JP6467805B2 - タール利用設備の排ガス処理方法及び排ガス処理装置 - Google Patents
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Description
(1) タール成分を含む排ガスを予備冷却して前記排ガスから前記タール成分を除去するガス予備冷却工程と、
前記ガス予備冷却工程後の前記排ガスを、ガス流路をなす冷却管と、前記冷却管を収納する冷却槽とから構成されるガス冷却部にて、冷却して前記排ガスに残留する前記タール成分を除去するガス冷却工程と、を備え、
前記冷却管は、螺旋状に巻かれており、かつ冷却管の低い位置に溜まったタールを排出するための複数のドレインコックを備え、
前記ガス予備冷却工程終了時の排ガス温度を5℃以上10℃以下にし、前記ガス冷却工程終了時の排ガス温度を5℃以下にすることを特徴とするタール利用設備の排ガス処理方法。
(2) 前記ガス予備冷却工程前の前記排ガス中の前記タール成分に、質量濃度で、
トルエン:100ppm以下、
キシレン:100ppm以下、
フェノール:10ppm以下、
インデン:10ppm以下、
インダン:10ppm以下、
o-クレゾール,m-クレゾール,p-クレゾール:各々2ppm以下、
ナフタレン:40ppm以下、
メチルナフタレン:40ppm以下、
のうちのいずれか1種以上の臭気成分が含まれることを特徴とする(1)に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。
(3) 前記ガス予備冷却工程において前記排ガスを流す予備冷却管の内径を50mm以上とし、
前記ガス冷却工程において前記排ガスを流す前記冷却管の内径を25mm以上とし、
前記予備冷却管の内径と前記冷却管の内径との比を2:1以上にすることを特徴とする(1)または(2)に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。
(4) 前記ガス予備冷却工程後および/または前記ガス冷却工程後の前記排ガスの一部を分取し、
前記分取された排ガス中の臭気成分の濃度を測定し、
前記排ガスの前記臭気成分の濃度に基づいて、前記ガス予備冷却工程および/または前記ガス冷却工程における前記排ガスの冷却条件を制御することを特徴とする(1)乃至(3)のいずれか一項に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。
(5) 前記排ガス中の臭気成分の濃度を測定するガス分析方法が、
真空排気したイオン化室内に分取した前記排ガスを導き、前記イオン化室内で前記排ガスにレーザー光を照射して前記臭気成分をイオン化し、イオン化された前記臭気成分を質量分析器に導いてその質量を測定するレーザーイオン化質量分析法であることを特徴とする(4)に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。
(6) 排ガス流路と、
前記排ガス流路の途中に設けられ、タール成分を含む排ガスを予備冷却して前記排ガスから前記タール成分を除去するガス予備冷却部と、
前記排ガス流路の前記ガス予備冷却部よりも下流側に設けられ、ガス流路をなす冷却管と、前記冷却管を収納する冷却槽とから構成され、前記排ガスを冷却して前記排ガス中に残留する前記タール成分を前記排ガスから除去するガス冷却部と、を備え、
前記冷却管は、螺旋状に巻かれており、かつ冷却管の低い位置に溜まったタールを排出するための複数のドレインコックを備え、
前記ガス予備冷却部は、その出口における排ガスの温度を5℃〜10℃に冷却可能であり、
前記ガス冷却部は、その出口における排ガスの温度を5℃以下に冷却可能であるタール利用設備の排ガス処理装置。
(7) 前記ガス冷却部の下流側に位置する排気管に、トラップが設けられており、
前記トラップは、前記排ガスの流路上に配置された金属板と該金属板を収容するトラップ本体とから構成され、
前記金属板は前記排気管の延長上にその板面が位置するように前記トラップ本体内に配置されており、
前記金属板の外周縁と前記トラップ本体との間には間隙が設けられていることを特徴とする(6)に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。
(8) 前記ガス予備冷却部の出側の前記ガス流路から分岐する分取管と、
前記分取管に接続され、前記分取管を介して前記排ガス流路から分取された前記排ガスの前記タール成分に含まれる臭気成分の濃度を測定するガス分析装置と、
前記臭気成分の濃度に基づいて前記ガス冷却部および/または前記ガス予備冷却部の冷却条件を制御する冷却制御部と、
を備えたことを特徴とする(6)または(7)に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。
(9) 前記ガス分析装置が、真空紫外レーザー光源と、分取された前記排ガスに前記真空紫外レーザー光源から発振されたレーザー光を照射して前記臭気成分をイオン化させるイオン化室と、前記臭気成分の質量を測定する質量分析器とを備えたレーザーイオン化質量分析装置であることを特徴とする(8)に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。
(10) 前記ガス予備冷却部において前記排ガス流路をなす予備冷却管の内径が50mm以上であり、
前記ガス冷却部において前記排ガス流路をなす前記冷却管の内径が25mm以上であり、
前記予備冷却管の内径と前記冷却管の内径との比が2:1以上であることを特徴とする(6)乃至(9)のいずれか一項に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。
特に、タール利用設備から発生する排ガスの冷却を用いた処理に際して、非定常な操業条件の変動が発生した場合でも確実にタール成分に含まれる臭気成分を嗅覚閾値以下に低下させ、これを維持させることが可能となる。また、必要最小限の運転コストによる排ガス処理が可能となる。
製鉄所では、石炭からコークスを製造する際に、副生物としてタール成分を含む排ガスが発生する。製鉄所においてタール成分を取り扱う設備(以下、タール利用設備という)には、タール成分を含む排ガスを処理するための脱臭設備が備えられている。本実施形態が対象とするタール利用設備の例としては、高炉用コークスの製造のために、微粉炭にタールを添加する工程を含む石炭事前処理設備が挙げられる。この場合、石炭に対するタールの添加量は5〜15重量%である。
まず、タール利用設備から排出された排ガスがガス予備冷却部3に導入される。排ガスにはタール成分が含まれており、タール成分には、トルエン:100ppm以下、キシレン:100ppm以下、フェノール:10ppm以下、インデン:10ppm以下、インダン:10ppm以下、o-クレゾール,m-クレゾール,p-クレゾール:各々2ppm以下、ナフタレン:40ppm以下、メチルナフタレン:40ppm以下、のうちのいずれか1種以上の臭気成分が含まれる。ガス予備冷却部3に導入された排ガスは、予備冷却管3aにおいて冷却媒配管3bを流れる冷却媒によって冷却される。このとき、ガス予備冷却部3の排出口3dにある温度計において排ガスの温度が5〜10℃になるように冷却する。温度計による排ガス温度が5〜10℃の範囲から外れる場合は、温度計の測定結果に基づき、図示略の冷却制御部によって冷却媒配管3bを流れる冷却媒の流量を調整して、排ガスの温度が5〜10℃になるように制御する。以下、ガス予備冷却部3におけるガス予備冷却工程と、ガス冷却部4におけるガス冷却工程について説明する。
ガス予備冷却部3は、排ガス中の大部分のタールを凝結分離するものであり、予備冷却管3aの内径が50mm以上と比較的大きいため、ガス冷却部4ほど熱交換効率は高くない。しかしながら、ガス予備冷却部3の排出口3dにおける排ガス温度を10℃以下とすれば、排ガスに含まれる臭気成分の多くが蒸気圧の関係などから凝結し、排ガス中の臭気成分の濃度を予備冷却前の十分の一程度に低減できる。ガス予備冷却部3の排出口3dにおける排ガス温度は、5℃以上10℃以下とすることが好ましいが、ガス予備冷却3における冷却時間を4秒以上とすれば、ガス予備冷却部3の排出口3dにおける排ガス温度が8℃〜10℃となり、90%以上の臭気成分を除去可能になる。特に、排ガス中の臭気成分の濃度が高い場合は、排ガス中の臭気成分の除去率は95%以上となる。ガス予備冷却部3で除去された臭気成分は、固体若しくは液体の状態で、タールとともにドレイン部3eに流下する。
次に、接続管7からガス冷却部4に導入された排ガスは、冷却管4aにおいてガス冷却槽4b内を流れる冷却媒によって冷却される。このとき、ガス冷却部4の排出口4dにある温度計において排ガスの温度が5℃以下になるように排ガスを冷却する。温度計における排ガス温度が5℃を超える場合は、温度計の測定結果に基づき図示略の冷却制御部によってガス冷却槽4bを流れる冷却媒の流量を調整して、排ガスの温度が5℃を超えないようにする。
本実施形態では、ガス冷却部4の排出口4dにおける排ガス温度を5℃以下に冷却することにより、排ガス中の臭気成分の濃度が1/100乃至1/1000まで減少する脱臭効果が得られる。
図6には、排ガス処理装置の別の例を示す。図6に示す排ガス処理装置41は、排ガス流路2と、排ガス流路2の途中に設けられたガス予備冷却部3と、排ガス流路2のガス予備冷却部3よりも下流側に設けられたガス冷却部4と、排ガス中の臭気成分濃度を測定するガス分析装置5と、冷却制御部46とから構成されている。
まず、ガス予備冷却部3によって処理された排ガスの一部を、第1分岐管47から分取してサンプリングし、ガス分析装置5にて臭気成分濃度を分析する。残りの排ガスはガス冷却部4に送られて処理される。ガス分析装置5において測定された臭気成分濃度は、冷却制御部46に出力される。冷却制御部46は成分濃度の入力情報に基づいて、制御プログラムに従い、ガス予備冷却部3またはガス冷却部4における冷却媒の流量等の制御を行う。
図7に示すように、真空紫外レーザー光源は、レーザー発生部50と真空紫外光発生部52とから構成される。真空紫外光発生部52では、Xeガスを適切な圧力で封入したガスセル52aに、レーザー発生部50で発生(発振)した紫外光54(紫外レーザー光)(Nd:YAGレーザーの3倍波(355nm))を、ミラー51を介して真空紫外光発生部52に導入し、真空紫外光発生部52において紫外光54をその焦点で再度3倍波に変換して、118nmの波長の真空紫外光(真空紫外レーザー光)55を発生(発振)させる。レーザーの繰り返し数は多いほど良いが、この繰り返し数は、真空紫外光55の発生の元となる紫外光レーザーの繰り返し数に依存する。尚、真空紫外光発生部52から発生する真空紫外光55の波長は、118nmに限定されない。例えば、100nm〜150nmの範囲を真空紫外光の波長として使用できる。
ε=hc/λ ・・・(1)
但し、hはプランク定数、cは光速度である。
図1に示す排ガス処理装置1をタール利用設備の排ガスを導き排出するための経路中に設けた。ガス予備冷却部3に導入する前の排ガス中の温度は55℃であった。図1のガス予備冷却部3を通過させた排ガスは、接続管7を通じてガス冷却部4に導入させた。このガス予備冷却部3及びガス冷却部4の冷却方法としては、コイル状のパイプに冷却溶媒を流したよく知られたラジエータ状のものとした。
フェノール:8ppm、ナフタレン:35ppm、2-メチルナフタレン:18ppm、インダン:6ppm、インデン:7ppmを含む排ガスを、図1に示す排ガス処理装置1によって連続的に処理した。実施例1と同様にレーザーイオン化質量分析装置により、ガス冷却部4を通過後の排ガス中に含まれる臭気成分の濃度を測定した。このとき、ガス予備冷却部3とガス冷却部4の各出口における排ガス温度を変化させて、冷却管4aの閉塞が発生するまでの時間を調べた。閉塞の発生は、冷却管4aの途中に設けた流量計により判断した。結果を表2に示す。
試験No.4は、ガス予備冷却部3の出口における排ガス温度が10℃を超えており、タールの予備除去が不十分なため、短時間でガス冷却部4の冷却配管の閉塞が発生した。
試験No.5は、ガス予備冷却部3における排ガスの冷却が不十分であったため、より多くのタール成分が除去されないままガス冷却部4に導入されたことで、冷却管4aの閉塞が早まった上に、臭気成分の除去も不完全となった。
試験No.6は、ガス冷却部4における排ガスの冷却が不十分であったため、ガス冷却部4を通過後の排ガス中の一部の臭気成分の濃度が嗅覚閾値を上回った。
フェノール:10ppm、クレゾール:10ppm、ナフタレン:35ppm、2-メチルナフタレン:25ppm、インダン:7ppm、インデン:9ppmを含む排ガスを、図6に示す排ガス処理装置41によって連続的に処理した。その際のガス予備冷却部3の出口における排ガス温度は10℃程度であり、ガス冷却部4の出口における排ガス温度は5℃程度であった。実施例1と同様にレーザーイオン化質量分析装置により、ガス冷却部4を通過後の排ガス中に含まれる臭気成分の濃度を測定したところ、クレゾール:100ppb、2-メチルナフタレン:120ppb、インデン:70ppb程度が検出された。
図6に示した排ガス処理装置41において、タール利用設備から排出された排ガスをガス予備冷却部3に通過させた後の臭気成分濃度は、ガス分析装置5で測定したところ、トルエン:12ppm、キシレン:12ppm、フェノール:1.2ppm、インデン:1.2ppm、インダン:1.2ppm、ナフタレン:4.8ppm、メチルナフタレン:4.8ppmであった。その際のガス予備冷却部3の出口における排ガス温度は10℃であった。
このような制御を実施することで、上記フィードバッグ技術により、過不足の無い冷却が可能になり、冷却管4aの閉塞も700時間以上発生せず、また、ガス冷却部4を通過後の排ガスの臭気成分濃度は臭気閾値を下回った。
Claims (10)
- タール成分を含む排ガスを予備冷却して前記排ガスから前記タール成分を除去するガス予備冷却工程と、
前記ガス予備冷却工程後の前記排ガスを、ガス流路をなす冷却管と、前記冷却管を収納する冷却槽とから構成されるガス冷却部にて、冷却して前記排ガスに残留する前記タール成分を除去するガス冷却工程と、を備え、
前記冷却管は、螺旋状に巻かれており、かつ冷却管の低い位置に溜まったタールを排出するための複数のドレインコックを備え、
前記ガス予備冷却工程終了時の排ガス温度を5℃以上10℃以下にし、前記ガス冷却工程終了時の排ガス温度を5℃以下にすることを特徴とするタール利用設備の排ガス処理方法。 - 前記ガス予備冷却工程前の前記排ガス中の前記タール成分に、質量濃度で、
トルエン:100ppm以下、
キシレン:100ppm以下、
フェノール:10ppm以下、
インデン:10ppm以下、
インダン:10ppm以下、
o-クレゾール,m-クレゾール,p-クレゾール:各々2ppm以下、
ナフタレン:40ppm以下、
メチルナフタレン:40ppm以下、
のうちのいずれか1種以上の臭気成分が含まれることを特徴とする請求項1に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。 - 前記ガス予備冷却工程において前記排ガスを流す予備冷却管の内径を50mm以上とし、
前記ガス冷却工程において前記排ガスを流す前記冷却管の内径を25mm以上とし、 前記予備冷却管の内径と前記冷却管の内径との比を2:1以上にすることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。 - 前記ガス予備冷却工程後および/または前記ガス冷却工程後の前記排ガスの一部を分取し、
前記分取された排ガス中の臭気成分の濃度を測定し、
前記排ガスの前記臭気成分の濃度に基づいて、前記ガス予備冷却工程および/または前記ガス冷却工程における前記排ガスの冷却条件を制御することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。 - 前記排ガス中の臭気成分の濃度を測定するガス分析方法が、
真空排気したイオン化室内に分取した前記排ガスを導き、前記イオン化室内で前記排ガスにレーザー光を照射して前記臭気成分をイオン化し、イオン化された前記臭気成分を質量分析器に導いてその質量を測定するレーザーイオン化質量分析法であることを特徴とする請求項4に記載のタール利用設備の排ガス処理方法。 - 排ガス流路と、
前記排ガス流路の途中に設けられ、タール成分を含む排ガスを予備冷却して前記排ガスから前記タール成分を除去するガス予備冷却部と、
前記排ガス流路の前記ガス予備冷却部よりも下流側に設けられ、ガス流路をなす冷却管と、前記冷却管を収納する冷却槽とから構成され、前記排ガスを冷却して前記排ガス中に残留する前記タール成分を前記排ガスから除去するガス冷却部と、を備え、
前記冷却管は、螺旋状に巻かれており、かつ冷却管の低い位置に溜まったタールを排出するための複数のドレインコックを備え、
前記ガス予備冷却部は、その出口における排ガスの温度を5℃〜10℃に冷却可能であり、
前記ガス冷却部は、その出口における排ガスの温度を5℃以下に冷却可能であるタール利用設備の排ガス処理装置。 - 前記ガス冷却部の下流側に位置する排気管に、トラップが設けられており、
前記トラップは、前記排ガスの流路上に配置された金属板と該金属板を収容するトラップ本体とから構成され、
前記金属板は前記排気管の延長上にその板面が位置するように前記トラップ本体内に配置されており、
前記金属板の外周縁と前記トラップ本体との間には間隙が設けられていることを特徴とする請求項6に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。 - 前記ガス予備冷却部の出側の前記ガス流路から分岐する分取管と、
前記分取管に接続され、前記分取管を介して前記排ガス流路から分取された前記排ガスの前記タール成分に含まれる臭気成分の濃度を測定するガス分析装置と、
前記臭気成分の濃度に基づいて前記ガス冷却部および/または前記ガス予備冷却部の冷却条件を制御する冷却制御部と、
を備えたことを特徴とする請求項6または請求項7に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。 - 前記ガス分析装置が、真空紫外レーザー光源と、分取された前記排ガスに前記真空紫外レーザー光源から発振されたレーザー光を照射して前記臭気成分をイオン化させるイオン化室と、前記臭気成分の質量を測定する質量分析器とを備えたレーザーイオン化質量分析装置であることを特徴とする請求項8に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。
- 前記ガス予備冷却部において前記排ガス流路をなす予備冷却管の内径が50mm以上であり、
前記ガス冷却部において前記排ガス流路をなす前記冷却管の内径が25mm以上であり、
前記予備冷却管の内径と前記冷却管の内径との比が2:1以上であることを特徴とする請求項6乃至請求項9のいずれか1項に記載のタール利用設備の排ガス処理装置。
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