JP6460699B2 - Direct exposure system - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
本発明は、供給リールから繰り出されて巻取リールに巻き取られる長尺状ワークの搬送中に、その表裏の一面にパターンを描画する、いわゆるロールトゥロール方式のダイレクト露光装置に関する。 The present invention relates to a so-called roll-to-roll direct exposure apparatus that draws a pattern on one surface of a front and back during conveyance of a long workpiece that is fed from a supply reel and wound on a take-up reel.
一般的に、携帯電話やモバイル機器等に用いられる電子回路基板(プリント回路基板)のベース素材として、例えば、厚みが0.1mm以下で長さが500mm以上(例えば100m)の長尺状ワーク(感光性長尺フィルム(表裏の少なくとも一面に感光体を塗布した合成樹脂製柔軟フィルム))をロール状にしたものが使用されている。また近年、転写マスクを使わず描画光を直接基板に照射してパターンを描画するダイレクト露光装置が市場に台頭し、長尺状ワークに対してもこの露光方式を採用する要求が高まっている。 In general, as a base material of an electronic circuit board (printed circuit board) used for a mobile phone, a mobile device, etc., for example, a long workpiece (thickness of 0.1 mm or less and length of 500 mm or more (for example, 100 m)) ( A roll of a photosensitive long film (a synthetic resin flexible film in which a photoconductor is applied to at least one surface) is used. In recent years, a direct exposure apparatus that draws a pattern by directly irradiating a substrate with drawing light without using a transfer mask has emerged on the market, and there is an increasing demand for adopting this exposure method even for a long workpiece.
このようなロールトゥロール方式のダイレクト露光装置として、連続的な長尺状ワークの搬送と露光を行うために、供給リールと巻取リールの間に位置させた平板状のコンベア(露光コンベア)により長尺状ワークを保持し、該コンベア上で露光を行うダイレクト露光装置が知られている(特許文献1)。 As such a roll-to-roll direct exposure apparatus, a plate-shaped conveyor (exposure conveyor) positioned between a supply reel and a take-up reel is used to continuously convey and expose a long workpiece. A direct exposure apparatus that holds a long workpiece and performs exposure on the conveyor is known (Patent Document 1).
また、供給リールと巻取リールの間に位置させたローラ(露光ローラ)の円筒面上を進行する長尺状ワークに対して露光を行うダイレクト露光装置も知られている(特許文献2)。 There is also known a direct exposure apparatus that performs exposure on a long workpiece traveling on a cylindrical surface of a roller (exposure roller) positioned between a supply reel and a take-up reel (Patent Document 2).
平面状のコンベア上で露光する方式と円筒状のローラ上で露光する方式を比べると、コンベア方式は、ワークの被露光領域全体を平面状にする点では優れるが、ライン長が長くなるために露光装置が大型化しやすく、また露光位置で局所的に見た場合の面精度が悪い。これに対し、ローラ方式はライン長が短縮できるので露光装置の小型化が可能であり、かつ面精度(面の滑らかさ)とワーク送り精度の面で優れている。一方、ローラ方式は円筒面(曲面)上で露光を行うため、露光画像の焦点が合うエリアが狭く、細線の描画が困難になるという問題がある。この問題は露光ローラ径を大きくすれば軽減されるが、小型化が犠牲にされてしまう。 Comparing the exposure method on a planar conveyor with the exposure method on a cylindrical roller, the conveyor method is superior in that the entire exposed area of the workpiece is planar, but the line length is longer. The exposure apparatus tends to be large, and the surface accuracy when viewed locally at the exposure position is poor. On the other hand, the roller system can reduce the line length, so that the exposure apparatus can be miniaturized, and is excellent in terms of surface accuracy (surface smoothness) and workpiece feeding accuracy. On the other hand, since the roller method performs exposure on a cylindrical surface (curved surface), there is a problem that an area where an exposure image is focused is narrow and drawing a thin line becomes difficult. This problem is alleviated by increasing the diameter of the exposure roller, but at the expense of miniaturization.
本発明は、露光ローラ方式のダイレクト露光装置において、露光ローラ径の増大を抑えながら、露光画像の焦点が合うエリアを拡大し、描画パターンを細線化することができるダイレクト露光装置を得ることを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a direct exposure apparatus capable of enlarging a focused area of an exposure image and thinning a drawing pattern while suppressing an increase in the diameter of the exposure roller in an exposure roller type direct exposure apparatus. And
本発明は、供給リールから繰り出され巻取リールに巻き取られる長尺状ワークにパターンを露光する光変調素子アレイを用いたダイレクト露光装置であって、上記供給リールと巻取リールの間において、長尺状ワークをその周面の一定範囲に渡って保持しながら回転する円筒部材;長尺状ワークを、上記円筒部材からの離脱位置において上記円筒部材の軸直交断面における径方向と直交する接線方向に案内するガイド手段;及び上記円筒部材から離脱して上記接線方向に延びる長尺状ワークに対し、上記離脱位置を含む搬送方向の前後一定幅においてパターンを描画する露光手段;を備え、上記前後一定幅は、離脱位置から搬送方向下流側の幅が上流側の幅より広いことを特徴としている。 The present invention is a direct exposure apparatus using a light modulation element array that exposes a pattern on a long workpiece that is fed from a supply reel and wound on a take-up reel, and between the supply reel and the take-up reel, A cylindrical member that rotates while holding the long workpiece over a certain range of its peripheral surface; a tangent line perpendicular to the radial direction in the axial orthogonal section of the cylindrical member at a position where the long workpiece is detached from the cylindrical member respect and elongated workpiece extending in the tangential direction and separated from the cylindrical member, an exposure means for drawing a pattern before and after a certain width in the transport direction including the detached position; guide means for guiding the direction provided with, the The constant front-rear width is characterized in that the width on the downstream side in the transport direction from the separation position is wider than the width on the upstream side .
本発明のダイレクト露光装置はさらに、長尺状ワークに形成されているアライメントマークを撮像するアライメントカメラが、上記円筒部材を挟んで上記露光手段と対向する位置に配置されていることが好ましい。 In the direct exposure apparatus of the present invention, it is preferable that an alignment camera for imaging an alignment mark formed on a long workpiece is disposed at a position facing the exposure unit with the cylindrical member interposed therebetween.
さらに、露光手段光軸とアライメントカメラ光軸は鉛直方向に向いていることが好ましい。 Further, it is preferable that the exposure means optical axis and the alignment camera optical axis are oriented in the vertical direction.
本発明によれば、露光ローラを用いて長尺状ワークを連続的に露光するダイレクト露光装置でありながら、円筒状部材の離脱位置を含む搬送方向の前後一定幅においてパターンを描画するため、露光エリアに接線(接平面)方向の平面エリアが含まれることとなり、露光画像の焦点が合うエリアを従来の露光ローラ型のダイレクト露光装置よりも広くとることが可能となる。その結果、露光するパターンの細線化が可能となる。 According to the present invention, although it is a direct exposure apparatus that continuously exposes a long workpiece using an exposure roller, the exposure is performed in order to draw a pattern with a constant width in the front and back in the transport direction including the separation position of the cylindrical member. Since the area includes a plane area in the tangential (tangential plane) direction, an area in which the exposure image is focused can be set wider than that of a conventional exposure roller type direct exposure apparatus. As a result, the exposed pattern can be thinned.
図1、図2は、本発明によるダイレクト露光装置100の一実施形態を示す全体図である。ダイレクト露光装置100は、巻回された長尺状ワーク(以下単にワーク)Wを繰り出す供給リール10と、ワークWを巻き取る巻取リール11との間に、露光ロール40が位置し、この露光ロール40の上下に露光ユニット(露光描画部)30とアライメントカメラ50が備えられている。ワークWは、表裏の少なくとも一面に感光体を塗布した合成樹脂製柔軟フィルムからなり、供給リール10を出たのち、ガイドローラ12、13を経て、露光ロール40に至り、さらにガイドローラ14を経て巻取リール11に巻き取られる。
1 and 2 are general views showing an embodiment of a
露光ロール40は、図2、図5に示すように、軸心41Xを中心に不図示の駆動源によって回転駆動される多孔円筒部材41と、この多孔円筒部材41内に位置する中心固定体42とを有し、中心固定体42には、その周面の一部に、多孔円筒部材41の周面に形成した無数の微細孔(吸引孔)41aに負圧を及ぼす吸引凹部(溝)42aが形成されている。吸引凹部42aには、負圧源43及び制御器(レギュレータ)44を介して負圧が及ぼされる。吸引凹部42aに負圧が供給されている状態で多孔円筒部材41を回転駆動すると、吸引凹部42aが形成された吸引区間α(図5)において、多孔円筒部材41の微細孔41aから空気が吸引される結果、ワークWが多孔円筒部材41の周面に吸着保持されて回転する。
As shown in FIGS. 2 and 5, the
吸引凹部42aの吸引区間αと、ガイドローラ13及びガイドローラ14の位置は、多孔円筒部材41を軸方向から見たとき、多孔円筒部材41の最も高い位置(最上位置)と最も低い位置(最下位置)との間において、ワークWが多孔円筒部材41に吸引されて回転するように定められている。ガイドローラ13は、多孔円筒部材41の径方向に対して直交する最下方の水平な接線(接平面)方向からワークWが多孔円筒部材41に入り(下方の水平接線(接平面)方向と径方向との交点(交線)において吸引保持が開始され)、ガイドローラ14は、多孔円筒部材41の径方向に対して直交する最上方の水平な接線(接平面)方向へワークWが出て行く(上方の水平接線(接平面)方向と径方向との交点(交線)において吸引保持が終了する)ように位置が定められている。すなわち、吸引凹部42aの吸引区間αは、多孔円筒部材41にワークの吸着が開始される位置と、多孔円筒部材41からワークWが離脱される位置とに跨がる略半周の間(略180゜)に設定されている。なお、ワークWは、少なくとも吸引区間αの両端部、すなわち、吸引開始位置と吸引開放位置とにおいて多孔円筒部材41に吸引保持されればよい。
The suction section α of the suction recess 42a and the positions of the
露光ロール40の多孔円筒部材41の外周には、図2に概念的に示すように、リニアスケール45が形成されており、露光ロール40の外側固定位置には、このリニアスケール45を読み取って、多孔円筒部材41の絶対回転位置を検出するリニアセンサ46が配設されている。
As conceptually shown in FIG. 2, a
図3は露光ユニット30の具体例を示している。露光ユニット30は、光源部20を備え、光源部20は、同じ内部構成を持つ2個の光源部20aと光源部20bとで構成されている。光源部20aと光源部20bとは同じ構成のため光源部20aを代表して説明する。
FIG. 3 shows a specific example of the
光源部20aは、UVランプ21と、第1全反射ミラー22と、コンデンサーレンズ23と、第2全反射ミラー24と、フライアイレンズ25と、アパーチャ(不図示)とから構成されている。光源部20aはUVランプ21を備えており、UVランプ21からは365nmから440nmまでの各種の波長が混在した紫外光が射出される。
The
UVランプ21から射出された紫外光は、楕円ミラー26により天方向に照射され、第1全反射ミラー22により水平方向に向きを変え、コンデンサーレンズ23にて集光され、第2全反射ミラー24にて地面方向(ワークW方向)に向きを変える。向きを変えた紫外光はフライアイレンズ25及びアパーチャを経て4分岐されたビームとなる。ビームは更に8個の第1投影レンズ33と、8個の反射ミラー34とを経由して、8個のDMD(Digital Micro-mirror Device)素子(光変調素子アレイ)36に入射することで制御されたビームとなる。この制御されたビームは第2投影レンズ群37を通過することで、投影する露光描画の倍率を調整して、ワークWに照射される。つまり、描画装置ダイレクト露光装置100は、所望の露光像をあらかじめ収納してある描画データに従い、光源部20a及び光源部20bの紫外光を制御する。
The ultraviolet light emitted from the
露光ユニット30による露光エリアは、次のように定められている。上述のように、ワークWは多孔円筒部材41から離脱した後、ガイドローラ14に従って多孔円筒部材41の最上部において水平接線(接平面)方向に移動する(多孔円筒部材41から離脱したワークWは、ガイドローラ(ガイド手段)14により離脱角度が水平となるよう調整される)。露光ユニット30による露光エリアAE(図2、図3、図6)は、厳密には単純な矩形ではないが、ここでは簡略的にワークWの搬送方向と直交する方向(ワークWの幅方向)に長手方向をとった矩形で表現されるとする。そしてその露光幅Yは、図6に示すように、多孔円筒部材41の軸心41Xと接線方向の交点(交線)Sを基準としたとき、交線Sより上流側(多孔円筒部材41の円筒面側)の露光幅Y1より、下流側(ガイドローラ14側)の露光幅Y2の方が大きく(Y1<Y2)設定されている。
The exposure area by the
このように露光エリアを設定すると、次のメリットが得られる。多孔円筒部材41に吸引されているワークWは曲面をなしているが、上述のように、多孔円筒部材41上は面精度(面の滑らかさ)とワーク送り精度の面で優れている。そこで、露光エリアAE中に、面精度と送り精度の優れた多孔円筒部材41上の露光エリア(幅Y1)を含める。一方、交線Sより下流側の露光エリア(幅Y2)は、ワークWが平面と仮想されているが、実際には、多孔円筒部材41から離脱しているため、円筒部材41から離れるにつれ平面精度誤差(露光ユニット30の理想焦点面と露光エリアAEとの偏差)が拡大する傾向にある。このため、露光エリアAEを交線Sより上流側と下流側に跨がらせている。また、交線Sより上流側の露光幅Y1より、下流側の露光幅Y2を大きく設定することにより、実質的な焦点深度(光学系の焦点深度から露光エリアAEのワークWの平面精度誤差を差し引いたもの)が浅くなることを防ぎ、描画パターンの細線化を可能とする。すなわち、下流側の平面上の露光幅Y2の方を曲面上の露光幅Y1よりを大きくすることで、露光ユニット30の焦点深度内にパターンを描くことが容易になる。具体的には、下流側の幅が7割以上、好ましくは8割以上に設定することが好ましい。具体的に露光幅Yが10mmであるとき、上流側の幅Y1=2〜3mm、下流側の幅Y2=8〜7mmである。
Setting the exposure area in this way provides the following advantages. The workpiece W sucked by the porous
もっとも、仮に露光エリアAEの交線Sより上流側の露光幅Y1と、下流側の露光幅Y2が等しいとしても(Y1=Y2)、露光エリアAE中の半分が多孔円筒部材41の接線(接平面)方向の平面エリアになることで、パターン描画に悪影響を与えるエリア(厳密な焦点位置からずれる領域)を小さくすることができる。
However, even if the exposure width Y1 upstream from the intersection line S of the exposure area AE and the exposure width Y2 downstream are equal (Y1 = Y2), half of the exposure area AE is tangent (tangent) to the porous
アライメントカメラ50は、この実施形態では、ワークWの幅方向に離間した一対が備えられている。このアライメントカメラ50は、ワークWに予め形成されているアライメントマークMA(図4)を撮像して露光ユニット30による描画座標系を定める(修正する)。アライメントカメラ50は、ワークWの露光ロール40(多孔円筒部材41)に対する吸着開始位置においてアライメントマークMAを撮像するものであるので、吸着開始位置は撮像位置に等しい。そして、アライメントカメラ50と露光ユニット30は、露光ロール40を挟んで対向して配置され、またお互いの光軸が露光ロール40を挟んで反対側の略鉛直位置に位置している。ここでの対向とは、アライメントカメラ50の撮像方向と、露光ユニット30の露光光出射方向がお互いに向き合っていることを意味するが、このとき必ずしもぞれぞれの光軸は同一軸線上にある必要は無く、基板搬送方向にオフセットしていても良い。アライメントカメラ50と露光ユニット30は、その少なくとも一方の光軸が厳密に鉛直方向を向くように配置することが好ましい。このようにアライメントカメラ50と露光ユニット30を配置することにより、アライメントカメラ50と露光ユニット30の光学系を最も安定した状態に保持することができ、最大の光学性能を得ることができる。
In this embodiment, the
図4は、ワークW上の単位パターン領域APとアライメントマークMA、及びアライメントカメラ50(カメラ視野50a)と露光ユニット30による露光エリアAEの位置関係を示している。図示例では、アライメントマークMAは、1つの単位パターン領域AP(1回にアライメント及び描画する範囲)に対し、4個(2個×2列)が形成されており、アライメントカメラ50はカメラ視野50aの中心においてアライメントマークMAを撮像するように位置調整可能である。
FIG. 4 shows the positional relationship between the unit pattern area AP and the alignment mark MA on the workpiece W, and the exposure area AE by the alignment camera 50 (camera field of
なお、アライメントマークMAの個数および配置は描画するパターンに応じて適宜設定されるものであり、アライメントカメラ50の数や配置はそれに応じて決められるものであることは言うまでもない。
Needless to say, the number and arrangement of the alignment marks MA are appropriately set according to the pattern to be drawn, and the number and arrangement of the
上記構成の本ダイレクト露光装置100は、次のように動作する。供給リール10、露光ロール40、巻取リール11がサーボ系によって正確に同期回転制御され、供給リール10に巻回されているワークWは、ガイドローラ12、13、露光ロール40、ガイドローラ14を経て巻取リール11に巻き取られる。露光ロール40の多孔円筒部材41の回転位置は、リニアスケール45、リニアセンサ46によって正確に検出される。
The
このワークWの搬送移動中に、負圧源43及び制御器(レギュレータ)44を介して吸引凹部42aに負圧を及ぼすと、ワークWが吸引区間αにおいて多孔円筒部材41の周面に吸着される。すなわち、多孔円筒部材41の最も下方の吸着開始位置から最も上方の離脱位置までワークWが多孔円筒部材41の周面に保持されて円筒面上を移動する。吸着開始位置は、同時にアライメントカメラ50によるアライメントマークMAの撮像位置である。ワークWの吸着は、撮像位置では必ず開始されているように、撮像位置よりも僅かに上流側(供給側)から開始することが好ましい。
If a negative pressure is applied to the
そして、ワークWが進行して、1つの単位パターン領域APの4個(2個×2列)のアライメントマークMAがアライメントカメラ50によって撮像されると、その単位パターン領域APの座標系が定まる。1つの単位パターン領域APのアライメントマークMAの撮像が終わると、連続して次の単位パターン領域APのアライメントマークMAの撮像が開始され、新たな座標系が定まる。
When the workpiece W advances and four (2 × 2 columns) alignment marks MA of one unit pattern area AP are imaged by the
単位パターン領域APの4つのアライメントマークMAの撮像が終了すると、アライメント計測部が、計測した単位パターン領域APと設計上の単位パターン領域APの位置およびスケーリング誤差を計算する(アライメント)。露光制御部は、上記の誤差に基づいて、描画データを座標変換し、露光ユニット30による補正描画データを作成する。
When imaging of the four alignment marks MA in the unit pattern area AP is completed, the alignment measurement unit calculates the positions and scaling errors of the measured unit pattern area AP and the designed unit pattern area AP (alignment). The exposure control unit performs coordinate conversion of the drawing data based on the error, and creates corrected drawing data by the
単位パターン領域APの先端が露光ユニット30に到達すると、露光制御部が補正描画データに従って露光ユニット30のDMD素子36を変調し、ワークW上にパターン光を照射し、ワークWの感光剤層にパターンを形成する。このパターン形成は、既知の多重露光方法によって行われる。多孔円筒部材41へのワークWの吸着解除は、ワークWが露光位置で多孔円筒部材41から離脱しない(保持されている)限り、露光位置、あるいは露光位置よりも僅かに上流側(供給側)で行うことができる。
When the tip of the unit pattern area AP reaches the
露光ユニット30が露光動作を行っている間に、平行して次の単位パターン領域APのアライメントマーク撮像ステップと、データ補正ステップが実行される。このため、単位パターン領域APの露光が終了すると、露光ユニットは次の単位パターン領域APの露光を連続して開始することができる。
While the
アライメントマーク撮像ステップとデータ補正ステップを平行して行うために、露光ユニット30とアライメントカメラ50は、図4に示すように、単位パターン領域APの大きさを考慮して、両者の間に単位パターン領域APの4つのアライメントマークMAが入るように(両者の間の距離が単位パターン領域APよりも長くなるように)その位置を離している。本実施形態の露光ユニット30とアライメントカメラ50は、露光ロール40を挟んで上下に位置しているため、露光ロール40を小型化しても、その距離を確保することができる。また、露光ユニット30とアライメントカメラ50が、露光ロール40を挟んで鉛直方向に並んで配置されているため、最も効率よくローラを利用でき、ワークWの位置合わせ精度と生産性を向上させることができる。
In order to perform the alignment mark imaging step and the data correction step in parallel, the
以上のように、本実施形態によると、露光ロール40の径を押さえながらもワークWのアライメントと描画位置の補正を精度よく行うことができ、また、露光画像の焦点が合うエリアを従来の露光ローラ型のダイレクト露光装置よりも広くとることが可能となる。その結果、従来のダイレクト露光装置よりも省スペースで高精度な処理が可能な露光装置が得られる。
As described above, according to the present embodiment, the alignment of the workpiece W and the correction of the drawing position can be performed with accuracy while the diameter of the
100 ダイレクト露光装置
10 供給リール
11 巻取リール
12 13 14 ガイドローラ(ガイド手段)
30 露光ユニット(露光描画部)
36 DMD素子(光変調素子アレイ)
40 露光ロール
41 多孔円筒部材
41a 微細孔
42 中心固定体
42a 吸引凹部
43 負圧源
44 制御器
45 リニアスケール
46 リニアセンサ
50 アライメントカメラ(撮像手段)
MA アライメントマーク
W 長尺状ワーク
α 吸引区間
100
30 exposure unit (exposure drawing unit)
36 DMD element (light modulation element array)
40
MA Alignment mark W Long workpiece α Suction section
Claims (3)
上記供給リールと巻取リールの間において、長尺状ワークをその周面の一定範囲に渡って保持しながら回転する円筒部材;
長尺状ワークを、上記円筒部材からの離脱位置において上記円筒部材の軸直交断面における径方向と直交する接線方向に案内するガイド手段;及び
上記円筒部材から離脱して上記接線方向に延びる長尺状ワークに対し、上記離脱位置を含む搬送方向の前後一定幅においてパターンを描画する露光手段;を備え、
上記前後一定幅は、離脱位置から搬送方向下流側の幅が上流側の幅より広いことを特徴とするダイレクト露光装置。 A direct exposure apparatus using a light modulation element array that exposes a pattern to a long workpiece that is fed from a supply reel and wound on a take-up reel,
A cylindrical member which rotates between the supply reel and the take-up reel while holding the long workpiece over a certain range of its peripheral surface;
Guide means for guiding the long workpiece in a tangential direction perpendicular to the radial direction in the axial orthogonal cross section of the cylindrical member at a position where the cylindrical member is detached from the cylindrical member; An exposure means for drawing a pattern in a constant width in the front-rear direction in the transport direction including the above-mentioned separation position,
The direct exposure apparatus according to claim 1, wherein the constant width in the front-rear direction is such that the width on the downstream side in the transport direction from the separation position is wider than the width on the upstream side.
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