JP2010027265A - Organic el device and method of manufacturing the same, and electron equipment - Google Patents

Organic el device and method of manufacturing the same, and electron equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure in which sure sealing can be carried out, and thinning is possible even if color display is carried out. <P>SOLUTION: An organic EL device includes a substrate 11 in which a plurality of light-emitting elements 10 are formed, a protective film 20 to cover the whole site exposed on the substrate 11 of the plurality of light-emitting elements 10, a color filter layer 32 which is formed on the protective layer 20 and in which a plurality of colored layers are each arranged so as to be opposed to the plurality of light-emitting elements 10, a first sealing layer 41 composed of organic compound to cover the whole site exposed on the color filter layer 32 and the substrate 11 of the protective layer 20, and a second sealing layer 42 composed of inorganic compound to cover the whole site exposed on the substrate 11 of the first sealing layer 41. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機ＥＬ装置、その製造方法及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to an organic EL device, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus.

発光素子の一種として、二つの電極で挟まれ電界により電子と正孔が注入され、それらの再結合により励起して発光する有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ-Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）素子がある。従来、有機ＥＬ素子は、外気や水分等の影響によって黒い斑点状のダークスポットが発生することで劣化し、寿命が著しく低下することが問題となっている。   As one type of light-emitting element, there is an organic EL (Electro-Luminescent) element that is sandwiched between two electrodes, injects electrons and holes by an electric field, and is excited by recombination thereof to emit light. Conventionally, the organic EL element has been deteriorated due to the occurrence of black spot-like dark spots due to the influence of outside air, moisture, and the like, and there has been a problem that the lifetime is significantly reduced.

このような問題点を解決するために、特許文献１や特許文献２では、薄膜封止と呼ばれる方法により発光素子を封止している。薄膜封止とは、発光素子が形成された基板の表面に、透湿性の小さい薄膜を形成し、発光素子への水分等の浸入を防止するものである。薄膜封止は、数μｍ程度の薄い膜を発光素子の表面に成膜することにより行われる。そのため、パネル全体の薄型化を達成する上で非常に有効な技術である。
特開２００７−１４１７４９号公報 特開２００７−１２８７４１号公報 In order to solve such a problem, in Patent Document 1 and Patent Document 2, the light emitting element is sealed by a method called thin film sealing. Thin film sealing is a process in which a thin film with low moisture permeability is formed on the surface of a substrate on which a light emitting element is formed, thereby preventing moisture and the like from entering the light emitting element. Thin film sealing is performed by forming a thin film of about several μm on the surface of the light emitting element. Therefore, this is a very effective technique for achieving thinning of the entire panel.
JP 2007-141749 A JP 2007-128741 A

しかしながら、薄膜封止を用いた場合でも、フルカラーの表示を行う場合には、カラーフィルタ基板が必要になるため、カラーフィルタ基板の厚みの分だけパネル全体の薄型化が困難になるという問題があった。例えば、特許文献２では、薄膜封止を行った基板上にカラーフィルタ基板を接着している。この場合、接着剤の厚みや、カラーフィルタが形成されるガラス基板の厚みの分だけパネル全体の厚みが大きくなってしまい、薄膜封止を採用したメリットを十分に享受することができない。   However, even when thin-film sealing is used, a color filter substrate is required for full-color display, which makes it difficult to reduce the thickness of the entire panel by the thickness of the color filter substrate. It was. For example, in Patent Document 2, a color filter substrate is bonded onto a substrate on which thin film sealing has been performed. In this case, the thickness of the entire panel is increased by the thickness of the adhesive and the thickness of the glass substrate on which the color filter is formed, and the merit of employing thin film sealing cannot be fully enjoyed.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、カラー表示を行う場合であっても確実な封止を行うことができ、且つ、薄型化が可能な有機ＥＬ装置、その製造方法及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an organic EL device that can perform reliable sealing even when performing color display and can be thinned, and a method for manufacturing the same. And it aims at providing an electronic device.

上記の課題を解決するため、本発明の有機ＥＬ装置は、複数の発光素子が形成された基板と、前記複数の発光素子の前記基板上で露出する部位全体を覆う保護膜と、前記保護膜上に形成され、複数の着色層がそれぞれ前記複数の発光素子と対向するように配置されたカラーフィルタ層と、前記カラーフィルタ層及び前記保護膜の前記基板上で露出する部位全体を覆う有機化合物からなる第１封止層と、前記第１封止層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなる第２封止層と、を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、複数の発光素子が形成された基板上の保護膜を下地にしてカラーフィルタ層が形成されるので、パネル全体の厚さをより薄くすることができる。また、複数の発光素子とカラーフィルタ層は、第１封止層及び第２封止層の２層構造で覆われるので、外気や水分等の影響による封止性能の低下を防止することができる。また、従来のようにカラーフィルタ層を覆うオーバーコートが必要ないので、製造工程を簡略化することが可能となる。また、第１封止層は第２封止層に比べて弾性率が低く柔軟性のある有機化合物からなるため、応力を分散させ易くなり、割れたり剥離したりし難い封止層で発光素子を十分に封止することが可能となる。その結果、製品としてより薄型化、低消費電力化、表示品質向上及び封止性能向上を図った有機ＥＬ装置が提供できる。 In order to solve the above problems, an organic EL device according to the present invention includes a substrate on which a plurality of light emitting elements are formed, a protective film that covers the entire portion of the plurality of light emitting elements exposed on the substrate, and the protective film A color filter layer formed on the plurality of colored layers so as to face the plurality of light emitting elements, and an organic compound that covers the entire portion of the color filter layer and the protective film exposed on the substrate. And a second sealing layer made of an inorganic compound that covers the entire portion of the first sealing layer that is exposed on the substrate.
According to this configuration, since the color filter layer is formed using the protective film on the substrate on which the plurality of light emitting elements are formed as a base, the thickness of the entire panel can be further reduced. In addition, since the plurality of light emitting elements and the color filter layer are covered with the two-layer structure of the first sealing layer and the second sealing layer, it is possible to prevent a decrease in sealing performance due to the influence of outside air, moisture, or the like. . Further, since an overcoat that covers the color filter layer is not required as in the prior art, the manufacturing process can be simplified. In addition, since the first sealing layer is made of a flexible organic compound having a lower elastic modulus than the second sealing layer, it is easy to disperse stress, and it is a sealing layer that is difficult to crack or peel off. Can be sufficiently sealed. As a result, it is possible to provide an organic EL device that is thinner, lower power consumption, improved display quality, and improved sealing performance as a product.

本発明においては、前記保護膜は、前記複数の発光素子の表面に形成された凹凸を平坦化する平坦化樹脂層と、前記平坦化樹脂層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなるガスバリア層と、を備えていることが望ましい。
この構成によれば、複数の発光素子は、平坦化樹脂層及びガスバリア層の２層構造で覆われるので、より外気や水分等の影響による封止性能の低下を防止することができる。また、平坦化樹脂層が複数の発光素子の表面に形成された凹凸を平坦化するので保護膜の応力負荷が小さく割れ難くなる。その結果、製品としてより表示品質向上及び封止性能向上を図った有機ＥＬ装置が提供できる。 In the present invention, the protective film is a flattening resin layer that flattens unevenness formed on the surfaces of the plurality of light emitting elements, and an inorganic compound that covers the entire portion of the flattening resin layer that is exposed on the substrate. And a gas barrier layer made of
According to this configuration, since the plurality of light emitting elements are covered with the two-layer structure of the planarizing resin layer and the gas barrier layer, it is possible to prevent a decrease in sealing performance due to the influence of outside air, moisture, and the like. In addition, since the planarizing resin layer planarizes the irregularities formed on the surfaces of the plurality of light emitting elements, the stress load on the protective film is small and difficult to break. As a result, an organic EL device with improved display quality and improved sealing performance can be provided as a product.

本発明においては、前記発光素子は、前記基板上に形成された第１電極と、前記第１電極と対向配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に挟持された有機発光層と、を有し、前記基板上には、前記第１電極の周縁部に沿って立設され、前記各発光素子を独立させて区分する隔壁層が設けられ、前記第２電極は、前記隔壁層と前記複数の発光素子とにより形成された素子領域の全面を覆って前記基板に接しており、前記保護膜は、前記第２電極の前記基板上で露出する部位全体を覆って形成され、前記有機発光層が、前記第２電極、前記保護膜、前記第１封止層、及び前記第２封止層によって封止されていることを特徴とする
この構成によれば、有機発光層は、第２電極、保護膜、第１封止層及び第２封止層の四層構造で覆われるので、より外気や水分等の影響による封止性能の低下を防止することができる。その結果、製品としてより表示品質向上及び封止性能向上を図った有機ＥＬ装置が提供できる。 In the present invention, the light emitting element is sandwiched between a first electrode formed on the substrate, a second electrode disposed opposite to the first electrode, and the first electrode and the second electrode. An organic light emitting layer formed on the substrate, and a partition wall layer is provided on the substrate so as to stand up along a peripheral edge of the first electrode and separate the light emitting elements independently from each other; The electrode covers the entire surface of the element region formed by the partition layer and the plurality of light emitting elements and is in contact with the substrate, and the protective film covers the entire portion of the second electrode exposed on the substrate. According to this configuration, the organic light emitting layer is formed to cover and sealed with the second electrode, the protective film, the first sealing layer, and the second sealing layer. The organic light emitting layer is covered with a four-layer structure of the second electrode, the protective film, the first sealing layer, and the second sealing layer. Therefore, it is possible to prevent a decrease in sealing performance due to the influence of outside air, moisture, and the like. As a result, an organic EL device with improved display quality and improved sealing performance can be provided as a product.

本発明においては、前記第１封止層は前記第２封止層よりも厚く形成されていることが望ましい。
この構成によれば、第１封止層が第２封止層よりも厚く形成されるので応力緩和層としての機能をより高めることができる。その結果、より割れたり剥離したりし難い封止層で有機ＥＬ素子を十分に封止することが可能となる。 In the present invention, it is desirable that the first sealing layer is formed thicker than the second sealing layer.
According to this configuration, since the first sealing layer is formed thicker than the second sealing layer, the function as the stress relaxation layer can be further enhanced. As a result, the organic EL element can be sufficiently sealed with a sealing layer that is more difficult to crack or peel.

本製造方法においては、基板上に複数の発光素子を形成する工程と、前記複数の発光素子の前記基板上で露出する部位全体を覆う保護膜を形成する工程と、前記保護膜上の各発光素子の周囲を囲む位置にブラックマトリクス層を形成する工程と、前記ブラックマトリクス層に囲まれた領域にカラーフィルタ層の形成材料を含む液滴を吐出し、該液滴を乾燥することにより前記カラーフィルタ層を形成する工程と、前記カラーフィルタ層及び前記保護膜の前記基板上で露出する部位全体を覆う有機化合物からなる第１封止層を形成する工程と、前記第１封止層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなる第２封止層を形成する工程と、を備えていることを特徴とする。
この製造方法によれば、保護膜上にブラックマトリクス層を隔壁としてカラーフィルタ層を形成する工程において液滴吐出法を用いているので、より精度良くカラーフィルタ層を形成することができる。また、基板上に複数の発光素子を形成する工程において液滴吐出法を用いる場合は、カラーフィルタ層を形成する工程で使用するインクジェット装置を同一にすることによりインクジェット装置の液滴吐出部のノズルを交換するのみで済むので、より効率良く、精度良くカラーフィルタ層を形成することができる。その結果、製品としてより表示品質向上を図った有機ＥＬ装置を製造することができる。 In this manufacturing method, a step of forming a plurality of light emitting elements on a substrate, a step of forming a protective film covering the entire portion of the plurality of light emitting elements exposed on the substrate, and each light emission on the protective film A step of forming a black matrix layer in a position surrounding the periphery of the element; and a droplet containing a color filter layer forming material is ejected to a region surrounded by the black matrix layer, and the droplet is dried to form the color A step of forming a filter layer, a step of forming a first sealing layer made of an organic compound covering an entire portion of the color filter layer and the protective film exposed on the substrate, and the step of forming the first sealing layer And a step of forming a second sealing layer made of an inorganic compound that covers the entire portion exposed on the substrate.
According to this manufacturing method, since the droplet discharge method is used in the step of forming the color filter layer using the black matrix layer as a partition on the protective film, the color filter layer can be formed with higher accuracy. In addition, when a droplet discharge method is used in the step of forming a plurality of light emitting elements on the substrate, the same nozzle is used in the step of forming the color filter layer, so that the nozzle of the droplet discharge portion of the ink jet device is used. Therefore, the color filter layer can be formed more efficiently and accurately. As a result, an organic EL device with improved display quality can be manufactured as a product.

本製造方法においては、前記保護膜を形成する工程は、前記複数の発光素子の表面に形成された凹凸を平坦化する平坦化樹脂層を形成する工程と、前記平坦化樹脂層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなるガスバリア層を形成する工程と、を備えていることが望ましい。
この製造方法によれば、ブラックマトリクス層に囲まれた領域に液滴を吐出するときに、下地が平坦化されているので、均一な膜厚を有する着色層が形成できる。そのため、表示品質に優れた有機ＥＬ装置を製造することができる。 In this manufacturing method, the step of forming the protective film includes a step of forming a flattening resin layer for flattening unevenness formed on the surfaces of the plurality of light emitting elements, and a step of forming the flattening resin layer on the substrate. And a step of forming a gas barrier layer made of an inorganic compound that covers the entire portion exposed in step (b).
According to this manufacturing method, when the droplet is ejected to the region surrounded by the black matrix layer, the base is flattened, so that a colored layer having a uniform film thickness can be formed. Therefore, an organic EL device having excellent display quality can be manufactured.

本製造方法においては、基板上に複数の発光素子を形成する工程と、前記複数の発光素子の前記基板上で露出する部位全体を覆う保護膜を形成する工程と、前記保護膜上の各発光素子に対向する位置に着色層を転写し、前記保護膜上に、複数の前記着色層がそれぞれ前記複数の発光層に対向するように配置されたカラーフィルタ層を形成する工程と、前記カラーフィルタ層及び前記保護膜の前記基板上で露出する部位全体を覆う有機化合物からなる第１封止層を形成する工程と、前記第１封止層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなる第２封止層を形成する工程と、を備えていることを特徴とする。
この製造方法によれば、カラーフィルタ層を転写を用いて形成するので、液滴吐出法のように保護膜上に隔壁としてのブラックマトリクス層を形成する必要がない。すなわち、ブラックマトリクス層を形成する工程を省くことができるので、より効率良くカラーフィルタ層を形成することが可能となる。その結果、製品としてより薄型化を図った有機ＥＬ装置を製造することができる。 In this manufacturing method, a step of forming a plurality of light emitting elements on a substrate, a step of forming a protective film covering the entire portion of the plurality of light emitting elements exposed on the substrate, and each light emission on the protective film Transferring a colored layer to a position facing the element, and forming a color filter layer on the protective film so that the plurality of colored layers are respectively opposed to the plurality of light emitting layers; and the color filter Forming a first sealing layer made of an organic compound that covers the entire portion of the protective layer and the protective film exposed on the substrate, and an inorganic compound that covers the entire portion of the first sealing layer exposed on the substrate And a step of forming a second sealing layer.
According to this manufacturing method, since the color filter layer is formed by transfer, it is not necessary to form a black matrix layer as a partition on the protective film unlike the droplet discharge method. That is, since the step of forming the black matrix layer can be omitted, the color filter layer can be formed more efficiently. As a result, an organic EL device that is thinner can be manufactured as a product.

本発明の電子機器は、前述した本発明の有機ＥＬ装置を備えていることを特徴とする。
この構成によれば、パネル全体の厚さをより薄くし、製品の薄型化、低消費電力化、表示品質向上及び封止性能向上を図った電子機器が提供できる。 An electronic apparatus according to the present invention includes the above-described organic EL device according to the present invention.
According to this configuration, it is possible to provide an electronic device in which the thickness of the entire panel is further reduced, the product is thinned, the power consumption is reduced, the display quality is improved, and the sealing performance is improved.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

（第１実施形態）
図１は本発明の有機ＥＬ装置の第１実施形態である有機ＥＬ装置１の概略構成断面図である。有機ＥＬ装置１は、平板状の基板１１を備える。基板１１は、ガラスやプラスチック等の絶縁材料から形成され、その上面には複数の有機ＥＬ素子（発光素子）１０が形成されている。有機ＥＬ素子１０は、陽極としての第１電極１２と陰極としての第２電極１４の間に有機発光層１３を有し、電気エネルギの供給を受けて有機発光層１３を発光させる。有機ＥＬ素子１０は、発光色により３種類に分類され、例えば、赤色の光を発生する有機ＥＬ素子１０Ｒと、緑色の光を発生する有機ＥＬ素子１０Ｇと、青色の光を発生する有機ＥＬ素子１０Ｂとを有している。基板１１上では、これら３種類の有機ＥＬ素子１０がマトリクス状に規則的に配列され表示領域（素子領域Ｌ）を成している。 (First embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an organic EL device 1 which is a first embodiment of the organic EL device of the present invention. The organic EL device 1 includes a flat substrate 11. The substrate 11 is made of an insulating material such as glass or plastic, and a plurality of organic EL elements (light emitting elements) 10 are formed on the upper surface thereof. The organic EL element 10 has an organic light emitting layer 13 between a first electrode 12 as an anode and a second electrode 14 as a cathode, and the organic light emitting layer 13 emits light upon receiving electric energy. The organic EL element 10 is classified into three types according to the emission color. For example, the organic EL element 10R that generates red light, the organic EL element 10G that generates green light, and the organic EL element that generates blue light. 10B. On the substrate 11, these three types of organic EL elements 10 are regularly arranged in a matrix to form a display area (element area L).

基板１１上には、複数の有機ＥＬ素子１０に１対１で対応する複数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（図示略）及び各種の配線（図示略）が形成されている。また、基板１１上には、複数のＴＦＴを覆うように無機絶縁層１６が形成されている。無機絶縁層１６は、複数のＴＦＴ及び各種の配線を絶縁するものであり、例えば珪素化合物から形成されている。   A plurality of thin film transistors (TFTs) (not shown) and various wirings (not shown) corresponding to the plurality of organic EL elements 10 on a one-to-one basis are formed on the substrate 11. An inorganic insulating layer 16 is formed on the substrate 11 so as to cover the plurality of TFTs. The inorganic insulating layer 16 insulates a plurality of TFTs and various wirings, and is made of, for example, a silicon compound.

無機絶縁層１６上には、絶縁性の隔壁層１５が例えば膜厚約２μｍのアクリル樹脂から形成されている。この隔壁層１５は、第１電極１２上に開口部を有し、複数の有機ＥＬ素子１０を独立させて区分するものである。隔壁層１５は、複数の有機ＥＬ素子１０によって形成された素子領域Ｌの最外周部に位置する囲み部材１７を有している。つまり、囲み部材１７に囲まれた領域が有機ＥＬ素子１０の画素領域となっている。無機絶縁層１６及び隔壁層１５は凹部を形成しており、この凹部の底部を有機ＥＬ素子１０が占めている。   On the inorganic insulating layer 16, an insulating partition layer 15 is formed of an acrylic resin having a film thickness of about 2 μm, for example. The partition layer 15 has an opening on the first electrode 12 and separates the plurality of organic EL elements 10 independently. The partition wall layer 15 includes a surrounding member 17 positioned at the outermost peripheral portion of the element region L formed by the plurality of organic EL elements 10. That is, a region surrounded by the surrounding member 17 is a pixel region of the organic EL element 10. The inorganic insulating layer 16 and the partition wall layer 15 form a recess, and the organic EL element 10 occupies the bottom of the recess.

有機ＥＬ素子１０は、有機発光層１３を挟む第１電極１２及び第２電極１４を有する。第１電極１２及び第２電極１４は、有機発光層１３に正孔及び電子を注入するための電極であり、供給された電気エネルギにより電界を発生させる。第１電極１２は、正孔注入性の高いＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：インジウム錫酸化物）等からなる電極であり、上記の配線に対応するＴＦＴに接続されている。   The organic EL element 10 includes a first electrode 12 and a second electrode 14 that sandwich an organic light emitting layer 13. The first electrode 12 and the second electrode 14 are electrodes for injecting holes and electrons into the organic light emitting layer 13, and generate an electric field by supplied electric energy. The first electrode 12 is an electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) or the like having a high hole injection property, and is connected to a TFT corresponding to the above wiring.

第２電極１４は、有機発光層１３と隔壁層１５の基板１１上で露出する部位全体を覆い、かつ、囲み部材１７の外周側の側部を覆って基板１１に接するように形成されている。第２電極１４は、各有機ＥＬ素子１０共通の共通電極として機能するものであるが、隔壁層１５を含む素子領域Ｌ全面を覆うように形成されることにより、各有機ＥＬ素子１０の有機発光層１３を封止する封止部材としても機能する。なお、第２電極１４は、例えば、有機発光層１３へ電子を注入し易くするための電子注入バッファ層と、電子注入バッファ層上にＩＴＯやＡｌ（アルミニウム）などの金属から形成された電気抵抗の小さい層とを有する。電子注入バッファ層は、例えば、ＬｉＦ（フッ化リチウム）やＣａ（カルシウム）、ＭｇＡｇ（マグネシウム‐銀合金）から形成されている。   The second electrode 14 is formed so as to cover the entire portion of the organic light emitting layer 13 and the partition wall layer 15 exposed on the substrate 11 and to cover the outer peripheral side portion of the enclosing member 17 and to be in contact with the substrate 11. . The second electrode 14 functions as a common electrode common to the organic EL elements 10. However, the second electrode 14 is formed so as to cover the entire surface of the element region L including the partition wall layer 15, whereby the organic light emission of each organic EL element 10. It also functions as a sealing member that seals the layer 13. The second electrode 14 includes, for example, an electron injection buffer layer for facilitating injection of electrons into the organic light emitting layer 13, and an electric resistance formed from a metal such as ITO or Al (aluminum) on the electron injection buffer layer. And a small layer. The electron injection buffer layer is made of, for example, LiF (lithium fluoride), Ca (calcium), or MgAg (magnesium-silver alloy).

有機発光層１３は、電界により注入された正孔と電子との再結合により励起して発光する発光層を含む。なお、発光層以外の層をも含むように多層からなる有機発光層１３を構成することも可能である。発光層以外の層としては、正孔を注入し易くするための正孔注入層や、注入された正孔を発光層へ輸送し易くするための正孔輸送層、電子を注入し易くするための電子注入層、注入された電子を発光層へ輸送し易くするための電子輸送層などの、上記の再結合に寄与する層がある。   The organic light emitting layer 13 includes a light emitting layer that emits light when excited by recombination of holes and electrons injected by an electric field. In addition, it is also possible to comprise the organic light emitting layer 13 which consists of a multilayer so that layers other than a light emitting layer may also be included. As a layer other than the light emitting layer, a hole injection layer for facilitating injection of holes, a hole transport layer for facilitating transport of injected holes to the light emitting layer, or for facilitating injection of electrons. There are layers that contribute to the above recombination, such as an electron injection layer and an electron transport layer for facilitating transport of injected electrons to the light emitting layer.

有機発光層１３の発光層は高分子系有機ＥＬ材料から形成されている。高分子系有機ＥＬ材料は、正孔と電子との再結合により励起して発光する有機化合物のうち、分子量が比較的に高いものである。有機ＥＬ素子１０を形成している高分子系有機ＥＬ材料は、有機ＥＬ素子１０の種類（発光色）に応じた物質となっている。発光層における再結合に寄与する層の材料は、この層に接する層の材料に応じた物質となっている。   The light emitting layer of the organic light emitting layer 13 is formed from a polymer organic EL material. The high molecular weight organic EL material has a relatively high molecular weight among organic compounds that emit light when excited by recombination of holes and electrons. The polymer organic EL material forming the organic EL element 10 is a substance corresponding to the type (emission color) of the organic EL element 10. The material of the layer contributing to recombination in the light emitting layer is a substance corresponding to the material of the layer in contact with this layer.

第２電極１４の基板１１上で露出する部位全体を覆うように保護膜２０が形成されている。保護膜２０は平坦化樹脂層２１とガスバリア層２２の２層構造となっている。平坦化樹脂層２１は、第２電極１４の基板１１上で露出する部位全体を覆うように形成され、複数の有機ＥＬ素子１０の表面に形成された凹凸を平坦化している。なお、平坦化樹脂層２１の形成材料は、例えばエポキシ樹脂やアクリル樹脂などの有機化合物を用いることができる。ガスバリア層２２は、平坦化樹脂層２１の基板１１上で露出する部位全体を覆うように形成されている。なお、ガスバリア層２２の形成材料は、例えばＳｉＯＮ（酸化窒化シリコン）などの複数の有機ＥＬ素子１０を外気から保護するガスバリア性を有する無機化合物を用いることができる。   A protective film 20 is formed so as to cover the entire portion of the second electrode 14 exposed on the substrate 11. The protective film 20 has a two-layer structure of a planarizing resin layer 21 and a gas barrier layer 22. The planarizing resin layer 21 is formed so as to cover the entire portion of the second electrode 14 exposed on the substrate 11, and planarizes the irregularities formed on the surfaces of the plurality of organic EL elements 10. In addition, as a forming material of the planarizing resin layer 21, for example, an organic compound such as an epoxy resin or an acrylic resin can be used. The gas barrier layer 22 is formed so as to cover the entire portion of the planarizing resin layer 21 exposed on the substrate 11. As a material for forming the gas barrier layer 22, for example, an inorganic compound having a gas barrier property that protects the plurality of organic EL elements 10 from the outside air, such as SiON (silicon oxynitride), can be used.

保護膜２０上には、光の反射を抑えるブラックマトリクス層（遮光層）３１が各有機ＥＬ素子１０の周囲を囲む位置に、より具体的には隔壁層１５に対応する領域に形成されている。なお、ブラックマトリクス層３１の形成材料は、例えばカーボンブラック等の顔料が混入された樹脂を用いることができる。なお、このブラックマトリクス層３１には、フッ素樹脂等の撥液性を有する樹脂を混合させてもよい。   On the protective film 20, a black matrix layer (light-shielding layer) 31 that suppresses reflection of light is formed at a position surrounding each organic EL element 10, more specifically, in a region corresponding to the partition wall layer 15. . As a material for forming the black matrix layer 31, for example, a resin mixed with a pigment such as carbon black can be used. The black matrix layer 31 may be mixed with a resin having liquid repellency such as a fluororesin.

保護膜２０上には、赤色着色層３２Ｒ、緑色着色層３２Ｇ、青色着色層３２Ｂがマトリクス状に配列形成されたカラーフィルタ層３２が構成されている。着色層３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂは、ブラックマトリクス層３１を隔壁として、基板１１上に形成された有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対向して配置されている。これにより、有機発光層１３から発せられた光が、着色層３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂの各々を透過し、赤色光、緑色光、青色光の各色光として観察者側に射出されるようになっている。   On the protective film 20, a color filter layer 32 in which a red colored layer 32R, a green colored layer 32G, and a blue colored layer 32B are arranged in a matrix is configured. The colored layers 32R, 32G, and 32B are disposed to face the organic EL elements 10R, 10G, and 10B formed on the substrate 11 with the black matrix layer 31 as a partition. Thereby, the light emitted from the organic light emitting layer 13 passes through each of the colored layers 32R, 32G, and 32B, and is emitted to the viewer side as each color light of red light, green light, and blue light. Yes.

カラーフィルタ層３２及び保護膜２０の基板１１上で露出する部位全体を覆うように第１封止層４１が形成されている。なお、第１封止層４１の形成材料は、例えばエポキシ樹脂やアクリル樹脂などの有機化合物を用いることができる。第１封止層４１の基板１１で露出する部位全体を覆うようにガスバリア性を有する第２封止層４２が形成されている。なお、第２封止層４２の形成材料は、例えばＳｉＯＮ、ＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯ２（酸化シリコン）などの無機化合物を用いることができる。ここで、第１封止層４１は第２封止層４２よりも応力緩和のために厚く形成されている。 A first sealing layer 41 is formed so as to cover the entire portions of the color filter layer 32 and the protective film 20 exposed on the substrate 11. In addition, as a forming material of the 1st sealing layer 41, organic compounds, such as an epoxy resin and an acrylic resin, can be used, for example. A second sealing layer 42 having a gas barrier property is formed so as to cover the entire portion of the first sealing layer 41 exposed by the substrate 11. The formation material of the second sealing layer 42 is, for example SiON, SiN (silicon nitride) may be an inorganic compound such as SiO 2 (silicon oxide). Here, the first sealing layer 41 is formed thicker than the second sealing layer 42 for stress relaxation.

（有機ＥＬ装置の製造方法）
次に、本発明の有機ＥＬ装置１を製造する工程について図面を参照して説明する。図２及び図３は有機ＥＬ装置１の製造方法の一例を示す断面工程図である。 (Method for manufacturing organic EL device)
Next, a process for manufacturing the organic EL device 1 of the present invention will be described with reference to the drawings. 2 and 3 are cross-sectional process diagrams illustrating an example of a method for manufacturing the organic EL device 1.

先ず、図２（ａ）に示すように、基板１１上にＴＦＴ（図示略）及び各種の配線（図示略）を形成し、それらを覆うように無機絶縁層１６を熱酸化法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、スピンコート法等、を用いて形成する。   First, as shown in FIG. 2A, a TFT (not shown) and various wirings (not shown) are formed on the substrate 11, and the inorganic insulating layer 16 is covered with a thermal oxidation method, a CVD method, A sputtering method, a spin coating method, or the like is used.

次に、図２（ｂ）に示すように、無機絶縁層１６上にＡｌＣｕ（アルミニウム‐銅合金）などの光反射性の反射層と、透明なＩＴＯをスパッタリング法により成膜して複数の画素となる第１電極１２を形成する。   Next, as shown in FIG. 2B, a light reflective reflective layer such as AlCu (aluminum-copper alloy) and transparent ITO are formed on the inorganic insulating layer 16 by sputtering to form a plurality of pixels. The first electrode 12 is formed.

次に、図２（ｃ）に示すように、無機絶縁層１６上に第１電極１２を囲むように、公知のレジスト技術、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術等を用いてパターニングし、隔壁層１５を形成する。隔壁層１５は、複数の第１電極１２が形成された領域の最外周部に位置する囲み部材１７を有している。次に、基板１１上から有機物系の異物除去とＩＴＯ表面の濡れ性を向上させるために、プラズマ洗浄などの洗浄処理を行う。   Next, as shown in FIG. 2C, patterning is performed using a known resist technique, photolithography technique, etching technique or the like so as to surround the first electrode 12 on the inorganic insulating layer 16, and the partition layer 15 is formed. Form. The partition layer 15 has a surrounding member 17 located at the outermost peripheral portion of the region where the plurality of first electrodes 12 are formed. Next, in order to remove organic foreign matter from the substrate 11 and improve the wettability of the ITO surface, a cleaning process such as plasma cleaning is performed.

次に、図２（ｄ）に示すように、第１電極１２上に隔壁層１５に囲まれた開口部に、例えばインクジェットなどの液滴吐出法により、有機発光層１３を形成する。有機発光層１３に含まれる発光層の形成では、赤色光を発する有機ＥＬ素子１０Ｒを構成することになる第１電極１２上には、赤色光を発する有機発光層１３を形成するための高分子系有機ＥＬ材料を塗布する。これと同様のことを、緑色光を発する有機ＥＬ素子１０Ｇ及び青色光を発する有機ＥＬ素子１０Ｂについても行う。なお、単色のみ使用する場合にはスピンコートやスリットコート法の方が塗布時間が短く済み効率の良い塗布ができる。有機発光層１３が複数の層からなる場合には、各層を順に成膜することになる。   Next, as illustrated in FIG. 2D, the organic light emitting layer 13 is formed on the first electrode 12 in the opening surrounded by the partition wall layer 15 by a droplet discharge method such as inkjet. In the formation of the light emitting layer included in the organic light emitting layer 13, a polymer for forming the organic light emitting layer 13 emitting red light on the first electrode 12 constituting the organic EL element 10R emitting red light. A system organic EL material is applied. The same thing is performed for the organic EL element 10G that emits green light and the organic EL element 10B that emits blue light. When only a single color is used, spin coating or slit coating can shorten the coating time and can be applied efficiently. When the organic light emitting layer 13 is composed of a plurality of layers, the layers are sequentially formed.

次に、図２（ｅ）に示すように、複数の有機ＥＬ素子１０に共通の電極となる第２電極１４を有機発光層１３と隔壁層１５の基板１１上で露出する部位全体を覆い、かつ、囲み部材１７の外周側の側部を覆って無機絶縁層１６に接するように形成する。例えば、先ず、加熱ボート（るつぼ）を用いた真空蒸着法によりＬｉＦ及びＣａやＭｇなどの電子注入性の高い金属又は合金を成膜する。次に、電極抵抗を下げるため、真空蒸着法により画素部を避けるようにパターン形成したＡｌか、ＥＣＲ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｃｙｃｌｏｔｒｏｎ Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ：電子サイクロトロン共鳴）プラズマスパッタ法やイオンプレーティング法、対向ターゲットスパッタ法などの減圧雰囲気下で高密度プラズマ成膜法により透明なＩＴＯを成膜する。   Next, as shown in FIG. 2 (e), the second electrode 14 serving as an electrode common to the plurality of organic EL elements 10 covers the entire portion of the organic light emitting layer 13 and the partition wall layer 15 exposed on the substrate 11, And it forms so that the side part of the outer peripheral side of the surrounding member 17 may be covered, and the inorganic insulating layer 16 may be contact | connected. For example, first, a metal or an alloy having high electron injection properties such as LiF and Ca or Mg is formed by vacuum evaporation using a heating boat (crucible). Next, in order to reduce the electrode resistance, Al is formed by patterning so as to avoid the pixel portion by vacuum deposition, or ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma sputtering, ion plating, counter target sputtering, etc. A transparent ITO film is formed by a high-density plasma film formation method under a reduced pressure atmosphere.

次に、図３（ａ）に示すように、第２電極１４の基板１１上で露出する部位全体を覆うように、スクリーン印刷法やスピンコート法などにより、減圧雰囲気で所定の粘度の液状の有機化合物を印刷し、窒素ガスを導入して大気圧に戻した後、加熱硬化させることにより平坦化樹脂層２１形成する。ここで、平坦化樹脂層の膜厚は、複数の有機ＥＬ素子１０の表面に形成された凹凸を平坦化するために数μｍ〜数十μｍとするのがよい。次に、必要に応じて平坦化樹脂層２１の平坦化処理を行う。この平坦化処理方法としては、例えばＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ：化学機械研磨）やエッチングなどがある。   Next, as shown in FIG. 3A, a liquid having a predetermined viscosity in a reduced pressure atmosphere is applied by a screen printing method or a spin coating method so as to cover the entire portion of the second electrode 14 exposed on the substrate 11. After the organic compound is printed and nitrogen gas is introduced to return to atmospheric pressure, the planarizing resin layer 21 is formed by heating and curing. Here, the film thickness of the flattening resin layer is preferably several μm to several tens of μm in order to flatten the unevenness formed on the surfaces of the plurality of organic EL elements 10. Next, the planarization resin layer 21 is planarized as necessary. Examples of the planarization method include CMP (Chemical Mechanical Polishing) and etching.

次に、図３（ｂ）に示すように、平坦化樹脂層２１の基板１１上で露出する部位全体を覆うように、酸素プラズマ処理を行い、ＣＶＤ法などにより、ガスバリア層２２を形成する。酸素プラズマ処理を行うのは、平坦化樹脂層２１とガスバリア層２２との密着性を向上させるためである。なお、平坦化樹脂層２１とガスバリア層２２の組み合わせとしては、光の透過性低減を防止する面から屈折率の近い材料の方が望ましい。   Next, as shown in FIG. 3B, an oxygen plasma treatment is performed so as to cover the entire exposed portion of the planarizing resin layer 21 on the substrate 11, and a gas barrier layer 22 is formed by a CVD method or the like. The oxygen plasma treatment is performed in order to improve the adhesion between the planarizing resin layer 21 and the gas barrier layer 22. In addition, as a combination of the planarizing resin layer 21 and the gas barrier layer 22, a material having a refractive index close to the surface is preferable in terms of preventing light transmission from being reduced.

次に、図３（ｃ）に示すように、ガスバリア層２２上の隔壁層１５に対応する領域に、例えば蒸着法やスパッタリング法でＣｒ（クロム）を成膜し、この膜を公知のレジスト技術、フォトリソグラフィ技術、エッチング技術等を用いてパターニングし、ブラックマトリクス層３１を形成する。   Next, as shown in FIG. 3C, Cr (chromium) is formed in a region corresponding to the partition layer 15 on the gas barrier layer 22 by, for example, vapor deposition or sputtering, and this film is formed by a known resist technique. The black matrix layer 31 is formed by patterning using a photolithography technique, an etching technique, or the like.

次に、ブラックマトリクス層３１を隔壁として、例えばインクジェットなどの液滴吐出法により、カラーフィルタ層３２を形成する。具体的には、液滴吐出ヘッドから所定のブラックマトリクス層３１の間に、例えば赤色着色層３２Ｒ、緑色着色層３２Ｇ、青色着色層３２Ｂの液状の材料を選択的に配し、これを所定の温度で加熱乾燥させて、赤色着色層３２Ｒ、緑色着色層３２Ｇ、青色着色層３２Ｂを形成する。このようにして、赤色着色層３２Ｒ、緑色着色層３２Ｇ、青色着色層３２Ｂからなるカラーフィルタ層３２を形成することができる。   Next, using the black matrix layer 31 as a partition, a color filter layer 32 is formed by a droplet discharge method such as inkjet. Specifically, for example, liquid materials such as a red coloring layer 32R, a green coloring layer 32G, and a blue coloring layer 32B are selectively arranged between the droplet discharge head and a predetermined black matrix layer 31, and the liquid materials are arranged in a predetermined manner. By heating and drying at a temperature, a red colored layer 32R, a green colored layer 32G, and a blue colored layer 32B are formed. In this way, the color filter layer 32 composed of the red colored layer 32R, the green colored layer 32G, and the blue colored layer 32B can be formed.

次に、図３（ｄ）に示すように、カラーフィルタ層３２及びガスバリア層２２の基板１１上で露出する部位全体を覆うように、スクリーン印刷法やスピンコート法などにより、減圧雰囲気で所定の粘度の液状の有機化合物を印刷し、窒素ガスを導入して大気圧に戻した後、加熱硬化させることにより第１封止層４１を形成する。   Next, as shown in FIG. 3D, a predetermined printing method is applied in a reduced-pressure atmosphere by screen printing, spin coating, or the like so as to cover the entire portions of the color filter layer 32 and the gas barrier layer 22 exposed on the substrate 11. The first sealing layer 41 is formed by printing a liquid organic compound having a viscosity, introducing nitrogen gas to return to atmospheric pressure, and then heating and curing.

次に、第１封止層４１の基板１１上で露出する部位全体を覆うように、ＣＶＤ法やスピンコートなどにより、第２封止層４２を形成する。なお、第１封止層４１と第２封止層４２の組み合わせとしては、光の透過性低減を防止する面から屈折率の近い材料の方が望ましい。これにより、有機ＥＬ装置１が形成される。   Next, the second sealing layer 42 is formed by CVD, spin coating, or the like so as to cover the entire portion of the first sealing layer 41 exposed on the substrate 11. In addition, as a combination of the first sealing layer 41 and the second sealing layer 42, a material having a refractive index close to the surface from which reduction of light transmission is prevented is desirable. Thereby, the organic EL device 1 is formed.

なお、本実施形態では、有機ＥＬ素子１０は有機発光層１３にＲＧＢの三つの有機材料を使い塗り分けて有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを配置する三色発光法を用いているが、単色としてもよい。例えば、単色の有機ＥＬ素子１０を用いる技術としては、有機発光層１３の部分を白色素子でつくりこんでしまい、出てきた白色光をカラーフィルタ層３２で分けてフルカラーを実現するというフィルター法（白色法）が挙げられる。この方法によれば、３色発光法のようにＲＧＢの塗り分けがなく工程的に容易なので、より効率的に有機ＥＬ装置１を形成することができる。   In the present embodiment, the organic EL element 10 uses a three-color light emitting method in which the organic EL elements 10R, 10G, and 10B are arranged by coating the organic light emitting layer 13 using three organic materials of RGB. It is good. For example, as a technique using the monochromatic organic EL element 10, a filter method in which a portion of the organic light emitting layer 13 is formed with a white element, and the emitted white light is divided by the color filter layer 32 to realize full color ( White method). According to this method, unlike the three-color light emission method, there is no separate RGB coating and the process is easy, so that the organic EL device 1 can be formed more efficiently.

本実施形態の有機ＥＬ装置１によれば、複数の有機ＥＬ素子１０が形成された基板１１上の保護膜２０を下地にしてカラーフィルタ層３２が形成されるので、パネル全体の厚さをより薄くすることができる。また、複数の有機ＥＬ素子１０とカラーフィルタ層３２は、第１封止層４１及び第２封止層４２の２層構造で覆われるので、外気や水分等の影響による封止性能の低下を防止することができる。また、従来のようにカラーフィルタ層３２が外の水分を吸収するのを防ぐオーバーコートを設ける必要がないので、成形工程を簡略化することが可能となる。また、第１封止層４１は第２封止層４２に比べて弾性率が低く柔軟性のある有機化合物からなり応力を分散させ易いので、割れたり剥離したりし難い封止層で有機ＥＬ素子１０を十分に封止することが可能となる。その結果、製品としてより薄型化、低消費電力化、表示品質向上及び封止性能向上を図った有機ＥＬ装置１が提供できる。   According to the organic EL device 1 of the present embodiment, since the color filter layer 32 is formed using the protective film 20 on the substrate 11 on which the plurality of organic EL elements 10 are formed as a base, the thickness of the entire panel is further increased. Can be thinned. Further, since the plurality of organic EL elements 10 and the color filter layer 32 are covered with the two-layer structure of the first sealing layer 41 and the second sealing layer 42, the sealing performance is deteriorated due to the influence of outside air, moisture, and the like. Can be prevented. In addition, since it is not necessary to provide an overcoat that prevents the color filter layer 32 from absorbing external moisture as in the prior art, the molding process can be simplified. In addition, the first sealing layer 41 is made of a flexible organic compound having a lower elastic modulus than the second sealing layer 42 and easily disperses stress. Therefore, the first sealing layer 41 is an organic EL layer that is difficult to crack or peel off. The element 10 can be sufficiently sealed. As a result, it is possible to provide the organic EL device 1 that is thinner, lower power consumption, improved display quality, and improved sealing performance as a product.

また、この構成によれば、複数の有機ＥＬ素子１０は、平坦化樹脂層２１及びガスバリア層２２の２層構造で覆われるので、より外気や水分等の影響による封止性能の低下を防止することができる。また、平坦化樹脂層２１が複数の有機ＥＬ素子の表面に形成された凹凸を平坦化するので保護膜２０の応力負荷が小さく割れ難くなる。その結果、製品としてより表示品質向上及び封止性能向上を図った有機ＥＬ装置１が提供できる。   In addition, according to this configuration, the plurality of organic EL elements 10 are covered with the two-layer structure of the planarizing resin layer 21 and the gas barrier layer 22, thereby further preventing deterioration in sealing performance due to the influence of outside air, moisture, and the like. be able to. In addition, since the planarization resin layer 21 planarizes the irregularities formed on the surfaces of the plurality of organic EL elements, the stress load on the protective film 20 is small and difficult to break. As a result, it is possible to provide the organic EL device 1 that is improved in display quality and sealing performance as a product.

また、この構成によれば、有機発光層１３は、第２電極１４、保護膜２０、第１封止層４１及び第２封止層４２の四層構造で覆われるので、より外気や水分等の影響による封止性能の低下を防止することができる。その結果、製品としてより表示品質向上及び封止性能向上を図った有機ＥＬ装置１が提供できる。   Moreover, according to this structure, since the organic light emitting layer 13 is covered with the four-layer structure of the 2nd electrode 14, the protective film 20, the 1st sealing layer 41, and the 2nd sealing layer 42, more outside air, a water | moisture content, etc. It is possible to prevent a decrease in sealing performance due to the influence of the above. As a result, it is possible to provide the organic EL device 1 that is improved in display quality and sealing performance as a product.

また、この構成によれば、第１封止層４１が第２封止層４２よりも厚く形成されるので応力緩和層としての機能をより高めることができる。その結果、より割れたり剥離したりし難い封止層で有機ＥＬ素子１０を十分に封止することが可能となる。   Moreover, according to this structure, since the 1st sealing layer 41 is formed thicker than the 2nd sealing layer 42, the function as a stress relaxation layer can be improved more. As a result, the organic EL element 10 can be sufficiently sealed with a sealing layer that is more difficult to crack or peel.

本実施形態の有機ＥＬ装置１の製造方法によれば、保護膜２０上にブラックマトリクス層３１を隔壁としてカラーフィルタ層３２を形成する工程において液滴吐出法を用いているので、より精度良くカラーフィルタ層３２を形成することができる。また、基板１１上に複数の有機ＥＬ素子１０を形成する工程において液滴吐出法を用いる場合は、カラーフィルタ層３２を形成する工程で使用するインクジェット装置を同一にすることによりインクジェット装置の液滴吐出部のノズルを交換するのみで済むので、より効率良く、精度良くカラーフィルタ層３２を形成することができる。その結果、製品としてより表示品質向上を図った有機ＥＬ装置１を製造することができる。   According to the method for manufacturing the organic EL device 1 of the present embodiment, since the droplet discharge method is used in the process of forming the color filter layer 32 using the black matrix layer 31 as a partition on the protective film 20, the color can be more accurately displayed. A filter layer 32 can be formed. Further, when the droplet discharge method is used in the step of forming the plurality of organic EL elements 10 on the substrate 11, the droplets of the inkjet device are made by using the same inkjet device used in the step of forming the color filter layer 32. Since it is only necessary to replace the nozzle of the discharge part, the color filter layer 32 can be formed more efficiently and accurately. As a result, it is possible to manufacture the organic EL device 1 that further improves display quality as a product.

また、この製造方法によれば、ブラックマトリクス層３１に囲まれた領域に液滴を吐出するときに、下地が平坦化されているので、均一な膜厚を有する着色層３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂが形成できる。そのため、表示品質に優れた有機ＥＬ装置１を製造することができる。   Further, according to this manufacturing method, when the droplets are ejected to the region surrounded by the black matrix layer 31, the base is flattened, so that the colored layers 32R, 32G, and 32B having a uniform film thickness are formed. Can be formed. Therefore, the organic EL device 1 excellent in display quality can be manufactured.

（第２実施形態）
続いて、本発明の有機ＥＬ装置に係る第２実施形態について説明する。図４は本実施形態に係る有機ＥＬ装置２の概略構成断面図である。本実施形態に係る有機ＥＬ装置２は、保護膜２０上に、基板１１上に形成された有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対向して、赤色着色層３２Ｒ、緑色着色層３２Ｇ、青色着色層３２Ｂがマトリクス状に配列形成されたカラーフィルタ層３２が構成されている。なお、有機発光装置２は、保護膜２０上には、図１に示されるブラックマトリクス層３１が形成されていない。なお、本実施形態の有機ＥＬ装置２は、図１に示されるブラックマトリクス層３１を除いた構成は上記第１実施形態に係る構成と同一となっている。 (Second Embodiment)
Next, a second embodiment according to the organic EL device of the present invention will be described. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the organic EL device 2 according to this embodiment. The organic EL device 2 according to the present embodiment has a red colored layer 32R, a green colored layer 32G, and a blue colored layer facing the organic EL elements 10R, 10G, and 10B formed on the substrate 11 on the protective film 20. A color filter layer 32 in which 32B is arranged in a matrix is configured. In the organic light emitting device 2, the black matrix layer 31 shown in FIG. 1 is not formed on the protective film 20. The configuration of the organic EL device 2 of the present embodiment is the same as that of the first embodiment except for the black matrix layer 31 shown in FIG.

（有機ＥＬ装置の製造方法）
以下、上記有機ＥＬ装置２を製造する方法の一例について説明する。本実施形態では、上述した第１実施形態に係る製造方法における図３以降の工程が異なっている。具体的に本実施形態では、図５に示すように、カラーフィルタ層３２を転写を用いて形成する。 (Method for manufacturing organic EL device)
Hereinafter, an example of a method for manufacturing the organic EL device 2 will be described. In this embodiment, the steps after FIG. 3 in the manufacturing method according to the first embodiment described above are different. Specifically, in this embodiment, as shown in FIG. 5, the color filter layer 32 is formed by transfer.

図５（ａ）に示すように、ガスバリア層２２上にカラーフィルタ層３２を、例えばロール・トゥ・ロール方式などの転写を用いて形成する。より具体的には、ロール５０には、例えば長さ数百ｍ，幅１ｍ程の大きな支持板が巻かれている。この支持板にはカラーフィルタ層３２の着色層３２Ｒ，３２Ｇ，３２Ｂに対応する着色パターンＰが印刷されている。この着色パターンＰが印刷された支持板をガスバリア層２２上に貼り合わせる。より具体的には、基板１１上に形成された有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対向するように、ガスバリア層２２上に赤色着色層３２Ｒ、緑色着色層３２Ｇ、青色着色層３２Ｂに相当する着色パターンＰを貼り合せる。そして、支持板を再度ロール５０に巻き取ることで着色パターンＰをガスバリア層２２上に転写し、カラーフィルタ層３２を形成する。   As shown in FIG. 5A, the color filter layer 32 is formed on the gas barrier layer 22 by using transfer such as a roll-to-roll method. More specifically, a large support plate having a length of about several hundred meters and a width of about 1 m is wound around the roll 50, for example. A colored pattern P corresponding to the colored layers 32R, 32G, 32B of the color filter layer 32 is printed on the support plate. A support plate on which the colored pattern P is printed is bonded onto the gas barrier layer 22. More specifically, coloring corresponding to the red colored layer 32R, the green colored layer 32G, and the blue colored layer 32B on the gas barrier layer 22 so as to face the organic EL elements 10R, 10G, and 10B formed on the substrate 11. The pattern P is pasted. Then, the colored pattern P is transferred onto the gas barrier layer 22 by winding the support plate around the roll 50 again, and the color filter layer 32 is formed.

次に、図５（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層３２及びガスバリア層２２の基板１１上で露出する部位全体を覆うように、スクリーン印刷法やスピンコート法などにより、減圧雰囲気で所定の粘度の液状の有機化合物を印刷し、窒素ガスを導入して大気圧に戻した後、加熱硬化させることにより第１封止層４１を形成する。なお、以下の工程については、上記実施形態と同様であることから、その詳細な説明については省略する。   Next, as shown in FIG. 5B, a predetermined printing method is applied in a reduced-pressure atmosphere by a screen printing method, a spin coating method, or the like so as to cover the entire portions of the color filter layer 32 and the gas barrier layer 22 exposed on the substrate 11. The first sealing layer 41 is formed by printing a liquid organic compound having a viscosity, introducing nitrogen gas to return to atmospheric pressure, and then heating and curing. Since the following steps are the same as those in the above embodiment, detailed description thereof will be omitted.

本実施形態の有機ＥＬ装置２の製造方法によれば、カラーフィルタ層３２を転写を用いて形成するので、液滴吐出法のように保護膜２０上に隔壁としてのブラックマトリクス層３１を形成する必要がない。すなわち、ブラックマトリクス層３１を形成する工程を省くことができるので、より効率良くカラーフィルタ層３２を形成することが可能となる。その結果、製品としてより薄型化を図った有機ＥＬ装置１を製造することができる。   According to the method of manufacturing the organic EL device 2 of the present embodiment, the color filter layer 32 is formed by transfer, and thus the black matrix layer 31 as a partition is formed on the protective film 20 as in the droplet discharge method. There is no need. That is, since the step of forming the black matrix layer 31 can be omitted, the color filter layer 32 can be formed more efficiently. As a result, it is possible to manufacture the organic EL device 1 that is thinner as a product.

（電子機器）
次に、本発明に係る電子機器について、携帯電話を例に挙げて説明する。図６は、携帯電話６００の全体構成を示す斜視図である。携帯電話６００は、筺体６０１、複数の操作ボタンが設けられた操作部６０２、画像や動画、文字等を表示する表示部６０３を有する。表示部６０３には、本発明に係る有機ＥＬ装置１が搭載される。
このように、パネル全体の厚さをより薄くし、製品の薄型化、低消費電力化、表示品質向上及び封止性能向上を図った有機ＥＬ装置１を備えているので、高信頼性かつ高性能な電子機器（携帯電話）６００を得ることができる。 (Electronics)
Next, an electronic apparatus according to the present invention will be described using a mobile phone as an example. FIG. 6 is a perspective view showing the overall configuration of the mobile phone 600. The mobile phone 600 includes a housing 601, an operation unit 602 provided with a plurality of operation buttons, and a display unit 603 that displays images, moving images, characters, and the like. The display unit 603 is equipped with the organic EL device 1 according to the present invention.
As described above, since the organic EL device 1 is provided in which the thickness of the entire panel is further reduced, the product is thinned, the power consumption is reduced, the display quality is improved, and the sealing performance is improved. A high-performance electronic device (mobile phone) 600 can be obtained.

なお、電子機器としては、上記携帯電話６００以外にも、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）、およびエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ページャ、あるいは投射型液晶表示装置、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、ＰＯＳ端末、タッチパネルなどを挙げることができる。   In addition to the mobile phone 600, the electronic device includes a multimedia-compatible personal computer (PC), an engineering workstation (EWS), a pager, a projection type liquid crystal display device, a word processor, a television, and a viewfinder type. Or a monitor direct-view type video tape recorder, an electronic notebook, an electronic desk calculator, a car navigation device, a POS terminal, a touch panel, and the like.

第１実施形態の有機ＥＬ装置の概略構成断面図である。It is a schematic structure sectional view of the organic EL device of a 1st embodiment. 第１実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 1st Embodiment. 図２に続く、有機ＥＬ装置の製造工程を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating manufacturing steps of the organic EL device following FIG. 2. 第２実施形態の有機ＥＬ装置の概略構成断面図である。It is a schematic structure sectional view of the organic EL device of a 2nd embodiment. 第２実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the organic electroluminescent apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 電子機器の一例である携帯電話の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the mobile telephone which is an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

Ｌ…素子領域（表示領域）、１，２…有機ＥＬ装置、１０…有機ＥＬ素子（発光素子）、１１…基板、１２…第１電極、１３…有機発光層、１４…第２電極、１５…隔壁層、２０…保護膜、２１…平坦化樹脂層、２２…ガスバリア層、３１…ブラックマトリクス層、３２…カラーフィルタ層、３２Ｒ…赤色着色層（着色層）、３２Ｇ…緑色着色層（着色層）、３２Ｂ…青色着色層（着色層）、４１…第１封止層、４２…第２封止層、６００…携帯電話（電子機器） L ... element region (display region), 1, 2 ... organic EL device, 10 ... organic EL element (light emitting element), 11 ... substrate, 12 ... first electrode, 13 ... organic light emitting layer, 14 ... second electrode, 15 ... partition wall layer, 20 ... protective film, 21 ... flattened resin layer, 22 ... gas barrier layer, 31 ... black matrix layer, 32 ... color filter layer, 32R ... red colored layer (colored layer), 32G ... green colored layer (colored) Layer), 32B ... blue colored layer (colored layer), 41 ... first sealing layer, 42 ... second sealing layer, 600 ... mobile phone (electronic device)

Claims (8)

複数の発光素子が形成された基板と、
前記複数の発光素子の前記基板上で露出する部位全体を覆う保護膜と、
前記保護膜上に形成され、複数の着色層がそれぞれ前記複数の発光素子と対向するように配置されたカラーフィルタ層と、
前記カラーフィルタ層及び前記保護膜の前記基板上で露出する部位全体を覆う有機化合物からなる第１封止層と、
前記第１封止層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなる第２封止層と、を備えていることを特徴とする有機ＥＬ装置。 A substrate on which a plurality of light emitting elements are formed;
A protective film covering the entire portion exposed on the substrate of the plurality of light emitting elements;
A color filter layer formed on the protective film and arranged such that a plurality of colored layers respectively face the plurality of light emitting elements;
A first sealing layer made of an organic compound covering an entire portion of the color filter layer and the protective film exposed on the substrate;
An organic EL device comprising: a second sealing layer made of an inorganic compound that covers the entire portion of the first sealing layer exposed on the substrate. 前記保護膜は、前記複数の発光素子の表面に形成された凹凸を平坦化する平坦化樹脂層と、前記平坦化樹脂層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなるガスバリア層と、を備えていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。   The protective film includes a planarizing resin layer that planarizes unevenness formed on the surfaces of the plurality of light emitting elements, and a gas barrier layer made of an inorganic compound that covers the entire portion of the planarizing resin layer exposed on the substrate. The organic EL device according to claim 1, comprising: 前記発光素子は、前記基板上に形成された第１電極と、前記第１電極と対向配置された第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に挟持された有機発光層と、を有し、
前記基板上には、前記第１電極の周縁部に沿って立設され、前記各発光素子を独立させて区分する隔壁層が設けられ、
前記第２電極は、前記隔壁層と前記複数の発光素子とにより形成された素子領域の全面を覆って前記基板に接しており、
前記保護膜は、前記第２電極の前記基板上で露出する部位全体を覆って形成され、
前記有機発光層が、前記第２電極、前記保護膜、前記第１封止層、及び前記第２封止層によって封止されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ装置。 The light emitting device includes a first electrode formed on the substrate, a second electrode disposed opposite to the first electrode, and an organic light emitting layer sandwiched between the first electrode and the second electrode. And having
On the substrate, a partition layer is provided that stands up along the peripheral edge of the first electrode and separates each light emitting element independently,
The second electrode is in contact with the substrate covering the entire surface of an element region formed by the partition layer and the plurality of light emitting elements,
The protective film is formed to cover the entire portion of the second electrode exposed on the substrate,
The organic EL according to claim 1, wherein the organic light emitting layer is sealed by the second electrode, the protective film, the first sealing layer, and the second sealing layer. apparatus. 前記第１封止層は前記第２封止層よりも厚く形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。   The organic EL device according to claim 1, wherein the first sealing layer is formed thicker than the second sealing layer. 基板上に複数の発光素子を形成する工程と、
前記複数の発光素子の前記基板上で露出する部位全体を覆う保護膜を形成する工程と、
前記保護膜上の各発光素子の周囲を囲む位置にブラックマトリクス層を形成する工程と、
前記ブラックマトリクス層に囲まれた領域にカラーフィルタ層の形成材料を含む液滴を吐出し、該液滴を乾燥することにより前記カラーフィルタ層を形成する工程と、
前記カラーフィルタ層及び前記保護膜の前記基板上で露出する部位全体を覆う有機化合物からなる第１封止層を形成する工程と、
前記第１封止層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなる第２封止層を形成する工程と、を備えていることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 Forming a plurality of light emitting elements on a substrate;
Forming a protective film covering the entire portion exposed on the substrate of the plurality of light emitting elements;
Forming a black matrix layer at a position surrounding the periphery of each light emitting element on the protective film;
Forming a color filter layer by discharging droplets containing a color filter layer forming material in a region surrounded by the black matrix layer, and drying the droplets;
Forming a first sealing layer made of an organic compound covering an entire portion of the color filter layer and the protective film exposed on the substrate;
Forming a second sealing layer made of an inorganic compound that covers the entire portion of the first sealing layer exposed on the substrate. A method for manufacturing an organic EL device, comprising: 前記保護膜を形成する工程は、前記複数の発光素子の表面に形成された凹凸を平坦化する平坦化樹脂層を形成する工程と、前記平坦化樹脂層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなるガスバリア層を形成する工程と、を備えていることを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬ装置の製造方法。   The step of forming the protective film includes a step of forming a flattening resin layer for flattening irregularities formed on the surfaces of the plurality of light emitting elements, and an entire portion of the flattening resin layer exposed on the substrate. And a step of forming a gas barrier layer made of an inorganic compound to cover the organic EL device manufacturing method according to claim 5. 基板上に複数の発光素子を形成する工程と、
前記複数の発光素子の前記基板上で露出する部位全体を覆う保護膜を形成する工程と、
前記保護膜上の各発光素子に対向する位置に着色層を転写し、前記保護膜上に、複数の前記着色層がそれぞれ前記複数の発光層に対向するように配置されたカラーフィルタ層を形成する工程と、
前記カラーフィルタ層及び前記保護膜の前記基板上で露出する部位全体を覆う有機化合物からなる第１封止層を形成する工程と、
前記第１封止層の前記基板上で露出する部位全体を覆う無機化合物からなる第２封止層を形成する工程と、を備えていることを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。 Forming a plurality of light emitting elements on a substrate;
Forming a protective film covering the entire portion exposed on the substrate of the plurality of light emitting elements;
A colored layer is transferred to a position facing each light emitting element on the protective film, and a color filter layer is formed on the protective film so that the plurality of colored layers are respectively opposed to the plurality of light emitting layers. And a process of
Forming a first sealing layer made of an organic compound covering an entire portion of the color filter layer and the protective film exposed on the substrate;
Forming a second sealing layer made of an inorganic compound that covers the entire portion of the first sealing layer exposed on the substrate. A method for manufacturing an organic EL device, comprising: 請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the organic EL device according to claim 1.
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