JP6476342B1 - 還元ガス供給装置及び処理済対象物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】還元ガス供給装置1は、対象物Tの半田付けが行われる空間を形成するチャンバ10と、チャンバ10内に供給される還元ガスFGとなる前の還元用液体FLを導入し気化させて還元ガスFGを生成する気化器20と、還元用液体ボトル80内の還元用液体FLを気化器20に導入する前に一旦貯留する中間容器30と、搬送チューブ51と、供給チューブ41と、還元用液体ボトル80内の還元用液体FLを中間容器30に移送する搬送部58と、中間容器30内の還元用液体FLを気化器20に移送する供給部48とを備える。処理済対象物の製造方法は、チャンバ10内に対象物Tを供給し、チャンバ10内に還元ガスFGを供給しながら対象物Tの半田付けを行い、半田付けが行われた対象物Tをチャンバ10から取り出す。
【選択図】図1
Description
10 チャンバ
18 圧力センサ
20 気化器
30 シリンジ
35 高液位センサ
36 低液位センサ
41 供給チューブ
45 加圧ポンプ
48 供給部
51 搬送チューブ
55 真空ポンプ
58 搬送部
80 ギ酸液ボトル
83 ボトルキャップ
90 制御装置
92 真空制御部
93 加圧制御部
FG ギ酸ガス
FL ギ酸液
T 対象物
Claims (8)
- 対象物の半田付けが行われる空間を形成するチャンバと;
前記チャンバ内に供給される還元ガスを生成する気化器であって、前記還元ガスとなる前の還元用液体を導入し気化させて前記還元ガスを生成する気化器と;
前記還元用液体が収容された還元用液体ボトル内の前記還元用液体を、前記気化器に導入する前に一旦貯留する中間容器と;
前記還元用液体ボトル内の前記還元用液体を前記中間容器に導く搬送チューブと;
前記中間容器内の前記還元用液体を前記気化器に導く供給チューブと;
前記還元用液体ボトル内の前記還元用液体を前記中間容器に移送する搬送部と;
前記中間容器内の前記還元用液体を前記気化器に移送する供給部とを備える;
還元ガス供給装置。 - 前記搬送部が、前記中間容器の内部を負圧にする負圧生成部を含んで構成された;
請求項1に記載の還元ガス供給装置。 - 前記供給部が、前記中間容器の内部を加圧する加圧部を含んで構成された;
請求項1又は請求項2に記載の還元ガス供給装置。 - 前記還元用液体ボトルの内部が負圧になったときに逆止弁付きフィルタを通して外気を取り込むボトルキャップを有する前記還元用液体ボトルを備える;
請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の還元ガス供給装置。 - 前記中間容器の内部の前記還元用液体の液面があらかじめ設定された高液位に達したことを検知する高液位センサと;
前記高液位センサが前記高液位を検知したときに前記還元用液体ボトル内の前記還元用液体の前記中間容器への移送を停止するように前記搬送部を制御する第1の制御部とを備える;
請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の還元ガス供給装置。 - 前記中間容器の内部の前記還元用液体の液面があらかじめ設定された低液位に達したことを検知する低液位センサと;
前記低液位センサが前記低液位を検知したときに前記中間容器内の前記還元用液体の前記気化器への移送を停止するように前記供給部を制御する第2の制御部とを備える;
請求項5に記載の還元ガス供給装置。 - 前記チャンバ内の圧力を検知する圧力センサと;
前記圧力センサで検知された圧力に応じて前記気化器に移送する前記還元用液体の量を調節するように前記供給部を制御する第3の制御部とを備える;
請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の還元ガス供給装置。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の還元ガス供給装置を用いて、前記対象物に半田付けが行われた処理済対象物を製造する方法であって;
前記チャンバ内に前記対象物を供給する工程と;
前記チャンバ内に前記還元ガスを供給しながら前記対象物の半田付けを行う工程と;
前記半田付けが行われた前記対象物を前記チャンバから取り出す工程とを備える;
処理済対象物の製造方法。
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