、リン酸カリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、５−エチル−２−メチルピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２，６−ジメチルピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、n−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム等の有機リチウム化合物類、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド等のリチウムアミド類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムi-プロポキシド、カリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類等が挙げられる。好ましくは、トリエチルアミン、トリブチルアミン、５−エチル−２−メチルピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２，６−ジメチルピリジン、ピリジンが使用される。塩基は式（１６）で表される化合物１当量に対して通常１０当量以下、好ましくは４当量以下、より好ましくは０．０１乃至２当量使用される。
上記アミノベンジルアミン化合物の製造方法においては、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒を用いる場合、用いられる溶媒としては反応の進行を阻害しないものであれば特に制限はない。例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、キシレン、トルエン等の炭化水素類、ジクロロメタン、四塩化炭素、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等のハロゲン系炭化水素類、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル等のエーテル類、水等が挙げられる。好ましくは、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、水を用いることができる。これらの溶媒は２種以上を混合して使用することもできる。
反応温度は、通常−９０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃である。
反応時間は、反応基質の濃度、反応温度によって変化するが、通常１０分〜１００時間、好ましくは１０分〜２４時間である。
上記アミノベンジルアミン化合物の製造方法における反応は、０．００１〜１００ＭＰａ、好ましくは０．１〜１０ＭＰａの圧力の範囲で実施することができる。反応温度は、通常−２０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃である。反応時間は、通常１０分〜１００時間、好ましくは１０分〜２４時間である。必要であれば窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施できる。
反応後の処理方法は特に制限はないが、反応終了後の反応混合物は、直接濃縮、又は有機溶媒に溶解した後、水投入、分液、必要に応じて濃縮、又は水に投入、有機溶媒抽出、必要に応じて濃縮等の通常の後処理を行ない、製造化合物を得ることができる。また、必要に応じて、還元剤、酸、塩基等で反応混合物、反応処理にて得た溶液を処理することもできる。また、反応終了後の反応混合物は、そのまま次工程に使用することができる。また、製造した化合物は後処理によって得た溶液のまま、次工程に使用することもできる。精製の必要が生じたときには、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフ、薄層クロマトグラフ、液体クロマトグラフ分取等の任意の精製方法によって分離、精製することができる。
本発明に係る式（８）で表される化合物と（９）で表される化合物を反応させることによる、式（１０）で表されるＮ−ベンジルラクタム化合物の製造法について、以下に説明する。
Figure 0006512104
Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−又は硫黄原子を表し、
Ｘ１は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はｐ−トルエンスルホニルオキシを表し、
Ｙは、−ＮＯ２、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯ２Ｒ１、−ＮＨＳＯＲ１又は−ＮＨＳＯ２Ｒ１を表し、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表す。
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ２とＲ３はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ４とＲ５はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
ｎは、０、１、２又は３の整数を表す。
本発明で使用できる溶媒としては、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン等の芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン等の炭化水素系溶媒、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水等の極性溶媒、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルコール系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，２−-ジメトキシエタン、シクロペンチルメチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒などがあげられ、これらの混合溶媒も使用できる。これらのうち、トルエン、テトラヒドロフラン、アセトニトリルが好ましい。
使用する上記溶媒の量は、原料である式（８）で表される化合物１重量部に対して０．１〜１００重量部の範囲で使用し、好ましくは１〜３０重量部の範囲で使用する。
本製造法に使用できる塩基としては、水素化カルシウム、水素化ナトリウム、カリウム−ｔ−ブトキシド、ナトリウム−ｔ−ブトキシド、ナトリウムメトキシド、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐酸一水素ナトリウム、燐酸一水素カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イミダゾール、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセンなどの有機塩基が挙げられる。これらのうち、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐酸一水素ナトリウム、又は燐酸一水素カリウムであることが好ましい。特に、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、又は燐酸カリウムが好ましい。
本製造法に使用できる塩基の量は、原料である式（８）で表される化合物１モルに対して１〜１００モルの範囲で使用し、好ましくは１〜１０モルの範囲で使用する。
本製造法において相間移動触媒を添加することができる。使用できる相間移動触媒としては、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨージド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド等の４級アンモニウム塩並びにテトラエチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミド等の４級ホスホニウム塩等が挙げられる。これらのうち、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミドが好ましい。
本製造法において使用できる相間移動触媒の量は、原料である式（８）で表される化合物１モルに対して０．０１〜１モルの範囲で使用し、好ましくは０．０１〜０．５モルの範囲で使用する。
本製造法において−５０℃以上２００℃以下で反応を行うことが好ましく、さらに好ましくは０℃以上１５０℃以下で反応を行う。また、本製造法においては、窒素、アルゴン、キセノン等の不活性ガスの雰囲気下で反応を行うことが好ましい。
次に、本発明に係る式（８）で表される化合物と、式（１１）で表される化合物を反応させることによる、式（１２）で表されるＮ−ベンジルアミド化合物の製造方法について、以下に説明する。
Figure 0006512104
Ａ、Ｘ１、Ｙについては上記の化合物（８）における場合と同じである。
Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ２とＲ３はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ４とＲ５はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
ｎは、０、１、２又は３の整数を表し、
Ｘ２は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はｐ−トルエンスルホニルオキシを表す。
本製造法に使用できる溶媒、塩基、相間移動触媒等については、式（８）で表される化合物から式（１０）で表されるＮ−ベンジルラクタム化合物の製造法と同様である。
次に式（１２）で表される化合物から、式（１０）で表されるＮ−ベンジルラクタム化合物の製造方法について、以下に説明する。
Figure 0006512104
Ａ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎ及びＸ２については、上記の化合物（１２）における場合と同じである。
本製造法に使用できる溶媒、塩基、相間移動触媒等については、式（８）で表される化合物から式（１０）で表されるＮ−ベンジルラクタム化合物の製造法の場合と同じである。
以下に、本発明の実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
実施例のプロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値は、基準物質としてＭｅ４Ｓｉ（テトラメチルシラン）を用い、重クロロホルム溶媒中で、３００ＭＨｚにて測定した。
[実施例１]
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルフィニル）アミノベンジルアルコールの合成
トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウム７ｇのジクロロメタン４ｇスラリーに、塩化チオニル５８０ｍｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｇを氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温まで昇温し、１時間攪拌した。このスラリーを、２−アミノベンジルアルコール５ｇのジクロロメタン５０ｇ溶液に氷冷下で滴下し、氷冷下で２時間攪拌した。反応終了後、反応混合物に酢酸エチル及び水を添加し、有機層を分離した。得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー｛ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１〜２／１（体積比、以下同じである）｝で精製し、目的物１．６９ｇを赤色の油状物として得た。
１H NMR：δ 7.45-7.12 (m,4H), 4.90 -4.55 (m,2H), 3.40-2.70 (brs,2H)
[実施例２]
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル）アミノベンジルアルコールの合成
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルフィニル）アミノベンジルアルコール２８０ｍｇのトルエン５ｇ溶液に、３０質量％過酸化水素水４００ｍｇ、タングステン酸ナトリウム二水和物３９ｍｇ及びテトラブチルアンモニウム硫酸水素塩４０ｍｇを添加し、５０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを添加し、有機層を分離した。得られた有機層を水、飽和食塩水の順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）で精製し、目的物１７０ｍｇを黄色結晶として得た。融点：４８〜４８．５℃
[実施例３]
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルフィニル）アミノベンゾニトリルの合成 その１
トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウム４．２ｇにトルエン３０ｇ、ジクロロメタン１５ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．３ｇを加え、０℃に冷却した後、塩化チオニル３．６ｇを滴下した。０℃にて２時間攪拌した後、−１５℃まで冷却した。２−アミノベンゾニトリル３．０ｇのトルエン６ｇ及びジクロロメタン３ｇ混合溶液を滴下した後、３０分間攪拌した。続いて、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン４．６ｇのトルエン６ｇ及びジクロロメタン３ｇ混合溶液を２時間かけて滴下した。さらに１時間攪拌した後、反応混合物に水を添加した。この混合溶液を酢酸エチルで２回抽出して得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５〜２／１）で精製し、目的物４．８ｇを黄色油状物として得た。得られた油状物をトルエンに溶解し、水酸化ナトリウム水溶液で抽出した。水層をトルエンで２回洗浄し、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加えて酸性にした後、トルエンで２回抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で２回洗浄し、減圧下で溶媒を留去して、目的物２．０ｇを白色固体として得た。融点：９８〜１０１℃
[実施例４]
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルフィニル）アミノベンゾニトリルの合成 その２
トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウム４．０ｇにトルエン３５ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド９．４ｇを加え、０℃に冷却した後、塩化チオニル３．３ｇを滴下した。０℃にて０．５時間攪拌した後、−１５℃まで冷却した。２−アミノベンゾニトリル３．０ｇのトルエン６．９ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１．９ｇ混合溶液を０．５時間かけて滴下した。さらに３時間攪拌した後、反応混合物に食塩水３０ｇを添加した。この混合溶液を分液し、水層をトルエン２６ｇで抽出した。得られた有機層を混合し、ついで高速液体クロマトグラフィー〔分析条件；カラム：ＸＢｒｉｄｇｅ Ｃ１８，４．６×１５０ｍｍ，粒子径３．５μｍ、溶離液：アセトニトリル／２０ｍＭギ酸アンモニウム水溶液＝４０／６０（ｖ／ｖ）、カラム温度：４０℃、流速：１．００ｍＬ／ｍｉｎ、観測波長：２５４ｎｍ〕で分析したところ、目的物が相対面積比９１．５％で生成していることを確認した。
[実施例５]
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル）アミノベンゾニトリルの合成
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルフィニル）アミノベンゾニトリル０．２１ｇのトルエン１．８ｇ溶液に、３０質量％過酸化水素水０．３１ｇ、タングステン酸ナトリウム二水和物３８ｍｇ及びテトラブチルアンモニウム硫酸水素塩４２ｍｇを添加し、５０℃で６時間攪拌した。反応終了後、反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液及び酢酸エチルを添加し、有機層を分離した。得られた有機層を飽和食塩水で３回洗浄し、減圧下で溶媒を留去して、目的物０．２４ｇを褐色固体として得た。融点：７８〜８１℃
１H NMR：δ 7.61-7.71 (m,3H), 7.38 (t,1H), 5.3-5.6 (brs,1H)
なお、以下の実施例６乃至１６、参考例４乃至１１に記載されている高速液体クロマトグラフィーによる分析は、以下に記載した条件に従って行った。
カラム：Ｉｎｅｒｔｓｉｌ−Ｐｈ−３ ４．６×５０ｍｍ、３μｍ（ＧＬサイエンス社製）
溶離液：アセトニトリル／水／酢酸＝３０／７０／０．０７〜８５／１５／０．０１５（体積比）、オーブン温度：４５℃、流速：１ｍｌ／ｍｉｎ.、検出波長：２２０ｎｍ
また、定量収率は、上記記載の高速液体クロマトグラフィーの条件に準じて測定し、内標は２−エトキシナフタレンを用いて算出した。
ガスクロマトグラフィーによる分析は、以下に記載した条件に従い行った。
カラム：ＤＢ−１ ３０ｍ×０．２５ｍｍ、ｆｉｌｍ０．２５μｍ（アジレント・テクノロジー社製）、キャリアガス：ヘリウム、制御モード：圧力（１００ｋＰａ、一定）、
注入量：１μＬ、気化室温度：１５０℃、注入法：スプリット（３０／１）、検出器温度：ＦＩＤ ２５０℃、オーブン温度：５０℃（１ｍｉｎ）−１０℃／ｍｉｎ−３００℃（１５ｍｉｎ）
〔実施例６〕
３，３−ジメチル−１−（２−ニトロベンジル）アゼチジン−２−オンの合成 その１
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン１．００ｇ（４．６３ミリモル）のアセトニトリル１０．０ｇ溶液に、３，３−ジメチルアゼチジン−２−オン１．３８ｇ（１３．９ミリモル）及び燐酸カリウム１．４７ｇ（６．９４ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、加熱還流下にて３時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、析出した固形物をろ過によりろ別した。得られたろ液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は８３％であった（定量収率８１％）。
〔実施例７〕
３，３−ジメチル−１−（２−ニトロベンジル）アゼチジン−２−オンの合成 その２
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン１．００ｇ（４．６３ミリモル）のトルエン１０．０ｇ溶液に、３，３−ジメチルアゼチジン−２−オン１．３８ｇ（１３．９ミリモル）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド０．１４９ｇ（０．４６３ミリモル）及び３０質量％水酸化ナトリウム水溶液０．９２６ｇ（６．９４ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、７０℃にて５時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、１Ｍ塩酸５ｇにて洗浄した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は８１％であった（定量収率６３％）。
〔実施例８〕
３，３−ジメチル−１−（２−ニトロベンジル）アゼチジン−２−オンの合成 その３
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン２．００ｇ（９．２６ミリモル）のトルエン２０．０ｇ溶液に、３，３−ジメチルアゼチジン−２−オン１．８４ｇ（１８．５ミリモル）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド０．２９８ｇ（０．９２６ミリモル）及び炭酸カリウム３．８４ｇ（２７．８ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、８０℃にて４時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、１Ｍ塩酸２０ｇにて洗浄した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は８４％であった（定量収率８７％）。
〔実施例９〕
１−（２−ニトロベンジル）ピロリジン−２−オンの合成 その１
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン０．２００ｇ（０．９３０ミリモル）のアセトニトリル２．００ｇ溶液に、ピロリジン−２−オン０．２３６ｇ（２．７８ミリモル）及び燐酸カリウム０．２９５ｇ（１．３９ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、加熱還流下にて４時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、析出した固形物をろ過によりろ別した。得られたろ液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は６５％であった。
〔実施例１０〕
１−（２−ニトロベンジル）ピロリジン−２−オンの合成 その２
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン０．５００ｇ（２．３１ミリモル）のトルエン５．００ｇ溶液に、ピロリジン−２−オン０．５９１ｇ（６．９４ミリモル）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド０．０７４６ｇ（０．２３１ミリモル）及び３０質量％水酸化ナトリウム水溶液０．４６３ｇ（３．４７ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、７０℃にて１時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、１Ｍ塩酸５ｇにて洗浄した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は７６％であった。
〔実施例１１〕
１−（２−ニトロベンジル）ピロリジン−２−オンの合成 その３
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン０．５００ｇ（２．３１ミリモル）のトルエン５．００ｇ溶液に、ピロリジン−２−オン０．３９４ｇ（４．６３ミリモル）、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド０．０７４６ｇ（０．２３０ミリモル）及び炭酸カリウム０．９６０ｇ（６．９４ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、８０℃にて７時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、１Ｍ塩酸５ｇにて洗浄した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は６７％であった。
〔実施例１２〕
４，４−ジメチル−１−（２−ニトロベンジル）ピロリジン−２−オンの合成
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン０．２１６ｇ（１．００ミリモル）のアセトニトリル３．００ｇ溶液に、ＷＯ２００６／０７２９５３に記載の方法に準じて合成した合成した４，４−ジメチルピロリジン−２−オン０．６７８ｇ（３．００ミリモル）及び燐酸カリウム０．３１８ｇ（１．５０ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、５０℃にて２時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチル５ｇにて抽出した。得られた有機層を希塩酸５ｇ、亜硫酸水素ナトリウム水溶液５ｇ、飽和食塩水５ｇの順番で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、アセトニトリルを減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、目的物０．１８５ｇを淡黄色固体として得た（収率７５％）。
融点：９１〜９２℃
〔実施例１３〕
４，４−ジメチル−１−（２−ニトロベンジル）ピペリジン−２−オンの合成
１−（ブロモメチル）−２−ニトロベンゼン０．４３２ｇ（２．００ミリモル）のアセトニトリル５．００ｇ溶液に、ＷＯ２０１０／０２６９８９に記載の方法に準じて合成した４，４−ジメチルピペリジン−２−オン０．７６２ｇ（６．００ミリモル）及び燐酸カリウム１．２７ｇ（６．００ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を窒素雰囲気下、８０℃にて４時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、酢酸エチル１０ｇにて抽出した。得られた有機層を水１０ｇ、希塩酸１０ｇ、飽和食塩水１０ｇの順番で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、アセトニトリルを減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、目的物０．２０３ｇを淡褐色固体として得た（収率３９％）。
融点：９０〜９２℃
〔実施例１４〕
N−［２−｛(３,３−ジメチル−２−オキソアゼチジン−１−イル)メチル｝フェニル］ −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミドの合成 その１
３−クロロ−２,２−ジメチル−N−｛２−(トリフルオロメタンスルホンアミド)ベンジル｝プロパンアミド０．１８６ｇ（０．５０ミリモル）に、２．５質量％水酸化ナトリウム水溶液２．００ｇ（１．２５ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を８０℃にて３時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却し、希塩酸３ｇを添加した後、酢酸エチル１０ｇにて抽出した。得られた酢酸エチル溶液を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、目的物の相対面積値は９７％であった（定量収率９７％）。
〔実施例１５〕
N−［２−｛(３,３−ジメチル−２−オキソアゼチジン−１−イル)メチル｝フェニル］ −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミドの合成 その２
３−クロロ−２,２−ジメチル−N−{２−(トリフルオロメタンスルホンアミド)ベンジル}プロパンアミド０．１８６ｇ（０．５０ミリモル）のアセトニトリル３ｍｌ溶液に、燐酸カリウム０．３１８ｇ（１．５０ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を８０℃にて９時間攪拌した。該反応混合物を高速液体クロマトグラフィーで分析した結果、目的物の相対面積値は８８％であった。
〔実施例１６〕
N−［２−{(３，３−ジメチル−２−オキソアゼチジン−１−イル)メチル}フェニル］−１，１，１−トリフルオロメタンスルホンアミドの合成 その３
N−{２−(アミノメチル)フェニル} −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミド１．０２ｇ（４．００ミリモル）のトルエン７．００ｇ溶液に、５質量％水酸化ナトリウム水溶液７．０４ｇ（８．８０ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を３０℃にて３０分攪拌した後、３−クロロピバロイルクロリド０．６８４ｇ（４．４０ミリモル）を添加した後、３０℃にて５時間撹拌した。攪拌終了後、該反応混合物に５質量％水酸化ナトリウム水溶液６．４０ｇ（８．００ミリモル）を添加し、８０℃にて３時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物に３５質量％塩酸１．２９ｇ（１２．４ミリモル）を添加して、水層を分離した。得られた有機層を水３ｇで洗浄した。得られた溶液を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、トルエンを減圧留去して、目的物１．１３ｇを白色結晶として得た。
融点：１１４〜１１６℃
［参考例１］
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル）アミノ安息香酸メチルの合成
２-アミノ安息香酸３．０２ｇのジクロロメタン２０ｇ溶液にトリフルオロメタンスルホン酸無水物２．８２ｇ、トリエチルアミン２．０２ｇ、トリフルオロメタンスルホン酸無水物２．８２ｇ及びトリエチルアミン０．４０ｇを氷冷下で続けて添加し、氷冷下で１時間攪拌した。反応終了後、反応混合物に水を添加し、有機層を分液した。得られた有機層を水、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した。減圧下、溶媒を留去し、目的物３．５１ｇを薄黄色固体として得た。融点：３３〜３５℃
［参考例２］
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル）ベンジルアルコールの合成
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル）アミノ安息香酸メチル５６６ｍｇのテトラヒドロフラン１０ｍｌ溶液に水素化ホウ素ナトリウム１１４ｍｇを加え、５０℃に加熱した。反応液にメタノール０．１ｍｌをゆっくりと滴下し、５０℃で２時間加熱攪拌した。反応液を高速液体クロマトグラフィー〔分析条件；カラム：Ｉｎｅｒｔｓｉｌ ＯＤＳ−４，４．６×２５０ｍｍ，粒子径５μｍ、溶離液：アセトニトリル／水／トリフルオロ酢酸＝６００／４００／０．１（ｖ／ｖ／ｖ）、カラム温度：４０℃、流速：１．００ｍＬ／ｍｉｎ、観測波長：２２０ｎｍ〕で分析したところ、目的物が相対面積比７３．５％で生成していることを確認した。
［参考例３］
２−（Ｎ−トリフルオロメタンスルホニル）アミノベンゾニトリルの合成
２−アミノベンゾニトリル３．０ｇのジクロロメタン２０ｇ溶液にトリフルオロメタンスルホン酸無水物３．６ｇ、トリエチルアミン２．６ｇ、トリフルオロメタンスルホン酸無水物３．６ｇ及びトリエチルアミン０．５１ｇを氷冷下で続けて添加し、氷冷下で１時間攪拌した。反応終了後、反応液を５質量％水酸化ナトリウム水溶液で２回分液した。水層を混合し、ジクロロメタンで洗浄後した後、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を添加して酸性にし、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水で２回洗浄し、減圧下で溶媒を濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５〜２／１）で精製し、目的物３．４ｇを白色固体として得た。融点：７８〜８１℃
［参考例４］
３−クロロピバリン酸アミドの合成
２８質量％アンモニア水３９．２ｇ（６４５ミリモル）に酢酸エチル２００ｇ、３−クロロピバリン酸クロリド２０．０ｇ（１２９ミリモル）を常温にて滴下した。滴下終了後、該反応混合物を室温にて４時間攪拌した。反応終了後、常温にて該反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液６０ｇを少しずつ添加した後、水層を分離した。水層を酢酸エチル６０ｇで抽出し、先の有機層と合わせて無水硫酸ナトリウムにて乾燥した。得られた有機層を減圧留去し、目的物１６．１ｇを白色固体として得た（収率９２％）。融点：１００〜１０２℃
［参考例５］
３，３−ジメチル−２−アゼチジノンの合成−その１
３−クロロピバリン酸アミド４０．７ｇ（３００ミリモル）のアセトニトリル４１０ｇ溶液に、燐酸カリウム１２７ｇ（６００ミリモル）を添加した。添加終了後、加熱還流下にて９時間攪拌した後、室温まで冷却した後、該反応混合物中に析出した固形物をろ別した。得られたろ液から減圧下にてアセトニトリルを留去した後、得られた残留物に減圧蒸留を行い、３ｋＰａにて１１０℃から１１８℃で留出した目的物２６．０ｇを無色液体として得た。ガスクロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は９６％であった。
［参考例６］
３，３−ジメチル−２−アゼチジノンの合成−その２
３−クロロピバリン酸アミド１０．０ｇ（７３．８ミリモル）のテトラヒドロフラン３００ｇ溶液に、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド１６．６ｇ（１４８ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を常温にて４時間攪拌した。反応終了後、該反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液８０ｇで洗浄した後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、アセトニトリルを減圧留去して目的物６．８２ｇを無色液体として得た。ガスクロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は９２％であった。
［参考例７］
N−{２−(アミノメチル)フェニル}−１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミドの合成−その１
N−(２−シアノフェニル) −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミド６１５ｍｇ（２．４６ミリモル）のメタノール６．１５ｇ溶液に、ラネーニッケル５７．７ｍｇを添加した。添加終了後、該反応混合物を、水素雰囲気下、５０℃にて１６時間撹拌した。反応終了後、該反応混合物をセライトろ過にてラネーニッケルを除去した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は７７％であった。
［参考例８］
N−{２−(アミノメチル)フェニル}−１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミドの合成−その２
N−(２−シアノフェニル) −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミド１．００ｇ（４．００ミリモル）のメタノール２０．０ｇ溶液に、１０％パラジウム炭素（エヌ・イー・ケムキャット社製、ＮＸタイプ）２００ｍｇを添加した。添加終了後、該反応混合物を、水素雰囲気下、常温にて３時間撹拌した。反応終了後、該反応混合物をセライトろ過にてパラジウム炭素を除去した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は８８％であった。
［参考例９］
N−{２−(アミノメチル)フェニル}−１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミド硫酸塩の合成
N−(２−シアノフェニル) −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミド１．００ｇ（４．００ミリモル）のメタノール１０．０ｇ溶液に、濃硫酸０．４１ｇ（４．００ミリモル）及び５質量％パラジウム炭素（エヌ・イー・ケムキャット社製、STDタイプ）５０ｍｇを添加した。添加終了後、該反応混合物を水素ガス雰囲気下、常温にて７時間撹拌した。反応終了後、該反応混合物をセライトろ過にてパラジウム炭素を除去した。得られた溶液を液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は９９％であった。
［参考例１０］
３−クロロ-２,２-ジメチル−N−{２−(トリフルオロメタンスルホンアミド)ベンジル}プロパンアミドの合成 その１
N−{２−(アミノメチル)フェニル} −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミド５００ｍｇ（１．９７ミリモル）のトルエン５．００ｇ溶液に、炭酸カリウム５７４ｍｇ（４．１５ミリモル）、３−クロロピバロイルクロリド３２２ｍｇ（２．０８ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を７０℃にて３時間撹拌した。反応終了後、該反応混合物を室温まで冷却した後、５質量％水酸化ナトリウム水溶液５ｇにて２回抽出した。得られた水酸化ナトリウム水溶液を３５質量％塩酸２ｇにて酸性にした後、トルエン５ｇにて２回抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、トルエンを減圧留去して目的物６６２ｍｇを白色結晶として得た（収率９４％）。
融点：９２〜９３℃
［参考例１１］
３−クロロ-２,２-ジメチル−N−{２−(トリフルオロメタンスルホンアミド)ベンジル}プロパンアミドの合成 その２
N−{２−(アミノメチル)フェニル} −１,１,１−トリフルオロメタンスルホンアミド２５８ｍｇ（１．０１ミリモル）のトルエン８．６７ｇ及び酢酸エチル４．４９ｇ溶液に、トリエチルアミン３０７ｍｇ（３．０３ミリモル）及び３−クロロピバロイルクロリド１６７ｍｇ（１．０８ミリモル）を添加した。添加終了後、該反応混合物を２０℃にて１時間撹拌した。反応終了後、該反応混合物に水５ｇ及び希塩酸７ｇを添加して分液し、水層をトルエン１８ｇで抽出した。得られた有機層を併せて飽和食塩水５ｇで洗浄した。得られた溶液を高速液体クロマトグラフィーにて分析した結果、目的物の相対面積値は９４％であった。
本発明に係るトリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物は、イネ、トウモロコシ、ムギ、ビート及び大豆に高い選択性を持ち、優れた除草効果を有するトリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の新規な製造中間体として極めて有用である。
なお、２０１３年１０月２５日に出願された日本特許出願２０１３−２２１８５８号、２０１４年１月２７日に出願された日本特許出願２０１４−０１２６７７号、２０１４年２月２６日に出願された日本特許出願２０１４−０３４９０２号、２０１４年５月２９日に出願された日本特許出願２０１４−１１１６０９号、および、２０１４年９月５日に出願された日本特許出願２０１４−１８０８８６号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (10)

  1. 式（１２）：
    Figure 0006512104
     ［式中、Ａは、−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
    Ｙは、−ＮＯ２、−ＮＨ２、−ＮＨＣＯ２Ｒ１、−ＮＨＳＯＲ１又は−ＮＨＳＯ２Ｒ１を表し、
    Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ２とＲ３はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
    Ｒ４は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、
    Ｒ５は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６ハロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ又はＣ１〜Ｃ６アルキルを表し、Ｒ４とＲ５はそれぞれが結合する炭素原子と共にＣ３〜Ｃ６シクロアルキルを形成しても良く、
    ｎは、０，１，２又は３の整数を表し、
    Ｘ２は、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ又はｐ−トルエンスルホニルオキシを表す。］で表されるＮ−ベンジルアミド化合物を塩基の存在下で反応させることを特徴とする、式（１０）：
    Figure 0006512104
     ［式中、Ａ、Ｙ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びｎは上記と同様の意味を表す。］で表されるＮ−ベンジルラクタム化合物の製造方法。
  2. 添加物として相間移動触媒を加える請求項１に記載の製造方法。
  3. ｎは、０を表す請求項１又は２に記載の製造方法。
  4. ｎは、１の整数を表す請求項１又は２に記載の製造方法。
  5. ｎは、２の整数を表す請求項１又は２に記載の製造方法。
  6. ｎは、３の整数を表す請求項１又は２に記載の製造方法。
  7. 塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐酸一水素ナトリウム又は燐酸一水素カリウムである請求項１乃至６に記載の製造方法。
  8. 塩基が、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム又は燐酸カリウムである請求項７に記載の製造方法。
  9. 相間移動触媒が、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヨージド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム硫酸水素塩、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムクロリド又はテトラフェニルホスホニウムブロミドである請求項２乃至８に記載のＮ−ベンジルラクタム化合物の製造方法。
  10. 相間移動触媒が、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミドである請求項９に記載の製造方法。
JP2015543914A 2013-10-25 2014-10-23 Ｎ−ベンジルラクタム化合物の製造方法 Active JP6512104B2 (ja)

Applications Claiming Priority (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013221858 2013-10-25
JP2013221858 2013-10-25
JP2014012677 2014-01-27
JP2014012677 2014-01-27
JP2014034902 2014-02-26
JP2014034902 2014-02-26
JP2014111609 2014-05-29
JP2014111609 2014-05-29
JP2014180886 2014-09-05
JP2014180886 2014-09-05
PCT/JP2014/078254 WO2015060402A1 (ja) 2013-10-25 2014-10-23 トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2015060402A1 JPWO2015060402A1 (ja) 2017-03-09
JP6512104B2 true JP6512104B2 (ja) 2019-05-15

Family

ID=52992989

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015543914A Active JP6512104B2 (ja) 2013-10-25 2014-10-23 Ｎ−ベンジルラクタム化合物の製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6512104B2 (ja)
WO (1) WO2015060402A1 (ja)

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3639474A (en) * 1969-06-12 1972-02-01 Minnesota Mining & Mfg N-substituted perfluoroalkane-sulfonamides
JPH10218857A (ja) * 1995-12-07 1998-08-18 Sumitomo Chem Co Ltd トリフルオロメタンスルフィンアニリド化合物およびその用途
JP3169168B2 (ja) * 1996-04-23 2001-05-21 セントラル硝子株式会社 トリフルオロメタンスルホンアニリド誘導体の製造方法
JP4182247B2 (ja) * 2002-02-07 2008-11-19 住友化学株式会社 スルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造方法とその触媒
JP2005314407A (ja) * 2004-03-31 2005-11-10 Nippon Nohyaku Co Ltd 新規なハロアルキルスルホンアニリド誘導体、除草剤及びその使用方法並びにその中間体
US20100076081A1 (en) * 2006-09-28 2010-03-25 Sohei Omura Method for producing salt of 4-sulfinylamino-1-cyclohexanecarboxylic acid
JP5347349B2 (ja) * 2007-09-18 2013-11-20 セントラル硝子株式会社 ２−ブロモ−２，２−ジフルオロエタノール及び２−（アルキルカルボニルオキシ）−１，１−ジフルオロエタンスルホン酸塩類の製造方法
JP5428114B2 (ja) * 2008-02-14 2014-02-26 保土谷化学工業株式会社 酸化型環状フェノール硫化物の連続製造方法
JP2011037746A (ja) * 2009-08-10 2011-02-24 Nissan Chem Ind Ltd ハロアルキルスルホンアニリド化合物の製造方法
JP2015013809A (ja) * 2011-10-25 2015-01-22 石原産業株式会社 ヘテロアリールスルホンアミド系化合物又はその塩
JP6429016B2 (ja) * 2012-09-20 2018-11-28 日産化学株式会社 トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015060402A1 (ja) 2015-04-30
JPWO2015060402A1 (ja) 2017-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5365807B2 (ja) 光学活性イソキサゾリン化合物の触媒的不斉合成方法
JP5843182B2 (ja) 部分的に飽和された含窒素複素環化合物
TW202202490A (zh) 製備cot抑制劑化合物的方法
JP7228562B2 (ja) アミノピリミジン誘導体を調製するための改善されたプロセス
JP6429016B2 (ja) トリフルオロメタンスルホンアニリド化合物の製造方法
JP6523334B2 (ja) 置換サイクロセリンの調製のための方法
JP5304818B2 (ja) ４−置換又は非置換テトラヒドロピラン−４−カルボン酸化合物又はそのエステル化合物の製法
JPWO2019208807A1 (ja) 芳香族ニトリル化合物の製造方法
JP2019142828A (ja) ４，５−ジシアノ−２−（フルオロアルキル）イミダゾールの製造方法
JP6512104B2 (ja) Ｎ−ベンジルラクタム化合物の製造方法
JP6173364B2 (ja) 部分的に飽和された含窒素複素環化合物を有効成分として含有する医薬
CN112969690A (zh) 制备光学富集异噁唑啉类的方法
US20120029202A1 (en) Process for the Preparation of 5-Substituted 3-Aryl-3-(trifluoromethyl)-3,4-dihydro-2H-pyrroles
BR112020013985A2 (pt) novos processos e intermediários para a preparação de estimulantes de guanilato ciclase solúvel
CN110520411A (zh) 吡啶化合物的制造方法
JP5526538B2 (ja) ３−（２−シアノ−１−プロペニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸化合物の製造方法およびその中間体
JP6961595B2 (ja) ４−アルコキシ−３−トリフルオロメチルベンジルアルコールの製造方法
EP3448837A1 (en) Process for the preparation of herbicidal pyridinylimidazolone compounds
JP5130211B2 (ja) ３−ヒドラジノ−２，５−ジオキソピロリジン−３−カルボキシレート類およびその製造方法ならびにその使用
Yang et al. Synthesis of asymmetric halomesylate mustards with aziridineethanol/alkali metal halides: application to an improved synthesis of the hypoxia prodrug PR-104
JP4899385B2 (ja) ３−アミノメチルオキセタン化合物の製法
JP2020537680A (ja) 除草性ピリダジノン化合物を製造するプロセス
WO2006046595A1 (ja) 光学活性４，４－二置換オキサゾリジン誘導体とその製造方法
JP5487692B2 (ja) 複素環骨格を有する化合物および該化合物を不斉触媒として用いる光学活性化合物の製造方法
WO2007111024A1 (ja) 含ハロゲンカルバマート基とアシル基を有するエチレンジアミン誘導体の製造方法、及びそれらの製造中間体

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171016

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20171016

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181030

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181220

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190312

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190325

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6512104

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151