JP6489330B2 - エンコーダ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
エンコーダ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6489330B2 JP6489330B2 JP2017195721A JP2017195721A JP6489330B2 JP 6489330 B2 JP6489330 B2 JP 6489330B2 JP 2017195721 A JP2017195721 A JP 2017195721A JP 2017195721 A JP2017195721 A JP 2017195721A JP 6489330 B2 JP6489330 B2 JP 6489330B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- diffraction grating
- incident
- diffracted light
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 149
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 110
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 14
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 6
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 53
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 description 15
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000007687 exposure technique Methods 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/347—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells using displacement encoding scales
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1861—Reflection gratings characterised by their structure, e.g. step profile, contours of substrate or grooves, pitch variations, materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
本発明の態様は、このような課題に鑑み、回折格子を用いて相対移動量を計測する際に、格子パターン面の高さ変化が生じたときの干渉光の信号強度の低下を抑制することを目的とする。
また、第7の態様によれば、リソグラフィ工程を含み、そのリソグラフィ工程で第3の態様の露光装置又は第6の態様の露光方法を用いて物体を露光するデバイス製造方法が提供される。
本発明の第1の実施形態につき図1〜図4(B)を参照して説明する。図1は本実施形態に係るエンコーダ10を示す平面図である。図1において、一例として、第1部材6に対して第2部材7は3次元的に相対移動可能に配置され、第2部材7の互いに直交する相対移動可能な2つの方向に平行にX軸及びY軸を取り、X軸及びY軸によって規定される平面(XY面)に直交する相対移動方向に沿ってZ軸を取って説明する。また、X軸、Y軸、及びZ軸に平行な軸の回りの角度をそれぞれθx、θy、及びθz方向の角度とも呼ぶこととする。
図3(A)はX軸の干渉計部15Xの要部及び回折格子12を示す。図3(A)において、計測光MXが回折格子12の格子パターン12aに垂直に(Z軸に平行に)入射するとき、計測光MXによるX方向の+1次回折光DX1の回折角φxは、格子パターン12aの周期p及び計測光MXの波長λを用いて次の関係を満たす。このとき、計測光MXによるX方向の−1次回折光DX2の回折角は−φxとなる。
一例として、周期pを1000nm(1μm)、計測光MXの波長λを633nmとすると、回折角φxはほぼ39°となる。
また、回折光DX1は、ルーフプリズム26XA(入射面A12及び反射面A13,A14)及び反射部材28XAによって、計測光MX(ここではZ軸に平行)に平行になるように折り曲げられて回折格子12に再入射する。従って、ルーフプリズム26XAの入射面A12の角度α1、稜線A16の角度α2、屈折率ng、及び回折光DX1の入射面A12に対する入射角i(角度α1と回折角φxとの関数)は、反射部材28XAで反射された回折光DX1がZ軸に概ね平行になるように定められることが好ましい。
dδ/di=cos(φx)=cos{arcsin(λ/p)} …(3)
この式(3)の条件は、入射面A12における振れ角δの変化率(dδ/di)は、回折格子12に対する計測光MXの入射角が0から変化したときの回折光DX1の回折角の変化率を、入射面A12で相殺することを意味している(詳細後述)。
ここで、ε及びδφxが微少量であるとすると、sin(φx)の微分はcos(φx)であるため、式(4)は次のようになる。
sin(φx)+cos(φx)・δφx−ε=λ/p …(5)
式(5)において、式(1)よりsin(φx)がλ/pであることを考慮すると、次式が得られる。
また、格子パターン面12bが角度εだけ傾斜したときの回折格子12からの+1次回折光DX1の光路B22の角度の変化量δφは、次のようになる。
δφ={1+1/cos(φx)}ε …(7)
また、ルーフプリズム26XAの入射面A12における振れ角δの入射角iに関する変化率(dδ/di)は、式(3)で示したようにcos(φx)であるため、ルーフプリズム26XAを通過した回折光DX1の光路B23の角度の変化量δε1は、次のようになる。
そして、格子パターン面12bは角度εだけ傾斜しているため、反射部25XAから格子パターン面12bに入射する回折光DX1の入射角δεは次のようになる。
δε=ε・cos(φx) …(9)
回折光DX1が再び回折格子12に入射角δεで入射すると、回折光DX1による回折格子12からの+1次回折光EX1(再回折光)の回折角の変化量δφ1は、式(6)から次のようになる。
これは、回折光EX1の回折角の変化量δφ1は格子パターン面12bの傾斜角εに等しいこと、すなわち回折光EX1の光路B24は、格子パターン面12bが傾斜する前の光路に平行であることを意味する。また、回折光EX1の光路B24の横シフトも生じていない。このため、回折光EX1と参照光RX1とをPBS面A2で同軸に合成して干渉光を生成したとき、回折光EX1と参照光RX1との相対的な傾きのずれ及び相対的な横ずれ量がないため、その干渉光を光電変換したときに得られる検出信号のうちの交流信号(ビート信号又は信号成分)の割合が低下することがない。これは、X軸の−1次回折光EX2でも同様である。
本実施形態のエンコーダ10は、第1部材6に対してX方向、Y方向、Z方向に3次元的に相対移動可能な第2部材7の相対移動量を計測する3軸のエンコーダ装置である。そして、エンコーダ10は、第1部材6に設けられ、X方向及びY方向を周期方向とする2次元の格子パターン12aを有する反射型の回折格子12と、計測光MX及び参照光RXを含むレーザ光を発生するレーザ光源16と、第2部材7に設けられ、計測光MXを透過させて回折格子12の格子パターン面12bに概ね垂直に入射させるPBS部材24X(第1光学部材)と、第2部材7に設けられるとともに、計測光MXによって回折格子12から発生するX方向の+1次回折光DX1(第1回折光)を回折格子12に入射させ、+1次回折光DX1によって回折格子12から発生するX方向の+1次回折光EX1(第2回折光)をPBS部材24Xに入射させる反射部25XAと、第2部材7に設けられるとともに、計測光MXによって回折格子12からX方向に回折光DX1に対称に発生する−
1次回折光DX2(第3回折光)を回折格子12に入射させ、−1次回折光DX2によって回折格子12から発生するX方向の−1次回折光EX2(第4回折光)をPBS部材24Xに入射させる反射部25XBと、PBS部材24Xで反射された回折光EX1及びEX2と参照光RXから分岐された参照光との干渉光をそれぞれ検出する光電センサ40XA,40XBと、光電センサ40XA,40XBの検出信号を用いて第1部材6と第2部材7とのX方向及びZ方向の相対移動量を求める計測演算部42(計測部)と、を備えている。
上記の実施形態では2次元の回折格子12が使用されているが、回折格子12の代わりに例えばX方向にのみ周期性を持つ1次元の回折格子を使用してもよい。この場合、検出ヘッド14からは、Y軸の干渉計部15Y及び光電センサ40YA,40YB等を省略し、光電センサ40XA,40XBの検出信号を用いて第1部材6と第2部材7とのX方向及びZ方向の相対移動量を計測できる。
また、図8の第2変形例の検出ヘッド14Bの要部に示すように、X軸の干渉計部15Xにおいて、PBS部材24Xの射出面に合成光学部材32X,33Xを設置し、合成光学部材32X,33XのPBS面で合成された回折光EX1,EX2と参照光RX1,RX2との干渉光を偏光板41XA,41XBを介して光ファイバ39XA,39XBに入射させてもよい。この変形例では、PBS部材24XのPBS面A11を透過した参照光RXが不図示の楔形プリズムを介して合成光学部材32Xに入射して、そのBS面で参照光RX1,RX2に分割され、PBS部材24XのPBS面A11で反射された回折光EX1,EX2が合成光学部材32X,33Xに入射している。
本発明の第2の実施形態につき図9〜図11を参照して説明する。図9は、この実施形態に係るエンコーダ装置を備えた露光装置EXの概略構成を示す。露光装置EXは、スキャニングステッパーよりなる走査露光型の投影露光装置である。露光装置EXは、投影光学系PL(投影ユニットPU)を備えており、以下、投影光学系PLの光軸AXと平行にZ軸を取り、これに直交する面(ほぼ水平面に平行な面)内でレチクルRとウエハWとが相対走査される方向にY軸を、Z軸及びY軸に直交する方向にX軸を取って説明する。
なお、上述の局所液浸装置108を設けたいわゆる液浸型の露光装置の構成にあっては、さらにプレート体128は、図10のウエハテーブルWTB(ウエハステージWST)の平面図に示されるように、その円形の開口を囲む、外形(輪郭)が矩形の表面に撥液化処理が施されたプレート部(撥液板)128aと、プレート部128aを囲む周辺部128eとを有する。周辺部128eの上面に、プレート部128aをY方向に挟むようにX方向に細長い1対の2次元の回折格子12A,12Bが配置され、プレート部128aをX方向に挟むようにY方向に細長い1対の2次元の回折格子12C,12Dが配置されている。回折格子12A〜12Dは、図1の回折格子12と同様にX方向、Y方向を周期方向とする2次元の格子パターンが形成された反射型の回折格子である。
また、上記の実施形態の露光装置EX又は露光方法を用いて半導体デバイス等の電子デバイス(又はマイクロデバイス)を製造する場合、電子デバイスは、図13に示すように、電子デバイスの機能・性能設計を行うステップ221、この設計ステップに基づいたレチクル(マスク)を製作するステップ222、デバイスの基材である基板(ウエハ)を製造してレジストを塗布するステップ223、前述した実施形態の露光装置(露光方法)によりレチクルのパターンを基板(感光基板)に露光する工程、露光した基板を現像する工程、現像した基板の加熱(キュア)及びエッチング工程などを含む基板処理ステップ224、デバイス組み立てステップ(ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む)225、並びに検査ステップ226等を経て製造される。
なお、上記の実施形態においては、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置を例に挙げて説明しているが、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置のエンコーダにも本発明を適用することができる。
また、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(又は位相パターン・減光パターン)を形成した光透過型マスク(レチクル)を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第6,778,257号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク(可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子(空間光変調器)の一種であるDMD(Digital Micro-mirror Device)などを含む)を用いても良い。かかる可変成形マスクを用いる場合には、ウエハ又はガラスプレート等のワークピースが搭載されるステージが、可変成形マスクに対して走査されるので、このステージの位置をエンコーダシステムを用いて計測することで、上記実施形態と同等の効果を得ることができる。
さらに、例えば米国特許第6,611,316号明細書に開示されているように、2つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、1回のスキャン露光によってウエハ上の1つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも上記実施形態を適用することができる。
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機EL、薄膜磁気ヘッド、撮像素子(CCD等)、マイクロマシン及びDNAチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも上記実施形態を適用できる。
また、明細書、特許請求の範囲、図面、及び要約を含む2012年4月26日付け提出の米国特許出願US61/638,719の全ての開示内容は、そっくりそのまま引用して本願に組み込まれている。
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。
Claims (12)
- 回折格子を有する第1部材と前記第1部材との位置関係が少なくとも第1方向に変更可能な第2部材との相対移動量を計測するエンコーダ装置であって、
前記回折格子に入射する計測光と参照光とを生成するように、光源からの光を分割する光分割部と、
前記回折格子に入射する前記計測光によって前記回折格子で発生する第1回折光を前記回折格子に入射させる第1光学部材と、
前記回折格子に入射する前記計測光によって前記回折格子で発生する第2回折光を前記回折格子に入射させる第2光学部材と、
前記回折格子に入射する前記第1回折光によって前記回折格子で発生する第3回折光と、前記参照光との干渉光を光電検出する第1光電検出器と、
前記回折格子に入射する前記第2回折光によって前記回折格子で発生する第4回折光と、前記参照光との干渉光を光電検出する第2光電検出器と、
前記第1光電検出器からの第1出力と、前記第2光電検出器からの第2出力とを用いて、前記第1方向における前記相対移動量を算出する算出部と
を備え、
前記計測光が前記回折格子に照射される第1位置に対して、前記第1回折光が前記回折格子に照射される第2位置と、前記第2回折光が前記回折格子に照射される第3位置とは、前記第1方向において異なり、且つ前記第1位置に対して前記第1方向と交差する第2方向に関して同じ側に位置する
エンコーダ装置。 - 前記算出部は、前記第1方向における相対移動量と、前記回折格子の面と交差する第3方向における相対移動量とを算出する
請求項1に記載のエンコーダ装置。 - 前記第1光学部材は、前記回折格子へ向かう前記第1回折光の進行方向を、前記回折格子へ向かう前記計測光の進行方向と平行にする
請求項1または2に記載のエンコーダ装置。 - 回折格子を有する第1部材と前記第1部材との位置関係が少なくとも第1方向に変更可能な第2部材との相対移動量を計測するエンコーダ装置であって、
前記回折格子に入射する計測光と参照光とを生成するように、光源からの光を分割する光分割部と、
前記回折格子に入射する前記計測光によって前記回折格子で発生する第1回折光を前記回折格子に入射させる第1光学部材と、
前記回折格子に入射する前記計測光によって前記回折格子で発生する第2回折光を前記回折格子に入射させる第2光学部材と、
前記回折格子に入射する前記第1回折光によって前記回折格子で発生する第3回折光と、前記参照光との干渉光を光電検出する第1光電検出器と、
前記回折格子に入射する前記第2回折光によって前記回折格子で発生する第4回折光と、前記参照光との干渉光を光電検出する第2光電検出器と、
前記第1光電検出器からの第1出力と、前記第2光電検出器からの第2出力とを用いて、前記第1方向における前記相対移動量を算出する算出部と
を備え、
前記計測光が前記回折格子に照射される第1位置に対して、前記第1回折光が前記回折格子に照射される第2位置と、前記第2回折光が前記回折格子に照射される第3位置とは、前記第1方向において異なり、
前記第1光学部材は、前記回折格子へ向かう前記第1回折光の進行方向を、前記回折格子へ向かう前記計測光の進行方向と平行にする
エンコーダ装置。 - 前記回折格子に向かう前記計測光の進行方向は、前記回折格子の面に対して垂直である
請求項1乃至4のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。 - 前記光分割部は、前記光源から入射する光の一部を反射または透過させて前記計測光を生成し、前記光源から入射する光の他部を透過または反射して前記参照光を生成する
請求項1乃至5のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。 - 第1部材と該第1部材に対して少なくとも第1方向に相対移動可能に支持された第2部材との相対移動量を計測するエンコーダ装置であって、
前記第1部材に設けられ、少なくとも前記第1方向を周期方向とする格子パターンを有する反射型の回折格子と、
計測光を射出する光源部と、
前記第2部材に設けられ、前記計測光を前記回折格子の格子パターン面上の第1位置に入射させる第1光学部材と、
前記第2部材に設けられるとともに、前記計測光によって前記回折格子から前記第1方向に関して発生する第1回折光を前記回折格子上の第2位置に入射させ、前記第1回折光によって前記回折格子から発生する第3回折光を前記第1光学部材に入射させる第1反射部と、
前記第2部材に設けられるとともに、前記計測光によって前記回折格子から前記第1方向に関して発生する前記第1回折光と異なる次数の第2回折光を前記回折格子上の第3位置に入射させ、前記第2回折光によって前記回折格子から発生する第4回折光を前記第1光学部材に入射させる第2反射部と、
前記第1光学部材を介した前記第3回折光及び前記第4回折光と他の光束との干渉光をそれぞれ検出する第1及び第2光電検出器と、
前記第1及び第2光電検出器の検出信号を用いて前記第1部材と前記第2部材との相対移動量を求める計測部と、
を備え、
前記第2位置及び前記第3位置の双方は、前記第1及び第2回折光が進行する経路と前記第1位置とを含む第1平面が前記反射型の回折格子と交差する第1線分よりも、前記第1方向と直交する第2方向側に位置する
エンコーダ装置。 - 前記第2位置及び前記第3位置の間に、前記第1位置を通り前記第2方向に沿った前記反射型の回折格子上の第2線分が位置する
請求項7に記載のエンコーダ装置。 - 前記第2位置及び前記第3位置を通過する第3線分は、前記第1線分と平行である
請求項7又は8に記載のエンコーダ装置。 - 前記第1反射部は、前記第1回折光を前記第2方向へ移送し、
前記第2反射部は、前記第2回折光を前記第2方向へ移送する
請求項7乃至9のいずれか一項に記載のエンコーダ装置。 - パターンを被露光体に露光する露光装置であって、
フレームと、
前記被露光体を支持するとともに前記フレームに対して少なくとも第1方向に相対移動可能なステージと、
少なくとも前記第1方向への前記フレームと前記ステージとの相対移動量を計測するための請求項1乃至10のいずれか一項に記載のエンコーダ装置と、
を備える露光装置。 - リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程で、請求項11に記載の露光装置を用いて物体を露光する
デバイス製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261638719P | 2012-04-26 | 2012-04-26 | |
US61/638,719 | 2012-04-26 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014512413A Division JP6222480B2 (ja) | 2012-04-26 | 2013-03-14 | 光学系、エンコーダ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019033686A Division JP6767682B2 (ja) | 2012-04-26 | 2019-02-27 | エンコーダ装置及び露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018025817A JP2018025817A (ja) | 2018-02-15 |
JP2018025817A5 JP2018025817A5 (ja) | 2018-05-31 |
JP6489330B2 true JP6489330B2 (ja) | 2019-03-27 |
Family
ID=49482768
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014512413A Active JP6222480B2 (ja) | 2012-04-26 | 2013-03-14 | 光学系、エンコーダ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2017195721A Active JP6489330B2 (ja) | 2012-04-26 | 2017-10-06 | エンコーダ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP2019033686A Active JP6767682B2 (ja) | 2012-04-26 | 2019-02-27 | エンコーダ装置及び露光装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014512413A Active JP6222480B2 (ja) | 2012-04-26 | 2013-03-14 | 光学系、エンコーダ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019033686A Active JP6767682B2 (ja) | 2012-04-26 | 2019-02-27 | エンコーダ装置及び露光装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US9983028B2 (ja) |
JP (3) | JP6222480B2 (ja) |
WO (1) | WO2013161428A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6156147B2 (ja) | 2011-11-17 | 2017-07-05 | 株式会社ニコン | エンコーダ装置、光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP6607350B2 (ja) * | 2015-10-23 | 2019-11-20 | 株式会社ニコン | エンコーダ装置及びその使用方法、光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
JP6680997B2 (ja) * | 2015-10-23 | 2020-04-15 | 株式会社ニコン | エンコーダ装置及びその使用方法、光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 |
EP3467591A4 (en) * | 2016-05-31 | 2020-02-12 | Nikon Corporation | MARKING DETECTION DEVICE, MARKING DETECTION METHOD, MEASURING DEVICE, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60190812A (ja) * | 1984-10-26 | 1985-09-28 | Hitachi Ltd | 位置検出器 |
JP3109900B2 (ja) * | 1992-04-21 | 2000-11-20 | キヤノン株式会社 | 測定装置 |
JPH07270122A (ja) | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Canon Inc | 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法 |
CN100578876C (zh) | 1998-03-11 | 2010-01-06 | 株式会社尼康 | 紫外激光装置以及使用该紫外激光装置的曝光装置和曝光方法 |
WO2001035168A1 (en) | 1999-11-10 | 2001-05-17 | Massachusetts Institute Of Technology | Interference lithography utilizing phase-locked scanning beams |
SG107560A1 (en) | 2000-02-25 | 2004-12-29 | Nikon Corp | Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution |
EP1319170B1 (de) * | 2000-09-14 | 2005-03-09 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Positionsmesseinrichtung |
JP4714403B2 (ja) | 2001-02-27 | 2011-06-29 | エーエスエムエル ユーエス,インコーポレイテッド | デュアルレチクルイメージを露光する方法および装置 |
TW529172B (en) | 2001-07-24 | 2003-04-21 | Asml Netherlands Bv | Imaging apparatus |
CN102360169B (zh) * | 2006-09-01 | 2014-01-22 | 株式会社尼康 | 移动体驱动方法及移动体驱动***、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、组件制造方法、以及校正方法 |
DE102006042743A1 (de) | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung |
US8829420B2 (en) * | 2010-06-09 | 2014-09-09 | Nikon Corporation | Two dimensional encoder system and method |
JP2012049284A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Nikon Corp | エンコーダ装置、光学装置、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 |
US9201313B2 (en) * | 2011-11-09 | 2015-12-01 | Zygo Corporation | Compact encoder head for interferometric encoder system |
US9025161B2 (en) | 2011-11-09 | 2015-05-05 | Zygo Corporation | Double pass interferometric encoder system |
JP6156147B2 (ja) | 2011-11-17 | 2017-07-05 | 株式会社ニコン | エンコーダ装置、光学装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
-
2013
- 2013-03-14 WO PCT/JP2013/057309 patent/WO2013161428A1/ja active Application Filing
- 2013-03-14 JP JP2014512413A patent/JP6222480B2/ja active Active
- 2013-03-14 US US14/397,312 patent/US9983028B2/en active Active
-
2017
- 2017-10-06 JP JP2017195721A patent/JP6489330B2/ja active Active
-
2018
- 2018-04-27 US US15/964,230 patent/US10132656B2/en active Active
- 2018-10-16 US US16/161,711 patent/US10514277B2/en active Active
-
2019
- 2019-02-27 JP JP2019033686A patent/JP6767682B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6767682B2 (ja) | 2020-10-14 |
JPWO2013161428A1 (ja) | 2015-12-24 |
JP2018025817A (ja) | 2018-02-15 |
US20180259368A1 (en) | 2018-09-13 |
US9983028B2 (en) | 2018-05-29 |
JP2019117386A (ja) | 2019-07-18 |
WO2013161428A1 (ja) | 2013-10-31 |
US10514277B2 (en) | 2019-12-24 |
US10132656B2 (en) | 2018-11-20 |
US20190063959A1 (en) | 2019-02-28 |
JP6222480B2 (ja) | 2017-11-01 |
US20150160044A1 (en) | 2015-06-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10697805B2 (en) | Encoder device, method for measuring moving amount, optical apparatus, exposure apparatus, exposure method and method for producing device | |
JP5071894B2 (ja) | ステージ装置、パターン形成装置、露光装置、ステージ駆動方法、露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
TWI425318B (zh) | 移動體裝置、曝光裝置和曝光方法以及元件製造方法 | |
JP6767682B2 (ja) | エンコーダ装置及び露光装置 | |
TWI489081B (zh) | 使用編碼器系統的低同調干涉技術 | |
TWI748363B (zh) | 測量裝置及測量方法、曝光裝置及曝光方法、以及元件製造方法 | |
KR102294481B1 (ko) | 이동체의 제어 방법, 노광 방법, 디바이스 제조 방법, 이동체 장치, 및 노광 장치 | |
JP2014029276A (ja) | エンコーダ装置、光学装置、及び露光装置 | |
JP6680997B2 (ja) | エンコーダ装置及びその使用方法、光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP6607350B2 (ja) | エンコーダ装置及びその使用方法、光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP2013234997A (ja) | エンコーダ装置、光学装置、及び露光装置 | |
JP2013101084A (ja) | 位置検出方法及び装置、エンコーダ装置、並びに露光装置 | |
JP5862857B2 (ja) | エンコーダ装置、光学装置、及び露光装置 | |
JP2011181850A (ja) | 変位検出装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
JP2013026273A (ja) | エンコーダ装置、光学装置、及び露光装置 | |
JP2012008004A (ja) | エンコーダ装置、光学装置、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 | |
JP2016024049A (ja) | 計測方法及びエンコーダ装置、並びに露光方法及び装置 | |
JP2013102099A (ja) | エンコーダ装置、光学装置、及び露光装置 | |
JP2011181851A (ja) | 変位検出装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180409 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180824 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180905 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181102 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190130 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190212 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6489330 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |