JP6501363B2 - １，２，３−トリオール化合物の光学活性モノエステル体の製造方法 - Google Patents
１，２，３−トリオール化合物の光学活性モノエステル体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6501363B2 JP6501363B2 JP2015547707A JP2015547707A JP6501363B2 JP 6501363 B2 JP6501363 B2 JP 6501363B2 JP 2015547707 A JP2015547707 A JP 2015547707A JP 2015547707 A JP2015547707 A JP 2015547707A JP 6501363 B2 JP6501363 B2 JP 6501363B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- chloride
- triol
- optically active
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
- C07C303/26—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of esters of sulfonic acids
- C07C303/28—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of esters of sulfonic acids by reaction of hydroxy compounds with sulfonic acids or derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07B—GENERAL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY; APPARATUS THEREFOR
- C07B53/00—Asymmetric syntheses
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
本発明は１，２，３−トリオールの光学活性モノエステル化誘導体を、簡便に効率良く製造する方法に関する。本願は、２０１３年１１月１８日に日本に出願した特願２０１３−２３８２６２号の優先権を主張し、その内容をここに援用する。
有機合成において、分子中の特定の官能基のみを選択的に活性化して反応させることは所望の分子構造を持つ化合物を自由に合成する上で大変重要である。例えば、糖類、イノシトール、グリセリンなどのポリオールは脂質やたんぱく質などと並び生命科学において重要な役割を担う化合物群である。しかし、一般にこれらの化合物は従来の化学反応条件においては識別が困難な多数の水酸基を有するため、特定の水酸基のみを選択的に修飾することが困難であった。中でも、グリセリンに代表されるトリオール類は、反応性の類似した水酸基３つを有する上、うち２つは反応性が等しいため、３つの水酸基のうちの１つだけを選択的に修飾することは非常に困難であることが知られていた。
一方、近年、環境技術として植物油脂を原料とするバイオディーゼル燃料が普及しつつあるが、その一方でバイオディーゼル燃料製造プロセスにおいて副生するグリセリンが大量に余剰化し、その処分が社会問題化しており、グリセリンを効率良く高付加価値製品に変換して有効に活用するための優れた技術の確立が重要な課題となっている。
従来、１段階で無保護の１，２，３−トリオールの３つの水酸基の一つだけを選択的に高収率で修飾可能な方法は存在しなかった。例えば代表的なトリオールであるグリセリンの３個の水酸基のうちの特定部位に目的の置換基を導入しようとする場合、古典的な方法としては非特許文献１のごとく単純にグリセリンに対し反応試剤を最適量比で仕込んで反応させ、得られる置換度分布のある位置異性体混合物の中から、目的とする化合物のみをクロマトグラフ等で分離精製する方法が考えられるが、一般に多種かつ大量の不純物中からの分離の効率は悪いため収率が低下し、また性質の良く似た不純物の混入の可能性が高いため、良い方法であるとは言えない。
したがって、例えばグリセリル基をもつ有用物質の合成にあたっては、一般的手法として、非特許文献２〜４のごとく、まず３つの水酸基のうちの２つをアセトナイドとして保護したのち、残る１つの水酸基を目的の官能基に変換し、その後にアセトナイド保護基を除去する工程が必要となるため、合計４段階の煩雑な合成工程とせざるを得ない。無保護のまま、目的の官能基を導入することができれば保護基の導入と除去の２段階が不要となるため、合成工程数が省略され製造効率は飛躍的に高まる。
一方、保護基を用いる合成法とは別に、より直接的な方法として、例えば非特許文献５および非特許文献６のごとく、１段階の反応で多価アルコールのうち所望の水酸基のみに置換基を導入する試みもなされているが、これらはジオールについては良好な結果が得られる反面、グリセリンについては収率面でも選択率の面でも未だ充分であるとは言いがたい。
さらに、光学活性なグリセリル基を有する誘導体を合成するためには、非特許文献２あるいは非特許文献４のごとく、あらかじめ高い光学純度のグリシジル誘導体やグリセリン誘導体等を合成原料として入手しなければならないが、一般にその様な原料は糖類から複数の煩雑な工程を経て合成するか、光学活性なグリシドールからやはり複数の工程により合成するしかなく、一般に極めて高価である。したがって、原料として安価なグリセリンを用いて、一段階の触媒反応により位置選択的活性修飾基導入と同時に高い立体選択がなされて、良好な光学純度の１，２，３−トリオールモノ置換誘導体を得る方法が確立できれば、様々な有用物質の製造法として極めて有用な選択肢を与える。
Ｍ．Ｂｅｎｂｏｕｚｉｄら、Ｆｅｔｔ Ｗｉｓｓｅｎｓｃｈａｆｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ，Ｖｏｌ．９０（８），ｐ２９２−ｐ２９５（１９８８）
Ｊｏｈｎ Ｃ．ＳＯＷＤＥＮら、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ，Ｖｏｌ．６４，ｐ１２９１−ｐ１２９３（１９４２）
Ｏ．Ｅ．ｖａｎ ＬＯＨＵＩＺＥＮら，Ｒｅｃｕｅｕｌ ｄｅｓ Ｔｒａｖｅｕｘ Ｃｈｉｍｉｑｕｅｓ ｄｅｓ Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，ｐ４６０−ｐ４７２（１９５９）
Ｇｅｏｒｇｅｓ Ｈｉｒｔｈら、Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ Ｃｈｉｍｉｃａ Ａｃｔａ，ｖｏｌ．６６（２），ｐ１２１０−ｐ１２４０（１９８３）
Ｎ．Ｎａｇａｓｈｉｍａら、Ｃｈｅｍｉｃａｌ ａｎｄ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ，Ｖｏｌ．３９（８），ｐ１９７２−ｐ１９８２（１９９１）
Ｂｏｙａｐａｔｉ Ｍ．Ｃｈｏｕｄａｒｙら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖｏｌ．５６，ｐ７２９１−ｐ７２９８（２０００）
本発明の目的は、１，２，３−トリオールを原料として簡便かつ選択的にモノエステル化体を製造する方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、１，２，３−トリオールから１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を良好な収率で得る方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、１，２，３−トリオールから１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を良好な収率で得る方法を提供することにある。
本発明者らは、上記課題に対し鋭意検討を加えた結果、光学活性ビスオキサゾリン配位子、１価または２価の銅化合物、および塩基の存在下に１，２，３−トリオール化合物を酸ハライド類と反応させると、水酸基を保護基で保護せずとも１つの水酸基のみに修飾反応が進行するうえ、立体選択も同時になされて１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物が選択的に高い収率で得られることを見出した。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。
すなわち、本発明は、光学活性ビスオキサゾリン配位子、１価または２価の銅化合物、および塩基の存在下に、下記式（１）
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環式基、又は１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基を示す。Ｒ1とＲ3は互いに結合して、隣接する３つの炭素原子からなる炭素鎖とともに環を形成していてもよい）
で表される１，２，３−トリオール化合物を有機酸ハライドと反応させて、下記式（２）
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、前記に同じ。ＯＸは有機酸エステル基を表す。＊は不斉炭素原子を示す）
で表される１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を得ることを特徴とする１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法を提供する。
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環式基、又は１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基を示す。Ｒ1とＲ3は互いに結合して、隣接する３つの炭素原子からなる炭素鎖とともに環を形成していてもよい）
で表される１，２，３−トリオール化合物を有機酸ハライドと反応させて、下記式（２）
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、前記に同じ。ＯＸは有機酸エステル基を表す。＊は不斉炭素原子を示す）
で表される１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を得ることを特徴とする１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法を提供する。
前記１，２，３−トリオール化合物はプロキラルな化合物であってもよい。
前記１，２，３−トリオール化合物はグリセリンであってもよい。
すなわち、本発明は以下に関する。
［１］光学活性ビスオキサゾリン配位子、１価または２価の銅化合物、および塩基の存在下に、前記式（１）（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環式基、又は１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基を示す。Ｒ1とＲ3は互いに結合して、隣接する３つの炭素原子からなる炭素鎖とともに環を形成していてもよい）で表される１，２，３−トリオール化合物を有機酸ハライドと反応させて、前記式（２）（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、前記に同じ。ＯＸは有機酸エステル基を表す。＊は不斉炭素原子を示す）で表される１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を得ることを特徴とする１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２］前記の炭化水素基が、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又はこれらの基が結合した基である［１］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［３］前記の炭化水素基が、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ2-10アルケニル基、Ｃ2-10アルキニル基、Ｃ3-15シクロアルキル基、Ｃ6-10芳香族炭化水素基、Ｃ3-15シクロアルキル−Ｃ1-4アルキル基、又はＣ7-14アラルキル基である［１］又は［２］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［４］前記の複素環式基を構成する複素環が、芳香族性複素環又は非芳香族性複素環である［１］〜［３］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［５］前記の複素環がヘテロ原子として酸素原子を含む複素環、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環、又はヘテロ原子として窒素原子を含む複素環である［４］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［６］前記の１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基における連結基が、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、モノ又はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アラルキルオキシカルボニルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又はアラルキルオキシカルボニル基である［１］〜［５］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［７］前記の式（１）で表される化合物が、プロキラルな１，２，３−トリオール化合物である［１］〜［６］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［８］前記の式（１）で表される１，２，３−トリオールが、グリセリン、グリセリン誘導体、アルキルトリオール類、アルジトール類およびそれらの水酸基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体、アルドース類およびそれらの水酸基および／またはアルデヒド基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体、又は、ケトース類およびそれらの水酸基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体である［１］〜［７］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［９］前記の式（１）で表される１，２，３−トリオール化合物がグリセリン及び／又はグリセリン誘導体である［１］〜［８］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１０］前記の有機酸ハライドが、カルボン酸ハライド、スルホン酸ハライド、ホスフィン酸ハライド、ホスホン酸ハライドである［１］〜［９］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１１］前記の有機酸ハライドが、下記式（３）で表される化合物である［１］〜［１０］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。（式中、Ｘは有機酸基を表し、Ｙはハロゲン原子を表す）
［１２］前記の有機酸ハライドが、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、フェニルスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、m−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、o−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、m−トルエンスルホニルクロリド、o−トルエンスルホニルクロリド、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルクロリド、p−ブロモベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、o−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、２−ナフタレンスルホニルクロリド、１−(２−メトキシナフタレン)スルホニルクロリド、２−フラニルスルホニルクロリド、２−チオフェンスルホニルクロリド、２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホラン、２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン、ジフェニルホスフィニルクロリド、又はジフェニルホスホリルクロリドである［１］〜［１１］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１３］前記の有機酸ハライドの使用量が、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．５〜５モルである［１］〜［１２］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１４］前記の１価または２価の銅化合物が、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）、ヨウ化銅（Ｉ）、シアン化銅（Ｉ）、銅（ＩＩ）トリフラート［＝トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）］、酢酸銅（ＩＩ）、又はトリフルオロ酢酸銅（ＩＩ）である［１］〜［１３］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１５］前記の１価または２価の銅化合物が、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、シアン化銅（Ｉ）、である［１］〜［１４］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１６］前記の１価または２価の銅化合物の使用量が、１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．０００１〜０．５モルである［１］〜［１５］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１７］前記の光学活性ビスオキサゾリン配位子が、下記式（４）で表される［１］〜［１６］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。（式中、Ｒ4は、置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のアルケニレン基、置換または無置換のシクロアルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、置換または無置換の２価の複素環式基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ5は、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ6は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。また、Ｒ5とＲ6は互いに結合して、隣接する２つの炭素原子からなる炭素鎖とともに、環を形成していてもよい）
［１８］前記のＲ4におけるアルキレン基が炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、アルケニレン基が炭素数２〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニレン基であり、シクロアルキレン基が炭素数３〜１２のシクロアルキレン基であり、アリーレン基が炭素数６〜１４のアリーレン基であり、２価の複素環式基が窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなる群より選択された少なくとも１種のヘテロ原子を含む非芳香族性又は芳香族性複素環化合物から２つの水素原子を除いた基である［１７］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１９］前記のＲ5、Ｒ6におけるアルキル基が、それぞれ、炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、アルケニル基が、それぞれ、炭素数２〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基であり、シクロアルキル基が、それぞれ、３員環〜１２員環のシクロアルキル基であり、アリール基が、それぞれ、炭素数６〜１４のアリール基である［１７］又は［１８］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２０］前記のＲ5とＲ6が互いに結合して隣接する２つの炭素原子からなる炭素鎖とともに形成する環が、シクロアルカン環、シクロアルケン環、芳香族炭素環、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなる群より選択された少なくとも１種のヘテロ原子を含む非芳香族性又は芳香族性複素環、又はこれらの環が２以上縮合又は結合した環である［１７］〜［１９］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２１］前記の光学活性ビスオキサゾリン配位子が、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−メチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−イソプロピリデンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−ジフェニルメチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、２，６−ビス［（４Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル］ピリジン、（４Ｓ）−フェニル−α−［（４Ｓ）−フェニルオキサゾリジン−２−イリデン］−２−オキサゾリン−２−アセトニトリル、２，２'−メチレンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２’−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、［３ａS−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−メチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａR−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−イソプロピリデンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａS−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−ジフェニルメチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、２，６−ビス［（４R）−イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル］ピリジン、又は（４R）−フェニル−α−［（４R）−フェニルオキサゾリジン−２−イリデン］−２−オキサゾリン−２−アセトニトリルである［１］〜［２０］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２２］前記の光学活性ビスオキサゾリン配位子の使用量が、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．０００１モル〜０．５モルである［１］〜［２１］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２３］前記の塩基が、アミン、含窒素芳香族複素環化合物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、及びアルカリ金属水酸化物からなる群より選択される少なくとも１つである［１］〜［２２］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２４］前記の塩基がアルカリ金属の炭酸塩である［１］〜［２３］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２５］前記の塩基の使用量が、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．５〜５モルである［１］〜［２４］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２６］本発明における反応溶媒が、非プロトン性極性溶媒、ニトリル、アルコール、ケトン、ハロゲン化炭化水素、鎖状エーテル、及び炭化水素からなる群より選択される少なくとも１つである［１］〜［２５］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２７］本発明の製造方法における反応温度が、１２０℃以下であり、反応時間が０．１〜１００時間である［１］〜［２６］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１］光学活性ビスオキサゾリン配位子、１価または２価の銅化合物、および塩基の存在下に、前記式（１）（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環式基、又は１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基を示す。Ｒ1とＲ3は互いに結合して、隣接する３つの炭素原子からなる炭素鎖とともに環を形成していてもよい）で表される１，２，３−トリオール化合物を有機酸ハライドと反応させて、前記式（２）（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、前記に同じ。ＯＸは有機酸エステル基を表す。＊は不斉炭素原子を示す）で表される１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を得ることを特徴とする１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２］前記の炭化水素基が、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基又はこれらの基が結合した基である［１］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［３］前記の炭化水素基が、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ2-10アルケニル基、Ｃ2-10アルキニル基、Ｃ3-15シクロアルキル基、Ｃ6-10芳香族炭化水素基、Ｃ3-15シクロアルキル−Ｃ1-4アルキル基、又はＣ7-14アラルキル基である［１］又は［２］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［４］前記の複素環式基を構成する複素環が、芳香族性複素環又は非芳香族性複素環である［１］〜［３］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［５］前記の複素環がヘテロ原子として酸素原子を含む複素環、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環、又はヘテロ原子として窒素原子を含む複素環である［４］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［６］前記の１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基における連結基が、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルチオアルキル基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、モノ又はジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アラルキルオキシカルボニルアミノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、又はアラルキルオキシカルボニル基である［１］〜［５］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［７］前記の式（１）で表される化合物が、プロキラルな１，２，３−トリオール化合物である［１］〜［６］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［８］前記の式（１）で表される１，２，３−トリオールが、グリセリン、グリセリン誘導体、アルキルトリオール類、アルジトール類およびそれらの水酸基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体、アルドース類およびそれらの水酸基および／またはアルデヒド基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体、又は、ケトース類およびそれらの水酸基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体である［１］〜［７］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［９］前記の式（１）で表される１，２，３−トリオール化合物がグリセリン及び／又はグリセリン誘導体である［１］〜［８］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１０］前記の有機酸ハライドが、カルボン酸ハライド、スルホン酸ハライド、ホスフィン酸ハライド、ホスホン酸ハライドである［１］〜［９］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１１］前記の有機酸ハライドが、下記式（３）で表される化合物である［１］〜［１０］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。（式中、Ｘは有機酸基を表し、Ｙはハロゲン原子を表す）
［１２］前記の有機酸ハライドが、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、フェニルスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、m−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、o−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、m−トルエンスルホニルクロリド、o−トルエンスルホニルクロリド、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルクロリド、p−ブロモベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、o−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、２−ナフタレンスルホニルクロリド、１−(２−メトキシナフタレン)スルホニルクロリド、２−フラニルスルホニルクロリド、２−チオフェンスルホニルクロリド、２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホラン、２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン、ジフェニルホスフィニルクロリド、又はジフェニルホスホリルクロリドである［１］〜［１１］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１３］前記の有機酸ハライドの使用量が、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．５〜５モルである［１］〜［１２］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１４］前記の１価または２価の銅化合物が、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）、ヨウ化銅（Ｉ）、シアン化銅（Ｉ）、銅（ＩＩ）トリフラート［＝トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）］、酢酸銅（ＩＩ）、又はトリフルオロ酢酸銅（ＩＩ）である［１］〜［１３］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１５］前記の１価または２価の銅化合物が、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、シアン化銅（Ｉ）、である［１］〜［１４］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１６］前記の１価または２価の銅化合物の使用量が、１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．０００１〜０．５モルである［１］〜［１５］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１７］前記の光学活性ビスオキサゾリン配位子が、下記式（４）で表される［１］〜［１６］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。（式中、Ｒ4は、置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のアルケニレン基、置換または無置換のシクロアルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、置換または無置換の２価の複素環式基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ5は、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ6は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。また、Ｒ5とＲ6は互いに結合して、隣接する２つの炭素原子からなる炭素鎖とともに、環を形成していてもよい）
［１８］前記のＲ4におけるアルキレン基が炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であり、アルケニレン基が炭素数２〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニレン基であり、シクロアルキレン基が炭素数３〜１２のシクロアルキレン基であり、アリーレン基が炭素数６〜１４のアリーレン基であり、２価の複素環式基が窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなる群より選択された少なくとも１種のヘテロ原子を含む非芳香族性又は芳香族性複素環化合物から２つの水素原子を除いた基である［１７］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［１９］前記のＲ5、Ｒ6におけるアルキル基が、それぞれ、炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基であり、アルケニル基が、それぞれ、炭素数２〜２０の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基であり、シクロアルキル基が、それぞれ、３員環〜１２員環のシクロアルキル基であり、アリール基が、それぞれ、炭素数６〜１４のアリール基である［１７］又は［１８］に記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２０］前記のＲ5とＲ6が互いに結合して隣接する２つの炭素原子からなる炭素鎖とともに形成する環が、シクロアルカン環、シクロアルケン環、芳香族炭素環、ヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなる群より選択された少なくとも１種のヘテロ原子を含む非芳香族性又は芳香族性複素環、又はこれらの環が２以上縮合又は結合した環である［１７］〜［１９］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２１］前記の光学活性ビスオキサゾリン配位子が、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−メチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−イソプロピリデンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−ジフェニルメチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、２，６−ビス［（４Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル］ピリジン、（４Ｓ）−フェニル−α−［（４Ｓ）−フェニルオキサゾリジン−２−イリデン］−２−オキサゾリン−２−アセトニトリル、２，２'−メチレンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２’−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、［３ａS−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−メチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａR−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−イソプロピリデンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａS−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−ジフェニルメチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、２，６−ビス［（４R）−イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル］ピリジン、又は（４R）−フェニル−α−［（４R）−フェニルオキサゾリジン−２−イリデン］−２−オキサゾリン−２−アセトニトリルである［１］〜［２０］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２２］前記の光学活性ビスオキサゾリン配位子の使用量が、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．０００１モル〜０．５モルである［１］〜［２１］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２３］前記の塩基が、アミン、含窒素芳香族複素環化合物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属リン酸塩、及びアルカリ金属水酸化物からなる群より選択される少なくとも１つである［１］〜［２２］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２４］前記の塩基がアルカリ金属の炭酸塩である［１］〜［２３］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２５］前記の塩基の使用量が、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．５〜５モルである［１］〜［２４］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２６］本発明における反応溶媒が、非プロトン性極性溶媒、ニトリル、アルコール、ケトン、ハロゲン化炭化水素、鎖状エーテル、及び炭化水素からなる群より選択される少なくとも１つである［１］〜［２５］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
［２７］本発明の製造方法における反応温度が、１２０℃以下であり、反応時間が０．１〜１００時間である［１］〜［２６］のいずれかに記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
本発明の方法によれば、１，２，３−トリオール化合物から、水酸基を保護基で保護することなく、複数の水酸基のうち所望の１つだけを選択的に修飾でき、１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化誘導体を得ることができる。さらに、低温、常圧下の温和な条件で反応が進行し、グリシドールやハロゲン化グリセリルなどの有害な物質を使用することがないため作業性に優れている。従って本発明に係る１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法は簡便で汎用性が高く、有用な医薬品、化粧品、トイレタリー分野において有用な機能分子の合成に大きく寄与することができる。
本発明の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法は、光学活性ビスオキサゾリン配位子、１価または２価の銅化合物、および塩基の存在下に、前記式（１）で表される１，２，３−トリオール化合物を有機酸ハライドと反応させて、前記式（２）で表される１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を得ることを特徴とする。
前記式（１）および式（２）中、Ｒ1〜Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環式基、又は１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基を示す。Ｒ1とＲ3は互いに結合して、隣接する３つの炭素原子からなる炭素鎖（式中に示される）とともに環を形成していてもよい。また、式（２）中、ＯＸは有機酸エステル基を表す。＊は不斉炭素原子を示す。
前記Ｒ1〜Ｒ3における炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基およびこれらの基が結合した基が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ドデシル基などの炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１〜３）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基；ビニル、アリル、１−ブテニル基などの炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０、さらに好ましくは２〜３）の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基；エチニル、プロピニル基などの炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０、さらに好ましくは２〜３）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキニル基などが挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル基などの３〜２０員環（好ましくは３〜１５員、さらに好ましくは５〜８員）のシクロアルキル基；シクロペンテニル、シクロへキセニル基などの３〜２０員環（好ましくは３〜１５員環、さらに好ましくは５〜８員環）のシクロアルケニル基；パーヒドロナフタレン−１−イル基、ノルボルニル基、アダマンチル、テトラシクロ［４．４．０．１2,5．１7,10］ドデカン−３−イル基などの橋かけ環式炭化水素基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基などの炭素数６〜１４（好ましくは６〜１０）の芳香族炭化水素基が挙げられる。
脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが結合した基には、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、２−シクロへキシルエチル基などのシクロアルキル−アルキル基（例えばＣ3-20シクロアルキル−Ｃ1-4アルキル基など）などが含まれる。
また、脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基が結合した基には、アラルキル基（例えばＣ7-18アラルキル基など）、アルキル置換アリール基（例えば１〜４個程度のＣ1-4アルキル基が置換したフェニル基、ナフチル基など）などが含まれる。
好ましい炭化水素基には、Ｃ1-10アルキル基、Ｃ2-10アルケニル基、Ｃ2-10アルキニル基、Ｃ3-15シクロアルキル基、Ｃ6-10芳香族炭化水素基、Ｃ3-15シクロアルキル−Ｃ1-4アルキル基、Ｃ7-14アラルキル基などが含まれる。
上記炭化水素基は、種々の置換基、例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基など）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基など）、置換又は無置換カルバモイル基（アルキル基、アリール基若しくはアラルキル基で置換されたカルバモイル基、又は無置換カルバモイル基など）、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基（アルキル基、アリール基、アラルキル基若しくはアシル基で置換されたアミノ基、又は無置換アミノ基など）、スルホ基、複素環式基（例えば、後述の複素環式基など）などを有していてもよい。前記ヒドロキシル基やカルボキシル基は有機合成の分野で慣用の保護基で保護されていてもよい。また、脂環式炭化水素基や芳香族炭化水素基の環には芳香族性又は非芳香属性の複素環が縮合していてもよい。
前記Ｒ1〜Ｒ3における複素環式基を構成する複素環には、芳香族性複素環および非芳香族性複素環が含まれる。このような複素環としては、例えばヘテロ原子として酸素原子を含む複素環（例えば、オキシラン環などの３員環、オキセタン環などの４員環、フラン、テトラヒドロフラン、オオキサゾール、γッブチロラクトン環などの５員環、４−オキソ−４Ｈ−ピラン、テトラヒドロピラン、モルホリン環などの６員環、ベンゾフラン、４−オキソ−４Ｈ−クロメン、クロマン環などの縮合環、３−オキサトリシクロ［４．３．１．１4,8］−ウンデカン−２−オン環、３−オキサトリシクロ［４．２．１．０4,8］ノナン−２−オン環）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環（例えば、チオフェン、チアゾール、チアジアゾール環などの５員環、４−オキソ−４Ｈ−チオピラン環などの６員環、ベンゾチオフェン環などの縮合環など）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環（例えばピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール環などの５員環、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジン環などの６員環、インドール、インドリン、キノリン、アクリジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリン環などの縮合環など）などが挙げられる。上記複素環式基には、前記炭化水素基が有していてもよい置換基のほか、アルキル基（例えばメチル、エチル基などのＣ1-4アルキル基など）、シクロアルキル基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル基など）などの置換基を有していてもよい。また、複素環を構成する窒素原子は保護基で保護されていてもよい。
前記１若しくは２以上の前記炭化水素基（置換若しくは無置換の炭化水素基）及び／又は前記複素環式基（置換若しくは無置換の複素環式基）と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基において、連結基としては、例えばエーテル結合（−Ｏ−）、チオエーテル結合（−Ｓ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−）、アミド結合（−ＣＯＮＨ−）、カルボニル基（−ＣＯ−）、これらが２個以上結合した基などが挙げられる。
前記１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基としては、例えば、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プロポキシ基等のＣ1-6アルコキシ基など）、アルコキシアルキル基（メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル基等のＣ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基など）、アリールオキシ基（フェノキシ、ナフトキシ、トリルオキシ基等のＣ6-14アリールオキシ基など）、アラルキルオキシ基（ベンジルオキシ基等のＣ7-15アラルキルオキシ基など）、アルキルチオ基（メチルチオ、エチルチオ基等のＣ1-6アルキルチオ基など）、アルキルチオアルキル基（メチルチオメチル、エチルチオメチル、メチルチオエチル基等のＣ1-6アルキルチオ−Ｃ1-6アルキル基など）、アリールチオ基（フェニルチオ、ナフチルチオ基等のＣ6-14アリールオキシ基など）、アラルキルチオ基（ベンジルチオ基等のＣ7-15アラルキルチオ基など）、モノ又はジアルキルアミノ基（メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ基等のモノ又はジ−Ｃ1-6アルキルアミノ基など）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ基等のＣ1-12アシルアミノ基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（メトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基等のＣ1-6アルコキシ−カルボニルアミノ基など）、アリールオキシカルボニルアミノ基（フェノキシカルボニルアミノ基等のＣ6-14アリールオキシ−カルボニルアミノ基など）、アラルキルオキシカルボニルアミノ基（ベンジルオキシカルボニルアミノ基等のＣ7-15アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基など）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ1-6アルコキシ−カルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（フェノキシカルボニル基等のＣ6-14アリールオキシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニル基（ベンジルオキシカルボニル基等のＣ7-15アラルキルオキシ−カルボニル基など）などが挙げられる。
中でも、前記Ｒ1とＲ3としては、同一または異なって、水素原子；メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アリル基等の脂肪族炭化水素基（特に、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基）；フェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基（特に、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基）；４−メチルフェニル基、ベンジル基等の脂肪族炭化水素基（特に、炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基）と芳香族炭化水素基（特に、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基）とが結合した基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基（特に、Ｃ1-6アルコキシ−カルボニル基）が好ましい。
特に、本発明は、式（１）で表される化合物が、他の方法では選択的な修飾が困難なＲ1とＲ3が同一の基である化合物［特に、メソ化合物（メソ体）、プロキラルな１，２，３−トリオール化合物］である場合に有用である。
前記Ｒ1とＲ3は、互いに結合して、式中に示される隣接する３つの炭素原子からなる炭素鎖とともに環を形成していてもよく、例えば、芳香族性または非芳香族性の環を形成していてもよい。好ましい芳香族性または非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度である。このような環には、例えば、非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を有していても良く、またベンゼン環などの芳香族性環が結合していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環などの、置換基を有していてもよく、またベンゼン環などの芳香族性環が結合していてもよいシクロアルケン環など）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していいてもよい芳香族性環（縮合環を含む）などが挙げられる。また、環は複素環でもよく、複素環としては上記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3における複素環式基を構成する複素環の例と同様の例を挙げることができる。環は、アルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよい。
Ｒ1とＲ3が互いに結合して隣接する３つの炭素原子と共に環を形成している場合、該環としては、なかでも、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロへプタン環、シクロオクタン環、テトラヒドロナフタレン環などのシクロアルカン環；シクロヘキセン環などのシクロアルケン環；ピロリジン等のヘテロ原子として窒素原子を含む非芳香族性複素環；フラン環などのヘテロ原子として酸素原子を含む非芳香族性複素環などが好ましく、特に、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロへプタン環、シクロオクタン環、テトラヒドロナフタレン環等のシクロアルカン環、シクロヘキセン環などのシクロアルケン環、フラン環、ピロリジン環などの非芳香族性複素環が反応が進みやすい点で好ましい。
式（１）で表される１，２，３−トリオールの具体的な例としては、グリセリン；１−フェニルグリセリン、２−メチルグリセリン、２−エチルグリセリン、２−フェニルグリセリン、２−ベンジルグリセリン、１−（４−メトキシフェニル）グリセリン、１−（４−メトキシフェニル）−３−フェニルグリセリン、１−（４−ニトロフェニル）グリセリン、１−（４シアノフェニル）グリセリンなどのグリセリン誘導体；２，３，４−ペンタントリオール、３，４，５−へプタントリオール、１，２，３−ノナントリオール、４，５，６−ノナントリオールなどのアルキルトリオール類（アルカントリオール類）；エリトリトール、トレイトール、リビトール、アラビニトール、キシリトール、アリトール、グルシトール、マンニトール、イジトール、ガラクチトール、タリトール、ソルビトールなどのアルジトール類およびそれらの水酸基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体；エリトロース、トレオース、リボース、リキソース、キシロース、アラビノース、アロース、タロース、グロース、アルトロース、マンノース、ガラクトース、イドースなどのアルドース類およびそれらの水酸基および／またはアルデヒド基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体；キシルロース、リブロース、プシコース、フルクトース、ソルボース、タガトースなどのケトース類およびそれらの水酸基の一部に保護基または置換基が導入された誘導体などを挙げることができる。
本発明においては、式（１）で表される１，２，３−トリオール化合物としては、中でもグリセリンが好ましい。
本発明において、有機酸ハライドとしては、例えば、カルボン酸ハライド、スルホン酸ハライド、ホスフィン酸ハライド、ホスホン酸ハライドなどが挙げられる。代表的な有機酸ハライドとして、下記式（３）で表される化合物が挙げられる。
（式中、Ｘは有機酸基を表し、Ｙはハロゲン原子を表す）
（式中、Ｘは有機酸基を表し、Ｙはハロゲン原子を表す）
上記式（３）中のＸとしては、アセチル基、トリフルオロアセチル基、プロパノイル基、２−エチルヘキサノイル基、デカノイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、オレオイル基、ステアロイル基などの、ハロゲン原子を有していてもよい飽和または不飽和の炭素数１〜２２の脂肪族アシル基；ベンゾイル基などの芳香族アシル基；メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−ニトロベンゼンスルホニル基、m−ニトロベンゼンスルホニル基、o−ニトロベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基、m−トルエンスルホニル基、o−トルエンスルホニル基、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル基、p−ブロモベンゼンスルホニル基、ｐ−メトキシベンゼンスルホニル基、o−メトキシベンゼンスルホニル基、１−ナフタレンスルホニル基、２−ナフタレンスルホニル基、１−(２−メトキシナフタレン)スルホニル基、２−フラニルスルホニル基、２−チオフェンスルホニル基、２,２−ジメチル−６−クロマンスルホニル基、２，２，５，７，８−ペンタメチルクロマンスルホニル基などのスルホニル基；ジメチルホスフィニル基、ジエチルホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基、１，３，２−ジオキサホスホラン−２−イル基、などのホスフィニル基；ジメチルホスホリル基、ジエチルホスホリル基、ジフェニルホスホリル基、２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン−２−イル基などのホスホリル基などを挙げることができる。
上記式（３）中のＹとしては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。
本発明において、有機酸ハライドとしては、なかでも、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、フェニルスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、m−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、o−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、m−トルエンスルホニルクロリド、o−トルエンスルホニルクロリド、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルクロリド、p−ブロモベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、o−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、２−ナフタレンスルホニルクロリド、１−(２−メトキシナフタレン)スルホニルクロリド、２−フラニルスルホニルクロリド、２−チオフェンスルホニルクロリド、２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホラン、２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン、ジフェニルホスフィニルクロリド、ジフェニルホスホリルクロリドが、反応の立体選択性および位置選択性、すなわち、生成物の光学純度および組成純度の観点から好ましく用いられる。
前記有機酸ハライドの使用量としては、例えば、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．５〜５モル、好ましくは０．８〜３モル、さらに好ましくは１〜２モル程度である。
本発明において、１価または２価の銅化合物としては、特に限定されないが、例えば、塩化銅（Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）、ヨウ化銅（Ｉ）、シアン化銅（Ｉ）、銅（ＩＩ）トリフラート［＝トリフルオロメタンスルホン酸銅（ＩＩ）］、酢酸銅（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸銅（ＩＩ）を挙げることができるが、これらの中でも臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、シアン化銅（Ｉ）および銅（ＩＩ）トリフラートが収率および生成物の光学活性の観点では望ましく、さらにはより安価で腐食性も少ないことから取り扱いやすい臭化銅（Ｉ）がより好適である。
前記１価または２価の銅化合物の使用量は、例えば原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．０００１〜０．５モル、好ましくは０．００５〜０．２モル、より好ましくは０．０１〜０．１モルである。１価または２価の銅化合物の量が少なすぎると反応の進行が遅くなるし、原料不純物などの影響により失活して反応自体が起こらなくなる可能性が高くなる。また、多すぎると、高価なビスオキサゾリン配位子の使用量も増やさざるを得なくなり、コストが上昇するため好ましくない。
本発明において、光学活性ビスオキサゾリン配位子は、例えば、下記式（４）で表される。
（式中、Ｒ4は、置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のアルケニレン基、置換または無置換のシクロアルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、置換または無置換の２価の複素環式基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ5は、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ6は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。また、Ｒ5とＲ6は互いに結合して、隣接する２つの炭素原子からなる炭素鎖とともに、環を形成していてもよい）
（式中、Ｒ4は、置換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のアルケニレン基、置換または無置換のシクロアルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、置換または無置換の２価の複素環式基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ5は、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。Ｒ6は、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアリール基、これらが２以上結合した基から選ばれる基を示す。また、Ｒ5とＲ6は互いに結合して、隣接する２つの炭素原子からなる炭素鎖とともに、環を形成していてもよい）
前記Ｒ4におけるアルキレン基としては、例えば、メチレン、メチルメチレン（＝エチリデン）、ジメチルメチレン（＝イソプロピリデン）、エチレン、プロピレン、トリメチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、デカメチレン基などの炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基などが挙げられる。前記アルキレン基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素原子など）、ヒドロキシル基、アリール基（フェニル、ナフチル基など）、シクロアルキル基（シクロペンチル、シクロヘキシル基など）、アラルキル基（ベンジル基など）、アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、イソブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基など）、アリールオキシ基（フェノキシ、ナフチルオキシ基など）、アラルキルオキシ基（ベンジルオキシ基など）、ハロアルキル基（トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロアルキル基など）、アシル基（アセチル、プロピオニル、ベンゾイル基等の炭素数１〜１０のアシル基など）、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル基等のＣ1-6アルコキシ−カルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（フェニルオキシカルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニル基（ベンジルオキシカルボニル基など）、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基（アミノ基、モノＣ1-4アルキルアミノ基、ジＣ1-4アルキルアミノ基、Ｃ1-10アシルアミノ基等）などが挙げられる。
前記Ｒ4におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基などの炭素数２〜２０（好ましくは、２〜１０）の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニレン基などが挙げられる。前記アルケニレン基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、前記Ｒ4におけるアルキレン基が有していてもよい置換基と同様のものが挙げられる。
前記Ｒ4におけるシクロアルキレン基としては、例えば、シクロペンチレン基、シクロへキシレン基、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基などの炭素数３〜１２（好ましくは、５〜６）のシクロアルキレン基などが挙げられる。前記シクロアルキレン基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、前記Ｒ4におけるアルキレン基が有していてもよい置換基と同様の置換基のほか、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基等）などが挙げられる。
前記Ｒ4におけるアリーレン基としては、例えば、フェニレン、ナフチレン基などの炭素数６〜１４のアリーレン基などが挙げられる。前記アリーレン基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、前記Ｒ4におけるアルキレン基が有していてもよい置換基と同様の置換基のほか、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基等）などが挙げられる。
前記Ｒ4における２価の複素環式基としては、ピロリジン、ピロール、ピリジン、フラン、チオフェン等のヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなる群より選択された少なくとも１種のヘテロ原子を含む非芳香族性又は芳香族性複素環化合物から２つの水素原子を除いた基などが挙げられる。この複素環式基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、前記Ｒ4におけるアルキレン基が有していてもよい置換基と同様の置換基のほか、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基等）などが挙げられる。
前記Ｒ5、Ｒ6におけるアルキル基としては、それぞれ、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、デシル、ドデシル基などの炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１〜３）の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基などが挙げられる。前記Ｒ5、Ｒ6におけるアルケニル基としては、それぞれ、例えば、ビニル、アリル、１−ブテニル基などの炭素数２〜２０（好ましくは２〜１０、さらに好ましくは２〜３）の直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基などが挙げられる。前記Ｒ5、Ｒ6におけるシクロアルキル基としては、それぞれ、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル基などの３員環〜１２員環（好ましくは、５員環〜６員環）のシクロアルキル基などが挙げられる。前記Ｒ5、Ｒ6におけるアリール基としては、それぞれ、例えば、フェニル、ナフチル基などの炭素数６〜１４のアリール基などが挙げられる。
前記Ｒ5、Ｒ6におけるアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基は置換基を有していてもよい。該置換基としては、それぞれ、前記Ｒ4におけるアルキレン基が有していてもよい置換基と同様の置換基のほか、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基等）などが挙げられる。
Ｒ5とＲ6が互いに結合して隣接する２つの炭素原子からなる炭素鎖とともに形成してもよい環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロへプタン環、シクロオクタン環、テトラヒドロナフタレン環などのシクロアルカン環；シクロヘキセン環などのシクロアルケン環；ベンゼン環、ナフタレン環、インデン環、フルオレン環などの芳香族炭素環；ピロリジン環、ピロール環、ピリジン環、フラン環、オキサゾール環、チオフェン環等のヘテロ原子として窒素原子、酸素原子、硫黄原子からなる群より選択された少なくとも１種のヘテロ原子を含む非芳香族性又は芳香族性複素環；これらの環が２以上縮合又は結合した環などが挙げられる。これらの環は１又は２以上の置換基を有していてもよい。該置換基としては、前記Ｒ4におけるアルキレン基が有していてもよい置換基と同様の置換基のほか、アルキル基（メチル、エチル、プロピル、イソプロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基等）などが挙げられる。
前記光学活性ビスオキサゾリン配位子の例としては、例えば、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４S）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４Ｓ，５Ｒ）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−メチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−イソプロピリデンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａＲ−［２（３'ａＲ＊，８ａＳ＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−ジフェニルメチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、２，６−ビス［（４Ｓ）−イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル］ピリジン、（４Ｓ）−フェニル−α−［（４Ｓ）−フェニルオキサゾリジン−２−イリデン］−２−オキサゾリン−２−アセトニトリル、およびそれらの鏡像異性体である２，２'−メチレンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−メチレンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−イソプロピリデンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、２，２'−ジフェニルメチレンビス［（４R，５S）−４，５−ジフェニル−２−オキサゾリン］、［３ａS−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−メチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａR−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−イソプロピリデンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、［３ａS−［２（３'ａS＊，８ａR＊），３'ａβ，８'ａβ］］−２，２'−ジフェニルメチレンビス［３，８Ｈ−ジヒドロ−８−インデノ−ル［１，２−ｄ］オキサゾール］、２，６−ビス［（４R）−イソプロピル−２−オキサゾリン−２−イル］ピリジン、（４R）−フェニル−α−［（４R）−フェニルオキサゾリジン−２−イリデン］−２−オキサゾリン−２−アセトニトリルなどを挙げることができる。
本発明において、前記光学活性ビスオキサゾリン配位子の使用量としては、例えば、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．０００１モル〜０．５モル、好ましくは０．００５モル〜０．２モル、より好ましくは０．０１モル〜０．１モルである。
本発明において、前記塩基としては、特に限定されないが、例えば、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｓ−ブチルアミン、トリ−ｔ−ブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、トリベンジルアミン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、テトラメチルエチレンジアミン、１，４−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリン、１−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、ピリジン、２，４−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン等の有機塩基（アミン、含窒素芳香族複素環化合物）；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；炭酸水素ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩；リン酸カリウム等のアルカリ金属リン酸塩；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物等を挙げることができる。
本発明において、前記塩基としては、中でも、アルカリ金属の炭酸塩（例えば、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等、特に炭酸セシウム）が、入手容易であり、その上、これら炭酸塩は反応溶媒に対して溶解度が低く、且つ適度な塩基性を有しており、モノエステル化反応の促進作用に優れる点で好ましい。
前記塩基の使用量としては、例えば、原料として用いる１，２，３−トリオール化合物１モルに対して、０．５〜５モル、好ましくは０．８〜３モル、さらに好ましくは１〜２モルである。
本発明において、反応は無溶媒で実施してもよいが、適切な溶媒中で実施してもよい。反応溶媒を使用する場合、該溶媒としては、反応に関与しないものが好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒；テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等の環状エーテル；アセトニトリル等のニトリル；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、２−メチル−２−ブタノール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール等のアルコール；酢酸エチル等のエステル；アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン；ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等の鎖状エーテル；トルエン、ｎッヘキサン、へプタン等の炭化水素などを挙げることができる。溶媒は１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明においては、中でも、アセトニトリルが基質の溶解性に優れ、反応収率を向上させることができる点で好ましい。
本発明の製造方法において、反応温度は、通常、１２０℃以下（例えば、−２０℃〜１２０℃）、好ましくは８０℃以下（例えば、−１０℃〜８０℃）、さらに好ましくは４０℃以下（例えば、０℃〜４０℃）である。反応を遮光下に行うと収率が向上する場合がある。また、例えば、二重結合を有する反応原料を用いる場合において、反応を重合禁止剤の存在下で行うこともできる。また、反応は常圧、減圧、加圧のいずれの条件でも可能である。反応時間としては、基質の反応性にもよるが、通常０．１〜１００時間程度である。反応終了後、反応生成物を、液性調整、抽出、濃縮、蒸留、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製手段に付すことにより、目的とする前記式（２）で表される１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を単離することができる。
こうして得られる１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物は、医薬、農薬、液晶等の精密化学品又はその原料、機能性ポリマーの原料モノマー等として利用できる。
本発明の１，２，３−トリオール化合物を有機酸ハライドと反応させて１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を得る反応においては、以下に示されるメカニズムで触媒サイクルが進行すると考えられる。
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
実施例１
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。アセトニトリル ８ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｎａ2ＣＯ3 １５９．０ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド ２２８．９ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１２時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（５／１〜０／１）で精製して、１−グリセリル−ｐ−トルエンスルホネート ２２４．１ｍｇ（０．９１ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率９１．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（５／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：３５分、R体：４０分）で決定し、ｅｅ８３％でR体過剰であることを確認した。
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。アセトニトリル ８ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｎａ2ＣＯ3 １５９．０ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド ２２８．９ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１２時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（５／１〜０／１）で精製して、１−グリセリル−ｐ−トルエンスルホネート ２２４．１ｍｇ（０．９１ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率９１．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（５／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：３５分、R体：４０分）で決定し、ｅｅ８３％でR体過剰であることを確認した。
実施例２
使用する塩基と反応溶媒とを種々変更した以外は実施例１と同様の条件で反応を実施し、下記表１の結果を得た（Ｅｎｔｒｙ １〜１４）。表１及び後出の表２、表３、表４、表５において、「Ｃｕ（ＯＴｆ）2」は銅（ＩＩ）トリフラート、「（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸ」は２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、「ｐ−ＴｓＣｌ」はｐ−トルエンスルホニルクロリド、「Ｔｓ」はｐ−トルエンスルホニル基、「Ｂａｓｅ」は塩基、「Ｓｏｌｖｅｎｔ」は溶媒、「ｒｔ．」は室温、「Ｔｉｍｅ」は時間、「Ｙｉｅｌｄ」は収率、「ＴＨＦ」はテトラヒドロフラン、「ＥｔＯＨ」はエタノール、「ｉ−ＰｒＯＨ」はイソプロピルアルコール、「ｔ−ＢｕＯＨ」はｔ−ブチルアルコール、「２−Ｍｅ−２−ＢｕＯＨ」は２−メチル−２−ブチルアルコール、「Ａｃｅｔｏｎｅ」はアセトンを示す。表１の「Ｔｉｍｅ」（時間）の欄が空欄のものは、実施例１と同様、１２時間であることを意味する。
使用する塩基と反応溶媒とを種々変更した以外は実施例１と同様の条件で反応を実施し、下記表１の結果を得た（Ｅｎｔｒｙ １〜１４）。表１及び後出の表２、表３、表４、表５において、「Ｃｕ（ＯＴｆ）2」は銅（ＩＩ）トリフラート、「（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸ」は２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］、「ｐ−ＴｓＣｌ」はｐ−トルエンスルホニルクロリド、「Ｔｓ」はｐ−トルエンスルホニル基、「Ｂａｓｅ」は塩基、「Ｓｏｌｖｅｎｔ」は溶媒、「ｒｔ．」は室温、「Ｔｉｍｅ」は時間、「Ｙｉｅｌｄ」は収率、「ＴＨＦ」はテトラヒドロフラン、「ＥｔＯＨ」はエタノール、「ｉ−ＰｒＯＨ」はイソプロピルアルコール、「ｔ−ＢｕＯＨ」はｔ−ブチルアルコール、「２−Ｍｅ−２−ＢｕＯＨ」は２−メチル−２−ブチルアルコール、「Ａｃｅｔｏｎｅ」はアセトンを示す。表１の「Ｔｉｍｅ」（時間）の欄が空欄のものは、実施例１と同様、１２時間であることを意味する。
比較例１
２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］を添加しないこと以外は実施例１と全く同じ条件で反応したところ、１２時間後の収率は、原料グリセリン基準で１０％と、配位子を添加した場合に比べて明確に低い結果であった。
２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］を添加しないこと以外は実施例１と全く同じ条件で反応したところ、１２時間後の収率は、原料グリセリン基準で１０％と、配位子を添加した場合に比べて明確に低い結果であった。
実施例３
銅（ＩＩ）トリフラート、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）の４種類の塩について、配位子（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸを添加しなかった場合と添加した場合との違いについて検討した。その結果を表２に示した。
銅（ＩＩ）トリフラート、塩化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）の４種類の塩について、配位子（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸを添加しなかった場合と添加した場合との違いについて検討した。その結果を表２に示した。
表２の結果より、（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸ配位子を添加しなかったＥｎｔｒｙ １〜４では３時間後の時点では単離可能な量のモノトシレート（１−グリセリル−ｐ−トルエンスルホネート）の生成が認められなかったのに対し、（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸ配位子を添加したＥｎｔｒｙ ９〜１２では、良好な収率でモノトシレートが単離できることが明らかである。また、（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸ配位子を添加せずに反応時間を１２時間に延長すれば、Ｅｎｔｒｙ ５〜８に示したごとく低収率ながらモノトシレートが得られるものの、それらが全てラセミ体であったのに対し、（Ｒ，Ｒ）−ＰｈＢＯＸ配位子を添加したＥｎｔｒｙ ９〜１２ではおおむね８０％程度の良好な光学純度で光学活性なモノトシレートが得られることが明らかである。
実施例４
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。アセトニトリル８ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｎａ2ＣＯ3 １５９．０ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、１−ナフタレンスルホニルクロリド ２７２．０ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（５／１〜０／１）で精製して、１−グリセリル−１−ナフタレンスルホネート ２６８．２ｍｇ（０．９５ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率９５．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（５／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；Ｓ体：５０分、Ｒ体：６０分）で決定し、ｅｅ７７％でＲ体過剰であることを確認した。
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。アセトニトリル８ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｎａ2ＣＯ3 １５９．０ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、１−ナフタレンスルホニルクロリド ２７２．０ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（５／１〜０／１）で精製して、１−グリセリル−１−ナフタレンスルホネート ２６８．２ｍｇ（０．９５ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率９５．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（５／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；Ｓ体：５０分、Ｒ体：６０分）で決定し、ｅｅ７７％でＲ体過剰であることを確認した。
実施例５
実施例４の銅（ＩＩ）トリフラートに代えて臭化銅（Ｉ）を添加して他の反応条件は全く同様にして検討した。その結果を実施例４の結果と併せて表３に示した。
実施例４の銅（ＩＩ）トリフラートに代えて臭化銅（Ｉ）を添加して他の反応条件は全く同様にして検討した。その結果を実施例４の結果と併せて表３に示した。
表３の結果より、本発明の方法によれば、有機酸ハライドとして１−ナフタレンスルホニルクロリドを用いた場合にも、良好な収率かつ高い光学純度で対応する１−グリセリル光学活性モノエステルを得られることが明らかである。
実施例６
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、シアン化化銅（Ｉ） ９．０ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。アセトニトリル ８ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｎａ2ＣＯ3 １５９．０ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド ２２８．９ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（２／１〜０／１）で精製して、１−グリセリル−ｐ−トルエンスルホネート ２０４．４ｍｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率８３．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（２／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：１３分、R体：１６分）で決定し、ｅｅ９０％でR体過剰であることを確認した。
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、シアン化化銅（Ｉ） ９．０ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。アセトニトリル ８ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｎａ2ＣＯ3 １５９．０ｍｇ（１．５０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド ２２８．９ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（２／１〜０／１）で精製して、１−グリセリル−ｐ−トルエンスルホネート ２０４．４ｍｇ（０．８３ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率８３．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（２／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：１３分、R体：１６分）で決定し、ｅｅ９０％でR体過剰であることを確認した。
実施例７
配位子を下記のＬ２〜Ｌ４としたこと以外は実施例６と同様の条件で検討した。その結果を実施例６の結果と併せて表４のentry１〜４に示した。
配位子を下記のＬ２〜Ｌ４としたこと以外は実施例６と同様の条件で検討した。その結果を実施例６の結果と併せて表４のentry１〜４に示した。
比較例２
配位子を下記のＬ５又はＬ６としたこと以外は実施例６と同様の条件で検討した。その結果を表４のentry５及び６に示した。
配位子を下記のＬ５又はＬ６としたこと以外は実施例６と同様の条件で検討した。その結果を表４のentry５及び６に示した。
表４の結果より、本発明の方法によれば、１−グリセリル光学活性モノエステルを得られることが明らかである。特に、２，２‘−イソプロピリデンビス［（４R）−４−フェニル−２−オキサゾリン］配位子として用いた場合にはee９０％以上の極めて良好な光学純度の１−グリセリル光学活性モノエステルを得られることが明らかである。
実施例８
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。ジクロロメタン １ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、２−ベンジルグリセリン １８２．２ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｋ2ＣＯ3 １６５．８ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド ２２８．９ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１７時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（５／１〜２／１）で精製して、１−（２−ベンジルグリセリル）−ｐ−トルエンスルホネート １０．８ｍｇ（０．０３２ｍｍｏｌ）を得た（２−ベンジルグリセリン基準で収率３．２％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（２／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：２５分、R体：２８分）で決定し、ｅｅ８３％でR体過剰であることを確認した。
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。ジクロロメタン １ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、２−ベンジルグリセリン １８２．２ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、Ｋ2ＣＯ3 １６５．８ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホニルクロリド ２２８．９ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１７時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；ｎ−ヘキサン／酢酸エチル（５／１〜２／１）で精製して、１−（２−ベンジルグリセリル）−ｐ−トルエンスルホネート １０．８ｍｇ（０．０３２ｍｍｏｌ）を得た（２−ベンジルグリセリン基準で収率３．２％）。また、光学純度は、キラルパックＡＹ−Ｈ（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／エタノール（２／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：２５分、R体：２８分）で決定し、ｅｅ８３％でR体過剰であることを確認した。
実施例９
温度を０℃に変更したこと以外は実施例８と同様の条件で検討した。また、温度を０℃に変更して銅（ＩＩ）トリフラートを銅（Ｉ）トリフラートのトルエン錯体、塩化銅（ＩＩ）、塩化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）としたこと以外は実施例８と同様の条件で検討した。さらに、温度を０℃に変更して銅（ＩＩ）トリフラートを臭化銅（Ｉ）とし、ジクロロメタンの量を２ｍｌとしたこと以外は実施例８と同様の条件で検討した。これらの結果を実施例８の結果と併せて表５のentry１〜８に示した。
温度を０℃に変更したこと以外は実施例８と同様の条件で検討した。また、温度を０℃に変更して銅（ＩＩ）トリフラートを銅（Ｉ）トリフラートのトルエン錯体、塩化銅（ＩＩ）、塩化銅（Ｉ）、臭化銅（ＩＩ）、臭化銅（Ｉ）としたこと以外は実施例８と同様の条件で検討した。さらに、温度を０℃に変更して銅（ＩＩ）トリフラートを臭化銅（Ｉ）とし、ジクロロメタンの量を２ｍｌとしたこと以外は実施例８と同様の条件で検討した。これらの結果を実施例８の結果と併せて表５のentry１〜８に示した。
表５の結果より、本発明の方法によれば、原料トリオールとして２位置換グリセリン誘導体を用いた場合にも、良好な収率かつ高い光学純度で対応する１−グリセリル光学活性モノエステル誘導体を得られることが明らかである。
実施例１０
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。テトラヒドロフラン １２ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、K2ＣＯ3 １６５．８ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）、ジフェニルホスフィン酸クロリド ０．２２３ｍｌ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；酢酸エチル）で精製して、１−グリセリル−ジフェニルホスフィネート １７０．７ｍｇ（０．５８ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率５８．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡD−３（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／２−プロパノール（１０／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：４５分、R体：５０分）で決定し、ｅｅ３９％で保持時間４５分の異性体が過剰であることを確認した。
内容積５０ｍｌの還流管つきフラスコ反応器に２，２'−イソプロピリデンビス［（４Ｒ）−４−フェニル−２−オキサゾリン］ ３３．４ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、銅（ＩＩ）トリフラート ３６．２ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）、マグネティックスターラーチップを入れ、反応器内を窒素置換した。テトラヒドロフラン １２ｍｌを添加して１０分間攪拌して均一溶液としたのち、グリセリン ９２．１ｍｇ（１．００ｍｍｏｌ）を加えて５分間攪拌し、K2ＣＯ3 １６５．８ｍｇ（１．２０ｍｍｏｌ）、ジフェニルホスフィン酸クロリド ０．２２３ｍｌ（１．２０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で３時間攪拌した。その後、水を添加して反応をクエンチし、酢酸エチルで３回抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過してろ液をロータリーエバポレーターで濃縮、溶媒除去乾燥し、オイル状残渣をシリカゲルクロマトグラフ（溶離液；酢酸エチル）で精製して、１−グリセリル−ジフェニルホスフィネート １７０．７ｍｇ（０．５８ｍｍｏｌ）を得た（グリセリン基準で収率５８．０％）。また、光学純度は、キラルパックＡD−３（ダイセル社製）を用いたＨＰＬＣ（溶離液；ｎ−ヘキサン／２−プロパノール（１０／１）、流速；１ｍｌ／分、保持時間；S体：４５分、R体：５０分）で決定し、ｅｅ３９％で保持時間４５分の異性体が過剰であることを確認した。
実施例１０の結果より、本発明の方法によれば、有機酸ハライドとしてホスフィン酸ハライド（ジフェニルホスフィン酸クロリド）を用いた場合にも、良好な収率かつ高い光学純度で対応する１−グリセリル光学活性モノエステルを得られることが明らかである。
本発明の方法によれば、１，２，３−トリオール化合物から、水酸基を保護基で保護することなく、複数の水酸基のうち所望の１つだけを選択的に修飾でき、１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化誘導体を得ることができる。さらに、低温、常圧下の温和な条件で反応が進行し、グリシドールやハロゲン化グリセリルなどの有害な物質を使用することがないため作業性に優れている。従って本発明に係る１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法は簡便で汎用性が高く、有用な医薬品、化粧品、トイレタリー分野において有用な機能分子の合成に大きく寄与することができる。
Claims (3)
- 光学活性ビスオキサゾリン配位子、１価または２価の銅化合物、および塩基の存在下に、下記式（１）
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、同一又は異なって、水素原子、置換若しくは無置換の炭化水素基、置換若しくは無置換の複素環式基、又は１若しくは２以上の前記炭化水素基及び／又は前記複素環式基と、１若しくは２以上の連結基とで構成される基を示す。Ｒ1とＲ3は互いに結合して、隣接する３つの炭素原子からなる炭素鎖とともに環を形成していてもよい）
で表される１，２，３−トリオール化合物を有機酸ハライドと反応させて、下記式（２）
（式中、Ｒ1〜Ｒ3は、前記に同じ。ＯＸは有機酸エステル基を表す。＊は不斉炭素原子を示す）
で表される１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物を得る１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法であって、
前記塩基がアルカリ金属の炭酸塩であるか、又は、
前記有機酸ハライドが、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、フェニルスルホニルクロリド、ｐ−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、m−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、o−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、m−トルエンスルホニルクロリド、o−トルエンスルホニルクロリド、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニルクロリド、p−ブロモベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、o−メトキシベンゼンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド、２−ナフタレンスルホニルクロリド、１−(２−メトキシナフタレン)スルホニルクロリド、２−フラニルスルホニルクロリド、２−チオフェンスルホニルクロリド、２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホラン、２−クロロ−２−オキソ−１，３，２−ジオキサホスホラン、ジフェニルホスフィニルクロリド、及びジフェニルホスホリルクロリドからなる群より選択される少なくとも一つであることを特徴とする１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。 - 前記１，２，３−トリオール化合物がプロキラルな化合物である請求項１記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
- 前記１，２，３−トリオール化合物がグリセリン及び／又はグリセリン誘導体である請求項１又は２記載の１，２，３−トリオール光学活性モノエステル化合物の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013238262 | 2013-11-18 | ||
| JP2013238262 | 2013-11-18 | ||
| PCT/JP2014/077862 WO2015072290A1 (ja) | 2013-11-18 | 2014-10-20 | １，２，３－トリオール化合物の光学活性モノエステル体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2015072290A1 JPWO2015072290A1 (ja) | 2017-03-16 |
| JP6501363B2 true JP6501363B2 (ja) | 2019-04-17 |
Family
ID=53057232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015547707A Expired - Fee Related JP6501363B2 (ja) | 2013-11-18 | 2014-10-20 | １，２，３−トリオール化合物の光学活性モノエステル体の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6501363B2 (ja) |
| WO (1) | WO2015072290A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114394919B (zh) * | 2021-12-16 | 2023-06-09 | 南方科技大学 | 一种合成手性甘油磺酸酯的方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3999028B2 (ja) * | 2002-04-19 | 2007-10-31 | 株式会社トクヤマ | 光学活性２−アシル化１，２−ジオール化合物誘導体の製造方法 |
| JP5108383B2 (ja) * | 2007-05-25 | 2012-12-26 | 株式会社カネカ | 光学活性モノスルホネート化合物の製造方法 |
| JP5100298B2 (ja) * | 2007-10-11 | 2012-12-19 | 株式会社トクヤマ | 光学活性α−スルホニルオキシカルボン酸アミド誘導体及びその製造方法 |
-
2014
- 2014-10-20 JP JP2015547707A patent/JP6501363B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-10-20 WO PCT/JP2014/077862 patent/WO2015072290A1/ja active Application Filing
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2015072290A1 (ja) | 2015-05-21 |
| JPWO2015072290A1 (ja) | 2017-03-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7379567B2 (ja) | （２ｒ，６ｒ）－ヒドロキシノルケタミンおよび（２ｓ，６ｓ）－ヒドロキシノルケタミンの結晶形態および合成方法 | |
| ES2587571T3 (es) | Métodos para la preparación de (3R,3aS,6aR)hexahidro-furo[2,3-b]furan-3-ol | |
| ES2391830T3 (es) | Un procedimiento para la preparación de Nebivolol racémico | |
| ES2359949T3 (es) | Métodos para preparar hexhidrofuro(2,3-b)furan-3-ol. | |
| ES2886442T3 (es) | Profármaco de derivado de aminoácido | |
| JP5108383B2 (ja) | 光学活性モノスルホネート化合物の製造方法 | |
| JP6501363B2 (ja) | １，２，３−トリオール化合物の光学活性モノエステル体の製造方法 | |
| KR100261361B1 (ko) | 광학 활성 2-할로-1-(치환된 페닐)에탄올 및 광학 활성 치환된 스티렌 옥사이드의 제조방법 및 이렇게 제조된 광학 활성 2-할로-1-(치환된 페닐)에탄올의 광학 순도 증대방법 | |
| PT1904469E (pt) | Novos derivados de pirocatequina | |
| RU2628081C2 (ru) | Способы и промежуточные соединения для получения макроциклических ингибиторов протеазы hcv | |
| US11384094B2 (en) | Chiral auxiliaries and uses thereof | |
| US20100210452A1 (en) | Enantioselective reactions catalyzed by chiral triazolium salts | |
| US20230279040A1 (en) | Process for production of ascarylose and related compounds | |
| JPH11269166A (ja) | 環状炭酸エステルの製造方法 | |
| CN116745258A (zh) | 醛的对映选择性烯基化 | |
| JP2007291010A (ja) | 光学活性２−メチルエピハロヒドリン等の製造法 | |
| KR102529680B1 (ko) | 네비볼롤 합성방법 및 그의 중간 화합물 | |
| JP5862949B2 (ja) | ９−エピアミノピコリンアミド触媒 | |
| EA026550B1 (ru) | Хиральный синтез n-{3,4-дифтор-2-[(2-фтор-4-йодфенил)амино]-6-метоксифенил}-1-[2,3-дигидроксипропил]циклопропансульфонамидов | |
| JP4903956B2 (ja) | ７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−カルボン酸誘導体の製造方法 | |
| KR0162079B1 (ko) | 광학 활성 2-(테트라하이드로피란-2-일옥시)-1 프로판올의 제조방법 | |
| US20050043353A1 (en) | Cinchona-alkaloid-based catalysts, and asymmetric alcoholysis of cyclic anhydrides using them | |
| US20030236226A1 (en) | Catalytic asymmetric cyanosilylation of ketones, aldehydes, thioketones, thioaldehydes, imines and hydrazones | |
| JP2022110339A (ja) | α－（メルカプトメチル）アクリル酸エステルの製造法 | |
| CN114989218A (zh) | 一种瑞德西韦磷异构体的合成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171013 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20171013 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20171013 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180821 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181003 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190312 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190315 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6501363 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |