JP6449031B2 - 溶射ガンおよびこれを備えた溶射装置 - Google Patents

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Description

本発明は、被溶射物に溶射被膜を形成する溶射ガン、およびこれを備えた溶射装置に関する。
溶射装置を用いて行うアーク溶射においては、溶射ワイヤを溶射ガンに送給させつつアーク放電によって溶射ワイヤを溶解させる。溶解した溶射ワイヤはノズルから噴出されるガス流によって被溶射物へ噴き付けられ、当該被溶射物の表面に溶射被膜が形成される(たとえば、特許文献1を参照)。
特許文献1には、シリンダブロックのボア面(円筒内面)にアーク溶射処理を行うための溶射装置が記載されている。同文献に記載された溶射装置は、比較的に長尺な溶射ガンを備えている。溶射ガンは、ワイヤ導管およびガス流路が円筒部材の内部に設けられた構成である。当該溶射ガンをシリンダボア内に挿入した状態にてノズルからガス流を噴出し、ボア面に溶射被膜を形成する。ボア面への溶射被膜の形成は、溶射ガンおよびシリンダブロック(ボア面)を相対移動させながら行う。ワイヤ導管およびガス流路が円筒部材内に配置されているため、ワイヤ導管およびガス流路に、溶射した際の反射粒子や微細粒子の酸化物(溶射ヒューム)等が直接付着することはなく、これらワイヤ導管およびガス流路は保護されている。
しかしながら、ボア内に溶射ガンを挿入して行う溶射処理においては、ボア面(被溶射物)と溶射ガンとは比較的に近接している。このため、ボア面にて跳ね返った反射粒子や溶射ヒュームが溶射ガンに付着しやすい。溶射ヒューム等がノズル周辺に付着すると、ノズルから噴出されるガス流に乱れが生じたり、あるいはアークが適切に発生しない場合がある。このような場合には、意図した溶射被膜が形成されず、溶射被膜の品質低下を招くことになる。また、溶射ガンに溶射ヒューム等が付着すると、後にこれら付着物が剥がれてノズルからのガス流によって被溶射物の表面に噴き付けられる虞がある。このような事態を招くと、やはり溶射被膜の品質低下を招いてしまう。
特許第4496783号公報
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、溶着ヒューム等の付着を防止するのに適した溶射ガン、およびこれを備えた溶射装置を提供することをその課題とする。
上記の課題を解決するため、本発明では、次の技術的手段を採用した。
本発明の第1の側面よって提供される溶射ガンは、筒状のケース体と、上記ケース体に内挿されており、溶射ワイヤを通すための一対のワイヤ導管と、上記ケース体の先端側に設けられ、上記溶射ワイヤに電力を供給する一対の給電チップと、上記ケース体の内部に設けられ、ガスを流すためのガス流路と、上記ケース体の先端側に設けられ、上記ガス流路を経たガスを外部に噴出するためのノズルと、を備え、上記ケース体の軸心を囲むように位置する円筒内面に対して溶射処理を行う溶射ガンであって、上記ノズルは、上記ケース体の軸方向であって上記ケース体の先端側である第1方向を向く第1吐出口と、上記第1方向と交差する第2方向を向く第2吐出口と、を含み、上記第2吐出口は、上記ケース体の軸方向に見て、上記第2吐出口の指向方向に対して直角である方向において上記円筒内面の中心軸から偏倚した位置にあることを特徴としている。
好ましい実施の形態においては、上記円筒内面は、上記ケース体に対して上記中心軸周りに回転し、上記円筒内面の回転方向は、上記軸方向に見て、上記第2吐出口の上記指向方向の前方において上記円筒内面と交差する部位が上記指向方向に対して直角である方向において上記中心軸に近づく方向である。
好ましい実施の形態においては、上記円筒内面の内径寸法に対して、上記指向方向に対して直角である方向において上記第2吐出口が上記中心軸から偏倚する寸法の比率は、1/30〜1/10の範囲である。
好ましい実施の形態においては、上記ノズルは、上記第1方向および上記第2方向のいずれにも直角である方向に見て上記第2方向よりも上記第1方向側に傾く第3方向を向き、かつ上記第2吐出口よりも上記ケース体の基端側に位置する第3吐出口を含む。
好ましい実施の形態においては、上記第3吐出口は、上記1吐出口よりも上記第2方向における前方に位置する。
好ましい実施の形態においては、上記ガス流路は、上記第1吐出口につながる第1分岐流路と、上記第2吐出口につながる第2分岐流路と、上記第3吐出口につながる第3分岐流路と、上記第1ないし第3分岐流路の各々が連通する共通流路と、を含む。
本発明の第2の側面よって提供される溶射装置は、本発明の第1の側面に係る溶射ガンと、上記溶射ガンに溶射ワイヤを送り込むワイヤ送給手段と、上記溶射ガンにガスを送り込むガス供給手段と、上記溶射ガンに電力を供給する電力供給手段と、上記円筒内面の内側に上記溶射ガンを挿入した状態で上記円筒内面を上記中心軸周りに回転移動させる移動手段と、を備えることを特徴としている。
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
本発明に係る溶射ガンを備えた溶射装置の一例を示す全体概略図である。 本発明に係る溶射ガンの一例を示す正面図である。 図2のIII−IIIに沿う断面図である。 図3のIV−IVに沿う断面図である。 図3の部分拡大図である。 図4の部分拡大図である。 溶射ガンを用いて溶射処理を行う状況を示し、図5のVII−VII矢視方向に見た図である。 溶射ガンの他の例を示す図5と同様の断面図である。 図8のIX−IX矢視図である。 図8のX−X線に沿う断面図である。
以下、本発明の好ましい実施形態につき、図面を参照しつつ具体的に説明する。
図1は、本発明に係る溶射ガンを備えた溶射装置の一例を示す全体概略図である。溶射装置100は、基台110と、この基台110上に起立する支持板120と、支持板120に設けられた一対のワイヤ送給機構130と、溶射ガン200と、電源部300と、ガス供給手段400と、を備えている。
基台110には、載置テーブル111が設けられ、この載置テーブル111上にワーク500(被溶射物)が置かれている。載置テーブル111は、ワーク移動機構112に支持されている。詳細な図示説明は省略するが、ワーク移動機構112は、水平面内でのスライド移動、昇降および回転の各動作を行うことが可能であり、ワーク移動機構112の動作によってワーク500に所望の動きを与えることができる。
本実施形態において、ワイヤ送給機構130は、ワイヤリール131、ガイドローラ132、送給ローラ133、およびモータ134を備えており、ワイヤリール131に巻き取られた溶射ワイヤWを溶射ガン200に向けて送り出すものである。
ワイヤリール131は、たとえば水平方向に延びる軸心回りに回転可能なリールに溶射ワイヤWが巻き取られた形態を有しており、回転しながら溶射ワイヤWを繰り出すことができる。ワイヤリール131から繰り出される溶射ワイヤWは、ガイドローラ132を経て下向きに方向を変え、溶射ガン200に至っている。
送給ローラ133は、対をなすローラの少なくとも一方がモータ134によって駆動される。送給ローラ133は、ワイヤリール131に近接する位置と溶射ガン200に近接する位置との2箇所に設けられている。本実施形態においては、一対のワイヤ送給機構130の駆動により、溶射ワイヤWが対をなして溶射ガン200に供給される。
電源部300は、溶射ガン200に電力を供給するものである。電源部300からの電力は、定電圧制御されて給電ケーブル310を介して溶射ガン200に供給され、後述のワイヤ導管220、給電部材215を介して給電チップ230に供給される。
ガス供給手段400は、溶射ガン200にガスを送り込むものであり、たとえばコンプレッサにより噴出された圧縮エアを、流量および圧力が制御された状態で溶射ガン200に送り込む。
溶射ガン200は、被溶射物にアーク溶射を行うものであり、適所に設けられたブラケット140を介して支持板120に支持されている。図2〜6に示すように、溶射ガン200は、ケース体210と、一対のワイヤ導管220と、一対の給電チップ230と、一対のガイドライナ240と、ガス流路250とを備えている。
ケース体210は、筒状本体211、上部カバー212、および下部カバー213を含んで構成される。筒状本体211は、所定の軸方向に長状に延びる円筒形状とされている。上部カバー212は筒状本体211の上端(基端)を塞いでおり、下部カバー213は筒状本体211の下端(先端)に設けられている。
ワイヤ導管220は、溶射ワイヤWを通すものであり、たとえば銅管などの金属製パイプによって構成される。ワイヤ導管220は筒状本体211に内挿されており、ワイヤ導管220の下部は、ケース体210の下端寄りに設けられた絶縁部材214を介して当該ケース体210に支持されている。ワイヤ導管220の上部は、上部カバー212を貫通してケース体210の上端側(基端側)から外部に延びている。ワイヤ導管220は、筒状本体211の軸方向と略平行に延びている。各ワイヤ導管220の下端は、金属製の給電部材215に接続されている。詳細は後述するが、一対のワイヤ導管220は、ガス流路250内に配置されている。
給電チップ230は、給電部材215に取り付けられている。給電部材215は、ワイヤ導管220と給電チップ230との間に位置しており、一対の給電チップ230に対応するように対をなして設けられている。より詳細には、図6によく表れているように、給電部材215の先端部には雌ねじ215aが形成され、また、給電チップ230の基端部231には雄ねじ231aが形成されており、雌ねじ215aに雄ねじ231aを螺合することによって給電チップ230が給電部材215に取り付けられる。このようにして、給電チップ230はケース体210の下端側(先端側)に着脱可能に設けられている。
一対の給電部材215に形成された一対の雌ねじ215aは、筒状本体211の軸方向に対して傾斜して延びる。そして、図6によく表れているように、一対の給電部材215に取り付けられた一対の給電チップ230については、互いの中心軸線O1がケース体210の先端に向かうほど近接している。これら中心軸線O1は、ケース体210の先端側外方において交わっており、当該交点がアーク点Oxとして設定される。
図5、図6に示すように、ケース体210の先端部には、溶射ガスを外部に噴出するためのノズル216が設けられている。本実施形態において、ノズル216は、第1吐出口216a、第2吐出口216b、および第3吐出口216cを含んで構成される。これら第1ないし第3吐出口216a,216b,216cは、互いに異なる方向を向いている。
第1吐出口216aは、ケース体210の下端付近に位置する絶縁部材217に形成されており、ケース体210の軸方向であって当該ケース体210の先端側である方向x(第1方向)を向いている。第2吐出口216bは、下部カバー213の下垂部分の先端に形成されている。第2吐出口216bは、方向xと直角である方向y(第2方向)を向いている。図6に表れているように、第2吐出口216bは、複数の長孔を含む。図5に表れているように、第3吐出口216cは、下部カバー213の下垂部分に形成されている。第3吐出口216cは、方向xおよび方向yのいずれにも直角である方向に見て、方向yよりも方向x側に傾く方向(第3方向)を向いている。すなわち、方向xおよび方向yのいずれにも直角である方向に見て、方向yと第3吐出口216cが向く方向とのなす角度θは、0°<θ<90°である。当該角度θは、好ましくは30〜60°の範囲である。図5においては、当該角度θが45°の場合を示している。
第3吐出口216cは、第2吐出口216bよりもケース体210の基端側(図5における上方)に位置する。また、第3吐出口216cは、方向yにおいて第1吐出口216aと第2吐出口216bの間に位置する。
ガス流路250は、ケース体210の内部に設けられており、溶射ガスをノズル216(第1ないし第3吐出口216a,216b,216c)まで流すための流路である。本実施形態において、ガス流路250は、ケース体210の内部空間によって構成されており、共通流路251、第1分岐流路252、および第2分岐流路253を有する。共通流路251は、筒状本体211の内側空間の大部分を占めており、比較的に大きな容積である。筒状本体211の外径寸法に対して共通流路251の占有する断面積が比較的大きい。
ワイヤ導管220は、共通流路251において露出しており、このようにして、ワイヤ導管220は、共通流路251(ガス流路250)内に配置されている。第1および第2分岐流路252,253は、互いに分離しており、各々が共通流路251に連通している。第1分岐流路252は、第1吐出口216aにつながっている。第2分岐流路253は、第2および第3吐出口216b,216cにつながっている。本実施形態において、第1分岐流路252は、方向yに離間する2箇所に設けられている。
一対のガイドライナ240は、それぞれ一対のワイヤ導管220に内挿されている。ガイドライナ240は、可撓性を有する筒状とされており、溶射ワイヤWを挿通させることによってこの溶射ワイヤWを案内する機能を果たす。ガイドライナ240を構成する材料としては、溶射ワイヤWの摺動抵抗の小さいものが好ましい。そのような材料としては、たとえばテフロン(登録商標)樹脂などの合成樹脂を挙げることができる。
各ガイドライナ240は、ワイヤ導管220の全長にわたって内挿される。図6によく表れているように、ガイドライナ240の下端部241(先端部)は、給電チップ230の基端部231に内挿されており、給電チップ230の中心軸線O1に沿って延びている。図3、図4に表れているように、ガイドライナ240の上端部(基端部)は、ワイヤ導管220の上端(基端)から突出して外部に延びている。
次に、上記した溶射ガン200および溶射装置100を用いてワーク500に溶射処理を行う手順について説明する。
図1、図7に示すように、ワーク500としてはシリンダブロックが用いられ、このシリンダブロック(ワーク500)のボア面S(円筒内面)に対して溶射処理を行う。ボア面Sに対する溶射処理は、溶射ガン200(ケース体210)をボア面Sの内側に挿入した状態で行う。ここで、ケース体210は、ボア面Sに対してオフセットした位置に配置される。具体的には、図7に示すように、ケース体210の軸方向に見て、第2吐出口216bが、当該第2吐出口216bの指向方向pに対して直角である方向rにおいて、ボア面Sの中心軸Osから偏倚した位置にある。
ボア面Sの内径寸法D1に対して、方向rにおいて第2吐出口216bが中心軸Osから偏倚する偏倚量L1の比率(L1/D1)は、1/30〜1/10の範囲である。たとえば、ボア面Sの内径寸法D1が100mm程度の場合、偏倚量L1は5mm程度とされる。
溶射装置100を用いて行う溶射作業時には、ワイヤ送給機構130によって溶射ガン200に溶射ワイヤWが送給される。送給された溶射ワイヤWは、ガイドライナ240内を挿通し、このガイドライナ240によってガイドされながらワイヤ導管220内を進む。そして、溶射ワイヤWは、ガイドライナ240の下端部241を経て給電チップ230へ送られ、給電チップ230に接触しながら中心軸線O1に沿ってアーク点Oxに向かう。
溶射ガン200には電源部300によって電力が供給される。溶射ワイヤWが給電チップ230に接触することにより、給電部材215から給電チップ230を介して溶射ワイヤWに電力供給される。そして、一対の給電チップ230から送り出された一対の溶射ワイヤWがアーク点Oxで短絡することによって、一対の溶射ワイヤWの先端間にアークが発生する。
溶射ガン200にはまた、ガス供給手段400からの圧縮ガスが送り込まれる。当該ガスは、ガス流路250(共通流路251、第1および第2分岐流路252,253)を通過し、ノズル216(第1ないし第3吐出口216a〜216c)から噴出される。当該噴出されたガスは、溶射ワイヤWの先端のアークに吹き付けられ、溶融金属が液滴や微粒子状となってボア面S(被溶射物の表面)に溶射被膜が形成される。
溶射処理に際し、ボア面Sは、ワーク移動機構112(図1参照)によって中心軸Os周りに回転させられる。図7に示すように、ボア面Sの回転方向は、ケース体210の軸方向に見て、第2吐出口216bの指向方向pの前方においてボア面Sと交差する部位510が方向rにおいて中心軸Osに近づく方向(図中矢印N1)である。
次に、上記した実施形態に係る溶射ガン200および溶射装置100の作用について説明する。
本実施形態の溶射ガン200においては、図5に示したように、ノズル216は、ケース体210の先端側(方向x)を向く第1吐出口216a、方向xと直角である方向yを向く第2吐出口216bに加え、第3吐出口216cを含んで構成される。第3吐出口216cは、第2吐出口216bよりもケース体210の基端側(図5における上方)に位置するとともに、方向xおよび方向yのいずれにも直角である方向に見て、方向yよりも方向x側に傾く方向(図5における左斜め下方向)を向いている。このような構成によれば、溶射処理時にボア面Sにて跳ね返った反射粒子や溶射ヒュームは、第3吐出口216cからのガス流によってケース体210から遠ざかる方向に吹き飛ばされる。したがって、溶射ヒューム等がケース体210の先端付近に付着するのを防止することができる。
第3吐出口216cは、第1吐出口216aよりも方向yにおける前方に位置する。また、方向xおよび方向yのいずれにも直角である方向に見て、方向yと第3吐出口216cが向く方向とのなす角度θは、30〜60°の範囲である。このような構成によれば、第1吐出口216aよりも方向yにおける前方側の空間に多く滞留する溶射ヒューム等を、より的確に吹き飛ばすことができる。
図7に示したように、第2吐出口216bは、ケース体210の軸方向に見て、当該第2吐出口216bの指向方向pに対して直角である方向rにおいて、ボア面Sの中心軸Osから偏倚した位置にある。このような構成によれば、第2吐出口216bから噴出されるガスは、ボア面Sによって跳ね返された後、ボア面Sの周方向において同じ側(図7において時計回り)に向かう。これにより、ボア面Sの内側空間において矢印N2で示した旋回流が生じる。その結果、溶射処理時にボア面Sにて跳ね返った反射粒子や溶射ヒュームがケース体210の正面に向かうことは回避され、溶射ヒューム等がケース体210の先端付近に付着するのを防止することができる。
図7に示したように、ボア面Sの回転方向は、ケース体210の軸方向に見て、第2吐出口216bの指向方向pの前方においてボア面Sと交差する部位510が方向rにおいて中心軸Osに近づく方向(図中矢印N1)である。このような構成によれば、第2吐出口216bからのガス流によって生じる旋回流の方向(矢印N2)とボア面Sの回転方向(矢印N1)とが同じであるので、旋回流によって飛ばされる溶射ヒューム等は、ボア面Sのうち既に溶射処理が済んだ領域に向かう。したがって、ボア面Sの未溶射領域への溶射ヒューム等の付着を防止することができ、溶射品質の向上を図ることができる。
図7を参照して説明したように、ボア面Sの内径寸法D1に対して、方向rにおいて第2吐出口216bが中心軸Osから偏倚する偏倚量L1の比率(L1/D1)は、1/30〜1/10の範囲である。このような構成によれば、ボア面Sの内径寸法に対してケース体210の外径寸法が比較的に大きい場合でも、溶射ガン200(ケース体210)をボア面Sの内側に挿入させつつ、第2吐出口216bからのガス流によって旋回流を生じさることができる。
図8〜図10は、溶射ガンの変形例を示している。以下の説明では、上記の溶射ガン200と同一または類似の要素については上記と同一の符号を付し、説明を適宜省略する。
図8に示した溶射ガン200’においては、第3吐出口216cの形成位置が上記の溶射ガン200と異なっている。第3吐出口216cは、筒状本体211(ケース体210)の下端(先端)に形成されている。第3吐出口216cは、第1吐出口216aよりも方向yにおける前方に位置する。第3吐出口216cは、方向xおよび方向yのいずれにも直角である方向に見て、方向yよりも方向x側に傾く方向(第3方向)を向いている。方向xおよび方向yのいずれにも直角である方向に見て、方向yと第3吐出口216cが向く方向とのなす角度θは、0°<θ<90°である。当該角度θは、好ましくは30〜60°の範囲である。図8においては、当該角度θが45°の場合を示している。
図9に示すように、第3吐出口216cは複数(本実施形態では3箇所)設けられている。図10に示すように、複数の第3吐出口216cは、それぞれの端部が連通路255につながっており、この連通路255は、後述の第3分岐流路に254に通じている。図9に示した複数の第3吐出口216cは、ケース体210の軸方向に見て各々が方向yを向いており、互いが平行な位置関係である。
溶射ガン200’において、ガス流路250は、第1および第2ガス分岐流路252,253に加え、第3ガス分岐流路254を有する。第1ないし第3分岐流路252,253,254は、互いに分離しており、各々が共通流路251に連通している。第3分岐流路254は、連通路255を介して各第3吐出口216cにつながっている。
図8〜図10に示した溶射ガン200’は、上記の溶射ガン200および溶射装置100と同様の作用効果を奏する。また、複数の第3吐出口216cは、ケース体210の軸方向に見て互いに離間して形成されている。このような構成によれば、複数の第3吐出口216cから噴出されるガス流は、ケース体210の周方向における広範囲にわたって拡散する。これにより、溶射ヒューム等がケース体210の先端付近に付着するのをより的確に防止することができる。
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明の範囲は上記した実施形態に限定されるものではなく、各請求項に記載した事項の範囲内でのあらゆる変更は、すべて本発明の範囲に包摂される。
100 溶射装置
110 基台
111 載置テーブル
112 ワーク移動機構(移動手段)
120 支持板
130 ワイヤ送給機構
131 ワイヤリール
132 ガイドローラ
133 送給ローラ
134 モータ
140 ブラケット
200,200’ 溶射ガン
210 ケース体
211 筒状本体
212 上部カバー
213 下部カバー
214 絶縁部材
215 給電部材
215a 雌ねじ
216 ノズル
216a 第1吐出口
216b 第2吐出口
216c 第3吐出口
217 絶縁部材
220 ワイヤ導管
230 給電チップ
231 (給電チップの)基端部
231a 雄ねじ
240 ガイドライナ
241 (ガイドライナの)下端部
250 ガス流路
251 共通流路
252 第1分岐流路
253 第2分岐流路
254 第3分岐流路
255 連通路
300 電源部
310 給電ケーブル
400 ガス供給手段
500 ワーク(被溶射物)
O1 中心軸線
Ox アーク点
Os 中心軸(円筒内面の中心軸)
p 指向方向
r 方向(指向方向に対して直角である方向)
S ボア面(円筒内面)
W 溶射ワイヤ
x 方向(第1方向)
y 方向(第2方向)

Claims (6)

  1. 筒状のケース体と、
    上記ケース体に内挿されており、溶射ワイヤを通すための一対のワイヤ導管と、
    上記ケース体の先端側に設けられ、上記溶射ワイヤに電力を供給する一対の給電チップと、
    上記ケース体の内部に設けられ、ガスを流すためのガス流路と、
    上記ケース体の先端側に設けられ、上記ガス流路を経たガスを外部に噴出するためのノズルと、を備え、
    上記ケース体の軸心を囲むように位置する円筒内面に対して溶射処理を行う溶射ガンであって、
    上記ノズルは、上記ケース体の軸方向であって上記ケース体の先端側である第1方向を向く第1吐出口と、上記第1方向と交差する第2方向を向く第2吐出口と、を含み、
    上記第2吐出口は、上記ケース体の軸方向に見て、上記第2吐出口の指向方向に対して直角である方向において上記円筒内面の中心軸から偏倚した位置にあり、
    上記円筒内面は、上記ケース体に対して上記中心軸周りに回転し、
    上記円筒内面の回転方向は、上記軸方向に見て、上記第2吐出口の上記指向方向の前方において上記円筒内面と交差する部位が上記指向方向に対して直角である方向において上記中心軸に近づく方向であることを特徴とする、溶射ガン。
  2. 上記円筒内面の内径寸法に対して、上記指向方向に対して直角である方向において上記第2吐出口が上記中心軸から偏倚する寸法の比率は、1/30〜1/10の範囲である、請求項1に記載の溶射ガン。
  3. 上記ノズルは、上記第1方向および上記第2方向のいずれにも直角である方向に見て、交差する上記第1方向および上記第2方向がなす2つの角度のうち小さい方の角度をなす上記第1方向と上記第2方向との間である第3方向を向き、かつ上記第2吐出口よりも上記ケース体の基端側に位置する第3吐出口を含む、請求項1または2に記載の溶射ガン。
  4. 上記第3吐出口は、上記1吐出口よりも上記第2方向における前方に位置する、請求項に記載の溶射ガン。
  5. 上記ガス流路は、上記第1吐出口につながる第1分岐流路と、上記第2吐出口につながる第2分岐流路と、上記第3吐出口につながる第3分岐流路と、上記第1ないし第3分岐流路の各々が連通する共通流路と、を含む、請求項3または4に記載の溶射ガン。
  6. 請求項1ないしのいずれかに記載の溶射ガンと、上記溶射ガンに溶射ワイヤを送り込むワイヤ送給手段と、上記溶射ガンにガスを送り込むガス供給手段と、上記溶射ガンに電力を供給する電力供給手段と、上記円筒内面の内側に上記溶射ガンを挿入した状態で上記円筒内面を上記中心軸周りに回転移動させる移動手段と、を備えることを特徴とする、溶射装置。
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