JP6473157B2 - ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル - Google Patents
ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル Download PDFInfo
- Publication number
- JP6473157B2 JP6473157B2 JP2016533605A JP2016533605A JP6473157B2 JP 6473157 B2 JP6473157 B2 JP 6473157B2 JP 2016533605 A JP2016533605 A JP 2016533605A JP 2016533605 A JP2016533605 A JP 2016533605A JP 6473157 B2 JP6473157 B2 JP 6473157B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- film
- membrane
- substrate
- stress
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 17
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 119
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 106
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 135
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 67
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 60
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 32
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 7
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 7
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 6
- WEAMLHXSIBDPGN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxy-3-methylphenyl) thiocyanate Chemical compound CC1=CC(SC#N)=CC=C1O WEAMLHXSIBDPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229910021355 zirconium silicide Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N bis($l^{2}-silanylidene)molybdenum Chemical compound [Si]=[Mo]=[Si] YXTPWUNVHCYOSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 3
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910021344 molybdenum silicide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 3
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 230000037373 wrinkle formation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/22—Masks or mask blanks for imaging by radiation of 100nm or shorter wavelength, e.g. X-ray masks, extreme ultraviolet [EUV] masks; Preparation thereof
- G03F1/24—Reflection masks; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70983—Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
[0001] 本出願は、2013年12月5日に出願され、その全体が参照により本明細書に組み込まれる欧州特許出願番号第13195872.0号の利益を主張する。
基板を支持するための基板サポートと、を備え、応力付加アセンブリと基板サポートは、膜に応力が加えられた際に基板が膜と接触するように相互移動することができる、ペリクルを製造するための装置が設けられる。
式中、
Pは差圧であり、
Dは膜の中心のたわみであり、
tは膜の厚さであり、
aは膜の側辺の全長の半分であり、
c1は幾何学的定数であり、
c2は幾何学的定数であり、
Eはヤング率であり、
vはポワソン比である。
1.膜に応力を加えるための応力付加アセンブリと、
基板を支持するための基板サポートと、を備え、
前記応力付加アセンブリと前記基板サポートは、前記膜に応力が加えられた際に前記基板が前記膜と接触するように、相互移動することができる、ペリクルを製造するための装置。
2.前記応力付加アセンブリは、前記ペリクル膜の第1面を第1圧力にさらし、前記ペリクル膜の第2面を前記第1圧力とは異なる第2圧力にさらすように配置される、前記項1に記載の装置。
3.前記第1圧力は、大気圧より上である、前記項2に記載の装置。
4.前記第2圧力は、大気圧と実質的に等しい、前記項2または3に記載の装置。
5. 前記第1圧力と前記第2圧力との間の圧力の差を監視する圧力モニタをさらに備える、前記項2〜4のいずれか1項に記載の装置。
6.前記ペリクル膜内の前記応力を示す前記ペリクル膜の性質を監視する応力モニタをさらに備える、前記項1〜5のいずれかに記載の装置。
7.前記応力モニタはたわみモニタである、前記項6に記載の装置。
8.前記応力付加アセンブリは、前記第1圧力に維持されるように配置された第1領域と前記第2圧力に維持されるように配置された第2領域とを備えるチャンバを備える、前記項2〜7のいずれか1項に記載の装置。
9.前記第1領域は、ガスインレットを備える、前記項8に記載の装置。
10.前記第1領域は、リーク弁を備える、前記項8または9に記載の装置。
11.前記チャンバは、前記第1領域と前記第2領域との間の前記チャンバの内側表面の周りに置かれた膜サポートをさらに備える、前記項8〜10のいずれか1項に記載の装置。
12.前記膜サポートは、前記第1領域と前記第2領域との間の円形開口部を画定する、前記項11に記載の装置。
13.前記基板サポートは、前記円形開口部と平行および同軸に配置された平坦な円形表面を備える、前記項12に記載の装置。
14.ペリクル膜およびペリクルフレームを備えるペリクルであって、前記ペリクル膜は引張応力下で前記ペリクルフレーム上に装着されるペリクル。
15.前記ペリクルは、ポリシリコン、グラフェン、多層のNb/Mo/Si、カーボン・ナノチューブの層、およびこれらの材料の2つ以上から形成される多層から選択される材料を備える、前記項14に記載のペリクル。
16.前記ペリクルは、キャッピング層を頂部またはサンドイッチ様に備える、前記項15に記載のペリクル。
17.前記引張応力は、前記ペリクル膜内の皺を防ぐのに十分である、前記項14に記載のペリクル。
18.前記引張応力は、少なくとも所定の引張応力である、前記項14〜17のいずれかに記載のペリクル。
19.前記所定の引張応力は、
前記ペリクル膜の形状と、
使用中の前記ペリクル膜の一部による最大の許可されたたわみと、
使用中の前記ペリクル膜が遭遇すると期待される最大差圧と、
前記ペリクル膜のヤング率と、のうちの少なくとも1つに基づく、前記項18に記載のペリクル。
20.使用中の前記ペリクル膜の一部による前記最大の許可されたたわみは0.5ミリメートルである、前記項19に記載のペリクル。
21.前記ペリクルが遭遇すると期待される前記最大差圧は2Paである、前記項19または20に記載のペリクル。
22.前記ペリクル膜は長方形である、前記項19〜21のいずれか1項に記載のペリクル。
23.前記ペリクル膜内の最大の前記引張応力は、150MPaよりも大きい、前記項14〜22のいずれか1項に記載のペリクル。
24.前記ペリクル膜内には引張応力の不均一な分布がある、前記項14〜23のいずれか1項に記載のペリクル。
25.前記引張応力は、前記ペリクル膜の中心部において最大である、前記項24に記載のペリクル。
26.前記項14〜25のいずれか1項に記載のペリクルを備えるリソグラフィツール。
27.パターン付与された放射ビームを形成するために断面にパターンが付与された放射ビームを与えることができるパターニングデバイスと、
粒子が前記パターニングデバイスと接触することを防ぐために前記パターニングデバイスに隣接して配置される、前記項14〜23のいずれか1項に記載のペリクルと、を備えるパターニングデバイスアセンブリ。
28.膜を設けることと、
前記膜に機械的な応力を加えることと、
基板を設けることと、
前記基板が前記応力が加えられた膜と接触するように、前記ペリクル膜に応力が加えられた場合には前記基板と前記膜を互いに向けて移動することと、
前記応力が加えられた膜を前記基板に取り付けることと、
応力が加えられた構成において前記膜を支持するフレームを形成するように前記基板にパターンを付与することと、を含むペリクルの製造方法。
29.前記膜は、前記ペリクル膜にわたり差圧を適用することにより機械的に応力が加えられる、前記項28に記載の方法。
30.前記差圧を適用することは、前記ペリクル膜の第1面を大気圧よりも大きい圧力にさらすことを含む、前記項29に記載の方法。
31.前記項28〜30のいずれか一項に記載の方法を実施することと、
パターニングデバイスを設けることと、
前記パターニングデバイスに前記ペリクルを取り付けることと、を含むパターニングデバイスアセンブリの製造方法。
32.基板上にパターン付与された放射ビームを投影することを含む方法であって、前記項14〜25のいずれか1項に記載のペリクルは、前記放射ビームにパターンを付与するパターニングデバイスに隣接する前記放射ビームの経路に設けられる、方法。
33.前記項1〜13のいずれか1項に記載の前記装置を使用して製造されたペリクル。
34.ペリクルフレームと前記項14〜25および31のいずれかに記載の前記ペリクルが設けられたケーシング。
35.パターニングデバイス、ペリクルフレームおよび前記項14〜25および31のいずれかに記載の前記ペリクルが設けられたケーシング。
Claims (4)
- ペリクル膜に引張応力を加えるための応力付加アセンブリと、
基板を支持するための基板サポートと、を備え、
前記応力付加アセンブリと前記基板サポートは、前記ペリクル膜に前記引張応力が加えられた際に前記基板が前記ペリクル膜と接触するように、相互移動することができ、
前記応力付加アセンブリは、前記ペリクル膜の第1面を第1圧力にさらし、前記ペリクル膜の第2面を前記第1圧力とは異なる第2圧力にさらすように配置され、
前記第1圧力と前記第2圧力との間の圧力の差を監視する圧力モニタをさらに備える、
ペリクルを製造するための装置。 - ペリクル膜に引張応力を加えるための応力付加アセンブリと、
基板を支持するための基板サポートと、を備え、
前記応力付加アセンブリと前記基板サポートは、前記ペリクル膜に前記引張応力が加えられた際に前記基板が前記ペリクル膜と接触するように、相互移動することができ、
前記ペリクル膜内の前記引張応力を示す前記ペリクル膜の性質を監視する応力モニタをさらに備える、
ペリクルを製造するための装置。 - ペリクル膜に引張応力を加えるための応力付加アセンブリと、
基板を支持するための基板サポートと、を備え、
前記応力付加アセンブリと前記基板サポートは、前記ペリクル膜に前記引張応力が加えられた際に前記基板が前記ペリクル膜と接触するように、相互移動することができ、
前記応力付加アセンブリは、前記ペリクル膜の第1面を第1圧力にさらし、前記ペリクル膜の第2面を前記第1圧力とは異なる第2圧力にさらすように配置され、
前記応力付加アセンブリは、前記第1圧力に維持されるように配置された第1領域と前記第2圧力に維持されるように配置された第2領域とを備えるチャンバを備える、
ペリクルを製造するための装置。 - 前記チャンバは、前記第1領域と前記第2領域との間の前記チャンバの内側表面の周りに置かれたペリクル膜サポートをさらに備える、請求項3に記載の装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP13195872.0 | 2013-12-05 | ||
EP13195872 | 2013-12-05 | ||
PCT/EP2014/074977 WO2015082214A1 (en) | 2013-12-05 | 2014-11-19 | Apparatus and method for manufacturing a pellicle, and a pellicle |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018238465A Division JP2019045884A (ja) | 2013-12-05 | 2018-12-20 | ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016539372A JP2016539372A (ja) | 2016-12-15 |
JP6473157B2 true JP6473157B2 (ja) | 2019-02-20 |
Family
ID=49683637
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016533605A Expired - Fee Related JP6473157B2 (ja) | 2013-12-05 | 2014-11-19 | ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル |
JP2018238465A Pending JP2019045884A (ja) | 2013-12-05 | 2018-12-20 | ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018238465A Pending JP2019045884A (ja) | 2013-12-05 | 2018-12-20 | ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10365558B2 (ja) |
JP (2) | JP6473157B2 (ja) |
KR (1) | KR20160094437A (ja) |
CN (1) | CN105793775A (ja) |
NL (1) | NL2013826A (ja) |
TW (1) | TWI658321B (ja) |
WO (1) | WO2015082214A1 (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6784757B2 (ja) * | 2015-10-22 | 2020-11-11 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置用のペリクルを製造する方法、リソグラフィ装置用のペリクル、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、ペリクルを処理するための装置、及びペリクルを処理する方法 |
JP2017083791A (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 三井化学株式会社 | ペリクル、ペリクルの製造方法及びペリクルを用いた露光方法 |
KR20180095650A (ko) * | 2015-12-17 | 2018-08-27 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 펠리클 및 펠리클 조립체 |
JP7174625B2 (ja) * | 2015-12-18 | 2022-11-17 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | Euvリソグラフィ用のメンブレンアセンブリを製造する方法、メンブレンアセンブリ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 |
TWI571698B (zh) * | 2015-12-23 | 2017-02-21 | Micro Lithography Inc | Method for manufacturing EUV mask inorganic protective film module |
US9864270B2 (en) * | 2016-01-15 | 2018-01-09 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Pellicle and method for manufacturing the same |
CN108699687B (zh) * | 2016-02-19 | 2022-03-01 | 爱沃特株式会社 | 化合物半导体基板、表膜、和化合物半导体基板的制造方法 |
EP3449312B1 (en) * | 2016-04-25 | 2023-05-31 | ASML Netherlands B.V. | A membrane for euv lithography |
US10571814B2 (en) | 2016-07-21 | 2020-02-25 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic method |
EP3404487B1 (en) * | 2017-05-15 | 2021-12-01 | IMEC vzw | Method for forming a carbon nanotube pellicle membrane |
CN107227438B (zh) * | 2017-06-15 | 2019-05-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法 |
KR102670392B1 (ko) | 2017-06-15 | 2024-05-30 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 펠리클 및 펠리클 조립체 |
JP7451442B2 (ja) * | 2017-10-10 | 2024-03-18 | 信越化学工業株式会社 | Euv用ペリクルフレームの通気構造、euv用ペリクル、euv用ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法 |
KR101900720B1 (ko) | 2017-11-10 | 2018-09-20 | 주식회사 에스앤에스텍 | 극자외선 리소그래피용 펠리클 및 그의 제조방법 |
JP7252950B2 (ja) * | 2017-11-21 | 2023-04-05 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 多孔質グラファイトペリクル |
EP3764160A4 (en) * | 2018-03-09 | 2021-12-01 | Kaneka Corporation | FILM INCLUDING A GRAPHITE FILM |
US11143951B2 (en) * | 2018-04-30 | 2021-10-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Pellicle for an EUV lithography mask and a method of manufacturing thereof |
EP3671342B1 (en) | 2018-12-20 | 2021-03-17 | IMEC vzw | Induced stress for euv pellicle tensioning |
JP2023544099A (ja) * | 2020-09-17 | 2023-10-20 | リンテック オブ アメリカ インク | ナノファイバーフィルム張力制御 |
WO2022196182A1 (ja) * | 2021-03-19 | 2022-09-22 | 三井化学株式会社 | ペリクル、露光原版、露光装置、ペリクルの製造方法及び半導体装置の製造方法 |
US20220365421A1 (en) * | 2021-05-12 | 2022-11-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Pellicle assembly and method of making same |
KR20230073539A (ko) | 2021-11-19 | 2023-05-26 | 주식회사 에프에스티 | 극자외선 리소그라피용 펠리클의 제조방법 |
KR20230125966A (ko) | 2022-02-22 | 2023-08-29 | 주식회사 에프에스티 | 극자외선 리소그라피용 펠리클의 제조방법 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002049145A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Nikon Corp | マスク保護装置、マスク保護装置の製造方法、マスク、並びに露光装置 |
US6623893B1 (en) * | 2001-01-26 | 2003-09-23 | Advanced Micro Devices, Inc. | Pellicle for use in EUV lithography and a method of making such a pellicle |
US6593035B1 (en) * | 2001-01-26 | 2003-07-15 | Advanced Micro Devices, Inc. | Pellicle for use in small wavelength lithography and a method for making such a pellicle using polymer films |
JP2005070191A (ja) * | 2003-08-21 | 2005-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | フレームとペリクル板の貼り合せ装置 |
JP2007506149A (ja) | 2003-09-23 | 2007-03-15 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | レチクルを汚染から保護するよう使用されるペリクルへの重力の影響を補正する方法及び装置 |
TWI291076B (en) * | 2003-09-29 | 2007-12-11 | Asahi Kasei Emd Corp | Pellicle and frame for pellicle |
JP2005148620A (ja) * | 2003-11-19 | 2005-06-09 | Asahi Glass Co Ltd | ペリクルおよびペリクル製品群 |
DE102008041436A1 (de) * | 2007-10-02 | 2009-04-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Optisches Membranelement |
JP5394808B2 (ja) * | 2009-04-22 | 2014-01-22 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィ用ペリクルおよびその製造方法 |
JP2011158585A (ja) * | 2010-01-29 | 2011-08-18 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルおよびペリクルの製造方法 |
JP6018391B2 (ja) * | 2012-03-21 | 2016-11-02 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
JP5876927B2 (ja) | 2012-03-21 | 2016-03-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | ペリクル及びペリクルフレーム並びにペリクルの製造方法 |
KR20150136523A (ko) | 2013-03-27 | 2015-12-07 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 장치 |
CN105229776B (zh) * | 2013-05-24 | 2019-05-03 | 三井化学株式会社 | 防护膜组件及含有其的euv曝光装置 |
-
2014
- 2014-11-17 TW TW103139808A patent/TWI658321B/zh not_active IP Right Cessation
- 2014-11-19 WO PCT/EP2014/074977 patent/WO2015082214A1/en active Application Filing
- 2014-11-19 NL NL2013826A patent/NL2013826A/en unknown
- 2014-11-19 JP JP2016533605A patent/JP6473157B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-11-19 US US15/101,506 patent/US10365558B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-11-19 KR KR1020167017926A patent/KR20160094437A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-11-19 CN CN201480066420.8A patent/CN105793775A/zh active Pending
-
2018
- 2018-12-20 JP JP2018238465A patent/JP2019045884A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015082214A1 (en) | 2015-06-11 |
TW201530251A (zh) | 2015-08-01 |
JP2016539372A (ja) | 2016-12-15 |
KR20160094437A (ko) | 2016-08-09 |
US20160313637A1 (en) | 2016-10-27 |
TWI658321B (zh) | 2019-05-01 |
NL2013826A (en) | 2015-06-08 |
US10365558B2 (en) | 2019-07-30 |
CN105793775A (zh) | 2016-07-20 |
JP2019045884A (ja) | 2019-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6473157B2 (ja) | ペリクルを製造するための装置および方法ならびにペリクル | |
NL2020114B1 (en) | Pellicle and pellicle assembly | |
US10571800B2 (en) | Mask assembly and associated methods | |
JP2019521386A (ja) | リソグラフィ方法 | |
KR20210003956A (ko) | 기판, 기판 홀더, 기판 코팅 장치, 기판 코팅 방법 및 코팅 제거 방법 | |
US20230314962A1 (en) | Sub micron particle detection on burl tops by applying a variable voltage to an oxidized wafer | |
US8259284B2 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
US11561482B2 (en) | Methods and apparatus for reducing hydrogen permeation from lithographic tool | |
US12025922B2 (en) | Methods and apparatus for reducing hydrogen permeation from lithographic tool | |
TWI842365B (zh) | 用於euv透明護膜之護膜檢測工具及遮罩組件 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160726 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171025 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180618 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180913 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180926 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190108 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6473157 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |