JP6450667B2 - 偏光板保護フィルム、偏光板、液晶表示装置、及び偏光板保護フィルムの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、偏光板に用いられる保護フィルムに関し、特に、フィルムの劣化防止と偏光子耐久性の向上を実現することができる偏光板保護フィルムに関する。本発明は更に、上記偏光板保護フィルムの製造方法、及び上記光学フィルムを有する偏光板、並びに液晶表示装置に関する。

一般的に、偏光板は偏光子と偏光板保護フィルムを含んでなり、偏光板保護フィルムとしては、（メタ）アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、セルロースアシレート等を材料としたエステル結合を有するポリマーフィルムやポリアミド、ポリアラミド等を材料としたアミド結合を有するポリマーフィルムが用いられている。これらのポリマーフィルムは特に高温高湿環境下では加水分解して、フィルムの光学特性や機械強度が変化し、性能が劣化することが知られている。

非特許文献１には、セルロースアセテートが加水分解して、酢酸がフィルム中で発生することにより、自己触媒作用でさらに加水分解が促進されることが記載されている。
特許文献１には、セルロースアセテートの加水分解を防止し、セルロースアセテートフィルムの劣化を防止する方法としては、共役酸のｐＫａ（酸解離定数の負の対数）が４以上のアミン化合物を添加する方法が開示されている。

また、偏光板の偏光子としては、ヨウ素により染色されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）が用いられることが多いが、特に高温高湿環境下では偏光度が低下することが知られている。

特開平５−１９４７８９号公報

ＪＭ Ｒｅｉｌｌｙ，「ＩＰＩ Ｓｔｏｒａｇｅ Ｇｕｉｄｅ ｆｏｒ Ａｃｅｔａｔｅ Ｆｉｌｍ」，Ｉｍａｇｅ Ｐｅｒｍａｎｅｎｃｅ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ，（米国），１９９３年

しかしながら、上記特許文献１に記載された方法に基づき、塩基性物質であるアミン化合物を偏光板保護フィルムに添加すると、加水分解で発生した酸を中和することで、酸の自己触媒作用を抑制し、偏光板保護フィルムの光学特性などの劣化を防止することはできるが、偏光板の偏光度が顕著に低下してしまうという問題点が発生する。この理由としては、偏光子に含有されるポリビニルアルコールは、ホウ酸などの酸性物質で架橋されているため、偏光板保護フィルム中の塩基性物質によりホウ酸などが中和されて消費され、ポリビニルアルコールからヨウ素が拡散しやすくなるためであると推定される。
このように、偏光板保護フィルム中に酸が発生すると、加水分解により偏光板保護フィルムの光学特性及び機械強度が劣化し、これを防止するために、偏光板保護フィルム中に塩基性物質を存在させると、偏光板の偏光度が低下してしまう。

本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、高温高湿環境下であっても加水分解による性能の劣化が発生しにくく、かつ偏光子と貼り合わせて偏光板を作製した場合に、偏光度の低下を抑制できる偏光板保護フィルム、上記偏光板保護フィルムを含む偏光板及び液晶表示装置、並びに上記偏光板保護フィルムの製造方法の提供を目的とするものである。

本発明者らは、鋭意検討の結果、酸の作用により塩基を発生する化合物を用いることで、高温高湿環境下でも偏光板保護フィルム中のポリマーの加水分解を抑制し、かつ偏光板の偏光度の低下を抑制できることと見出した。
すなわち、下記構成により上記課題を解決できる。
＜１＞
エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと、酸の作用により塩基を発生する化合物とを含有する偏光板保護フィルムであって、
上記酸の作用により塩基を発生する化合物は、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、及び下記一般式（１）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、偏光板保護フィルム。

一般式（１）中、Ｒ _１ 及びＲ _２ はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ _１ とＲ _２ とが結合して環を形成している。Ｒ _３ はアルキル基又はアリール基を表す。
＜２＞
上記ポリマーは、（メタ）アクリル樹脂及びセルロースアシレートから選ばれる少なくとも一種である、＜１＞に記載の偏光板保護フィルム。
＜３＞
上記ポリマーはセルロースアシレートである、＜１＞又は＜２＞に記載の偏光板保護フィルム。
＜４＞
上記セルロースアシレートのアシル置換度が１．８〜３．０である、＜３＞に記載の偏光板保護フィルム。
＜５＞
上記酸の作用により塩基を発生する化合物は、上記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

一般式（２）中、Ｒ _４ 及びＲ _５ はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ _６ は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、又は下記一般式（Ｎ１）で表される基を表す。但し、Ｒ _４ 及びＲ _５ の少なくとも一方は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ _４ とＲ _５ とが結合して環を形成していてもよい。

一般式（Ｎ１）中、Ｒ _Ｎ１ 及びＲ _Ｎ２ は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。＊は酸素原子に結合する結合手を表す。Ｒ _Ｎ１ とＲ _Ｎ２ とが結合して環を形成していても良い。

一般式（３）中、Ｒ _７ 〜Ｒ _１０ はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ _７ 及びＲ _８ の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ _９ 及びＲ _１０ の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表す。Ｒ _７ とＲ _８ とが結合して環を形成していてもよい。Ｒ _９ とＲ _１０ とが結合して環を形成していてもよい。
＜６＞
更に、下記一般式（４）で表される化合物を含有する＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

一般式（４）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に、−Ｎ−又は−ＣＨ−を表す。Ｑ _１ 、Ｑ _２ 及びＱ _３ はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ _１１ 、Ｒ _１２ 及びＲ _１３ はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン原子又は複素環基を表す。
＜７＞
温度２５℃、相対湿度６０％における、波長５５０ｎｍの面内方向のレターデーション値が−２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの厚さ方向のレターデーション値が−７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
＜８＞
温度２５℃、相対湿度６０％における、波長５５０ｎｍの面内方向のレターデーション値が２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの厚さ方向のレターデーション値が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
＜９＞
＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
＜１０＞
液晶セルと、＜９＞に記載の偏光板とを有する液晶表示装置。
＜１１＞
表示方式がＶＡ方式又はＩＰＳ方式である＜１０＞に記載の液晶表示装置。
＜１２＞
エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと、酸の作用により塩基を発生する化合物とを含有する組成物を用いて偏光板保護フィルムを製造する、偏光板保護フィルムの製造方法であって、
上記酸の作用により塩基を発生する化合物は、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、及び下記一般式（１）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、偏光板保護フィルムの製造方法。

一般式（１）中、Ｒ _１ 及びＲ _２ はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ _１ とＲ _２ とが結合して環を形成している。Ｒ _３ はアルキル基又はアリール基を表す。
＜１３＞
コア層とスキン層を有する偏光板保護フィルムの製造方法であって、
セルロースアシレートを含有するコア層形成用ドープと、セルロースアシレートを含有するスキン層形成用ドープとを共流延する工程を有し、
上記コア層形成用ドープ及び上記スキン層形成用ドープのいずれか少なくとも一方に、酸の作用により塩基を発生する化合物を含有する、偏光板保護フィルムの製造方法であって、
上記酸の作用により塩基を発生する化合物は、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、及び下記一般式（１）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、偏光板保護フィルムの製造方法。

一般式（１）中、Ｒ _１ 及びＲ _２ はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ _１ とＲ _２ とが結合して環を形成している。Ｒ _３ はアルキル基又はアリール基を表す。
なお、本発明は、上記＜１＞〜＜１３＞に係る発明であるが、以下、その他についても参考のため記載した。

［１］
エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと、酸の作用により塩基を発生する化合物とを含有する偏光板保護フィルム。
［２］
上記ポリマーは、（メタ）アクリル樹脂及びセルロースアシレートから選ばれる少なくとも一種である、［１］に記載の偏光板保護フィルム。
［３］
上記ポリマーはセルロースアシレートである、［１］又は［２］に記載の偏光板保護フィルム。
［４］
上記セルロースアシレートのアシル置換度が１．８〜３．０である、［３］に記載の偏光板保護フィルム。
［５］
上記酸の作用により塩基を発生する化合物は、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、アルキルオキシカルボニル保護アミン、及びアリールオキシカルボニル保護アミンから選ばれる少なくとも一種である、［１］〜［４］のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
［６］
上記酸の作用により塩基を発生する化合物は、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ_３はアルキル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ_１及びＲ_２の少なくとも一方は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_１とＲ_２とが結合して環を形成していてもよい。

一般式（２）中、Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ_６は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、又は下記一般式（Ｎ１）で表される基を表す。但し、Ｒ_４及びＲ_５の少なくとも一方は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_４とＲ_５とが結合して環を形成していてもよい。

一般式（Ｎ１）中、Ｒ_Ｎ１及びＲ_Ｎ２は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。＊は酸素原子に結合する結合手を表す。Ｒ_Ｎ１とＲ_Ｎ２とが結合して環を形成していても良い。

一般式（３）中、Ｒ_７〜Ｒ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ_７及びＲ_８の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ_９及びＲ_１０の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_７とＲ_８とが結合して環を形成していてもよい。Ｒ_９とＲ_１０とが結合して環を形成していてもよい。
［７］
更に、下記一般式（４）で表される化合物を含有する［１］〜［６］のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。

一般式（４）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に、−Ｎ−又は−ＣＨ−を表す。Ｑ_１、Ｑ_２及びＱ_３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ_１１、Ｒ_１２及びＲ_１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン原子又は複素環基を表す。
［８］
温度２５℃、相対湿度６０％における、波長５５０ｎｍの面内方向のレターデーション値が−２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの厚さ方向のレターデーション値が−７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、［１］〜［７］のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
［９］
温度２５℃、相対湿度６０％における、波長５５０ｎｍの面内方向のレターデーション値が２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの厚さ方向のレターデーション値が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、［１］〜［８］のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
［１０］
［１］〜［９］のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
［１１］
液晶セルと、［１０］に記載の偏光板とを有する液晶表示装置。
［１２］
表示方式がＶＡ方式又はＩＰＳ方式である［１１］に記載の液晶表示装置。
［１３］
エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと、酸の作用により塩基を発生する化合物とを含有する組成物を用いて偏光板保護フィルムを製造する、偏光板保護フィルムの製造方法。
［１４］
コア層とスキン層を有する偏光板保護フィルムの製造方法であって、
セルロースアシレートを含有するコア層形成用ドープと、セルロースアシレートを含有するスキン層形成用ドープとを共流延する工程を有し、
上記コア層形成用ドープ及び上記スキン層形成用ドープのいずれか少なくとも一方に、酸の作用により塩基を発生する化合物を含有する、偏光板保護フィルムの製造方法。

本発明によれば、高温高湿環境下であっても加水分解による性能の劣化が発生しにくく、かつ偏光子と貼り合わせて偏光板を作製した場合に、偏光度の低下を抑制できる偏光板保護フィルム、上記偏光板保護フィルムを含む偏光板及び液晶表示装置、並びに上記偏光板保護フィルムの製造方法を提供することができる。

以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの少なくとも一方を表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの少なくとも一種を表す。

［偏光板保護フィルム］
本発明の偏光板保護フィルムは、エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと、酸の作用により塩基を発生する化合物とを含有する偏光板保護フィルムである。

〔エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマー〕
エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーとしては、（メタ）アクリル樹脂、セルロースエステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネートなどが挙げられ、その中でも、（メタ）アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタラート、及びセルロースアシレートから選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、セルロースアシレートであることがより好ましい。

＜セルロースアシレート＞
セルロースアシレートは、セルロースとカルボン酸のエステルであり、カルボン酸としては、炭素原子数が２〜２２の脂肪酸が好ましく、炭素原子数が２〜４の低級脂肪酸であるセルロースアシレートが更に好ましく、炭素原子数が２のセルロースアセテートが最も好ましい。

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができ、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。

セルロースアシレートは、セルロースの水酸基にアシル基が置換したものであり、アシル基の炭素数は２〜２２が好ましい。炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、又は芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉ−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。更に好ましい基はアセチル基、プロピオニルで基あり、最も好ましい基はアセチル基である。

セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であることが好ましく、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法｛宇田和夫、斉藤秀夫、「繊維学会誌」、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁（１９６２年）｝により測定できる。この方法は特開平９−９５５３８号公報にも詳細に記載されている。
セルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（東ソー社製ＧＰＣ−８０２０（商品名））を用い、Ｎ-メチルピロリドンを溶剤として評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜４．０であることが好ましく、２．０〜４．０であることがさらに好ましく、２．３〜３．４であることが最も好ましい。

（セルロースアシレートのアシル置換度）
セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたものであり、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度の測定については、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭ Ｄ−８１７−９１に準じて実施することができる。
本発明の偏光板保護フィルムに含有されるポリマーがセルロースアシレートであるとき、セルロースアシレートの平均アシル置換度は１．８〜３．０であることが好ましく、２．０〜２．９であることがより好ましく、２．３〜２．９であることが更に好ましい。

＜（メタ）アクリル樹脂＞
「（メタ）アクリル系樹脂」は、「アクリル系樹脂」、「メタクリル系樹脂」のいずれでもよく、「アクリル系樹脂」と「メタクリル系樹脂」の共重合体であってもよく、さらに他の構造単位を含んでいてもよい。
（メタ）アクリル系樹脂としては、メチルメタクリレートに由来する構造単位を含むことが好ましく、メチルメタクリレート以外のアルキル（メタ）アクリレートに由来する構造単位を含んでいてもよいし、含んでいなくてもよい。
メチルメタクリレート以外のアルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル（好ましくはアルキル基の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート）；メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル（好ましくはアルキル基の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート）；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。

（メタ）アクリル系樹脂には、上記した以外の構成単位も含んでいてもよい。そのような構成単位としては、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられる。これらの構成単位は、１種類単独で（メタ）アクリル系樹脂に導入されていてもよいし、２種類以上が組み合わされて（メタ）アクリル系樹脂に導入されていてもよい。

（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量(Ｍｗ)は特に限定されないが、１５万〜２００万であることが好ましく、３０万〜２００万であることがより好ましく、３０万〜５０万であることが更に好ましい。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）により測定される重量平均分子量である。
１５万以上であれば、耐熱性及び機械特性に優れ、２００万以下であれば、金属支持体からの剥離性および有機溶媒の乾燥性に優れる。３０万以上であれば、さらに耐熱性及び機械特性に優れ、５０万以下であれば、さらに金属支持体からの剥離性および有機溶媒の乾燥性に優れる。

（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、ＧＰＣにより測定することができる。測定条件は以下のとおりである。
溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００〜２８０００００の範囲内の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

本発明の偏光板保護フィルム中におけるエステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーの含有量は、偏光板保護フィルムの全質量に対して、５０質量％以上１００質量％未満であることが好ましく、６５質量％以上１００質量％未満であることがより好ましく、８０質量％以上１００質量％未満であることがさらに好ましい。

〔酸の作用により塩基を発生する化合物〕
本発明の偏光板保護フィルムに含有される酸の作用により塩基を発生する化合物（「塩基発生剤」ともいう）は、それ自体は塩基性を有さないが、ごく少量の酸存在下で塩基発生剤の分解が促進されて、塩基を発生する化合物のことである。

上記塩基発生剤により本発明の効果が得られる機構について、以下のように推定される。本発明の偏光板保護フィルムには、エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーが含有されており、高温高湿環境下で上記エステル結合及び／又はアミド結合が加水分解してカルボン酸が発生する。一方、本発明の偏光板保護フィルムに含有されている塩基発生剤は、上記カルボン酸により分解が促進され、微量な塩基を放出する。その結果、塩基がカルボン酸を中和するため、偏光板保護フィルムの性能の劣化を抑制することができると考えられる。また、塩基発生剤はそれ自体が塩基性物質としては振舞わないため、偏光板の偏光度の低下を抑制できると考えられる。

塩基発生剤としては、特に限定されないが、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、アルキルオキシカルボニル化合物及びアリールオキシカルボニル化合物から選ばれる少なくとも一種であることが好ましく、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種であることがより好ましい。

一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ_３はアルキル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ_１及びＲ_２の少なくとも一方は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_１とＲ_２とが結合して環を形成していてもよい。

一般式（２）中、Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ_６は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、又は下記一般式（Ｎ１）で表される基を表す。但し、Ｒ_４及びＲ_５の少なくとも一方は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_４とＲ_５とが結合して環を形成していてもよい。

一般式（Ｎ１）中、Ｒ_Ｎ１及びＲ_Ｎ２は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。＊は酸素原子に結合する結合手を表す。Ｒ_Ｎ１とＲ_Ｎ２とが結合して環を形成していても良い。

一般式（３）中、Ｒ_７〜Ｒ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ_７及びＲ_８の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ_９及びＲ_１０の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_７とＲ_８とが結合して環を形成していてもよい。Ｒ_９とＲ_１０とが結合して環を形成していてもよい。

一般式（１）中、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、水素原子又はアルキル基を表すことが好ましい。
Ｒ_１及びＲ_２がアルキル基を表す場合、炭素数２〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数２〜１５のアルキル基がより好ましい。
Ｒ_１及びＲ_２がアリール基を表す場合、炭素数５〜２０のアリール基が好ましく、炭素数５〜１５のアリール基がより好ましい。

Ｒ_１とＲ_２とが結合して環を形成していてもよく、形成される環としては、炭素数５〜７の環が好ましく、たとえばピペリジン環が挙げられる。

一般式（１）中、Ｒ_３はアルキル基又はアリール基を表し、好ましい例はＲ_１及びＲ_２と同様である。

一般式（２）中、Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、好ましい例はＲ_１及びＲ_２と同様である。
Ｒ_４とＲ_５とが結合して環を形成していてもよく、形成される環としては、炭素数５〜７の環が好ましく、たとえばシクロヘキサン環やベンゼン環が挙げられる。
一般式（２）中、Ｒ_６は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、又は一般式（Ｎ１）で表される基を表す。
Ｒ_６がアルキル基又はアリール基を表す場合のアルキル基又はアリール基の好ましい例はＲ_１及びＲ_２と同様である。
Ｒ_６がアシル基を表す場合の好ましい例は上記アルキル基又はアリール基の好ましい例にカルボニル基が結合した基である。
Ｒ_６が置換基を有するアミド基を表す場合、炭素数２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましい。
一般式（Ｎ１）中、Ｒ_Ｎ１及びＲ_Ｎ２は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ_Ｎ１及びＲ_Ｎ２がアルキル基を表す場合、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１５のアルキル基がより好ましい。Ｒ_Ｎ１及びＲ_Ｎ２がアリール基を表す場合、炭素数５〜２０のアリール基が好ましく、炭素数５〜１５のアリール基がより好ましい。 Ｒ_Ｎ１とＲ_Ｎ２とが結合して環を形成していてもよく、形成される環としては、炭素数５〜７の環が好ましく、たとえばピペリジン環が挙げられる。

一般式（３）中、Ｒ_７〜Ｒ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、好ましい例はＲ_１及びＲ_２と同様である。Ｒ_７とＲ_８とが結合して環を形成していてもよく、また、Ｒ_９とＲ_１０とが結合して環を形成していてもよく、環としてはＲ_４とＲ_５とが結合して環を形成する場合の環と同様である。

一般式（１）〜（３）中のＲ_１〜Ｒ_１０、及びこれらが環を形成する場合の環は、置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、アルキル基、アリール基、水酸基、アシル基、アルキルエーテル基、アミノカルボニル基、イミノ基（−Ｎ＝ＣＲ^２１Ｒ^２２で表される基であり、Ｒ^２１及びＲ^２２は各々独立にアルキル基又はアリール基を表す。）、及びこれらの基を２種以上組み合わせた基が挙げられる。

塩基発生剤の分子量は、揮散抑制に優れ、透明性の高いフィルムを得る観点から、１００〜２０００がより好ましく、２００〜１２００が更に好ましく、３００〜８００が好ましい。

塩基発生剤が塩基を徐放していない状態でフィルム中に含まれるためには、外光によりエネルギーを吸収して、塩基が発生するのを抑制することが好ましく、具体的には、塩基発生剤をジクロロメタンなどの良溶剤で溶解させたときに、吸収の極大値が３００ｎｍ未満であることが好ましく、２８０ｎｍ未満であることがより好ましい。吸収の極大値が３００ｎｍ未満であると、外光により塩基発生反応が進行しにくく、偏光板保護フィルム中の塩基発生剤の残存量の低下を抑制できる。
塩基発生剤が発生する塩基の共役酸ｐＫａは、偏光板の偏光度の低下の抑制の観点から、４未満であることが好ましく、３未満であることがより好ましい、２未満であることがさらに好ましい。ｐＫａは公知の方法で測定でき、例えば、滴定法によって、室温下でＴＨＦ（テトラヒドロフラン）／水＝１／１（質量比）の混合溶媒を用いて測定することができる。

本発明の偏光板保護フィルム中における塩基発生剤の含有量は、エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマー１００質量部に対して、０．０１質量部以上、２質量部未満であることが好ましく、０．０５質量部以上１質量部未満であることがより好ましく、０．０５質量部以上０．５質量部未満であることがさらに好ましい

〔一般式（４）で表される化合物〕
本発明の偏光板保護フィルムは、更に、下記一般式（４）で表される化合物を含有することが好ましい。一般式（４）で表される化合物を含有することで、更に耐湿性を改良することができる。

一般式（４）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に、−Ｎ−又は−ＣＨ−を表す。Ｑ_１、Ｑ_２及びＱ_３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ_１１、Ｒ_１２及びＲ_１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン原子又は複素環基を表す。

Ｑ_１、Ｑ_２およびＱ_３が２価の連結基を表す場合、２価の連結基の具体例としては、−ＣＨ_２−、−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−＊、−Ｏ−、又はこれらの組み合わせを挙げることができる。＊は、Ｒ_１１、Ｒ_１２若しくはＲ_１３との結合位置、又はＲ_１１側、Ｒ_１２側若しくはＲ_１３側の結合位置を示す。

Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれアルキル基である場合、炭素原子数１〜２０であることが好ましく、炭素原子数１〜８であることがより好ましく、炭素原子数１〜４であることが特に好ましい。なお、Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれアルキル基である場合、１つ又は隣接しない２以上の炭素原子は、酸素原子、硫黄原子、及び窒素原子（−ＮＨ−又は−Ｎ（Ｒ）−（Ｒは炭素原子数１〜８のアルキル基）を含む）から選択されるヘテロ原子に置き換えられていてもよい。例えば、Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３はそれぞれ、アルキレン（例えば、エチレン、プロピレン）オキシ基であってもよい。
Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれアルケニル基である場合、炭素原子数２〜２０であることが好ましく、炭素原子数２〜８であることがより好ましく、炭素原子数２〜４であることが特に好ましい。
Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれアルキニル基である場合、炭素原子数２〜２０であることが好ましく、炭素原子数２〜８であることがより好ましく、炭素原子数２〜４であることが特に好ましい。

Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれアリール基である場合、炭素原子数６〜２４であることが好ましく、炭素原子数６〜１８であることがより好ましく、炭素原子数６〜１０であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。具体的にはフェニル基、１−ナフチル基又は２−ナフチル基が好ましく、フェニル基が特に好ましい。
Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子であることが好ましい。
Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれ複素環基である場合、炭素原子数４〜２０であることが好ましく、炭素原子数４〜１０であることがより好ましく、炭素原子数４〜６であることが湿度依存性改良の観点から特に好ましい。具体的には、ピロリル基、ピロリジノ基、ピラゾリル基、ピラゾリジノ基、イミダゾリル基、ピペラジノ基、モルホリノ基を挙げることができる。

Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３はそれぞれ連結して環を形成してもよい。形成される環は、炭化水素環であっても、複素環であってもよい。５員環又は６員環であるのが好ましい。

Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３はそれぞれ、可能であれば、さらに１以上の置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。Ｒ_１１、Ｒ_１２およびＲ_１３がそれぞれ有していてもよい置換基の例としては、以下の置換基群Ｔが含まれる。
置換基群Ｔ：
アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、及びシリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）。
これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が２つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（４）において、Ｘが−ＣＨ−であり、Ｙが−Ｎ−であることが好ましく、またＱ_１およびＱ_２が−ＣＯ−であることが好ましい。一般式（４）において、Ｘが−ＣＨ−であり、Ｙが−Ｎ−であり、かつＱ_１およびＱ_２が−ＣＯ−であることがさらに好ましい。

一般式（４）で示される化合物の具体例としては以下の化合物Ｐ１〜Ｐ１８が挙げられる。

一般式（４）で示される化合物は、例えば、ＷＯ２０１２／０７４０５０号公報に記載の方法に準じて合成することができる。
本発明の偏光板保護フィルムにおける一般式（４）で示される化合物の含有量は特に限定されないが、好ましくは、偏光板保護フィルム全質量に対し、１質量％以上１５質量％以下であり、より好ましくは２質量％以上１０質量％以下であり、最も好ましくは２質量％以上９質量％以下である。

（偏光板保護フィルムのレターデーション）
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内方向のレターデーション及び厚さ方向のレターデーションを表す。ＲｅはＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈは上記Ｒｅ、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、Ｒｅ＝（ｎｘ―ｎｙ）×ｄであり、Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄである。ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）である。

本発明の偏光板保護フィルムは、様々な表示方式の液晶表示装置に用いることができるが、特に、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式又はＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶表示装置に用いる場合には、温度を２５℃、相対湿度を６０％、測定波長を５５０ｎｍとして計測した面内方向のレターデーション値（Ｒｅ（５５０））が−２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーション値（Ｒｔｈ（５５０））が−７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。また、ＶＡ方式の液晶表示装置に用いる場合には、温度を２５℃、相対湿度を６０％、測定波長を５５０ｎｍとして計測したＲｅ（５５０）が２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、Ｒｔｈ（５５０）が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることがより好ましい。
Ｒｅ及びＲｔｈが上記範囲を満たすことにより、本発明の偏光板保護フィルムを液晶表示装置に使用した際に、正面から見たときの光漏れ、斜めから見たときの光漏れがいずれも視認しにくくなる効果が得られる。
上述の通り、本発明の偏光板保護フィルムは、光学特性を制御することにより、位相差フィルムとしても用いることができ、ＶＡ方式の液晶表示装置用の位相差フィルム、又はＩＰＳ方式の液晶表示装置用の位相差フィルムとして用いることが好ましい。

本発明の偏光板保護フィルムの膜厚は２０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以上８０μｍ以下であることがより好ましい。特にＶＡ液晶表示装置に用いられる場合は３０μｍ以上５５μｍ以下であることが更に好ましい。また、ＩＰＳ液晶表示装置に用いられる場合は２０μｍ以上４５μｍ以下であることが更に好ましい。
また、本発明の偏光板保護フィルムの層構成は特に限定されず、単層でもよいし、たとえばコア層とスキン層からなる複数の層を有していてもよい。
スキン層の厚みは０．３〜５μｍであることが好ましく、０．３〜３μｍであることがより好ましく、０．３〜２μｍであることが更に好ましい。
スキン層の厚みは、ＦＥ３０００（大塚電子株式会社製）を用いて測定する。
コア層の厚みは、触針式膜厚計で全層の厚みを測定し、スキン層の厚みを差し引いて算出する。コア層の好ましい厚みは上記好ましい全層厚みから好ましいスキン層厚みを差し引いた値と一致する。
また、別途、機能性層を積層してもよく、たとえば位相差層、ハードコート層、防眩層、反射防止層などが挙げられる。

〔添加剤〕
本発明では偏光板保護フィルムの添加剤として、公知の添加剤を用いることができ、具体的には、レターデーション制御剤・調整剤、劣化防止剤、紫外線防止剤、剥離促進剤、可塑剤、赤外線吸収剤、マット剤等を挙げることができる。

［偏光板保護フィルムの製造方法］
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、特に限定されない。たとえば、エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと酸の作用により塩基を発生する化合物を含有し、必要により溶剤やその他の添加剤を含有する組成物（溶液の場合はドープともいう）を公知のポリマーフィルムの製膜方法を用いて製膜して製造することができる。
以下、セルロースアシレートを用いた場合の偏光板保護フィルムの製造方法を例として記載する。

（ドープの調製）
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、コア層形成用ドープ及びスキン層形成用ドープを用いて共流延によりフィルムを製造することもできる。
有機溶剤としては、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル及び炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶剤を含むことが好ましい。エーテル、ケトン及びエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトン及びエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−及びＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶剤として用いることができる。有機溶剤は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶剤の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール及びフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート及びペンチルアセテートが含まれる。
２種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノール及び２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１又は２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。

ドープの調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法及び装置を用いて実施することができる。
ドープは、常温（０〜４０℃）でポリマーと有機溶剤とを攪拌することにより調製することができる。高濃度のドープは、加圧及び加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、ポリマーと有機溶剤とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶剤の常温における沸点以上、かつ溶剤が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

（共流延）
共流延法は、ドラム又はバンド上に、各層（２層あるいはそれ以上でもよい）各々の層形成用ドープを別のスリットなどから同時に押出して流延用ギーサからドープを押出して、各層同時に流延し、適当な時期に支持体から剥ぎ取って、乾燥しフィルムを成形する流延法である。また、逐次共流延してもよい。
ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延及び乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。

本発明の偏光板保護フィルムの好ましい態様としては、
コア層とスキン層を有する偏光板保護フィルムの製造方法であって、
セルロースアシレートを含有するコア層形成用ドープと、セルロースアシレートを含有するスキン層形成用ドープとを共流延する工程を有し、
上記コア層形成用ドープ及び上記スキン層形成用ドープのいずれか少なくとも一方に、酸の作用により塩基を発生する化合物を含有する、偏光板保護フィルムの製造方法である。

コア層形成用ドープの固形分濃度は１２〜２５質量％が好ましく、１５〜２５質量％がより好ましい。
スキン層形成用ドープの固形分濃度は１２〜２５質量％が好ましく、１２〜２０質量％がより好ましい。

［偏光板］
本発明の偏光板は、本発明の偏光板保護フィルムと、偏光子とを含む。偏光子としては公知の偏光子を用いることができ、典型的にはヨウ素により染色されたポリビニルアルコールフィルムである。

［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、上記本発明の偏光板とを含む。また、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を含む液晶表示装置であって、上記偏光板のうち少なくとも１枚が本発明の偏光板であることがより好ましい。
本発明の偏光板保護フィルム、及び上記偏光板保護フィルムを用いた偏光板は、様々な表示モードの液晶セル、液晶表示装置に用いることができ、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示方式が提案されている。
本発明の液晶表示装置は、液晶セルが、ＶＡ方式又はＩＰＳ方式の液晶セルであることが好ましく、ＶＡ方式の液晶セルであることが特に好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
なお、実施例１、９、１５は、それぞれ参考例１、９、１５と読み替えるものとする。

［実施例１〜１７、比較例１〜４のフィルムの作製（ＶＡモードの液晶用位相差フィルムの作製）］
使用したセルロースアシレート１〜５のアシル置換度（Ａｃ置換度）及びプロピオニル置換度（Ｐｒ置換度）を下記表２に示す。

［実施例１〜１７、比較例１〜４］
＜ドープの調製＞
下記表４に記載した成分を溶剤とともにミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層形成用ドープ及びスキン層形成用ドープを調製した。
なお、溶剤としては、メチレンクロライド／メタノールを質量比で８７／１３で混合した溶剤を用い、コア層形成用ドープは固形分濃度が２０質量％に、スキン層形成用ドープは固形分濃度が１６質量％になるようにそれぞれ調整した。

Ｇｅｎ１〜７は、酸の作用により塩基を発生する化合物であり、吸収の極大値は全て２８０ｎｍ以下であった。特に、Ｇｅｎ１〜４、及び６の吸収極大は２５０ｎｍ以下であり、良好な性質を有していた。また、発生する各々の塩基の共役酸のｐＫａは全て４未満であった。

（マット剤分散液Ｍ１の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、撹拌して各成分を溶解し、マット剤分散液Ｍ１を調製した。
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子 ２．０質量部
（ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
メチレンクロリド ７６．１質量部
メタノール １１．４質量部
スキン層形成用ドープ １２．６質量部

（スキン層形成用ドープの調製）
上記にて調製したスキン層形成用ドープに、マット剤分散液Ｍ１を以下に示した割合で混合し、流延支持体側スキン層形成用ドープを調製した。
スキン層形成用ドープ １００．０質量部
マット剤分散液Ｍ１ ７．１質量部

＜偏光板保護フィルムの製膜＞
（流延）
上記で調製したドープ溶液を表４に記載した組み合わせで用いて、バンド流延機により流延した。この際、流延支持体側から、流延支持体側スキン層形成用ドープ、コア層形成用ドープ、スキン層形成用ドープとなるように共流延した。
ドープ溶液を流延する際は、走行するバンドの上に、流延ダイからドープを共流延した。ここで、各ドープの流延量を調整することにより、コア層を最も厚くし、結果的に延伸後のフィルムの膜厚及びスキン層の層厚が下記表４に示す値となるように同時多層共流延した流延膜を形成させた。
但し、実施例８及び１７は共流延せずに、コア層形成用ドープを単独で流延し、表４に示したフィルム全体の膜厚となるように流延膜を形成させた。

次に、この流延膜を流延バンドから剥ぎ取り、湿潤フィルムとした後、渡り部及びテンターで乾燥させてフィルムとした。ドープを剥ぎ取った直後の残留溶媒量は約２５質量％であった。フィルムを乾燥室に送り、多数のローラに巻き掛けながら搬送する間に乾燥を十分に促進させた。

（延伸）
流延して得られたフィルムを、クリップで把持し、固定端一軸の条件で横方向に延伸した。延伸温度及び延伸倍率は下記表４に記載の通りとした。
なお、延伸倍率は下記式で求められる。
延伸倍率＝（延伸後のフィルム長−延伸前のフィルム長さ）／延伸前のフィルム長さ×１００（％）

（湿熱処理）
延伸処理を経た各フィルムに、結露防止処理、湿熱処理（水蒸気接触処理）及び熱処理を順次行った。
結露防止処理では、各フィルムに乾燥空気をあてて、フィルム温度Ｔｆ０を１２０℃に調節した。
湿熱処理（水蒸気接触処理）では、湿潤気体接触室内の湿潤気体の絶対湿度（湿熱処理絶対湿度）が２５０ｇ／ｍ^３となるように、そして、湿潤気体の露点は、各フィルムの温度Ｔｆ０よりも１０℃以上高い温度となるように調節し、各フィルムの温度（湿熱処理温度）が１００℃となる状態を、処理時間（６０秒）だけ維持しながら、各フィルムを搬送した。

熱処理では、熱処理室内の気体の絶対湿度（熱処理絶対湿度）を０ｇ／ｍ^３とし、各フィルムの温度（熱処理温度）を湿熱処理温度と同じ温度に設定して、処理時間（２分）だけ維持した。フィルム表面温度は、テープ型熱電対表面温度センサー（安立計器（株）製ＳＴシリーズ）をフィルムに３点貼り付け、それぞれの平均値から求めた。

（巻き取り）
その後、室温まで冷却した後で各フィルムを巻き取り、実施例１〜１７及び比較例１〜４の偏光板保護フィルムを得た。

［実施例１８］
＜実施例１８用ドープの調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、さらに９０℃に約１０分間加熱した後、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した。

セルロースアシレート５ １００．０質量部
オリゴマー３ １５質量部
Ｇｅｎ３ ０．２質量部
メチレンクロライド ４５１．０質量部
メタノール ３９．０質量部

（マット剤分散液２の調製）
実施例１８用のドープを含む下記組成物を分散機に投入し、マット剤分散液を調製した。
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子 ０．２質量部
（ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
メチレンクロライド ７２．４質量部
メタノール １０．８質量部
実施例１８用ドープ １０．３質量部

（製膜用ドープの調製）
実施例１８用ドープを１００質量部、マット剤分散液２をセルロースアシレートに対してシリカ粒子が０．２０質量部となる量を混合し、製膜用ドープを調製した。

＜偏光板保護フィルムの製膜＞
（流延）
上記製膜用ドープを、バンド流延機を用いて流延し、流延膜を形成した。

（乾燥）
流延膜をバンドから剥離後、クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いてテンター装置内で１００℃にて、２０分間乾燥した。
その後、さらに乾燥温度１２０℃で乾燥ゾーン中を搬送し、フィルムを乾燥させた。
なお、ここでいう乾燥温度とは、フィルムの膜面温度のことを意味する。

（巻き取り）
その後、室温まで冷却した後で各フィルムを巻き取り、ロール幅１３４０ｍｍ、ロール長２６００ｍｍのロールを作製した。完成した偏光板保護フィルムの膜厚は４０μｍであった。

［実施例１９（位相差フィルムの作製）］
各成分の添加量、延伸条件を下記表４のように変更した以外は、実施例１と同様にして偏光板保護フィルムを作製した。この偏光板保護フィルムの膜厚は４０μｍであった。実施例１９では、この偏光板保護フィルムを支持体として使用し、この支持体上に位相差層を設けて、位相差フィルムを作製した。

＜位相差フィルムの作製＞
（鹸化処理）
上記で作製した支持体を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（液温５５℃）に３分間浸漬した。その後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、支持体の表面の鹸化処理を行った。

（アクリル系樹脂含有層の形成）
アクリル系混合物（下記ＡＣＲ１：下記ＡＣＲ２＝６７：３３ 質量比）１００質量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ製イルガキュア（登録商標）１２７）４質量部、およびＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）／酢酸メチル（＝３０：７０質量比）溶剤を混合し、２０質量％になるようにアクリル系樹脂含有層形成用組成物を調製した。調製した組成物を、上記支持体表面に＃１．６のワイヤーバーコーターで塗布した、６０℃で０．５分乾燥後、アクリル系混合物の架橋のために、１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、３０℃３０秒間紫外線照射した。形成されたアクリル系樹脂含有層の膜厚は０．５μｍであった。

ＡＣＲ１：日油（株）製ブレンマー（登録商標）ＧＬＭ（下記構造の化合物）

ＡＣＲ２：日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ３０（下記構造の化合物（ペンタエリスリトールトリアクリレート／ペンタエリスリトールテトラアクリレート）の混合物）

（位相差層の形成）
上記で形成したアクリル系樹脂含有層表面に、混合液晶（下記Ｂ０１：下記Ｂ０２＝９０：１０ 質量比）１．８ｇ、光重合開始剤（ＢＡＳＦ製イルガキュア９０７）０．０６ｇ、増感剤（日本化薬（株）製カヤキュアー（登録商標）ＤＥＴＸ）０．０２ｇ、垂直配向剤（下記Ｓ０１）１０．００２ｇを９．２ｇのメチルエチルケトン／シクロヘキサノン（＝８６／１４ 質量比）に溶解した溶液を、＃３．２のワイヤーバーコーターで塗布し塗布層を形成した。こうしてアクリル系樹脂含有層表面に塗布層を形成した支持体を金属の枠に貼り付けて、１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向（ホメオトロピック配向）させた。次に、５０℃に冷却した後に、窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度１９０ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させた。その後、室温まで放冷した。
こうして、支持体（偏光板保護フィルム）上にアクリル系樹脂含有層を介して位相差層を有する位相差フィルムを得た。

［実施例２０、比較例５のフィルムの作製（アクリルフィルムの溶液製膜）］
（メタ）アクリル樹脂として、メチルメタアクリレートに由来する繰り返し単位：メチルアクリレートに由来する繰り返し単位がモル比で９７：３であり、Ｍｗが３０万のポリマーを用いた。
（ドープの調製）
還流設備とパドル式撹拌翼を備えたステンレス製の容器に、良溶媒としてメチレンクロライドを８４質量部投入し、そこへ乾燥した上記（メタ）アクリル樹脂を２１．９５質量部投入して溶解し、さらに、貧溶媒としてｎ−ブタノールを１６質量部投入して撹拌し、（メタ）アクリル樹脂１００質量部に対して、１質量部のＧｅｎ２を添加し、ドープを作製した。ドープ中の（メタ）アクリル樹脂の濃度は１８質量％である。
（製膜）
上記作製したドープを、濾過器に通し異物を除去した後、流延ダイに送り、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体（金属支持体）に均一に流延した（工程１）。
ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が４５％になるまで溶媒を蒸発させ、張力が１６２Ｎ／ｍとなるように剥離速度を調整しながらステンレスバンド支持体上から剥離した（工程２）。上記残留溶媒は、剥離したウェブから試料を採取し、（ウェブを剥離したときの有機溶媒量の測定）の項に記載の方法により求めた。
剥離した（メタ）アクリル樹脂のウェブを３５℃で溶媒を蒸発させながら縦延伸装置で延伸した。１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の温度で乾燥させた（工程３）。
テンターで延伸後、テンターで把持しながら１３０℃で５分間緩和を行った（工程３）後、ウェブをテンターから解放し、始めに１２０℃の乾燥ゾーン、次に１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら通し乾燥を終了させた（工程４）。ウェブが始めの乾燥ゾーンに入る前のサンプルと次の１４０℃の乾燥ゾーンから出てきたサンプルを採取し、溶媒量を測定した。乾燥工程前の良溶媒量は４質量％であり、乾燥工程後の良溶媒量は０．１質量％であった。
乾燥後、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ５μｍのナーリング加工を施し、初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍで内径１５．２４ｃｍコアに巻取り、膜厚４０μｍの（メタ）アクリル樹脂フィルムを得た。
ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向（縦方向）の延伸倍率は１．１倍であった。得られたフィルムの膜厚は４０μｍ、巻長は４０００ｍであった。このフィルムを実施例２０の偏光板保護フィルムに用いた。また、ドープの調製においてＧｅｎ２を添加しなかったこと以外は実施例２０と同様にして比較例５の偏光板保護フィルムを得た。

次に、偏光板を作製するために、上記で作製した偏光板保護フィルムとは別の面に使用する保護フィルムを作製した。
＜偏光子の視認側に配置される保護フィルムの作製＞
（第一スキン層及び第二スキン層用セルロースエステル溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、第一スキン層及び第二スキン層用セルロースエステル溶液を調製した。

セルロースアシレート５ １００質量部
糖エステル化合物Ｓ２ ３質量部
糖エステル化合物Ｓ３ １質量部
紫外線吸収剤 ２．４質量部
シリカ粒子分散液（平均粒径２０ｎｍ） ０．０７８質量部
（ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標）Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製
メチレンクロライド ３３９質量部
メタノール ７４質量部
ブタノール ３質量部

（コア層用セルロースエステル溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、コア層用セルロースエステル溶液を調製した。

コア層用セルロースエステル溶液の組成
セルロースエステル（アセチル置換度２．８６） １００質量部
上記糖エステル化合物Ｓ２ ７．７質量部
上記糖エステル化合物Ｓ３ ２．３質量部
紫外線吸収剤 ２．４質量部
メチレンクロライド ２６６質量部
メタノール ５８質量部
ブタノール ２．６質量部

（共流延による製膜）
流延ダイとして、共流延用に調整したフィードブロックを装備して、３層構造のフィルムを成形できるようにした装置を用いた。上記第一スキン層用セルロースエステル溶液、コア層用セルロースエステル溶液、及び第二スキン層用セルロースエステル溶液を流延ダイから−７℃に冷却した直径３ｍのドラム（鏡面ステンレス支持体）上に共流延し、ドラム上で３４℃の乾燥風を２７０ｍ^３／分で当てた。このとき、厚さの比が第一スキン層／コア層／第二スキン層＝５／５３／２となるように各ドープの流量を調整した。
そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースエステルフィルムをドラムから剥ぎ取った後、両端をピンテンターでクリップした。剥離の際、搬送方向（ＭＤ方向）に５％の延伸を行った。

ピンテンターで保持されたセルロースエステルウェブを乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では４５℃の乾燥風を送風し、次に１１０℃で５分乾燥した。このとき、セルロースエステルウェブを搬送方向に直交する方向（ＴＤ方向）に延伸率を１０％で延伸しながら搬送した。
ピンテンターからウェブを離脱させたあと、ピンテンターで保持されていた部分を連続的に切り取り、ＭＤ方向に２１０Ｎのテンションをかけながら１４５℃で１０分乾燥した。さらに、ウェブが所望の幅になるように幅方向端部を連続的に切り取り、ウェブの幅方向両端部に１５ｍｍの幅で１０μｍの高さの凹凸をつけて、膜厚６０μｍのフィルムを作製し、保護フィルムＡとした。

＜防眩層用塗布液の作製＞
（合成スメクタイトの合成）
１０Ｌのビーカーに水４Ｌを入れ、３号水ガラス（ＳｉＯ_２２８％、Ｎａ_２Ｏ９％、モル比３．２２）８６０ｇを溶解し、９５質量％硫酸１６２ｇを撹拌しながら一度に加えてケイ酸塩溶液を得た。次に水１ＬにＭｇＣｌ_２・６Ｈ_２Ｏ一級試薬（純度９８％）５６０ｇを溶解し、これを上記のケイ酸塩溶液に加えて均質混合溶液を調製した。これを２モル／ＬのＮａＯＨ水溶液３．６Ｌ 中に撹拌しながら５分間で滴下した。
得られたケイ素・マグネシウム複合体（コロイド粒子の凝集体となっている均質複合物）よりなる反応沈殿物を、直ちに日本ガイシ（株）製のクロスフロー方式による濾過システム［クロスフロー濾過器（セラミック膜フィルター：孔径２μｍ、チューブラータイプ、濾過面積４００ｃｍ^２）］で濾過及び充分に水洗した後、水２００ｍｌとＬｉ（ＯＨ）・Ｈ_２Ｏ １４．５ｇとよりなる溶液を加えてスラリー状とした。これをオートクレーブに移し、４１ｋｇ／ｃｍ^２、２５０℃で３時間、水熱反応させた。冷却後反応物を取出し、８０℃で乾燥し、粉砕して、スメクタイトの１種であるヘクトライトの組成を有し、下記式で示される合成スメクタイトを得た。
Ｎａ_０．４Ｍｇ_２．６Ｌｉ_０．４Ｓｉ_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２

（スメクタイト型粘土有機複合体１の合成）
上記で得られた合成スメクタイト２０ｇを、水道水１０００ｍｌに分散させた。この分散液に、４級アンモニウム塩であるトリオクチル・メチル・アンモニウムクロライドの８０質量％含有品を純水に１１．１ｇ（トリオクチル・メチル・アンモニウムクロライドとして２．２ミリモル）溶解した溶液３００ｍｌを添加し、撹拌しながら室温（２５℃）で２時間反応させた。次いで生成物を固液分離し、洗浄して副成塩類を除去した後、乾燥、粉砕し、スメクタイト型粘土有機複合体１を得た。

〔防眩層用塗布液の調製〕
防眩層用塗布液の組成：
スメクタイト型粘土有機複合体１ １．２０質量部
樹脂粒子 ８．００質量部
ＰＥＴ−３０ ９０．６５質量部
Ｉｒｇ９０７ ３．００質量部
ＳＰ−１３ ０．１５質量部
アジスパーＰＢ８８１ ０．３０質量部

上記成分をＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）：ＭＥＫ（メチルエチルケトン）［＝８５：１５ 質量比］の混合溶媒と混合した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液を調製した。塗布液の固形分濃度は３５質量％である。なお、塗布液の調製に際して、樹脂粒子及びスメクタイト型粘土有機複合体は分散液の状態で添加したが、上記防眩層用塗布液の組成において、樹脂粒子、及びスメクタイト型粘土有機複合体１はそれぞれ、固形分量として記載した。

（樹脂粒子分散液の調製）
樹脂粒子分散液は、攪拌しているＭＩＢＫ溶液中に分散液の固形分濃度が３０質量％になるまで樹脂粒子を徐々に加え、３０分間攪拌して調製した。
樹脂粒子は透光性であり、平均粒径２．５μｍ及び屈折率１．５２となるように、スチレン、メチルメタアクリレートの共重合比を適宜変化させて調製した架橋スチレン−メチルメタアクリレート共重合体粒子を使用した（積水化成品工業（株）製）。

（スメクタイト型粘土有機複合体１の分散液の調製）
スメクタイト型粘土有機複合体１の分散液は、最終的に防眩層用塗布液に使用される全てのＭＥＫ中に攪拌しながらスメクタイト型粘土有機複合体１を徐々に加え、３０分間攪拌して調製した。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
Ｉｒｇ９０７：アセトフェノン系光重合開始剤［ＢＡＳＦ製］
アジスパーＰＢ８８１：味の素ファインケミカル社製 高分子顔料分散剤
ＳＰ−１３：以下のフッ素系界面活性剤（６０：４０（モル比））

Ｍｗは重量平均分子量を示す。

（防眩層の塗設）
保護フィルムＡの製膜時に空気界面側であった面に５．５μｍの膜厚となるように防眩層を塗設し、保護フィルムＢを作製した。
具体的には、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で上記防眩層用塗布液を塗布し、８０℃で１５０秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させて防眩層を形成した後、巻き取って防眩層が設けられた保護フィルムＢを作製した。

＜偏光板の作製＞
ロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥し、偏光子を得た。
また、ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３質量％水溶液を接着剤として、アルカリ鹸化処理（５０℃、２ｍｏｌ％の水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥した）した実施例１〜２０、及び比較例１〜５の偏光板保護フィルムと保護フィルムＢを用意し、偏光板保護フィルムと保護フィルムＢとを偏光子を挟んで貼り合わせ、偏光板を得た。なお、実施例１〜１８、２０及び比較例１〜５の偏光板保護フィルムについては、製膜したときに空気界面側だった面を偏光子側となるように配置し、実施例１９の位相差フィルム、及び保護フィルムＢについては、塗布層を塗設していない面を偏光子側となるように配置して、実施例１〜２０、比較例１〜５のフィルム、偏光子、保護フィルムＢをこの順に貼り合わせた。この際、実施例１〜２０、比較例１〜５のフィルム、及び保護フィルムのＭＤ方向が、偏光子の吸収軸と平行になるように貼り付けた。

［実施例１〜２０及び比較例１〜５の偏光板保護フィルム及び偏光板の評価］
各フィルム及び偏光板について、以下に示す評価項目により性能を評価した。評価結果を下記表５及び６に示す。

《偏光板保護フィルムのレターデーション》
面内方向のレターデーションＲｅと厚さ方向のレターデーションＲｔｈは、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、温度を２５℃、相対湿度を６０％、測定波長を５５０ｎｍとして測定した。但し、実施例１９については、塗布層（位相差層）を塗設後に測定した。

《バンドからの剥ぎ取り性》
各フィルムについて、下記の評価方法に基づいてバンドからの剥ぎ取り性（剥離性）を評価した。以下に示す剥ぎ取り性の評価結果が１〜２であれば実用上問題ないレベルで使用することができる。
（剥ぎ取り性の評価基準）
１：剥離性が非常に良く、剥離後にフィルムに光学的なムラがほとんど視認できなかった。
２：剥離でき、剥離後にフィルムに段状の膜厚ムラは無いが、光学的なムラが視認できた。
３：剥離性が非常に悪く、段状の膜厚ムラに加え剥離時にフィルムが部分的に伸張された。

《高温高湿保管後の粘度変化率》
各実施例及び比較例の偏光板について、実施例１〜１９、比較例１〜４は８５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００時間保管し、実施例２０、比較例５は９０℃、相対湿度９０％の環境下で１０００時間保管して、保管後に６０℃の温水に２４時間浸漬し、各偏光板を取り出し、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）溶液として、粘度測定を実施した。溶液はポリマーのさらなる分解を防ぐために、測定直前まで５℃以下に保持した。各サンプルの１ｗ／ｖ％ＴＦＡ溶液を調製し、ウベローデ型粘度計粘度計（３０℃の純水の流下時間３０秒のもの）を用いて測定した。
粘度変化率はＴＦＡの流下時間（Ｔｓ）、高温高湿保管後のフィルムの流下時間（Ｔａ）、高温高湿保管前のフィルムの流下時間（Ｔｂ）を用いて以下のように表した。以下に示す粘度変化率の評価結果が１〜３であれば、実用上問題ないと判断することができる。
（粘度変化率の評価基準）
（粘度変化率）＝１００×（Ｔａ−Ｔｓ）／（Ｔｂ−Ｔｓ）
１：粘度変化率≧９５％
２：９５％＞粘度変化率≧９０％
３：９０％＞粘度変化率≧７５％
４：粘度変化率＜７５％

《高温低湿保管後の光学特性変化量α》
各実施例及び比較例の各偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）をそれぞれ２枚ずつ作成した。この際、上記作製した実施例、比較例の偏光板保護フィルムがガラス側になるように貼り付けた。これら２枚のサンプルを、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２４時間調湿し、その後、ガラス側を光源に向けてセットして、実施例、比較例の偏光板保護フィルムのＲｔｈ（波長５５０ｎｍ）を分離計測した。ここで、分離計測とは、偏光板の形態で光学特性を測定し、ガラス側に貼り付けた偏光板保護フィルムの光学特性を解析により分離して計測する手法である。２つのサンプルをそれぞれ測定し、初期のＲｔｈ（５５０）の値とした。
その後、２枚のサンプルを、８０℃乾燥の環境下で１０００時間保存し、さらにその後２５℃、相対湿度６０％の環境下で２４時間調湿後に、同様の手法で、各フィルムのＲｔｈ（波長５５０ｎｍ）を分離計測し、それぞれの経時後のＲｔｈ（５５０）の値とした。光学特性の分離計測にはＡｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いた。また、８０℃乾燥（相対湿度１０％以下）環境での経時にはヤマト科学株式会社製 送風定温恒温器ＤＮ６４を用いた。２枚の偏光板で下記式に沿ってそれぞれαを算出して、その平均値をその実施例、比較例のフィルムの値とした。以下の基準で評価した。以下に示す変化量の評価結果が１〜２であれば、実用上問題ないと判断することができる。
（高温低湿保管後の光学特性変化量αの評価基準）
α＝［経時後のＲｔｈ（５５０）−初期のＲｔｈ（５５０）］／初期のＲｔｈ（５５０）
１：αが０．１０以下
２：αが０．１０より大きく０．２０以下
３：αが０．２０より大きい

《高温高湿保管後の光学特性変化量β》
各実施例及び比較例の偏光板について、温度２５℃、相対湿度６０％で２４時間調湿後に、温度２５℃、相対湿度６０％環境下でＡｘｏｓｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）を用いて、５５０ｎｍで光学特性（初期Ｒｔｈ）を測定した。その後、実施例１〜１９、比較例１〜４は温度８５℃、相対湿度８５％の環境下で１０００時間保管し、実施例２０、比較例５は温度９０℃、相対湿度９０％の環境下で１０００時間保管して、保管後に全てのサンプルを再び温度２５℃、相対湿度６０％で２４時間調湿後、温度２５℃、相対湿度６０％環境下で光学特性（高温高湿保管後のＲｔｈ）を測定し、下記式に表されるβを求めた。なお、上述のように実施例、比較例の偏光板保護フィルムのＲｔｈ（波長５５０ｎｍ）を分離計測した。以下に示す高温高湿保管後の光学特性変化量βが１〜３であれば、実用上問題ないと判断することができる。
（高温高湿保管後の光学特性変化量βの評価基準）
β＝（高温高湿保管後のＲｔｈ）−（初期Ｒｔｈ）
１：βが１０ｎｍ以下
２：βが１０ｎｍより大きく２５ｎｍ以下
３：βが２５ｎｍより大きく５０ｎｍ以下
４：βが５０ｎｍより大きい

《高温高湿保管後の偏光度の変化ΔＴｃ》
各実施例及び比較例の偏光板について、波長７３０ｎｍにおける偏光子の直交透過率Ｔｃ（７３０）を下記の方法で測定した。
偏光板の直交透過率Ｔｃ（７３０）は、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて、以下の方法により波長７３０ｎｍで測定した。
一般に、直交透過率は、
（Ａ）偏光板を二枚用いて、偏光子の吸収軸を直交に配置して測定する測定方法と、
（Ｂ）偏光板を一枚用いて、装置付属のグランテーラプリズムの吸収軸と一枚の偏光板の偏光子吸収軸とを直交に配置して測定する測定方法との２種類の測定方法により測定することができる。ここでは、上記（Ａ）および（Ｂ）の測定方法のうち、（Ｂ）の測定方法を採用した。
偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成した。この際、上記作成した実施例、比較例のフィルムがガラス側になるように貼り付けた。２５℃、相対湿度６０％の環境下で２４時間調湿後にこのサンプルのガラスの側を光源に向けてセットして直交透過率を測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を直交透過率とした。
その後、８５℃、相対湿度８５％の環境下で７２時間保存し、さらにその後、２５℃、相対湿度６０％の環境下で２４時間調湿後に同様の手法で直交透過率を測定した。経時前後の直交透過率の変化量ΔＴｃ（７３０）を求め、以下の基準により評価し、これを高温高湿保管後の偏光度の変化（偏光子耐久性）とした。以下に示す偏光性能変化の評価結果が１〜３であれば、実用上問題ないと判断することができる。
（高温高湿保管後の偏光度の変化の評価基準）
１：波長７３０ｎｍの直交透過率変化が０．３％未満
２：波長７３０ｎｍの直交透過率変化が０．３％以上０．５％未満
３：波長７３０ｎｍの直交透過率変化が０．５％以上１．０％未満
４：波長７３０ｎｍの直交透過率変化が１．０％以上

下記表４において、添加剤の添加量の単位は各層のセルロースアシレート１００質量部に対する質量部である。

上記結果より、実施例の偏光板保護フィルム及びこれを用いて作製した偏光板は、ポリマーの加水分解を抑制することができるので、フィルムの光学特性の低下を防止することができると共に、偏光板を作製した場合に偏光度の低下を抑制することができた。

Claims (13)

1. エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと、酸の作用により塩基を発生する化合物とを含有する偏光板保護フィルムであって、
   前記酸の作用により塩基を発生する化合物は、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、及び下記一般式（１）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、偏光板保護フィルム。
   

   

   
   一般式（１）中、Ｒ _１ 及びＲ _２ はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ _１ とＲ _２ とが結合して環を形成している。Ｒ _３ はアルキル基又はアリール基を表す。
2. 前記ポリマーは、（メタ）アクリル樹脂及びセルロースアシレートから選ばれる少なくとも一種である、請求項１に記載の偏光板保護フィルム。
3. 前記ポリマーはセルロースアシレートである、請求項１又は２に記載の偏光板保護フィルム。
4. 前記セルロースアシレートのアシル置換度が１．８〜３．０である、請求項３に記載の偏光板保護フィルム。
5. 前記酸の作用により塩基を発生する化合物は、前記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び下記一般式（３）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
   

   

   
   一般式（２）中、Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、Ｒ_６は水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、又は下記一般式（Ｎ１）で表される基を表す。但し、Ｒ_４及びＲ_５の少なくとも一方は、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_４とＲ_５とが結合して環を形成していてもよい。
   

   

   
   一般式（Ｎ１）中、Ｒ_Ｎ１及びＲ_Ｎ２は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。＊は酸素原子に結合する結合手を表す。Ｒ_Ｎ１とＲ_Ｎ２とが結合して環を形成していても良い。
   

   

   
   一般式（３）中、Ｒ_７〜Ｒ_１０はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。但し、Ｒ_７及びＲ_８の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ_９及びＲ_１０の少なくとも一方はアルキル基又はアリール基を表す。Ｒ_７とＲ_８とが結合して環を形成していてもよい。Ｒ_９とＲ_１０とが結合して環を形成していてもよい。
6. 更に、下記一般式（４）で表される化合物を含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
   

   

   
   一般式（４）中、Ｘ及びＹはそれぞれ独立に、−Ｎ−又は−ＣＨ−を表す。Ｑ_１、Ｑ_２及びＱ_３はそれぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｒ_１１、Ｒ_１２及びＲ_１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、シアノ基、ハロゲン原子又は複素環基を表す。
7. 温度２５℃、相対湿度６０％における、波長５５０ｎｍの面内方向のレターデーション値が−２０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの厚さ方向のレターデーション値が−７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
8. 温度２５℃、相対湿度６０％における、波長５５０ｎｍの面内方向のレターデーション値が２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍの厚さ方向のレターデーション値が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルム。
9. 請求項１〜８のいずれか一項に記載の偏光板保護フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
10. 液晶セルと、請求項９に記載の偏光板とを有する液晶表示装置。
11. 表示方式がＶＡ方式又はＩＰＳ方式である請求項１０に記載の液晶表示装置。
12. エステル結合及びアミド結合の少なくとも一方を有するポリマーと、酸の作用により塩基を発生する化合物とを含有する組成物を用いて偏光板保護フィルムを製造する、偏光板保護フィルムの製造方法であって、
    前記酸の作用により塩基を発生する化合物は、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、及び下記一般式（１）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、偏光板保護フィルムの製造方法。
    

    

    
    一般式（１）中、Ｒ _１ 及びＲ _２ はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ _１ とＲ _２ とが結合して環を形成している。Ｒ _３ はアルキル基又はアリール基を表す。
13. コア層とスキン層を有する偏光板保護フィルムの製造方法であって、
    セルロースアシレートを含有するコア層形成用ドープと、セルロースアシレートを含有するスキン層形成用ドープとを共流延する工程を有し、
    前記コア層形成用ドープ及び前記スキン層形成用ドープのいずれか少なくとも一方に、酸の作用により塩基を発生する化合物を含有する、偏光板保護フィルムの製造方法であって、
    前記酸の作用により塩基を発生する化合物は、オキシム化合物、ヒドラゾン化合物、及び下記一般式（１）で表される化合物から選ばれる少なくとも一種である、偏光板保護フィルムの製造方法。
    

    

    
    一般式（１）中、Ｒ _１ 及びＲ _２ はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ _１ とＲ _２ とが結合して環を形成している。Ｒ _３ はアルキル基又はアリール基を表す。