JP6448421B2 - セラミック成形体の製造方法およびセラミック成形体 - Google Patents
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[形態1]
複数個に分割され、型締めされた状態で内部にキャビティを形成する内面を備える成形型を用いた射出成形によって、セラミック成形体を成形する工程を含むセラミック成形体の製造方法であって、
前記成形型を型締めした状態で、前記キャビティを形成する前記成形型の内面の少なくとも前記成形型の分割線を含む部分をコーティングするコーティング層を、樹脂を含む材料を用いるブロー成形によって形成する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記成形型を型締めした状態で、前記キャビティにセラミックを含む成形材料を射出する第2工程と、
を備え、
前記キャビティを形成する前記成形型の内面は、前記分割線に沿った面取り部を含み、
前記キャビティを形成する前記成形型の内面において、前記面取り部によって形成される溝の深さより、前記コーティング層が厚いことを特徴とする、セラミック成形体の製造方法。
前記成形型を型締めした状態で、前記キャビティを形成する前記成形型の内面の少なくとも前記成形型の分割線を含む部分をコーティングするコーティング層を、樹脂を含む材料を用いるブロー成形によって形成する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記成形型を型締めした状態で、前記キャビティにセラミックを含む成形材料を射出する第2工程と、
を備えることを特徴とする、セラミック成形体の製造方法。
前記キャビティを形成する前記成形型の内面は、前記分割線に沿った面取り部を含み、
前記キャビティを形成する前記成形型の内面において、前記面取り部によって形成される溝の深さより、前記コーティング層が厚いことを特徴とする、セラミック成形体の製造方法。
図1は、実施形態のセラミック成形体の製造方法のフローチャートである。図2は、実施形態のセラミック成形体の製造方法の説明図である。本実施形態では、射出成形によって、略円柱形状のセラミック成形体が製造される。セラミック成形体の外径は、例えば、5mm〜30mmであり、セラミック成形体の軸線方向の長さは、例えば、30mm〜100mmである。セラミック成形体の形状は、一例であり、略円柱形状とは異なる形状、例えば、略角柱形状、略円筒形状であっても良い。
(1)上記実施形態で用いられる材料は、一例であり、これに限られない。例えば、コーティング層20を形成するための材料は、PET(ポリエチレンテレフタラート)、ナイロン、ポリプロピレン、熱可塑性エラストマー、などの他の樹脂材料であっっても良い。中間成形体10を形成するための材料の主成分であるセラミックは、アルミナ(Al2O3)に代えて、AlN、ZrO2、SiC、TiO2、Y2O3のうちの1個あるいは複数個が用いられても良い。同様に、中間成形体10を形成するための材料に含まれる焼結助剤やバインダの種類や量は、適宜に変更され得る。
Claims (1)
- 複数個に分割され、型締めされた状態で内部にキャビティを形成する内面を備える成形型を用いた射出成形によって、セラミック成形体を成形する工程を含むセラミック成形体の製造方法であって、
前記成形型を型締めした状態で、前記キャビティを形成する前記成形型の内面の少なくとも前記成形型の分割線を含む部分をコーティングするコーティング層を、樹脂を含む材料を用いるブロー成形によって形成する第1工程と、
前記第1工程の後に、前記成形型を型締めした状態で、前記キャビティにセラミックを含む成形材料を射出する第2工程と、
を備え、
前記キャビティを形成する前記成形型の内面は、前記分割線に沿った面取り部を含み、
前記キャビティを形成する前記成形型の内面において、前記面取り部によって形成される溝の深さより、前記コーティング層が厚いことを特徴とする、セラミック成形体の製造方法。
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