JP6439255B2 - Organic electroluminescence display device and manufacturing method thereof - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 48
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 title claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 122
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 568
- 238000000034 method Methods 0.000 description 73
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 28
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 24
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 24
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 19
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 19
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 16
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 12
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 halogen polysubstituted phthalocyanine Chemical class 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N isoindoline Chemical compound C1=CC=C2CNCC2=C1 GWVMLCQWXVFZCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanobutan-2-yldiazenyl)-2-methylbutanenitrile Chemical compound CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CC)C#N AVTLBBWTUPQRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009500 colour coating Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N indophenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1N=C1C=CC(=O)C=C1 RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229940110337 pigment blue 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940067265 pigment yellow 138 Drugs 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
本発明は、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関するものである。 The present invention relates to an organic electroluminescence display device capable of suppressing color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels.
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、自己発色により視認性が高いこと、液晶表示装置と異なり全固体ディスプレイであるため耐衝撃性に優れていること、応答速度が速いこと、温度変化による影響が少ないこと、および視野角が大きいこと等の利点を有することから注目されており、液晶表示装置やプラズマディスプレイに続くフラットパネルディスプレイとして、研究開発、商品化が進められている。なお、以下、エレクトロルミネッセンスをＥＬと略す場合がある。 The organic electroluminescence display device has high visibility due to self-coloring, it is an all-solid-state display unlike a liquid crystal display device, so it has excellent impact resistance, has a fast response speed, is less affected by temperature changes, In addition, it has attracted attention because of its advantages such as a large viewing angle, and research and development and commercialization are being promoted as flat panel displays following liquid crystal display devices and plasma displays. Hereinafter, electroluminescence may be abbreviated as EL.
有機ＥＬ表示装置のフルカラー化には、大別して、三色塗り分け方式と色変換方式とカラーフィルタ方式とがある。三色塗り分け方式は赤、緑、青の三色の発光層を用いる方法であり、色変換方式は青色発光層を用いて色変換層を組み合わせる方法であり、カラーフィルタ方式は白色発光層を用いてカラーフィルタを組み合わせる方法である。また、三色塗り分け方式では、色純度を高めるためにカラーフィルタを併用する場合がある。 The organic EL display device can be broadly divided into three colors, a color conversion method, and a color filter method. The three-color coating method uses a red, green, and blue light-emitting layer, the color conversion method uses a blue light-emitting layer to combine the color conversion layers, and the color filter method uses a white light-emitting layer. It is a method of using and combining color filters. In the three-color painting method, a color filter may be used in combination to increase color purity.
カラーフィルタを用いた有機ＥＬ表示装置においては、例えば、カラーフィルタ用の基板と有機ＥＬ素子用の基板との２枚の基板を対向させて両基板間を封止した構成を有するものが広く用いられている。このような有機ＥＬ表示装置において、カラーフィルタでは画素毎に着色層を配置し、有機ＥＬ素子では画素毎に発光層を配置し、画素毎にＴＦＴ素子により制御駆動している。このような有機ＥＬ表示装置においては、ある画素領域の発光層からの光が、隣接する画素領域の着色層に直接入射する、あるいは、その画素領域の着色層を透過して隣接する画素領域の着色層に入射するというような、隣接画素への光漏れが生じ、これが原因で、見る方向によって表示画像の色ずれが発生していた。これは有機ＥＬ素子から放射される光に指向性がないためであり、視野角特性に劣るという問題があった。 In an organic EL display device using a color filter, for example, a device having a configuration in which two substrates, a color filter substrate and an organic EL element substrate, are opposed to each other and sealed between both substrates is widely used. It has been. In such an organic EL display device, a colored layer is disposed for each pixel in the color filter, and a light emitting layer is disposed for each pixel in the organic EL element, and the pixel element is controlled and driven by the TFT element. In such an organic EL display device, light from a light emitting layer in a certain pixel region directly enters a colored layer in an adjacent pixel region, or passes through the colored layer in the adjacent pixel region and passes through the adjacent pixel region. Light leaks to adjacent pixels, such as entering a colored layer, and this causes a color shift of the display image depending on the viewing direction. This is because the light emitted from the organic EL element has no directivity and has a problem of poor viewing angle characteristics.
これに対して、例えば特許文献１に示すように有機ＥＬ素子上に着色層を形成する構成を採用することで、有機ＥＬ素子および着色層の厚さ方向の距離を小さくして基板に対して斜め方向に進行する光を少なくすることで光漏れを抑制することが検討されている。
しかしながら、近年ではディスプレイの高精細化、高品質化の要求に伴い、画素サイズの縮小、遮光層の線幅の縮小が進められていることから、上記のような隣接画素への光漏れが生じやすくなり、有機ＥＬ表示装置を上述した構成とした場合であっても十分に対応することが困難である場合が生じている。
そこで、有機ＥＬ表示装置においては、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれをより効果的に抑制する設計が求められている。
On the other hand, for example, as shown in Patent Document 1, by adopting a configuration in which a colored layer is formed on the organic EL element, the distance in the thickness direction of the organic EL element and the colored layer is reduced and the substrate is separated It has been studied to suppress light leakage by reducing light traveling in an oblique direction.
However, in recent years, along with the demand for higher definition and higher quality of displays, reduction of pixel size and reduction of line width of light shielding layer have been promoted, and thus light leakage to adjacent pixels as described above has occurred. Even if the organic EL display device has the above-described configuration, there are cases where it is difficult to sufficiently cope with it.
Therefore, in an organic EL display device, there is a demand for a design that more effectively suppresses color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels.
本発明者らは、上記実情を鑑みて鋭意研究を行った結果、有機ＥＬ素子からの光のうち一の画素領域から隣接する他の画素領域へ進行する表示に有効な光を基準として、遮光層の幅または着色層の形状および着色層の間の幅を調整することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能であることを見出し、本発明を完成させるに至った。
本発明は、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供することを主目的とする。
As a result of intensive studies in view of the above circumstances, the present inventors have determined that light that is effective for display traveling from one pixel region to another adjacent pixel region out of the light from the organic EL element is shielded. By adjusting the width of the layer or the shape of the colored layer and the width between the colored layers, it is found that the color shift of the display image due to light leakage to the adjacent pixels can be suppressed, and the present invention is completed. It came to.
An object of the present invention is to provide an organic EL display device capable of suppressing a color shift of a display image due to light leakage to an adjacent pixel, and a manufacturing method thereof.
上記目的を達成するために、本発明は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層と、上記絶縁層上に形成され画素を画定する遮光層とを有する有機ＥＬ表示装置であって、上記遮光層の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない幅であることを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate, an organic EL element formed on the substrate and disposed in a pixel region, and an insulating layer disposed on the substrate and disposed between the pixel regions. An organic EL display device comprising: a plurality of colored layers formed on the organic EL element and disposed in the pixel region; and a light shielding layer formed on the insulating layer and defining pixels. Provided is an organic EL display device characterized in that the width of the first pixel region is such that light effective for display from the organic EL element in one pixel region does not pass through the colored layer in another adjacent pixel region To do.
本発明によれば、遮光層の幅が上述の幅であることにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。 According to the present invention, since the width of the light shielding layer is the above-described width, an organic EL display device capable of suppressing color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels can be provided.
本発明は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層とを有する有機ＥＬ表示装置であって、上記着色層の形状および上記着色層の間の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない形状および幅であることを特徴とする有機ＥＬ表示装置を提供する。 The present invention provides a substrate, an organic EL element formed on the substrate and disposed in a pixel region, an insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions, and formed on the organic EL element. And an organic EL display device having a plurality of colored layers arranged in the pixel region, wherein a shape of the colored layer and a width between the colored layers is different from that of the organic EL element in the one pixel region. There is provided an organic EL display device having a shape and a width that do not transmit light that is effective for display in the other pixel region adjacent to the colored layer.
本発明によれば、上記着色層の形状および上記着色層の間の幅が上述した形状および幅であることにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。 According to the present invention, when the shape of the colored layer and the width between the colored layers are the shape and width described above, the organic color that can suppress the color shift of the display image due to light leakage to the adjacent pixels. An EL display device can be obtained.
本発明は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層と、上記絶縁層上に形成され画素を画定する遮光層とを有する有機ＥＬ表示装置を製造する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上記遮光層の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない幅となるように調整して上記遮光層を形成する遮光層形成工程を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。 The present invention provides a substrate, an organic EL element formed on the substrate and disposed in a pixel region, an insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions, and formed on the organic EL element. An organic EL display device manufacturing method for manufacturing an organic EL display device having a plurality of colored layers arranged in the pixel region and a light shielding layer formed on the insulating layer to demarcate a pixel, The width of the light shielding layer is adjusted so that light effective for display from the organic EL element in one pixel region does not pass through the colored layer in the other adjacent pixel region, and the light shielding layer is adjusted. There is provided a method for manufacturing an organic EL display device comprising a light shielding layer forming step.
本発明によれば、遮光層形成工程を有することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置を製造することができる。 According to the present invention, it is possible to manufacture an organic EL display device that can suppress color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels by including a light shielding layer forming step.
本発明は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層とを有する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、上記着色層の形状および上記着色層の間の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない形状および幅となるように調整して上記着色層を形成する着色層形成工程を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。 The present invention provides a substrate, an organic EL element formed on the substrate and disposed in a pixel region, an insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions, and formed on the organic EL element. And a method of manufacturing an organic EL display device having a plurality of colored layers arranged in the pixel region, wherein the shape of the colored layer and the width between the colored layers is the organic of the one pixel region. It has a colored layer forming step of adjusting the shape and width so that light effective for display from an EL element does not pass through the colored layer of the other adjacent pixel region to form the colored layer. An organic EL display device manufacturing method is provided.
本発明によれば、着色層形成工程を有することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置を製造することができる。 According to the present invention, it is possible to manufacture an organic EL display device that can suppress a color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels by including a colored layer forming step.
本発明の有機ＥＬ表示装置は、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能であるといった作用効果を奏する。 The organic EL display device of the present invention has an effect that it is possible to suppress color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels.
以下、本発明の有機ＥＬ表示装置、および有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。 Hereinafter, the organic EL display device of the present invention and the method for manufacturing the organic EL display device will be described.
Ａ．有機ＥＬ表示装置
本発明の有機ＥＬ表示装置は、２つの態様を有する。以下、各態様について説明する。
A. Organic EL Display Device The organic EL display device of the present invention has two aspects. Hereinafter, each aspect will be described.
Ｉ．第１態様
本態様の有機ＥＬ表示装置は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層と、上記絶縁層上に形成され画素を画定する遮光層とを有するものであって、上記遮光層の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない幅であることを特徴とするものである。
なお、「表示に有効な光」の詳細については、後述する。
I. First aspect An organic EL display device according to the present aspect includes a substrate, an organic EL element formed on the substrate and disposed in a pixel region, and an insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions. A plurality of colored layers formed on the organic EL element and disposed in the pixel region; and a light shielding layer that is formed on the insulating layer and demarcates a pixel, and the width of the light shielding layer is The light effective for display from the organic EL element in one of the pixel regions has a width that does not transmit the colored layer in the other pixel region adjacent thereto.
The details of “light effective for display” will be described later.
本態様の有機ＥＬ表示装置について図を用いて説明する。
図１は本態様の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本態様の有機ＥＬ表示装置１０は、基板１と、基板１上に形成され画素領域９に配置された有機ＥＬ素子２と、基板１上に形成され画素領域９の間に配置された絶縁層３と、有機ＥＬ素子２上に形成され画素領域９に配置された赤色着色層４Ｒ、緑色着色層４Ｇおよび青色着色層４Ｂを含む複数色の着色層４と、絶縁層３上に形成され画素Ｐを画定する遮光層５とを有する。有機ＥＬ表示装置１０は、通常、有機ＥＬ素子２および絶縁層３を覆うように形成されたバリア層６を有し、バリア層６上に着色層４と遮光層５とが形成される。また、有機ＥＬ素子２は、例えば基板１上の画素領域９にパターン状に形成された背面電極層２１と、背面電極層２１上に形成され少なくとも発光層を有する有機ＥＬ層２２と、有機ＥＬ層２２上に形成された透明電極層２３とを有する。また、有機ＥＬ表示装置１０においては、対向基板８を有していてもよく、基板１および対向基板８が接着層７を用いて貼り合わされていてもよい。また、図１においては、バリア層６上の画素領域９の間に遮光層５が形成され、遮光層５上に異なる色の着色層４同士が隙間無く形成されている例について示している。
本態様においては、遮光層５の幅が、一の上記画素領域９ａの有機ＥＬ素子２からの表示に有効な光が隣接する他の画素領域９ｂの着色層４Ｇを透過しない幅であることを特徴とする。図１においては、遮光層５の幅が、有機ＥＬ素子２における最低有効角を有する光Ｌｍｉｎの進行方向と重なるように遮光層５の幅が調整されている例について示している。なお、最低有効角を有する光Ｌｍｉｎの詳細については、後述する。
The organic EL display device of this embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic EL display device of this embodiment. As shown in FIG. 1, the organic EL display device 10 according to this aspect includes a substrate 1, an organic EL element 2 formed on the substrate 1 and disposed in the pixel region 9, and a pixel region 9 formed on the substrate 1. An insulating layer 3 disposed between them, a colored layer 4 of a plurality of colors including a red colored layer 4R, a green colored layer 4G, and a blue colored layer 4B formed on the organic EL element 2 and disposed in the pixel region 9; And a light shielding layer 5 which is formed on the layer 3 and defines the pixel P. The organic EL display device 10 usually has a barrier layer 6 formed so as to cover the organic EL element 2 and the insulating layer 3, and the colored layer 4 and the light shielding layer 5 are formed on the barrier layer 6. The organic EL element 2 includes, for example, a back electrode layer 21 formed in a pattern on the pixel region 9 on the substrate 1, an organic EL layer 22 formed on the back electrode layer 21 and having at least a light emitting layer, and an organic EL And a transparent electrode layer 23 formed on the layer 22. Further, the organic EL display device 10 may have the counter substrate 8, and the substrate 1 and the counter substrate 8 may be bonded together using the adhesive layer 7. FIG. 1 shows an example in which the light shielding layer 5 is formed between the pixel regions 9 on the barrier layer 6 and the colored layers 4 of different colors are formed on the light shielding layer 5 without any gaps.
In this embodiment, the width of the light shielding layer 5 is such that light effective for display from the organic EL element 2 in one pixel region 9a does not pass through the colored layer 4G in the other adjacent pixel region 9b. Features. FIG. 1 shows an example in which the width of the light shielding layer 5 is adjusted so that the width of the light shielding layer 5 overlaps the traveling direction of the light L min having the lowest effective angle in the organic EL element 2. Details of the light L min having the lowest effective angle will be described later.
図２〜図５は本態様の有機ＥＬ表示装置の他の例について示す概略断面図である。図２においては、バリア層６上の画素領域９の間に遮光層５が形成され、遮光層５上に異なる色の着色層４同士が隙間を設けて形成されている例について示している。図３においては、バリア層６上の画素領域９の間に異なる色の着色層４同士が隙間無く形成され、着色層４上に遮光層５が形成されている例について示している。図４および図５においては、バリア層６上の画素領域９の間に異なる色の着色層４同士が隙間を設けて形成され、上記隙間および少なくとも着色層４の一部を覆うように遮光層５が形成されている例について示している。また、図４においては、上記隙間により生じた凹みに沿って遮光層５が形成されている例について示しており、図５においては、上記隙間により生じた凹みを埋めて遮光層５が形成されている例について示している。
なお、図２〜５において説明していない符号については、図１において説明した符号と同様とであるため、ここでの説明は省略する。
2-5 is a schematic sectional drawing shown about the other example of the organic electroluminescence display of this aspect. FIG. 2 shows an example in which the light shielding layer 5 is formed between the pixel regions 9 on the barrier layer 6 and the colored layers 4 of different colors are formed on the light shielding layer 5 with a gap. FIG. 3 shows an example in which the colored layers 4 of different colors are formed between the pixel regions 9 on the barrier layer 6 without any gap, and the light shielding layer 5 is formed on the colored layer 4. 4 and 5, the colored layers 4 of different colors are formed between the pixel regions 9 on the barrier layer 6 with a gap, and the light shielding layer covers the gap and at least a part of the colored layer 4. An example in which 5 is formed is shown. Further, FIG. 4 shows an example in which the light shielding layer 5 is formed along the dent generated by the gap. In FIG. 5, the light shielding layer 5 is formed by filling the dent generated by the gap. An example is shown.
The reference numerals not described in FIGS. 2 to 5 are the same as the reference numerals described in FIG. 1, and thus the description thereof is omitted here.
ここで、「画素」とは、画像を構成する最小単位である。例えば赤、緑、青の３個の副画素で１個の画素が構成されている場合、本明細書においては１個の副画素を「画素」という。具体的には図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１０は赤色着色層４Ｒ、緑色着色層４Ｇ、青色着色層４Ｂで構成される着色層４を有しており、遮光層３で画定された画素Ｐを複数有している。
「画素領域」とは、１個の画素が配置されている領域をいう。例えば赤、緑、青の３個の副画素で１個の画素が構成されている場合、１個の副画素が配置されている領域を「画素領域」という。具体的には図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１０は赤色着色層４Ｒ、緑色着色層４Ｇ、青色着色層４Ｂで構成される着色層４を有しており、遮光層３で画定された画素Ｐが配置されている画素領域９を複数有している。
Here, the “pixel” is a minimum unit constituting an image. For example, when one pixel is composed of three subpixels of red, green, and blue, in this specification, one subpixel is referred to as a “pixel”. Specifically, as shown in FIG. 1, the organic EL display device 10 has a colored layer 4 composed of a red colored layer 4R, a green colored layer 4G, and a blue colored layer 4B, and is defined by the light shielding layer 3. A plurality of pixels P are provided.
“Pixel area” refers to an area in which one pixel is arranged. For example, when one pixel is composed of three subpixels of red, green, and blue, an area in which one subpixel is arranged is referred to as a “pixel area”. Specifically, as shown in FIG. 1, the organic EL display device 10 has a colored layer 4 composed of a red colored layer 4R, a green colored layer 4G, and a blue colored layer 4B, and is defined by the light shielding layer 3. A plurality of pixel regions 9 in which the pixels P are arranged are provided.
本態様によれば、遮光層の幅が上述した幅を有することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。 According to this aspect, since the width of the light shielding layer has the above-described width, an organic EL display device capable of suppressing color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels can be provided.
この理由について簡単に説明する。
まず、従来の有機ＥＬ表示装置においては、有機ＥＬ素子上に着色層を形成することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することができると考えられていた。これは、一般的な有機ＥＬ素子が以下のように設計されていることによるものである。すなわち、一般的な有機ＥＬ表示装置の有機ＥＬ素子においては、大半の光が基板に対して垂直方向に進行し、一部の光が基板に対して斜め方向に進行するように設計がされている。また、基板に対して斜め方向に進行する光は、基板に対して水平方向に近づくほど少なくなるように設計がされている。そのため、有機ＥＬ素子と着色層との厚さ方向の距離を短くすることにより、基板に対して斜め方向に進行する光の量を少なくすることができ、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することができると考えられていた。
しかしながら、近年のディスプレイの高精細化に伴い、画素サイズおよび画素の間の幅の縮小を図る場合、上述した構成では、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを十分に抑制することが困難である場合が生じている。
The reason for this will be briefly described.
First, in a conventional organic EL display device, it has been considered that a color shift of a display image due to light leakage to an adjacent pixel can be suppressed by forming a colored layer on an organic EL element. This is because a general organic EL element is designed as follows. That is, the organic EL element of a general organic EL display device is designed so that most of the light travels in a direction perpendicular to the substrate and a part of the light travels in an oblique direction with respect to the substrate. Yes. The light traveling in an oblique direction with respect to the substrate is designed so as to decrease as it approaches the horizontal direction with respect to the substrate. Therefore, by shortening the distance in the thickness direction between the organic EL element and the colored layer, the amount of light traveling in an oblique direction with respect to the substrate can be reduced, and a display image caused by light leakage to adjacent pixels can be reduced. It was thought that color shift could be suppressed.
However, when the pixel size and the width between the pixels are reduced with the recent increase in the resolution of the display, the above-described configuration can sufficiently suppress the color shift of the display image due to light leakage to the adjacent pixels. There are cases where it is difficult.
図１２に示すように、従来の有機ＥＬ表示装置１００において、一の画素領域９ａの有機ＥＬ素子からの表示に有効な光は、大半は光Ｌ１１のように一の画素領域の着色層４Ｒを透過する。また、一部は光Ｌ１２〜Ｌ１４のように、基板１に対して斜め方向に進行する。より具体的には、一部は光Ｌ１２のように、隣接する他の画素領域９ｂの着色層４Ｇに直接入射して透過する。また、一部は光Ｌ１３のように一の画素領域の着色層４Ｒを透過し、さらに隣接する他の画素領域の着色層４Ｇを透過する。また、一部は光Ｌ１４のように遮光層５に吸収される。従来においては、遮光層５を配置する場合は、主に基板１上に形成されたＴＦＴ素子等が観察されないことや画素間のコントラストを向上させることを目的とし、遮光層５の幅と一の画素領域から隣接する他の画素領域へ進行する表示に有効な光との関係については十分に検討されていないことから、斜め方向から見た場合に、光Ｌ１２や光Ｌ１３が観察されることにより、表示画像の色ずれが生じていた。
なお、図１２は従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図であり、説明していない符号については、図１において説明した符号と同様であるため、ここでの説明は省略する。
As shown in FIG. 12, in the conventional organic EL display device 100, most of the light effective for display from the organic EL elements in one pixel region 9a is applied to the colored layer 4R in one pixel region as light L11. To Penetrate. Some of the light travels in an oblique direction with respect to the substrate 1 like the lights L12 to L14. More specifically, a part of the light is directly incident and transmitted to the colored layer 4G in the other adjacent pixel region 9b like the light L12. Some of the light passes through the colored layer 4R in one pixel region like the light L13, and further passes through the colored layer 4G in another adjacent pixel region. A part of the light is absorbed by the light shielding layer 5 like the light L14. Conventionally, when the light shielding layer 5 is disposed, the width of the light shielding layer 5 is equal to the width of the light shielding layer 5 mainly for the purpose of not observing TFT elements and the like formed on the substrate 1 and improving the contrast between pixels. Since the relationship with the light effective for display proceeding from the pixel region to another adjacent pixel region has not been sufficiently studied, the light L12 and the light L13 are observed when viewed from an oblique direction. There was a color shift of the display image.
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional organic EL display device, and reference numerals that are not described are the same as those described in FIG.
これに対して、本態様の有機ＥＬ表示装置においては、一の画素領域から隣接する他の画素領域へ進行する表示に有効な光を基準として、遮光層の幅が調整されるため、図１に示すように光Ｌ１２に相当する光Ｌ２や、光Ｌ１３に相当する光Ｌ３を吸収することが可能な位置に遮光層５を配置することが可能となる。
よって、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。
なお、図１における光Ｌ１、Ｌ４は、それぞれ図１２における光Ｌ１１、Ｌ１４に相当する。
On the other hand, in the organic EL display device of this aspect, the width of the light shielding layer is adjusted with reference to light effective for display traveling from one pixel region to another adjacent pixel region. As shown, the light shielding layer 5 can be arranged at a position where the light L2 corresponding to the light L12 and the light L3 corresponding to the light L13 can be absorbed.
Therefore, an organic EL display device capable of suppressing color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels can be obtained.
The lights L1 and L4 in FIG. 1 correspond to the lights L11 and L14 in FIG. 12, respectively.
以下、本態様の有機ＥＬ表示装置の詳細について説明する。 Hereinafter, the details of the organic EL display device of this embodiment will be described.
１．表示に有効な光
本明細書において、「表示に有効な光」とは、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの光が他の画素領域の着色層を透過することにより表示画像に影響を与える光をいう。
より具体的には、「表示に有効な光」とは、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの光のうち、基板に対して垂直方向に進行する光の強度を１とした場合に、光の強度比が、０．２以上となる光をいい、なかでも０．３以上、特に０．５以上となる光であることが好ましい。
有機ＥＬ素子を発光させ基板に対して垂直方向から目視および輝度計にて光の強さを評価したところ、その際に所定の電圧条件（仮に条件1とする）から電圧を低下させていった場合に、目視にて十分暗く感じた際（条件２とする）の光の強度（輝度）比が０．２であった。このことから本態様においては、表示に有効な光の強度比を垂直方向に進行する光を１とした場合に０．２以上とする。
1. Light Effective for Display In this specification, “light effective for display” means that light from an organic EL element in one pixel region passes through a colored layer in another pixel region and affects a display image. Say light.
More specifically, “light that is effective for display” is light when the intensity of light that travels in the direction perpendicular to the substrate out of the light from the organic EL elements in one pixel region is 1. The light having an intensity ratio of 0.2 or more is preferred, and light having an intensity ratio of 0.3 or more, particularly 0.5 or more is preferred.
The organic EL element was made to emit light, and the intensity of light was evaluated visually and with a luminance meter from the direction perpendicular to the substrate. At that time, the voltage was lowered from a predetermined voltage condition (assumed to be condition 1). In this case, the intensity (luminance) ratio of light when visually felt sufficiently dark (condition 2) was 0.2. Therefore, in this embodiment, the light intensity ratio effective for display is set to 0.2 or more when the light traveling in the vertical direction is 1.
また、上述した光の強度比は、通常、光の進行方向と基板の垂直方向の角度により決定されるものである。
以下の説明において、基板の垂直方向と上記強度比の最小値となる光の進行方向とのなす角度を「最低有効角」と称し、上記強度比の最小値の光を「最低有効角を有する光」と称して説明する場合がある。
The light intensity ratio described above is usually determined by the angle between the light traveling direction and the vertical direction of the substrate.
In the following description, the angle formed between the vertical direction of the substrate and the light traveling direction that is the minimum value of the intensity ratio is referred to as a “lowest effective angle”, and the light having the minimum value of the intensity ratio is referred to as “having the lowest effective angle. It may be referred to as “light”.
本態様における「表示に有効な光」について図を用いて説明する。
図６は有機ＥＬ素子における「表示に有効な光」について説明する説明図である。
「表示に有効な光」とは、図６に示すように、有機ＥＬ素子２において基板１に対して垂直方向に進行する光Ｌ９０に対する強度比が上述した範囲となる光Ｘをいう。また、「最低有効角」とは、基板１の垂直方向Ｗ９０と、光Ｌ９０に対する強度比が上述した範囲の最小値となる光Ｌｍｉｎの進行方向Ｗｍｉｎとのなす角度θをいう。「最低有効角を有する光」とは、Ｌｍｉｎをいう。
“Light effective for display” in this embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 6 is an explanatory view for explaining “light effective for display” in the organic EL element.
As shown in FIG. 6, “light that is effective for display” refers to light X in which the intensity ratio with respect to the light L 90 traveling in the direction perpendicular to the substrate 1 in the organic EL element 2 is in the above-described range. Further, the “minimum effective angle” refers to an angle θ formed by the vertical direction W 90 of the substrate 1 and the traveling direction W min of the light L min where the intensity ratio with respect to the light L 90 is the minimum value in the above-described range. “Light having the lowest effective angle” refers to L min .
上述の最低有効角としては、有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ素子の材料、形態等に応じて適宜決定され、特に限定されないが、６０°以下、なかでも５０°以下、特に４０°以下であることが好ましい。 The above-mentioned minimum effective angle is appropriately determined according to the material and form of the organic EL element used in the organic EL display device, and is not particularly limited, but is 60 ° or less, particularly 50 ° or less, particularly 40 ° or less. Preferably there is.
本態様における上記光の強度比および最低有効角は以下の測定方法により求めた値である。
ＥＬＤＩＭ社製 ＥＺ Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｒを用いて有機ＥＬ素子から放出される光の輝度分布を測定し、図７に示すような輝度分布データを得た。図７は有機ＥＬ素子の輝度分布データを示すグラフであり、グラフの横軸は基板から延ばした垂線に対する仰角（基板に垂直な方向が０°となる。）であり、縦軸は輝度値である。得られた輝度分布データを最大値にて規格化し、基板に対して垂直方向に進行する光の強度を１とした場合に、強度比が０．２となる光の角度を求めた。
The light intensity ratio and the minimum effective angle in this embodiment are values obtained by the following measurement method.
The luminance distribution of light emitted from the organic EL element was measured using EZ Contrast 160R manufactured by ELDIM, and luminance distribution data as shown in FIG. 7 was obtained. FIG. 7 is a graph showing the luminance distribution data of the organic EL element. The horizontal axis of the graph is the elevation angle with respect to the perpendicular extending from the substrate (the direction perpendicular to the substrate is 0 °), and the vertical axis is the luminance value. is there. The obtained brightness distribution data was normalized to the maximum value, and the light angle at which the intensity ratio was 0.2 was determined when the intensity of light traveling in the direction perpendicular to the substrate was 1.
２．遮光層
本態様における遮光層は、上記絶縁層上に形成され画素を画定するものであり、所定のパターン状に形成される。
ここで、「遮光層が絶縁層上に形成される」とは、遮光層が少なくとも絶縁層と平面視上重なるように形成されることをいい、絶縁層上に直接遮光層が形成される場合だけでなく、絶縁層上に他の層を介して遮光層が形成される場合を含む。
2. Light-shielding layer The light-shielding layer in this embodiment is formed on the insulating layer to define pixels, and is formed in a predetermined pattern.
Here, “the light shielding layer is formed on the insulating layer” means that the light shielding layer is formed so as to overlap at least the insulating layer in plan view, and the light shielding layer is formed directly on the insulating layer. In addition, the light shielding layer is formed on the insulating layer via another layer.
（１）遮光層の幅
本態様においては、上記遮光層の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない幅であることを特徴とする。
「遮光層の幅が、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の画素領域の着色層を透過しない幅である」とは、遮光層の幅が、一の画素領域の有機ＥＬ素子から隣接する他の上記画素領域に進行する表示に有効な光を吸収することができるように調整された幅であることをいう。また、本態様においては、少なくとも異なる色の着色層の間に配置される遮光層の幅が上述の幅を有する。また、遮光層の幅とは、遮光層の下層と接している部分における幅をいう。
以下、遮光層の幅の調整方法について説明する。
(1) Width of light shielding layer In this embodiment, the width of the light shielding layer is such that light effective for display from the organic EL element in one pixel region is transmitted through the colored layer in the other pixel region. It is the width which is not.
“The width of the light-shielding layer is a width that does not allow light effective for display from the organic EL element in one pixel region to pass through the colored layer in another adjacent pixel region”. The width is adjusted so as to be able to absorb light effective for display that proceeds from the organic EL element in the pixel region to the other adjacent pixel region. Moreover, in this aspect, the width | variety of the light shielding layer arrange | positioned at least between the colored layers of a different color has the above-mentioned width | variety. Further, the width of the light shielding layer refers to the width at the portion in contact with the lower layer of the light shielding layer.
Hereinafter, a method for adjusting the width of the light shielding layer will be described.
本態様においては、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光のうち、隣接する他の画素領域の着色層に直接入射する表示に有効な光を遮光層が吸収することができるように、遮光層の幅を調整することが好ましい。ここで、図１２に示すように、光Ｌ１３は、着色層４Ｒおよび着色層４Ｇを透過するため、着色層４Ｒおよび着色層４Ｇの透過率特性から多くが吸収される。一方、光Ｌ１２は、着色層４Ｇのみを透過するため、本来出射されるべきでない光が着色層４Ｇの透過率特性で出射されることとなる。このため、特に、斜め方向から見たときに表示画像の色ずれは、光Ｌ１２が大きく影響するからである。 In this aspect, among the light effective for display from the organic EL elements in one pixel region, the light shielding layer can absorb the light effective for display that directly enters the colored layer in the other adjacent pixel region. Thus, it is preferable to adjust the width of the light shielding layer. Here, as shown in FIG. 12, since the light L13 is transmitted through the colored layer 4R and the colored layer 4G, most of the light L13 is absorbed from the transmittance characteristics of the colored layer 4R and the colored layer 4G. On the other hand, since the light L12 is transmitted only through the colored layer 4G, light that should not be emitted is emitted with the transmittance characteristics of the colored layer 4G. For this reason, the color L of the display image is particularly affected by the light L12 when viewed from an oblique direction.
一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光のうち、隣接する他の画素領域の着色層に直接入射する表示に有効な光を遮光層が吸収することができるように、遮光層の幅を調整する方法としては、例えば、一の画素領域の有機ＥＬ素子における最低有効角を有する光の進行方向と重なるように遮光層の幅を調整する方法を好適に用いることができる。 The light shielding layer so that the light shielding layer can absorb the light effective for display directly incident on the colored layer of the other adjacent pixel region out of the light effective for display from the organic EL element in one pixel region. As a method for adjusting the width of the light-shielding layer, for example, a method of adjusting the width of the light shielding layer so as to overlap with the traveling direction of light having the lowest effective angle in the organic EL element in one pixel region can be suitably used.
このような遮光層の幅の調整方法においては、例えば、図１〜図２や図４〜図５に示すように、有機ＥＬ表示装置１０において着色層４および遮光層５が同一平面上に形成される場合は、一の画素領域９ａの有機ＥＬ素子２おける最低有効角を有する光Ｌｍｉｎが直接遮光層５に吸収される位置に遮光層５が配置されるように、遮光層５の幅を調整する。
また、例えば、図３に示すように、有機ＥＬ表示装置１０において着色層４上に遮光層５が形成される場合は、一の画素領域９ａの有機ＥＬ素子２において、隣接する他の画素領域９ｂの着色層４Ｇに入射した最低有効角を有する光Ｌｍｉｎが遮光層５に吸収される位置に遮光層が配置されるように、遮光層５の幅を調整する。
In such a method for adjusting the width of the light shielding layer, for example, as shown in FIGS. 1 to 2 and FIGS. 4 to 5, the colored layer 4 and the light shielding layer 5 are formed on the same plane in the organic EL display device 10. In such a case, the width of the light shielding layer 5 is arranged such that the light shielding layer 5 is disposed at a position where the light L min having the lowest effective angle in the organic EL element 2 in one pixel region 9a is directly absorbed by the light shielding layer 5. Adjust.
For example, as shown in FIG. 3, when the light shielding layer 5 is formed on the colored layer 4 in the organic EL display device 10, in the organic EL element 2 in one pixel region 9 a, another adjacent pixel region. The width of the light shielding layer 5 is adjusted such that the light shielding layer is disposed at a position where the light L min having the lowest effective angle incident on the colored layer 4G of 9b is absorbed by the light shielding layer 5.
また、遮光層は、通常、基板上に形成されたＴＦＴ素子等が観察されることを防止する機能を有することから、遮光層の幅は絶縁層の幅と同等または絶縁層の幅より大きく形成される。本態様においては、なかでも遮光層の幅が絶縁層の幅より大きくなるように形成されることが好ましい。有機ＥＬ表示装置の製造工程において、絶縁層と遮光層とを平面視上重なるように形成しやすいからである。 In addition, since the light shielding layer usually has a function of preventing the TFT element or the like formed on the substrate from being observed, the width of the light shielding layer is equal to or larger than the width of the insulating layer. Is done. In this embodiment, it is preferable that the width of the light shielding layer is greater than the width of the insulating layer. This is because, in the manufacturing process of the organic EL display device, it is easy to form the insulating layer and the light shielding layer so as to overlap in plan view.
また、遮光層の幅は、一の画素領域の有機ＥＬ素子における最低有効角の光と有機ＥＬ素子および着色層の間の間隔とから、三角関数の定理により算出して求めることができる。また、遮光層の幅の調整は、有機ＥＬ表示装置における基板に対して垂直方向の断面における実際の形態の観察やシミュレーションにより行なわれる。 Further, the width of the light shielding layer can be obtained by calculating by the trigonometric theorem from the light of the lowest effective angle in the organic EL element in one pixel region and the interval between the organic EL element and the colored layer. The width of the light shielding layer is adjusted by observing or simulating an actual form in a cross section perpendicular to the substrate in the organic EL display device.
具体的な遮光層の幅については、有機ＥＬ素子の材料、形状、配置等に応じて適宜決定されるものであり、特に限定されない。 The specific width of the light shielding layer is appropriately determined according to the material, shape, arrangement, and the like of the organic EL element, and is not particularly limited.
（２）遮光層
遮光層の開口部の形状は特に限定されるものではなく、例えばストライプ形状、くの字形状や、デルタ配列、トライアングル配列、４画素配置型等のように着色層の配列に応じた形状等を挙げることができる。
(2) Light-shielding layer The shape of the opening of the light-shielding layer is not particularly limited. For example, the shape of the colored layer may be a stripe shape, a dogleg shape, a delta arrangement, a triangle arrangement, a four-pixel arrangement type, or the like. The shape etc. which respond | corresponded can be mentioned.
遮光層としては、例えば、例えばバインダ樹脂中に黒色色材を分散させたものが用いられる。
黒色色材としては、例えば、カラーフィルタの遮光層に一般に使用されるものを挙げることができ、顔料および染料のいずれも用いることができる。例えば、カーボンブラック、チタンブラック等が挙げられる。
バインダ樹脂は、遮光層の形成方法に応じて適宜選択される。フォトリソグラフィ法の場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。また、印刷法やインクジェット法の場合、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
As the light shielding layer, for example, a material in which a black color material is dispersed in a binder resin is used.
Examples of the black color material include those generally used for a light shielding layer of a color filter, and both pigments and dyes can be used. Examples thereof include carbon black and titanium black.
The binder resin is appropriately selected according to the method for forming the light shielding layer. In the case of the photolithography method, as the binder resin, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used. In the case of a printing method or an inkjet method, examples of the binder resin include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, hydroxyethyl cellulose resin, carboxymethyl cellulose resin, polyvinyl chloride resin, Examples include melamine resin, phenol resin, alkyd resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyester resin, maleic acid resin, polyamide resin and the like.
また、遮光層には、必要に応じて光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等が含有されていてもよい。 Moreover, the light shielding layer may contain a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coating property improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like as necessary.
遮光層の光学濃度としては、例えば、２.０以上、より好ましくは４. ０以上である。 The optical density of the light shielding layer is, for example, 2.0 or more, more preferably 4.0 or more.
遮光層の膜厚は、カラーフィルタにおける一般的な遮光層の膜厚と同様とすることができ、例えば０．５μｍ〜２．０μｍの範囲内で設定することができる。 The film thickness of the light shielding layer can be the same as the film thickness of a general light shielding layer in the color filter, and can be set within a range of 0.5 μm to 2.0 μm, for example.
遮光層の形成方法としては、バリア層上に遮光層をパターン状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、フォトリソグラフィ法、印刷法、インクジェット法を挙げることができる。 The method for forming the light shielding layer is not particularly limited as long as the light shielding layer can be formed in a pattern on the barrier layer, and examples thereof include a photolithography method, a printing method, and an ink jet method. it can.
（３）第２遮光層
本態様においては、遮光層５上に着色層４が形成されている場合は、図８に示すように、遮光層５上にさらに第２遮光層５２が形成されていてもよい。第２遮光層によって、一の画素領域の有機ＥＬ素子から隣接する他の画素領域の着色層に直接入射する表示に有効な光だけでなく、一の画素領域の着色層を通過して隣接する他の画素領域の着色層に入射する表示に有効な光も吸収することができ、斜め方向から見たときの表示画像の色ずれの発生を効果的に抑制することができる。
(3) Second light shielding layer In this embodiment, when the colored layer 4 is formed on the light shielding layer 5, the second light shielding layer 52 is further formed on the light shielding layer 5, as shown in FIG. May be. By the second light shielding layer, not only the light effective for direct incidence from the organic EL element in one pixel region to the colored layer in another adjacent pixel region, but also through the colored layer in one pixel region is adjacent. Light that is effective for display incident on the colored layers in other pixel regions can also be absorbed, and the occurrence of color shift in the display image when viewed from an oblique direction can be effectively suppressed.
第２遮光層においては、遮光層の光学濃度よりも第２遮光層の光学濃度が低いことが好ましい。より具体的には、第２遮光層の光学濃度が０．５〜１．５の範囲内であることが好ましく、中でも０．７〜１．３の範囲内であることが好ましい。ここで、第２遮光層をフォトリソグラフィ法で形成する場合、通常、基板上には位置合わせのためのアライメントマークが予め形成される。第２遮光層の光学濃度が高すぎると、第２遮光層をパターニングする際にアライメントマークを検出しにくくなり位置合わせを行うことが困難になる場合がある。また、第２遮光層の光学濃度が低すぎると、隣接画素からの光漏れを防ぐことが困難になる場合がある。なお、第２遮光層の光学濃度が高い場合でも、アライメントマークを検出する際に照射する光の強度を調整することによりアライメントマークを検出することは可能である。
ここで、光学濃度は、例えば、分光測色計により測色し、分光のＹ値から光学濃度を算出することができる。分光測色計としては、ＯＬＹＭＰＵＳ（株）社製、分光測色計を用いることができる。
In the second light shielding layer, the optical density of the second light shielding layer is preferably lower than the optical density of the light shielding layer. More specifically, the optical density of the second light-shielding layer is preferably in the range of 0.5 to 1.5, and more preferably in the range of 0.7 to 1.3. Here, when the second light shielding layer is formed by photolithography, an alignment mark for alignment is usually formed on the substrate in advance. If the optical density of the second light-shielding layer is too high, it may be difficult to detect alignment marks when patterning the second light-shielding layer, making alignment difficult. Further, if the optical density of the second light shielding layer is too low, it may be difficult to prevent light leakage from adjacent pixels. Even when the optical density of the second light-shielding layer is high, it is possible to detect the alignment mark by adjusting the intensity of light irradiated when detecting the alignment mark.
Here, for example, the optical density can be measured by a spectrocolorimeter, and the optical density can be calculated from the Y value of the spectrum. As the spectrocolorimeter, a spectrocolorimeter manufactured by OLYMPUS Co., Ltd. can be used.
また、第２遮光層を有する場合、第２遮光層の可視光領域での平均透過率としては、具体的に５％〜２５％の範囲内であることが好ましく、中でも１０％〜２５％の範囲内であることが好ましい。第２遮光層をフォトリソグラフィ法で形成する場合に、第２遮光層の平均透過率が低すぎると、第２遮光層をパターニングする際に上述のアライメントマークを検出しにくくなり位置合わせを行うことが困難になる場合がある。また、第２遮光層の平均透過率が高すぎると、隣接画素からの光漏れを防ぐことが困難になる場合がある。なお、第２遮光層の平均透過率が低い場合でも、アライメントマークを検出する際に照射する光の強度を調整することによりアライメントマークを検出することは可能である。
ここで、「可視光領域」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内をいう。
透過率の測定方法としては、サンプル基板（透明基板）の透過率をリファレンス（１００％）として、第２遮光層の透過率を測定する方法を採用することができる。装置としては、紫外・可視分光光度計（例えば日立Ｕ-４０００等）、またはフォトダイオードアレイを検出器としている装置（例えば大塚電子ＭＣＰＤ等）を用いることができる。可視光領域での最大透過率および最小透過率は波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内における透過率のうち最大値および最小値であり、可視光領域での平均透過率は波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内における透過率を平均した値である。
When the second light-shielding layer is included, the average transmittance in the visible light region of the second light-shielding layer is specifically preferably in the range of 5% to 25%, and more preferably 10% to 25%. It is preferable to be within the range. When the second light-shielding layer is formed by photolithography, if the average transmittance of the second light-shielding layer is too low, the alignment mark is difficult to detect when the second light-shielding layer is patterned. May be difficult. Further, if the average transmittance of the second light shielding layer is too high, it may be difficult to prevent light leakage from adjacent pixels. Even when the average transmittance of the second light-shielding layer is low, it is possible to detect the alignment mark by adjusting the intensity of light irradiated when detecting the alignment mark.
Here, the “visible light region” refers to a wavelength range of 400 nm to 700 nm.
As a method for measuring the transmittance, a method of measuring the transmittance of the second light shielding layer using the transmittance of the sample substrate (transparent substrate) as a reference (100%) can be employed. As the apparatus, an ultraviolet / visible spectrophotometer (for example, Hitachi U-4000) or an apparatus having a photodiode array as a detector (for example, Otsuka Electronics MCPD) can be used. The maximum transmittance and the minimum transmittance in the visible light region are the maximum value and the minimum value among the transmittances in the wavelength range of 400 nm to 700 nm, and the average transmittance in the visible light region is in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. It is a value obtained by averaging the transmittance.
また、遮光層が２層形成されている場合、第２遮光層の幅の調整方法としては、遮光層上に第２遮光層が配置されていれば特に限定されるものではないが、例えば、一の画素領域の有機ＥＬ素子における最低有効角を有する光の進行方向と重なるように第２遮光層の幅を調整する方法を挙げることができる。より具体的には、一の画素領域の着色層を透過しさらに隣接する他の画素領域の着色層を透過する最低有効角を有する光を吸収することができる位置に第２遮光層が配置されるように、第２遮光層の幅を調整することが好ましい。
また、第２遮光層の幅としては、遮光層上に第２遮光層が配置されていれば特に限定されるものではなく、遮光層の幅と同じであってもよく、遮光層の幅よりも小さくてもよく、遮光層の幅よりも大きくてもよい。中でも、第２遮光層の幅は遮光層の幅と同じである、または、第２遮光層の幅は遮光層の幅よりも大きいことが好ましく、特に、第２遮光層の幅は遮光層の幅よりも大きいことが好ましい。第２遮光層の幅が遮光層３の幅よりも大きい場合には、第２遮光層によって、一の画素領域の有機ＥＬ素子から隣接する他の画素領域の着色層に直接入射する表示に有効な光だけでなく、一の画素領域の着色層を通過して隣接する他の画素領域の着色層に入射する表示に有効な光も吸収することができ、斜め方向から見たときの表示画像の色ずれの発生を効果的に抑制することができる。また、遮光層上に第２遮光層を配置する際に位置合わせを容易に行うことができる。なお、通常、第２遮光層は、遮光層よりも光学濃度が低いので、幅が大きくても開口率を大きく低下させることはない。また、遮光層によって、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光のうち、一の画素領域の着色層を通過して隣接する他の画素領域の着色層に入射する表示に有効な光の大半を吸収することができるので、遮光層の幅が第２遮光層の幅よりも小さくてもかまわない。
In the case where two light shielding layers are formed, the method for adjusting the width of the second light shielding layer is not particularly limited as long as the second light shielding layer is disposed on the light shielding layer. A method of adjusting the width of the second light shielding layer so as to overlap with the traveling direction of light having the lowest effective angle in the organic EL element in one pixel region can be mentioned. More specifically, the second light-shielding layer is disposed at a position capable of absorbing light having the lowest effective angle that passes through the colored layer of one pixel region and further passes through the colored layer of another adjacent pixel region. As described above, it is preferable to adjust the width of the second light shielding layer.
Further, the width of the second light shielding layer is not particularly limited as long as the second light shielding layer is disposed on the light shielding layer, and may be the same as the width of the light shielding layer. May be smaller or larger than the width of the light shielding layer. Among them, the width of the second light-shielding layer is preferably the same as the width of the light-shielding layer, or the width of the second light-shielding layer is preferably larger than the width of the light-shielding layer. It is preferable that it is larger than the width. When the width of the second light-shielding layer is larger than the width of the light-shielding layer 3, the second light-shielding layer is effective for direct incidence from the organic EL element in one pixel region to the colored layer in another adjacent pixel region. Can absorb not only light but also light that is effective for display that passes through the colored layer of one pixel region and enters the colored layer of another adjacent pixel region. The occurrence of color misregistration can be effectively suppressed. Further, alignment can be easily performed when the second light shielding layer is disposed on the light shielding layer. In general, since the second light shielding layer has an optical density lower than that of the light shielding layer, the aperture ratio is not greatly reduced even if the width is large. In addition, the light shielding layer is effective for displaying light that is effective for display from the organic EL element in one pixel region and is incident on the color layer in another adjacent pixel region through the colored layer in one pixel region. Since most of the light can be absorbed, the width of the light shielding layer may be smaller than the width of the second light shielding layer.
第２遮光層に用いられる材料、厚さ、形成方法等については、上述した遮光層において説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The material, thickness, formation method, and the like used for the second light shielding layer can be the same as those described for the light shielding layer described above, and thus description thereof is omitted here.
３．着色層
本態様における着色層は、有機ＥＬ素子上にパターン状に形成され、複数色の着色層を有するものである。
3. Colored layer The colored layer in this embodiment is formed in a pattern on the organic EL element and has a plurality of colored layers.
着色層は、例えば赤、緑、青の３色の着色層を有する。着色層の色としては、赤、緑、青の３色を少なくとも含むものであればよく、例えば、赤、緑、青の３色、赤、緑、青、黄や赤、緑、青、白の４色、または、赤、緑、青、黄、シアンの５色等とすることもできる。赤、緑、青、白の４色の場合は、赤、緑、青の３色の着色層と、後述する白色層とが用いられる。 The colored layer has, for example, three colored layers of red, green, and blue. The color of the colored layer may be any color as long as it contains at least three colors of red, green, and blue. For example, three colors of red, green, and blue, red, green, blue, yellow, red, green, blue, and white Or five colors such as red, green, blue, yellow, and cyan. In the case of four colors of red, green, blue and white, a colored layer of three colors of red, green and blue and a white layer which will be described later are used.
着色層は、例えば色材をバインダ樹脂中に分散させたものである。
色材としては、各色の顔料や染料等を挙げることができる。赤色着色層に用いられる色材としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。緑色着色層に用いられる色材としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。青色着色層に用いられる色材としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料や染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。
着色層には、光重合開始剤や、必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を含有させてもよい。
The colored layer is, for example, a color material dispersed in a binder resin.
Examples of the color material include pigments and dyes of each color. Examples of the color material used for the red colored layer include perylene pigments, lake pigments, azo pigments, quinacridone pigments, anthraquinone pigments, anthracene pigments, and isoindoline pigments. Examples of the color material used in the green coloring layer include phthalocyanine pigments such as halogen polysubstituted phthalocyanine pigments or halogen polysubstituted copper phthalocyanine pigments, triphenylmethane basic dyes, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments. And pigments. Examples of the color material used in the blue colored layer include copper phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, indanthrene pigments, indophenol pigments, cyanine pigments, dioxazine pigments, and the like. These pigments and dyes may be used alone or in combination of two or more.
As the binder resin, for example, a photosensitive resin having a reactive vinyl group such as acrylate, methacrylate, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber is used.
The colored layer may contain a photopolymerization initiator and, if necessary, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like.
着色層の配列は特に限定されるものではなく、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の公知の配列とすることができる。 The arrangement of the colored layers is not particularly limited, and may be a known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type.
隣接する着色層の間には隙間があってもよく無くてもよいが、中でも隙間が無いほうが好ましい。 There may or may not be a gap between adjacent colored layers, but it is preferable that there is no gap among them.
また、着色層が形成されている同一平面上には、上記色材を含有せず、上記バインダ樹脂を含有し、有機ＥＬ素子からの表示に有効な光を透過する白色層が形成されていてもよい。例えば、赤色着色層、緑色着色層、青色着色層および白色層が形成されている場合、表示時に赤、緑、青の３色の画素のうち少なくとも１色の画素が点灯しないため、隣接画素への光漏れが生じやすい。これに対し本態様においては、隣接画素への光漏れを抑制することができるため、白色層が形成されている場合に特に有用である。 Further, on the same plane on which the colored layer is formed, a white layer that does not contain the color material, contains the binder resin, and transmits light effective for display from the organic EL element is formed. Also good. For example, when a red colored layer, a green colored layer, a blue colored layer, and a white layer are formed, at least one pixel of three colors of red, green, and blue is not lit at the time of display. The light leaks easily. On the other hand, in this aspect, since light leakage to the adjacent pixels can be suppressed, it is particularly useful when a white layer is formed.
着色層の膜厚は、カラーフィルタにおける一般的な着色層の膜厚と同様とすることができ、例えば１μｍ〜５μｍの範囲内で設定することができる。
着色層の形成方法としては、複数色の着色層を同一平面上に配列可能な方法であればよく、例えばフォトリソグラフィ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。
白色層の膜厚および形成方法は、着色層と同様である。
The film thickness of the colored layer can be the same as the film thickness of a general colored layer in a color filter, and can be set, for example, within a range of 1 μm to 5 μm.
As a method for forming the colored layer, any method can be used as long as a plurality of colored layers can be arranged on the same plane, and examples thereof include a photolithography method, an inkjet method, and a printing method.
The thickness and formation method of the white layer are the same as those of the colored layer.
４．基板
本態様における基板は有機ＥＬ素子を支持するものである。
本態様においては有機ＥＬ表示装置の着色層側から光を取り出すため、基板は透明であってもよく不透明であってもよい。基板としては、一般的に有機ＥＬ表示装置に用いられているものを用いることができ、例えば、英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない無機基板、および、樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する樹脂基板等を挙げることができる。中でも無機基板を用いることが好ましく、無機基板の中でもガラス基板を用いることが好ましい。さらには、ガラス基板の中でも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、かつ、ガラス中にアルカリ成分を含まないことから、基板に好適に用いることができるからである。
4). Substrate The substrate in this embodiment supports the organic EL element.
In this embodiment, in order to extract light from the colored layer side of the organic EL display device, the substrate may be transparent or opaque. As the substrate, those generally used in organic EL display devices can be used, for example, non-flexible inorganic substrates such as British glass, Pyrex (registered trademark) glass, synthetic quartz plate, and the like, Examples thereof include a resin substrate having flexibility such as a resin film and an optical resin plate. Among them, it is preferable to use an inorganic substrate, and it is preferable to use a glass substrate among inorganic substrates. Furthermore, it is preferable to use an alkali-free type glass substrate among the glass substrates. This is because the alkali-free type glass substrate is excellent in dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and does not contain an alkali component in the glass, and thus can be suitably used for the substrate.
５．有機ＥＬ素子
本態様における有機ＥＬ素子は、陽極および陰極の間に発光層を含む有機ＥＬ層が形成されたものであり、例えば、基板上にパターン状に形成された背面電極層と、背面電極層の開口部に形成された絶縁層と、背面電極層上に形成され、発光層を含む有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層上に形成された透明電極層とを有することができる。
有機ＥＬ素子は、白色を発光するものであってもよく、赤色、緑色、青色等の各色を発光するものであってもよいが、白色を発光するものであることが好ましい。白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置は隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれが生じやすいため、本態様の構成が有用である。
以下、有機ＥＬ素子における各構成について説明する。
5. Organic EL Element The organic EL element in the present embodiment is an element in which an organic EL layer including a light emitting layer is formed between an anode and a cathode. For example, a back electrode layer formed in a pattern on a substrate, and a back electrode The insulating layer formed in the opening of the layer, the organic EL layer formed on the back electrode layer and including the light emitting layer, and the transparent electrode layer formed on the organic EL layer can be included.
The organic EL element may emit white light or may emit each color such as red, green, and blue, but preferably emits white light. Since the white light emission type organic EL display device is likely to cause a color shift of a display image due to light leakage to an adjacent pixel, the configuration of this aspect is useful.
Hereinafter, each structure in an organic EL element is demonstrated.
（１）有機ＥＬ層
有機ＥＬ層は、少なくとも発光層を含む１層もしくは複数層の有機層を有するものである。発光層以外の有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層等を挙げることができる。正孔輸送層は、正孔注入層に正孔輸送の機能を付与することにより、正孔注入層と一体化される場合が多い。また、有機ＥＬ層を構成する有機層としては、正孔ブロック層や電子ブロック層のような正孔もしくは電子の突き抜けを防止し、さらに励起子の拡散を防止して発光層内に励起子を閉じ込めることにより、再結合効率を高めるための層等を挙げることができる。有機ＥＬ層の構成としては、一般的な構成であればよく、発光層のみ、正孔注入層および発光層の順に積層された構成、正孔注入層、発光層および電子注入層の順に積層された構成、正孔注入層、正孔ブロック層、発光層および電子注入層の順に積層された構成、正孔注入層、発光層および電子輸送層の順に積層された構成等を例示することができる。
(1) Organic EL layer The organic EL layer has one or more organic layers including at least a light emitting layer. Examples of the organic layer constituting the organic EL layer other than the light emitting layer include a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer. The hole transport layer is often integrated with the hole injection layer by adding a hole transport function to the hole injection layer. In addition, as an organic layer constituting the organic EL layer, holes or electrons such as a hole blocking layer and an electron blocking layer are prevented from penetrating, and further, exciton diffusion is prevented and excitons are placed in the light emitting layer. By confining, a layer for increasing the recombination efficiency can be cited. The configuration of the organic EL layer may be a general configuration, in which only the light-emitting layer, the structure in which the hole injection layer and the light-emitting layer are stacked in this order, the hole injection layer, the light-emitting layer, and the electron injection layer are stacked in this order. The structure in which the hole injection layer, the hole blocking layer, the light emitting layer, and the electron injection layer are stacked in this order, the structure in which the hole injection layer, the light emitting layer, and the electron transport layer are stacked in this order can be exemplified. .
発光層は白色発光層であってもよく、複数色の発光層を有していてもよいが、白色発光層であることが好ましい。上述のように、白色発光タイプの有機ＥＬ表示装置は隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれが生じやすいため、本態様の構成が有用である。白色発光層に用いられる発光材料は単一の化合物で構成されることはほとんどなく、一般的には２つないし３つの色の異なる発光材料が用いられる。この場合、白色発光層の発光スペクトルは、各色の発光材料のスペクトルを併せた形となる。 The light emitting layer may be a white light emitting layer and may have a plurality of color light emitting layers, but is preferably a white light emitting layer. As described above, since the white light emission type organic EL display device is likely to cause a color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels, the configuration of this aspect is useful. The light emitting material used for the white light emitting layer is hardly composed of a single compound, and generally light emitting materials having two to three colors are used. In this case, the emission spectrum of the white light-emitting layer is a combination of the spectra of the light-emitting materials of the respective colors.
有機ＥＬ層を構成する各層の材料および形成方法等については、一般的な有機ＥＬ素子と同様とすることができる。 About the material of each layer which comprises an organic EL layer, a formation method, etc., it can be made to be the same as that of a general organic EL element.
（２）透明電極層および背面電極層
透明電極層および背面電極層は、発光層に電圧を印加し、発光層で発光を起こさせるために設けられるものであり、一方が陽極、他方が陰極である。背面電極層は基板および有機ＥＬ層の間に形成され、透明電極層は有機ＥＬ層上に形成される。
透明電極層および背面電極層の材料および形成方法等については、一般的な有機ＥＬ素子と同様とすることができる。
(2) Transparent electrode layer and back electrode layer The transparent electrode layer and the back electrode layer are provided to apply a voltage to the light emitting layer and cause light emission in the light emitting layer. One is an anode and the other is a cathode. is there. The back electrode layer is formed between the substrate and the organic EL layer, and the transparent electrode layer is formed on the organic EL layer.
About a material, a formation method, etc. of a transparent electrode layer and a back electrode layer, it can be made to be the same as that of a general organic EL element.
６．絶縁層
本態様における絶縁層は基板上に形成され、画素領域間に配置されるものである。また、絶縁層は、通常、基板上の画素領域にパターン状に形成された背面電極層の開口部に形成され、隣接する背面電極層間で導通したり、透明電極層および背面電極層間で導通したりするのを防ぐために形成されるものである。絶縁層の材料としては、有機ＥＬ表示装置における一般的な絶縁層の材料を用いることができ、例えば、感光性ポリイミド樹脂、アクリル系樹脂等の光硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、無機材料等を挙げることができる。
6). Insulating layer The insulating layer in this embodiment is formed on the substrate and is disposed between the pixel regions. The insulating layer is usually formed in the opening of the back electrode layer formed in a pattern in the pixel region on the substrate, and is conducted between adjacent back electrode layers, or is conducted between the transparent electrode layer and the back electrode layer. It is formed in order to prevent As a material of the insulating layer, a material of a general insulating layer in an organic EL display device can be used. For example, a photo-curable resin such as a photosensitive polyimide resin or an acrylic resin, a thermosetting resin, an inorganic material, or the like. Can be mentioned.
絶縁層の厚みとしては、画素を画定し、隣接する背面電極層の間ならびに透明電極層および背面電極層の間を絶縁することができる程度の厚みであれば特に限定されるものではないが、例えば、０．３μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましく、特に１μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。 The thickness of the insulating layer is not particularly limited as long as it defines a pixel and can insulate between the adjacent back electrode layer and between the transparent electrode layer and the back electrode layer. For example, it is preferably within a range of 0.3 μm to 100 μm, more preferably within a range of 0.5 μm to 50 μm, and particularly preferably within a range of 1 μm to 20 μm.
絶縁層の形成方法としては、基板上に絶縁層をパターン状に形成することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、印刷法、フォトリソグラフィ法等が挙げられる。 The method for forming the insulating layer is not particularly limited as long as the insulating layer can be formed in a pattern on the substrate, and examples thereof include a printing method and a photolithography method.
７．その他の構成
本態様の有機ＥＬ表示装置は、上述した構成を有していれば特に限定されず、必要に応じて他の構成を適宜選択して追加することができる。
以下、このような構成について説明する。
7). Other Configurations The organic EL display device of this embodiment is not particularly limited as long as it has the above-described configuration, and other configurations can be appropriately selected and added as necessary.
Hereinafter, such a configuration will be described.
（１）バリア層
本態様の有機ＥＬ表示装置においては、図１等に示すように、有機ＥＬ素子２および絶縁層３を覆うようにバリア層６が形成されていることが好ましい。大気中の酸素および水蒸気等により有機ＥＬ素子が劣化することを抑制することができるからである。バリア層としては、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができ、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン等の無機酸化物をスパッタリング法や真空蒸着法等の物理蒸着法により形成したものを挙げることができる。
(1) Barrier Layer In the organic EL display device of this embodiment, it is preferable that the barrier layer 6 is formed so as to cover the organic EL element 2 and the insulating layer 3 as shown in FIG. This is because deterioration of the organic EL element due to oxygen, water vapor, etc. in the atmosphere can be suppressed. The barrier layer can be the same as that used in general organic EL display devices. For example, an inorganic oxide such as silicon oxide, silicon nitride, silicon carbide, aluminum oxide, and titanium oxide is sputtered or vacuumed. Examples thereof include those formed by physical vapor deposition such as vapor deposition.
（２）屈折率調整層
本態様の有機ＥＬ表示装置がバリア層を有する場合は、バリア層上に屈折率調整層を有していてもよい。有機ＥＬ素子および着色層の屈折率差による界面反射を抑制し、光取り出し効率を向上させることができるからである。
具体的な屈折率調整層については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(2) Refractive Index Adjustment Layer When the organic EL display device of this embodiment has a barrier layer, it may have a refractive index adjustment layer on the barrier layer. This is because the interface reflection due to the difference in refractive index between the organic EL element and the colored layer can be suppressed and the light extraction efficiency can be improved.
Since the specific refractive index adjustment layer can be the same as that used in a general organic EL display device, the description thereof is omitted here.
（３）対向基板
本態様の有機ＥＬ表示装置は、図１等に示すように、通常、対向基板８を有する。対向基板は、有機ＥＬ表示装置における遮光層、着色層、有機ＥＬ素子および絶縁層等を保護するために配置される。有機ＥＬ表示装置のカラーフィルタが形成された表面上に配置されることから、通常、透明性を有する。
対向基板の透明性としては、特に限定されないが、例えば対向基板の全光線透過率が、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。なお、透明基材の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ ７１０５で規定する方法により測定した値（全光線）とする。
(3) Opposing Substrate The organic EL display device of this aspect usually has a counter substrate 8 as shown in FIG. The counter substrate is disposed to protect the light shielding layer, the colored layer, the organic EL element, the insulating layer, and the like in the organic EL display device. Since it is disposed on the surface on which the color filter of the organic EL display device is formed, it usually has transparency.
Although it does not specifically limit as transparency of a counter substrate, For example, it is preferable that the total light transmittance of a counter substrate is 80% or more, and it is more preferable that it is 90% or more. In addition, let the total light transmittance of a transparent base material be the value (total light) measured by the method prescribed | regulated by JISK7105.
具体的な対向基板については、基板に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 A specific counter substrate can be the same as that used for the substrate, and thus description thereof is omitted here.
基板と対向基板とは、例えば接着層を介して貼り合わせて配置される。接着層については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 A board | substrate and a counter substrate are bonded together and arrange | positioned through an adhesive layer, for example. Since the adhesive layer can be the same as that used in a general organic EL display device, the description thereof is omitted here.
（４）ＴＦＴ素子
本態様の有機ＥＬ表示装置においては、通常、基板上にＴＦＴ素子が形成される。ＴＦＴ素子については、一般的な有機ＥＬ表示装置に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
(4) TFT element In the organic EL display device of this embodiment, a TFT element is usually formed on a substrate. Since the TFT element can be the same as that used in a general organic EL display device, description thereof is omitted here.
８．有機ＥＬ表示装置の製造方法
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法としては、特に限定されず、例えば、後述する「Ｂ．有機ＥＬ表示装置の製造方法」の項で説明する方法を好適に用いることができる。
8). Manufacturing method of organic EL display device The manufacturing method of the organic EL display device according to this aspect is not particularly limited, and for example, the method described in the section “B. Manufacturing method of organic EL display device” described later is preferably used. be able to.
９．用途
本態様の有機ＥＬ表示装置の用途としては、高精細なディスプレイに好適であり、例えば、モバイル機種のノートパソコンや多機能端末機器（高機能端末機器ともいう）等のモバイル電子機器用が挙げられる。
9. Applications The organic EL display device according to this aspect is suitable for high-definition displays. For example, it can be used for mobile electronic devices such as mobile notebook computers and multifunction terminal devices (also referred to as high-function terminal devices). It is done.
ＩＩ．第２態様
本態様の有機ＥＬ表示装置は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層とを有するものであって、上記着色層の形状および上記着色層の間の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない形状および幅であることを特徴とするものである。
II. Second Aspect The organic EL display device according to the present aspect includes a substrate, an organic EL element formed on the substrate and disposed in a pixel region, and an insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions. A plurality of colored layers formed on the organic EL element and disposed in the pixel region, wherein the shape of the colored layer and the width between the colored layers is equal to that of the one pixel region. The shape and width are such that light effective for display from the organic EL element does not pass through the colored layer of the other adjacent pixel region.
本態様の有機ＥＬ表示装置について図を用いて説明する。
図９は本態様の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図である。図９に示すように、本態様の有機ＥＬ表示装置１０は、基板１と、基板１上に形成され画素領域９に配置された有機ＥＬ素子２と、基板１上に形成され画素領域９の間に配置された絶縁層３と、有機ＥＬ素子２上に形成され画素領域９に配置された赤色着色層４Ｒ、緑色着色層４Ｇおよび青色着色層４Ｂを含む複数色の着色層４とを有する。
本態様においては、上記着色層４の形状および上記着色層４の間の幅が、一の上記画素領域９ａの有機ＥＬ素子２からの表示に有効な光が隣接する上記画素領域９ｂの着色層４を透過しない形状および幅であることを特徴とする。図９においては、着色層４の形状および着色層４の間の幅が、有機ＥＬ素子２における最低有効角を有する光Ｌｍｉｎの進行方向と重ならないように調整されている例について示している。
なお、図９において説明していない符号については、図１等で説明した符号と同様であるため、ここでの説明は省略する。
The organic EL display device of this embodiment will be described with reference to the drawings.
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing an example of the organic EL display device of this embodiment. As shown in FIG. 9, the organic EL display device 10 of this aspect includes a substrate 1, an organic EL element 2 formed on the substrate 1 and disposed in the pixel region 9, and a pixel region 9 formed on the substrate 1. And an insulating layer 3 disposed therebetween, and a plurality of colored layers 4 including a red colored layer 4R, a green colored layer 4G, and a blue colored layer 4B formed on the organic EL element 2 and disposed in the pixel region 9 .
In the present embodiment, the shape of the colored layer 4 and the width between the colored layers 4 are such that the light effective for display from the organic EL element 2 in the one pixel region 9a is adjacent to the colored layer in the pixel region 9b. 4 is a shape and a width that does not pass through. FIG. 9 shows an example in which the shape of the colored layer 4 and the width between the colored layers 4 are adjusted so as not to overlap the traveling direction of the light L min having the lowest effective angle in the organic EL element 2. .
Note that the reference numerals not described in FIG. 9 are the same as the reference numerals described in FIG.
本態様によれば、着色層の形状および着色層同士の間隔が上述した形状および間隔を有することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。 According to this aspect, the organic EL display device capable of suppressing the color shift of the display image due to the light leakage to the adjacent pixels by having the shape of the colored layer and the interval between the colored layers as described above. It can be.
この理由について簡単に説明する。
まず、従来の有機ＥＬ表示装置において、遮光層を有さない場合、着色層の形状については、主に製造のし易さの観点から、例えば、図１３に示すように、隣接する着色層４同士の一部が画素領域９の間で積層される場合や、また、例えば有機ＥＬ表示装置１００の輝度を向上させる観点から図１４に示すように、画素領域９の有機ＥＬ素子２の幅に合わせて着色層４の間の幅が設けられていた。しかしながら、従来の有機ＥＬ表示装置においては、着色層の形状および着色層間の幅と、一の画素領域から隣接する他の画素領域へ進行する表示に有効な光との関係については十分に検討されていないことから、例えば、一の画素領域９ａの有機ＥＬ素子からの表示に有効な光においては、図１３、図１４に示すように一部が光Ｌ１２に示すように隣接する他の画素領域９ｂの着色層４Ｇに直接入射して透過されたり、図１４に示すように一部が光Ｌ１３のように一の画素領域９ａの着色層４Ｒおよび隣接する他の画素領域９ｂの着色層４Ｇを透過して観察されたり、斜め方向から見た場合に、光Ｌ１２や光Ｌ１３が観察されることにより、表示画像の色ずれが生じていた。
図１３および図１４は、従来の有機ＥＬ表示装置の一例を示す概略断面図であり、説明していない符号については図９で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
The reason for this will be briefly described.
First, in the conventional organic EL display device, when there is no light-shielding layer, the shape of the colored layer is mainly from the viewpoint of ease of production, for example, as shown in FIG. In the case where a part of each other is stacked between the pixel regions 9 or, for example, from the viewpoint of improving the luminance of the organic EL display device 100, the width of the organic EL element 2 in the pixel region 9 is set as shown in FIG. In addition, a width between the colored layers 4 was provided. However, in the conventional organic EL display device, the relationship between the shape of the colored layer and the width between the colored layers and the light effective for display traveling from one pixel region to another adjacent pixel region is sufficiently studied. Therefore, for example, in the light effective for display from the organic EL element in one pixel region 9a, as shown in FIGS. 13 and 14, a part of other pixel regions adjacent to each other as shown in the light L12. Directly incident on and transmitted through the colored layer 4G of 9b, or a part of the colored layer 4R in one pixel region 9a and the colored layer 4G in another adjacent pixel region 9b as shown in FIG. When the light L12 and the light L13 are observed when viewed through and viewed from an oblique direction, a color shift of the display image occurs.
FIGS. 13 and 14 are schematic cross-sectional views showing an example of a conventional organic EL display device. Reference numerals that are not described can be the same as those described in FIG. Omitted.
これに対して、本態様の有機ＥＬ表示装置においては、一の画素領域から隣接する他の画素領域へ進行する表示に有効な光を基準として、着色層の形状および着色層同士の幅が調整されるため、図９に示すように光Ｌ１２に相当する光Ｌ２と接触しないように着色層の形状を調整することができる。また、光Ｌ１３に相当する光については生じないようにすることができる。
よって、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置とすることができる。
On the other hand, in the organic EL display device according to this aspect, the shape of the colored layer and the width between the colored layers are adjusted with reference to light effective for display traveling from one pixel region to another adjacent pixel region. Therefore, as shown in FIG. 9, the shape of the colored layer can be adjusted so as not to contact the light L2 corresponding to the light L12. Further, light corresponding to the light L13 can be prevented from being generated.
Therefore, an organic EL display device capable of suppressing color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels can be obtained.
以下、本態様の有機ＥＬ表示装置の詳細について説明する。
なお、本態様における表示に有効な光、基板、有機ＥＬ素子、絶縁層、その他の構成、用途等については、上述した「Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
Hereinafter, the details of the organic EL display device of this embodiment will be described.
Note that the light, substrate, organic EL element, insulating layer, other configurations, applications, and the like that are effective for display in this aspect may be the same as those described in the section “I. First aspect” described above. Since it can do, description here is abbreviate | omitted.
１．着色層
本態様における着色層は、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置されたものである。
ここで、「着色層が有機ＥＬ素子上に形成される」とは、着色層が少なくとも絶縁層と平面視上重なるように形成されることをいい、有機ＥＬ素子上に直接着色層が形成される場合だけでなく、有機ＥＬ素子上に他の層を介して着色層が形成される場合を含む。
1. Colored layer The colored layer in this embodiment is formed on the organic EL element and disposed in the pixel region.
Here, “the colored layer is formed on the organic EL element” means that the colored layer is formed so as to overlap at least the insulating layer in plan view, and the colored layer is formed directly on the organic EL element. The case where a colored layer is formed on the organic EL element through another layer is included.
（１）着色層の形状および着色層の間の幅
本態様においては、着色層の形状が、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の画素領域の着色層を透過しない形状であること特徴とする。また、着色層の間の幅が、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の画素領域の着色層を透過しない形状であることを特徴とする。
「着色層の形状および着色層の間の幅が、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の画素領域の着色層を透過しない形状および幅である」とは、着色層の形状および着色層の間の幅が、一の画素領域の有機ＥＬ素子から隣接する他の上記画素領域に進行する表示に有効な光を透過しないように調整された幅であることをいう。また、本態様においては、少なくとも異なる色の着色層の間の幅が上述の幅を有する。
以下、着色層の形状および着色層の間の幅の調整方法について説明する。
(1) Colored layer shape and width between colored layers In this aspect, the colored layer shape is a colored layer in another pixel region adjacent to light effective for display from an organic EL element in one pixel region. It is the shape which does not permeate | transmit. Further, the width between the colored layers is a shape in which light effective for display from the organic EL element in one pixel region does not pass through the colored layers in the other adjacent pixel regions.
“The shape of the colored layer and the width between the colored layers are such that light effective for display from the organic EL element of one pixel region does not pass through the colored layer of another adjacent pixel region” In addition, the shape of the colored layer and the width between the colored layers are widths adjusted so as not to transmit light effective for display proceeding from the organic EL element in one pixel region to the other adjacent pixel region. Say. In this embodiment, at least the width between the colored layers of different colors has the above-described width.
Hereinafter, a method for adjusting the shape of the colored layer and the width between the colored layers will be described.
本態様においては、一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光のうち、隣接する他の画素領域の着色層に直接入射する表示に有効な光が着色層を透過しないように、着色層の形状および着色層の間の幅を調整することが好ましい。上述した「Ｉ．第１態様」の項で説明したように、隣接する他の画素領域の着色層に直接入射する表示に有効な光は、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれへの影響が大きいからである。 In this aspect, out of the light effective for display from the organic EL element in one pixel region, the light effective for display that is directly incident on the colored layer in another adjacent pixel region does not pass through the colored layer. It is preferable to adjust the shape of the colored layer and the width between the colored layers. As described in the section “I. First aspect” described above, the light that is effective for display that directly enters the colored layer of another adjacent pixel region causes a color shift of the display image due to light leakage to the adjacent pixel. This is because the influence of is great.
一の画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光のうち、隣接する他の画素領域の着色層に直接入射する光が着色層を透過しないように、着色層の形状および着色層の間の幅を調整する方法としては、例えば、一の画素領域の有機ＥＬ素子における最低有効角を有する光の進行方向と重ならないように着色層の形状および着色層の間の幅を調整する方法を好適に用いることができる。 Among the light effective for display from the organic EL element in one pixel region, the light directly incident on the colored layer in the other adjacent pixel region is prevented from passing through the colored layer and between the colored layers. As a method for adjusting the width of the colored layer, for example, a method of adjusting the shape of the colored layer and the width between the colored layers so as not to overlap the light traveling direction having the lowest effective angle in the organic EL element of one pixel region. It can be used suitably.
上述した着色層の形状および着色層の間の幅の調整方法においては、例えば、図９に示すように、一の画素領域９ａの有機ＥＬ素子２における最低有効角を有する光Ｌｍｉｎが直接着色層４Ｇを入射しないように、着色層の形状および着色層の間の幅を調整する。着色層の形状としては、例えば、厚さ、断面形状等を調整する。 In the above-described method for adjusting the shape of the colored layer and the width between the colored layers, for example, as shown in FIG. 9, the light L min having the lowest effective angle in the organic EL element 2 in one pixel region 9a is directly colored. The shape of the colored layer and the width between the colored layers are adjusted so that the layer 4G does not enter. As the shape of the colored layer, for example, the thickness, the cross-sectional shape and the like are adjusted.
また、着色層は、通常、有機ＥＬ素子の大きさと同等、または有機ＥＬ素子の大きさよりも大きく形成される。そのため、着色層の間の幅は、通常、絶縁層の幅と同等または絶縁層の幅よりも小さくなるように形成され、なかでも絶縁層の幅よりも小さくなるように形成されることが好ましい。有機ＥＬ表示装置の製造工程において、有機ＥＬ素子および着色層を平面視上重なるように形成しやすいからである。 The colored layer is usually formed to be equal to or larger than the size of the organic EL element. For this reason, the width between the colored layers is usually formed to be equal to or smaller than the width of the insulating layer, and more preferably to be smaller than the width of the insulating layer. . This is because in the manufacturing process of the organic EL display device, it is easy to form the organic EL element and the colored layer so as to overlap in plan view.
具体的な着色層の形状および着色層の間の幅については、有機ＥＬ素子の材料、形状、配置等に応じて適宜決定される。 The specific shape of the colored layer and the width between the colored layers are appropriately determined according to the material, shape, arrangement, and the like of the organic EL element.
（２）着色層
本態様においては、隣接する着色層間には隙間がある。
着色層の形状を所望の形状で形成する方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法を用いた場合は、露光条件、現像条件、焼成条件等を調整して着色層の形状を調整する方法が挙げられる。また、例えばインクジェット法においては、着色層用組成物の調製、吐出条件、乾燥条件、焼成条件等を調整する方法が挙げられる。
(2) Colored layer In this aspect, there is a gap between adjacent colored layers.
Examples of the method for forming the colored layer in a desired shape include a method of adjusting the shape of the colored layer by adjusting exposure conditions, development conditions, firing conditions, and the like when a photolithography method is used. . Further, for example, in the ink jet method, a method of adjusting the preparation of the composition for the colored layer, the discharge conditions, the drying conditions, the firing conditions, and the like can be mentioned.
着色層について、上記の点以外は、「Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 About a colored layer, since it can be the same as that of the content demonstrated by the term of "I. 1st aspect" except said point, description here is abbreviate | omitted.
２．有機ＥＬ表示装置の製造方法
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法としては、特に限定されず、例えば、後述する「Ｂ．有機ＥＬ表示装置の製造方法」の項で説明する方法を好適に用いることができる。
2. Manufacturing method of organic EL display device The manufacturing method of the organic EL display device according to this aspect is not particularly limited, and for example, the method described in the section “B. Manufacturing method of organic EL display device” described later is preferably used. be able to.
Ｂ．有機ＥＬ表示装置の製造方法
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法は２つの態様を有する。以下、各態様について説明する。
B. Manufacturing Method of Organic EL Display Device The manufacturing method of the organic EL display device according to this aspect has two aspects. Hereinafter, each aspect will be described.
Ｉ．第１態様
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層と、上記絶縁層上に形成され画素を画定する遮光層とを有する有機ＥＬ表示装置を製造する製造方法であって、上記遮光層の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない幅となるように調整して上記遮光層を形成する遮光層形成工程を有することを特徴とする製造方法である。
I. 1st aspect The manufacturing method of the organic electroluminescent display device of this aspect WHEREIN: The organic EL element formed on the said board | substrate and arrange | positioned in the pixel area | region, It was formed on the said board | substrate, and was arrange | positioned between the said pixel area | regions. Manufacturing for manufacturing an organic EL display device having an insulating layer, a colored layer of a plurality of colors formed on the organic EL element and disposed in the pixel region, and a light-shielding layer formed on the insulating layer and defining pixels In this method, the width of the light-shielding layer is adjusted so that light effective for display from the organic EL element in one pixel region does not pass through the colored layer in another adjacent pixel region. And a light-shielding layer forming step of forming the light-shielding layer.
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法について図を用いて説明する。
図１０（ａ）〜（ｅ）は、本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示す概略断面図である。まず、図１０（ａ）に示すように、基板１上に有機ＥＬ素子２および絶縁層４を形成し、有機ＥＬ素子２および絶縁層３を覆うようにバリア層６を形成する。次に図１０（ｂ）に示すように、バリア層６上に黒色色材およびバインダ樹脂を含む遮光層用組成物を塗布して遮光層形成用層５’を形成する。次に、図１０（ｃ）に示すようにフォトマスクＭを介して露光光Ｌを遮光層形成用層５’に照射して露光した後、現像することにより図１０（ｄ）に示す遮光層５を形成する（遮光層形成工程）。本態様においては、遮光層５の幅が、一の画素領域９ａの有機ＥＬ素子２からの表示に有効な光が隣接する他の画素領域９ｂの着色層４を透過しない幅となるように調整して、遮光層５を形成する。図１０（ｄ）においては、遮光層５の幅が、有機ＥＬ素子２における最低有効角を有する光Ｌｍｉｎの進行方向と重なるように遮光層５の幅が調整されている例について示している。図１０（ｄ）においては、次に、図１０（ｅ）に示すように、フォトリソグラフィ法等を用いてバリア層６上の画素領域に複数色の着色層４を形成する。以上の工程により、有機ＥＬ表示装置１０を製造することができる。
A method for manufacturing the organic EL display device of this embodiment will be described with reference to the drawings.
10A to 10E are schematic cross-sectional views illustrating an example of a method for manufacturing the organic EL display device according to this embodiment. First, as shown in FIG. 10A, the organic EL element 2 and the insulating layer 4 are formed on the substrate 1, and the barrier layer 6 is formed so as to cover the organic EL element 2 and the insulating layer 3. Next, as shown in FIG. 10B, a light shielding layer composition containing a black color material and a binder resin is applied on the barrier layer 6 to form a light shielding layer forming layer 5 ′. Next, as shown in FIG. 10 (c), the light shielding layer forming layer 5 ′ is irradiated with exposure light L through a photomask M, exposed, and then developed to develop the light shielding layer shown in FIG. 10 (d). 5 is formed (light shielding layer forming step). In this embodiment, the width of the light shielding layer 5 is adjusted so that light effective for display from the organic EL element 2 in one pixel region 9a does not pass through the colored layer 4 in another adjacent pixel region 9b. Thus, the light shielding layer 5 is formed. FIG. 10D shows an example in which the width of the light shielding layer 5 is adjusted so that the width of the light shielding layer 5 overlaps the traveling direction of the light L min having the lowest effective angle in the organic EL element 2. . In FIG. 10D, next, as shown in FIG. 10E, a colored layer 4 of a plurality of colors is formed in the pixel region on the barrier layer 6 using a photolithography method or the like. Through the above steps, the organic EL display device 10 can be manufactured.
本態様によれば、上記遮光層形成工程を有することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
以下、本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法の詳細について説明する。
According to this aspect, by including the light shielding layer forming step, it is possible to manufacture an organic EL display device capable of suppressing color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels.
Hereinafter, the detail of the manufacturing method of the organic EL display device of this aspect is demonstrated.
１．遮光層形成工程
本態様における遮光層形成工程は、上記遮光層の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない幅となるように調整して上記遮光層を形成する工程である。
1. Light-shielding layer forming step The light-shielding layer forming step in this aspect is the light-shielding layer having the width of the light-shielding layer in the colored layer of the other pixel region adjacent to light effective for display from the organic EL element of the one pixel region. In this step, the light shielding layer is formed by adjusting the width so as not to transmit.
本工程に用いられる遮光層の幅の調整方法については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置 Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができる。また、本工程においては、実際に有機ＥＬ表示装置を組立てることにより遮光層の幅を調整してもよく、シミュレーションにより遮光層の幅を調整してもよい。 About the adjustment method of the width | variety of the light shielding layer used for this process, it can be made to be the same as that of the content demonstrated by the term of the above-mentioned "A. Organic EL display apparatus I. 1st aspect." In this step, the width of the light shielding layer may be adjusted by actually assembling the organic EL display device, or the width of the light shielding layer may be adjusted by simulation.
本工程に用いられる遮光層の材料、形成方法、および得られる遮光層については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置 Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 The light shielding layer material, formation method, and light shielding layer obtained in this step can be the same as those described in the above-mentioned section “A. Organic EL display device I. First aspect”. Explanation here is omitted.
２．その他の工程
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上述した遮光層形成工程を有していれば特に限定されない。通常は、基板上に有機ＥＬ素子および絶縁層を形成する工程や、有機Ｅｌ素子上に複数の着色層を形成する工程、必要に応じてその他の構成を形成する工程を挙げることができる。これらの構成の形成方法、および得られる構成については、「Ａ．有機ＥＬ表示装置 Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
2. Other Steps The manufacturing method of the organic EL display device according to this embodiment is not particularly limited as long as it includes the above-described light shielding layer forming step. Usually, the process of forming an organic EL element and an insulating layer on a board | substrate, the process of forming a several colored layer on an organic El element, and the process of forming another structure as needed can be mentioned. The formation method of these structures and the obtained structure can be the same as the contents described in the section “A. Organic EL display device I. First aspect”, and thus the description thereof is omitted here.
３．有機ＥＬ表示装置
本態様の製造方法により得られる有機ＥＬ表示装置については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置 Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
3. Organic EL Display Device The organic EL display device obtained by the manufacturing method of the present embodiment can be the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Organic EL display device I. First embodiment”. The description in is omitted.
ＩＩ．第２態様
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、基板と、上記基板上に形成され画素領域に配置された有機ＥＬ素子と、上記基板上に形成され上記画素領域の間に配置された絶縁層と、上記有機ＥＬ素子上に形成され上記画素領域に配置された複数色の着色層とを有する有機ＥＬ表示装置を製造する製造方法であって、上記着色層の形状および上記着色層の間の幅が、一の上記画素領域の上記有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する他の上記画素領域の上記着色層を透過しない形状および幅となるように調整して上記着色層を形成する着色層形成工程を有することを特徴とする製造方法である。
II. Second aspect A method for manufacturing an organic EL display device according to this aspect includes a substrate, an organic EL element formed on the substrate and disposed in a pixel region, and disposed between the pixel region and formed on the substrate. A manufacturing method for manufacturing an organic EL display device having an insulating layer and a colored layer of a plurality of colors formed on the organic EL element and disposed in the pixel region, wherein the shape of the colored layer and the colored layer The colored layer is adjusted so that the width between them is a shape and width in which light effective for display from the organic EL element in one of the pixel regions does not pass through the colored layers of other adjacent pixel regions. It is a manufacturing method characterized by having the colored layer formation process which forms.
図１１（ａ）〜（ｅ）は、本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法の一例を示す概略断面図である。まず、図１１（ａ）に示すように、基板１上に有機ＥＬ素子２および絶縁層３を形成し、有機ＥＬ素子２および絶縁層３を覆うようにバリア層６を形成する。次に図示はしないが、次に、図１１（ｂ）に示すように、バリア層上に赤色色材およびバインダ樹脂を含む赤色着色層用組成物を塗布して赤色着色層形成用層４Ｒ’を形成する。次に、図１１（ｃ）に示すようにフォトマスクＭを介して露光光Ｌを赤色着色層形成用層４Ｒ’に照射した後、現像することにより図１１（ｄ）に示す赤色着色層４Ｒを形成する（着色層形成工程）。本態様においては、上記赤色着色層の形状および上記赤着色層の間の幅が、一の上記画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する上記画素領域の上記着色層を透過しない形状および幅となるように調整して上記着色層を形成する。図１１（ｄ）においては、有機ＥＬ素子２における最低有効角を有する光Ｌｍｉｎの進行方向と接触しないように調整されている例について示している。同様にして緑色着色層、および青色着色層を形成する。以上の工程により、図１１（ｅ）に示す有機ＥＬ表示装置１０を製造することができる。 11A to 11E are schematic cross-sectional views illustrating an example of a method for manufacturing the organic EL display device of this aspect. First, as shown in FIG. 11A, the organic EL element 2 and the insulating layer 3 are formed on the substrate 1, and the barrier layer 6 is formed so as to cover the organic EL element 2 and the insulating layer 3. Next, although not illustrated, as shown in FIG. 11B, a red colored layer forming layer 4R ′ is then applied by applying a red colored layer composition containing a red color material and a binder resin onto the barrier layer. Form. Next, as shown in FIG. 11 (c), the red colored layer 4R ′ shown in FIG. 11 (d) is developed by irradiating the red colored layer forming layer 4R ′ with the exposure light L through the photomask M, followed by development. (Colored layer forming step). In this aspect, the shape of the red colored layer and the width between the red colored layers are such that light effective for display from the organic EL element in one pixel region is transmitted through the colored layer in the adjacent pixel region. The colored layer is formed by adjusting so as not to have a shape and width. FIG. 11D shows an example in which the organic EL element 2 is adjusted so as not to contact the traveling direction of the light L min having the lowest effective angle. Similarly, a green colored layer and a blue colored layer are formed. Through the above steps, the organic EL display device 10 shown in FIG. 11E can be manufactured.
本態様によれば、上記着色層形成工程を有することにより、隣接画素への光漏れによる表示画像の色ずれを抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置を製造することができる。
以下、本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法の詳細について説明する。
According to this aspect, by having the colored layer forming step, it is possible to manufacture an organic EL display device capable of suppressing color shift of a display image due to light leakage to adjacent pixels.
Hereinafter, the detail of the manufacturing method of the organic EL display device of this aspect is demonstrated.
１．着色層形成工程
本態様における着色層形成工程は、上記着色層の形状および上記着色層の間の幅が、一の上記画素領域の有機ＥＬ素子からの表示に有効な光が隣接する上記画素領域の上記着色層を透過しない形状および幅となるように調整して上記着色層を形成する工程である。
1. Colored layer forming step In the colored layer forming step in this embodiment, the shape of the colored layer and the width between the colored layers are adjacent to the pixel region where light effective for display from the organic EL element of the one pixel region is adjacent. This is a step of adjusting the shape and width so as not to pass through the colored layer and forming the colored layer.
本工程に用いられる着色層の形状および上記着色層の間の幅の調整方法については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置 ＩＩ．第２態様」の項で説明した内容と同様とすることができる。また、本工程においては、実際に有機ＥＬ表示装置を組立てることにより着色層の形状および上記着色層の間の幅を調整してもよく、シミュレーションにより着色層の形状および上記着色層の間の幅を調整してもよい。 The method for adjusting the shape of the colored layer and the width between the colored layers used in this step may be the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Organic EL display device II. Second aspect”. it can. In this step, the shape of the colored layer and the width between the colored layers may be adjusted by actually assembling the organic EL display device, and the shape of the colored layer and the width between the colored layers are simulated by simulation. May be adjusted.
本工程に用いられる着色層の材料、形成方法、および得られる着色層については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置 Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。 About the material of the colored layer used for this process, the formation method, and the obtained colored layer, since it can be made to be the same as that of the content explained in the above-mentioned section of “A. Organic EL display device I. First aspect”. Explanation here is omitted.
２．その他の工程
本態様の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、上述した着色層形成工程を有していれば特に限定されない。通常は、基板上に有機ＥＬ素子および絶縁層を形成する工程や、必要に応じてその他の構成を形成する工程を挙げることができる。これらの構成の形成方法、および得られる構成については、「Ａ．有機ＥＬ表示装置 Ｉ．第１態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
2. Other Steps The method for producing the organic EL display device according to this aspect is not particularly limited as long as it has the above-described colored layer forming step. Usually, the process of forming an organic EL element and an insulating layer on a board | substrate, and the process of forming another structure as needed can be mentioned. The formation method of these structures and the obtained structure can be the same as the contents described in the section “A. Organic EL display device I. First aspect”, and thus the description thereof is omitted here.
３．有機ＥＬ表示装置
本態様の製造方法により得られる有機ＥＬ表示装置については、上述した「Ａ．有機ＥＬ表示装置 ＩＩ．第２態様」の項で説明した内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
3. Organic EL Display Device The organic EL display device obtained by the manufacturing method of this aspect can be the same as the contents described in the above-mentioned section “A. Organic EL display device II. Second aspect”. The description in is omitted.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
以下、本発明について、実施例および比較例を挙げてより詳細に説明する。
（ブラックマトリクス材の調製）
まず、重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２、２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下８５℃で２時間攪拌し、さらに１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、およびハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌して共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
＜硬化性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）…１６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）
…２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０）…４質量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン…４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル…５２質量部
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples.
(Preparation of black matrix material)
First, 63 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by mass of acrylic acid (AA), 6 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by mass of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) in the polymerization tank. After the parts were charged, stirred and dissolved, 7 parts by mass of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and dissolved uniformly. Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour. Further, 7 parts by mass of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by mass of triethylamine, and 0.2 parts by mass of hydroquinone were added to the resulting solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a copolymer resin solution ( A solid content of 50%) was obtained.
Next, the following materials were stirred and mixed at room temperature to obtain a curable resin composition.
<Composition of curable resin composition>
-Copolymer resin solution (solid content 50%)-16 parts by mass-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399)
... 24 parts by mass · Ortho-cresol novolak type epoxy resin (Epico Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70) ... 4 parts by mass · 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one ... 4 parts by mass Parts ・ Diethylene glycol dimethyl ether… 52 parts by mass
次に、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料（三菱化学社製 ＃２６００)…２０質量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ １１１）
…１６質量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）…６４質量部
Next, the following components were mixed and sufficiently dispersed in a sand mill to prepare a black pigment dispersion.
<Composition of black pigment dispersion>
Black pigment (Mitsubishi Chemical Corporation # 2600) ... 20 parts by mass Polymer dispersion (Big Chemie Japan, Ltd. Disperbyk 111)
... 16 parts by mass, solvent (diethylene glycol dimethyl ether) ... 64 parts by mass
その後、下記分量の成分を十分混合して、ブラックマトリクス材（光学濃度（ＯＤ）３．０以上）を得た。
＜ブラックマトリクス材の組成＞
・黒色顔料分散液 …４３重量部
・硬化性樹脂組成物 …１９重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル …３８重量部
Thereafter, the following components were sufficiently mixed to obtain a black matrix material (optical density (OD) of 3.0 or more).
<Composition of black matrix material>
Black pigment dispersion: 43 parts by weight Curable resin composition: 19 parts by weight Diethylene glycol dimethyl ether: 38 parts by weight
［実施例１］
以下の方法に従い、図１に例示する有機ＥＬ表示装置を作製した。
[Example 1]
The organic EL display device illustrated in FIG. 1 was produced according to the following method.
（有機ＥＬ素子基板の作製）
支持基板として、ガラス基板（旭硝子社製、ＡＮ１００ガラス）を準備し、上記支持基板に対して定法にしたがって薄膜トランジスタ回路を作製した。この上に、後述するカラーフィルタ層の各色の着色層に対応するようにアルミニウムからなる背面電極層を形成し、これらの背面電極層の間隙にポリイミドからなる絶縁層を形成した。なお、絶縁層の部分が有機ＥＬ素子基板の未発光エリアであり、その幅は５μｍだった。
次に、絶縁層の間隙に有機ＥＬ素子（正孔注入層、白色発光層、電子注入層の積層構成）を形成し、これらの上に酸化インジウム錫（ＩＴＯ）からなる透明電極層を形成した。
次に、透明バリア層として窒化ケイ素膜を蒸着法により形成した。その膜厚は５００ｎｍであった。
(Preparation of organic EL element substrate)
As a support substrate, a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., AN100 glass) was prepared, and a thin film transistor circuit was produced according to a conventional method with respect to the support substrate. On this, a back electrode layer made of aluminum was formed so as to correspond to a colored layer of each color of the color filter layer described later, and an insulating layer made of polyimide was formed in the gap between these back electrode layers. The insulating layer portion was a non-light emitting area of the organic EL element substrate, and its width was 5 μm.
Next, an organic EL element (laminated structure of a hole injection layer, a white light emitting layer, and an electron injection layer) was formed in the gap between the insulating layers, and a transparent electrode layer made of indium tin oxide (ITO) was formed thereon. .
Next, a silicon nitride film was formed as a transparent barrier layer by a vapor deposition method. The film thickness was 500 nm.
（遮光層および着色層の作製）
上記透明バリア層表面の、後述するカラーフィルタ層を配置した際に画素部の外周の内側に相当する位置に、上述により調製したブラックマトリックス材を用いて、フォトリソグラフィ法により幅５．０μｍ、厚さ１．３μｍとなるように隣接画素間遮光部（線幅５μｍ）を形成した。
次に、隣接画素間遮光部の間隙に、下記組成の赤、緑、青、白の各色の着色層がこの順で一列となるようにそれぞれフォトリソグラフィ法により形成した。なお、各着色層に含まれる硬化性樹脂組成物は、上述により調製したブラックマトリクス材における硬化性樹脂組成物と同じである。形成した着色層の膜厚は２．８μｍであり、隣接する着色材は重なっており、その幅は５．０μｍ以下であった。
(Preparation of light shielding layer and colored layer)
Using the black matrix material prepared as described above at a position corresponding to the inside of the outer periphery of the pixel portion when a color filter layer to be described later is disposed on the surface of the transparent barrier layer, a width of 5.0 μm and a thickness by photolithography. A light shielding portion (line width 5 μm) between adjacent pixels was formed so as to have a thickness of 1.3 μm.
Next, red, green, blue, and white colored layers having the following composition were formed in the gaps between the light shielding portions between adjacent pixels by photolithography so as to form a line in this order. In addition, the curable resin composition contained in each colored layer is the same as the curable resin composition in the black matrix material prepared as described above. The thickness of the formed colored layer was 2.8 μm, adjacent colorants were overlapped, and the width was 5.0 μm or less.
＜赤色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４…１０質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤…８質量部
・上記硬化性樹脂組成物…１５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル…６７質量部
<Red colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Red 254 ... 10 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 8 parts by mass, the curable resin composition described above ... 15 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass
＜緑色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８…１０質量部
・Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８…３質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤…８質量部
・上記硬化性樹脂組成物…１２質量部
・酢酸−３−メトキシブチル…６７質量部
<Green colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Green 58: 10 parts by mass / C.I. I. Pigment Yellow 138 3 parts by weight, polysulfonic acid type polymer dispersant 8 parts by weight, the curable resin composition 12 parts by weight, and 3-methoxybutyl acetate 67 parts by weight
＜青色着色層形成用組成物＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１…５質量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤…３質量部
・上記硬化性樹脂組成物…２５質量部
・酢酸−３−メトキシブチル…６７質量部
<Blue colored layer forming composition>
・ C. I. Pigment Blue 1 ... 5 parts by mass, polysulfonic acid type polymer dispersant ... 3 parts by mass, the curable resin composition described above ... 25 parts by mass, 3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass
＜白色層形成用組成物＞
・上記硬化性樹脂組成物…３３質量部
・酢酸−３−メトキシブチル…６７質量部
<White layer forming composition>
-The curable resin composition ... 33 parts by mass--3-methoxybutyl acetate ... 67 parts by mass
（有機ＥＬ表示装置の作製）
上述により得られた遮光層と着色層を有する有機ＥＬ発光素子基板とガラス基板（旭硝子製、ＡＮ１００）とが対向するようにして、膜厚１０μｍの樹脂接着層で貼合して有機ＥＬ表示装置を作製した。
(Production of organic EL display device)
The organic EL light-emitting device substrate having the light shielding layer and the colored layer obtained as described above and a glass substrate (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., AN100) are bonded with a 10 μm-thick resin adhesive layer to form an organic EL display device. Was made.
［実施例２］
着色層を形成した後に遮光層を形成する以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を作製した。
[Example 2]
An organic EL display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the light shielding layer was formed after forming the colored layer.
［実施例３］
着色層の膜厚を３．０μｍとした以外は実施例２と同様にして有機ＥＬ表示装置を作製した。
[Example 3]
An organic EL display device was produced in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the colored layer was 3.0 μm.
［参考例］
着色層の膜厚を２．５μｍとした以外は実施例２と同様にして有機ＥＬ表示装置を作製した。
[Reference example]
An organic EL display device was produced in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the colored layer was 2.5 μm.
［比較例１］
遮光層と着色層を対向基板側に形成する以外は実施例１と同様にして有機ＥＬ表示装置を作製した。
[Comparative Example 1]
An organic EL display device was produced in the same manner as in Example 1 except that the light shielding layer and the colored layer were formed on the counter substrate side.
［比較例２］
遮光層と着色層を対向基板側に形成する以外は実施例２と同様にして有機ＥＬ表示装置を作製した。
[Comparative Example 2]
An organic EL display device was produced in the same manner as in Example 2 except that the light shielding layer and the colored layer were formed on the counter substrate side.
[評価]
作製した有機ＥＬ表示装置の視差（斜め方向から見たときの色ずれ）を評価した。その結果、実施例１〜３の有機ＥＬ表示装置については色ずれの発生がなかった。一方、参考例、比較例１〜２の有機ＥＬ表示装置については色ずれが発生した。
実施例１と比較例１ならびに実施例２と比較例２を比べると、発光層側に近接させることで、同じ開口面積を有していても視差が発生せず視野角特性の良好な表示素子が得られることがわかった。
また実施例２、３、および参考例の有機ＥＬ表示装置の結果から、参考例に色ずれが生じた理由として、着色層の膜厚により遮光層と発光層の距離が変わる場合、表示に有効な光が角度を有するため、遮光層で遮光されず隣接画素へ入ってしまうことが考えられる。
[Evaluation]
The parallax (color shift when viewed from an oblique direction) of the produced organic EL display device was evaluated. As a result, no color misregistration occurred in the organic EL display devices of Examples 1 to 3. On the other hand, color misregistration occurred in the organic EL display devices of Reference Example and Comparative Examples 1-2.
Comparing Example 1 with Comparative Example 1 and Example 2 with Comparative Example 2, a display element having good viewing angle characteristics without parallax even when having the same opening area by being close to the light emitting layer side Was found to be obtained.
Also, from the results of the organic EL display devices of Examples 2 and 3 and the reference example, the reason why the color shift occurred in the reference example is that display is effective when the distance between the light-shielding layer and the light-emitting layer varies depending on the thickness of the colored layer. Since the light has an angle, it is considered that the light enters the adjacent pixel without being blocked by the light blocking layer.
１ … 基板
２ … 有機ＥＬ素子
３ … 絶縁層
４ … 着色層
５ … 遮光層
１０ … 有機ＥＬ表示装置
９、９ａ、９ｂ … 画素領域
Ｐ … 画素
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Organic EL element 3 ... Insulating layer 4 ... Colored layer 5 ... Light-shielding layer 10 ... Organic EL display device 9, 9a, 9b ... Pixel region P ... Pixel
Claims (4)
前記基板上に形成され画素領域に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記基板上に形成され前記画素領域の間に配置された絶縁層と、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子上に形成され前記画素領域に配置された複数色の着色層と、
前記絶縁層上に形成され画素を画定する遮光層と
を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記遮光層の幅が、一の前記画素領域の前記有機エレクトロルミネッセンス素子からの表示に有効な光が隣接する他の前記画素領域の前記着色層を透過しない幅であり、
前記表示に有効な光が、一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子からの光のうち、基板に対して垂直方向に進行する光の強度を１とした場合に、光の強度比が、０．２以上となる光であり、
前記表示に有効な光のうち、最も強度の低い光の前記基板の直角方向に対する角度を最低有効角とした場合、前記一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の隣接する他の画素領域側の端部から、前記最低有効角で前記遮光層側に引いた直線が、前記遮光層の前記隣接する画素領域側の端部と接するように前記遮光層が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 A substrate,
An organic electroluminescence element formed on the substrate and disposed in a pixel region;
An insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions;
A plurality of colored layers formed on the organic electroluminescence element and disposed in the pixel region;
An organic electroluminescence display device having a light-shielding layer formed on the insulating layer and defining pixels;
The width of the light shielding layer is a width that does not allow light effective for display from the organic electroluminescence element in one pixel region to pass through the colored layer in the other pixel region adjacent thereto,
When the light effective for the display is light from the organic electroluminescence element in one pixel region and the light intensity traveling in the direction perpendicular to the substrate is 1, the light intensity ratio is 0. light der to be 2 or more is,
Of the light effective for the display, when the angle of the light with the lowest intensity with respect to the direction perpendicular to the substrate is the lowest effective angle, the end of the one pixel region on the other pixel region side adjacent to the organic electroluminescence element from parts, the minimum line drawn in the light-shielding layer-side effective angle, organic electroluminescence, wherein said Rukoto not adjacent the light blocking layer in contact with the end portion of the pixel region side of the formed of the light shielding layer Luminescence display device.
前記基板上に形成され画素領域に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記基板上に形成され前記画素領域の間に配置された絶縁層と、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子上に形成され前記画素領域に配置された複数色の着色層と
を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
前記着色層の形状および前記着色層の間の幅が、一の前記画素領域の前記有機エレクトロルミネッセンス素子からの表示に有効な光が隣接する他の前記画素領域の前記着色層を透過しない形状および幅であり、
前記表示に有効な光が、一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子からの光のうち、基板に対して垂直方向に進行する光の強度を１とした場合に、光の強度比が、０．２以上となる光であり、
前記表示に有効な光のうち、最も強度の低い光の前記基板の直角方向に対する角度を最低有効角とした場合、前記一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の隣接する他の画素領域側の端部から、前記最低有効角で前記着色層側に引いた直線が、前記隣接する画素領域の着色層の前記一の画素領域側の端部と接するように前記着色層が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 A substrate,
An organic electroluminescence element formed on the substrate and disposed in a pixel region;
An insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions;
An organic electroluminescence display device having a plurality of colored layers disposed on the pixel region and formed on the organic electroluminescence element,
The shape of the colored layer and the width between the colored layers are such that light effective for display from the organic electroluminescence element in one pixel region does not pass through the colored layer in another pixel region adjacent to the pixel layer, and Width,
When the light effective for the display is light from the organic electroluminescence element in one pixel region and the light intensity traveling in the direction perpendicular to the substrate is 1, the light intensity ratio is 0. light der to be 2 or more is,
Of the light effective for the display, when the angle of the light with the lowest intensity with respect to the direction perpendicular to the substrate is the lowest effective angle, the end of the one pixel region on the other pixel region side adjacent to the organic electroluminescence element from parts, a line drawn on the colored layer side by the minimum effective angle is, the Rukoto colored layer is formed in contact with the end portion of the one pixel region side of the colored layer of the adjacent pixel regions An organic electroluminescence display device.
前記基板上に形成され画素領域に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記基板上に形成され前記画素領域の間に配置された絶縁層と、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子上に形成され前記画素領域に配置された複数色の着色層と、
前記絶縁層上に形成され画素を画定する遮光層と
を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置を製造する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
前記遮光層の幅が、一の前記画素領域の前記有機エレクトロルミネッセンス素子からの表示に有効な光が隣接する他の前記画素領域の前記着色層を透過しない幅となるように調整して前記遮光層を形成する遮光層形成工程を有し、
前記表示に有効な光が、一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子からの光のうち、基板に対して垂直方向に進行する光の強度を１とした場合に、光の強度比が、０．２以上となる光であり、
前記表示に有効な光のうち、最も強度の低い光の前記基板の直角方向に対する角度を最低有効角とした場合、前記一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の隣接する他の画素領域側の端部から、前記最低有効角で前記遮光層側に引いた直線が、前記遮光層の前記隣接する画素領域側の端部と接するように前記遮光層形成工程で前記遮光層が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 A substrate,
An organic electroluminescence element formed on the substrate and disposed in a pixel region;
An insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions;
A plurality of colored layers formed on the organic electroluminescence element and disposed in the pixel region;
An organic electroluminescence display device manufacturing method for manufacturing an organic electroluminescence display device having a light shielding layer formed on the insulating layer and defining pixels,
The light-shielding layer is adjusted so that the light effective for display from the organic electroluminescence element in one pixel region does not pass through the colored layer in another adjacent pixel region. A light shielding layer forming step of forming a layer;
When the light effective for the display is light from the organic electroluminescence element in one pixel region and the light intensity traveling in the direction perpendicular to the substrate is 1, the light intensity ratio is 0. light der to be 2 or more is,
Of the light effective for the display, when the angle of the light with the lowest intensity with respect to the direction perpendicular to the substrate is the lowest effective angle, the end of the one pixel region on the other pixel region side adjacent to the organic electroluminescence element from parts, the minimum effective angle drawn the light shielding layer side straight line, is the said by the light shielding layer forming step so as to be in contact with the ends of adjacent pixel region side shielding layer of the light-shielding layer is formed Rukoto A method for producing an organic electroluminescence display device.
前記基板上に形成され画素領域に配置された有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記基板上に形成され前記画素領域の間に配置された絶縁層と、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子上に形成され前記画素領域に配置された複数色の着色層と
を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置を製造する有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
前記着色層の形状および前記着色層の間の幅が、一の前記画素領域の前記有機エレクトロルミネッセンス素子からの表示に有効な光が隣接する他の前記画素領域の前記着色層を透過しない形状および幅となるように調整して前記着色層を形成する着色層形成工程を有し、
前記表示に有効な光が、一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子からの光のうち、基板に対して垂直方向に進行する光の強度を１とした場合に、光の強度比が、０．２以上となる光であり、
前記表示に有効な光のうち、最も強度の低い光の前記基板の直角方向に対する角度を最低有効角とした場合、前記一の画素領域の有機エレクトロルミネッセンス素子の隣接する他の画素領域側の端部から、前記最低有効角で前記着色層側に引いた直線が、前記隣接する画素領域の着色層の前記一の画素領域側の端部と接するように前記着色層形成工程で前記着色層が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。 A substrate,
An organic electroluminescence element formed on the substrate and disposed in a pixel region;
An insulating layer formed on the substrate and disposed between the pixel regions;
An organic electroluminescence display device manufacturing method for manufacturing an organic electroluminescence display device having a plurality of colored layers formed on the organic electroluminescence element and disposed in the pixel region,
The shape of the colored layer and the width between the colored layers are such that light effective for display from the organic electroluminescence element in one pixel region does not pass through the colored layer in another pixel region adjacent to the pixel layer, and Having a colored layer forming step of adjusting the width to form the colored layer;
When the light effective for the display is light from the organic electroluminescence element in one pixel region and the light intensity traveling in the direction perpendicular to the substrate is 1, the light intensity ratio is 0. light der to be 2 or more is,
Of the light effective for the display, when the angle of the light with the lowest intensity with respect to the direction perpendicular to the substrate is the lowest effective angle, the end of the one pixel region on the other pixel region side adjacent to the organic electroluminescence element The colored layer is formed in the colored layer forming step so that a straight line drawn from the portion to the colored layer side at the lowest effective angle contacts an end of the colored layer of the adjacent pixel region on the one pixel region side. method of manufacturing an organic electroluminescent display device comprising that you have been formed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014037127A JP6439255B2 (en) | 2014-02-27 | 2014-02-27 | Organic electroluminescence display device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014037127A JP6439255B2 (en) | 2014-02-27 | 2014-02-27 | Organic electroluminescence display device and manufacturing method thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015162588A JP2015162588A (en) | 2015-09-07 |
| JP6439255B2 true JP6439255B2 (en) | 2018-12-19 |
Family
ID=54185486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014037127A Active JP6439255B2 (en) | 2014-02-27 | 2014-02-27 | Organic electroluminescence display device and manufacturing method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6439255B2 (en) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6220300B2 (en) * | 2014-03-20 | 2017-10-25 | 株式会社ジャパンディスプレイ | Method for manufacturing organic electroluminescent display device and organic electroluminescent display device |
| JP2017220528A (en) * | 2016-06-06 | 2017-12-14 | 株式会社Ｊｏｌｅｄ | Organic EL display panel |
| KR102431686B1 (en) | 2017-12-05 | 2022-08-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | Electroluminescent Display Device |
| KR102512900B1 (en) * | 2018-02-05 | 2023-03-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | Display device |
| EP4250275A1 (en) * | 2020-11-18 | 2023-09-27 | Toppan Inc. | Organic el display device |
| TW202243239A (en) | 2021-01-08 | 2022-11-01 | 日商索尼集團公司 | Display device and electronic apparatus |
| CN114023796B (en) * | 2021-10-28 | 2023-09-12 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | display panel |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101336021A (en) * | 2002-02-12 | 2008-12-31 | 出光兴产株式会社 | Organic EL display device and method for manufacturing the same |
| US6911772B2 (en) * | 2002-06-12 | 2005-06-28 | Eastman Kodak Company | Oled display having color filters for improving contrast |
| JP2008066216A (en) * | 2006-09-11 | 2008-03-21 | Seiko Epson Corp | Organic electroluminescence device, its manufacturing method and electronic apparatus |
| JP2010027265A (en) * | 2008-07-16 | 2010-02-04 | Seiko Epson Corp | Organic el device and method of manufacturing the same, and electron equipment |
-
2014
- 2014-02-27 JP JP2014037127A patent/JP6439255B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015162588A (en) | 2015-09-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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