JP6429590B2 - 排ガス分析システム及びポンプ装置 - Google Patents

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Description

本発明は、内燃機関から排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、この排ガスを希釈して分析する排ガス分析システム、及び当該システムに好適に用いられるポンプ装置に関するものである。
従来、排ガスに含まれる粒子状物質(PM)の計測システムとして、特許文献1に示すように、PM捕集フィルタを用いたPM捕集と、例えば拡散電荷センサ(DCS)等の分析計を用いた粒子径濃度等の連続計測とを組み合わせたものが考えられている。
具体的にこの計測システムは、内燃機関から排出される排ガスの一部を排ガス導入管により分流採取してマイクロトンネル(希釈器)に導入し、希釈用ガスにより希釈する。そして、このマイクロトンネルで希釈された希釈排ガスをPM捕集フィルタに導くとともに、PM捕集フィルタの上流側において、希釈排ガスの一部を希釈排ガス採取管により採取して例えば拡散電荷センサ(DCS)等の分析計に導くように構成されている。
ここで、この計測システムは、マイクロトンネルに接続された希釈用ガス導入管に例えば電磁比例弁等の流量調整機構が設けられており、この流量調整機構を制御することにより、内燃機関から排出される排ガス流量に基づいた分流希釈制御が行われるように構成されている。つまり、この計測システムでは、内燃機関から排出される排ガス流量と、排ガス導入管に分流採取される排ガス流量との比(分流比)が一定となるように、マイクロトンネルに導入される希釈用ガスの流量が調整される。
このように分流希釈制御される計測システムでは、希釈排ガス採取管により採取される希釈排ガス流量が分流希釈制御の誤差となり、分析精度が低下してしまうため、希釈排ガス採取管による採取流量と同じ流量の補正ガス(例えば空気)をPM捕集フィルタの下流側に戻すように構成されている。具体的には、PM捕集フィルタと当該PM捕集フィルタの下流側に設けられた吸引ポンプとの間に補正ガス導入管が接続されており、当該補正ガス導入管には、補正ガス流量を採取流量と同一流量に制御するためのマスフローコントローラが設けられている。
しかしながら、PM捕集フィルタの下流側にマスフローコントローラを介して補正ガスを流入させるためには、マスフローコントローラの上流側に圧縮空気源(コンプレッサ)が必要となってしまい、計測システムの小型化を推し進めることが難しいという問題がある。
国際公開第2010/007965号
そこで本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであり、排ガスの分析精度の低下を抑えつつ、圧縮空気源を有する補正ガス導入管を不要にすることをその主たる所期目的とするものである。
すなわち本発明に係る排ガス分析システムは、内燃機関から排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析する排ガス分析システムであって、前記排ガスが流れる排ガス流路と、前記希釈用ガスが流れる希釈用ガス流路と、前記排ガス流路及び前記希釈用ガス流路が接続され、前記排ガス及び前記希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すとともに、前記排ガスを分析するための第1分析機器が設けられるメイン流路と、前記メイン流路の前記第1分析機器よりも上流側に接続されて、前記メイン流路から希釈排ガスの一部を採取して、前記排ガスを分析するための第2分析機器に導入する希釈排ガス採取流路と、前記メイン流路の前記第1分析機器よりも下流側に設けられ、前記メイン流路を流れる希釈排ガス流量を調整する希釈排ガス流量調整機構と、前記希釈排ガス採取流路を流れる希釈排ガス採取流量に応じて、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更する制御機器と、を備えることを特徴とする。
このようなものであれば、希釈排ガス採取流路を流れる希釈排ガス採取流量に応じて、希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更しているので、排ガス流路を流れる排ガス流量及び希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量の合計流量が採取流量に応じて変動することを防ぎつつ、圧縮空気源を有する補正ガス流路を不要にすることができる。これにより、排ガス分析システムの分析精度の低下を抑えつつ、小型化することができる。
なお、分流希釈制御する際に、希釈排ガス採取流量に応じて、希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更しない場合には、希釈排ガス採取流量に応じて、前記合計流量(希釈排ガス採取流路よりも上流側の希釈排ガス流量)が変動してしまい、その結果、分流希釈制御に誤差が生じてしまう。
特に分流希釈制御における誤差を低減するためには、前記希釈用ガス流路に設けられ、前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量を調整する希釈用ガス流量調整機構をさらに備え、前記制御機器が、前記希釈排ガス流量調整機構及び前記希釈用ガス流量調整機構を制御して、前記排ガス流路を流れる排ガス流量及び前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量の合計流量が所定流量であり、且つ、前記内燃機関からの排ガス排出流量に対して前記排ガス流路を流れる排ガス流量が所定の比率となるように前記希釈用ガス流量を増減させるとともに、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を、前記合計流量から前記希釈排ガス採取流量を差し引いた値とすることが望ましい。
前記希釈排ガス流量調整機構が、吸引ポンプを有し、前記制御機器が、前記吸引ポンプの回転数を制御することにより前記設定流量とすることが望ましい。
これならば、吸引ポンプの回転数を制御するだけなので、装置構成を簡単化することができる。
前記希釈排ガス流量調整機構が、ポンプと、当該ポンプの入口側及び出口側を接続して、前記ポンプの出口側から入口側に希釈排ガスの一部を戻す還流流路と、前記還流流路に設けられて、希釈排ガスの還流流量を調整するための還流流量調整機構と、を有し、前記制御機器が、前記還流流量調整機構により前記還流流路を流れる希釈排ガスの還流流量を調整することにより前記設定流量とするものであることが望ましい。
これならば、ポンプの脈動が無視できる程度の高速回転としつつ、還流流路に設けられた還流流路調整機構を制御するだけで、設定流量を所望の値にすることができる。また、流量調整機構(例えば比例弁)をポンプの入口側又は出口側に配置して流量調整をする必要が無いので、当該流量調整機構による圧損を考慮することなく、ポンプの能力限界まで負圧の流体を引くことができる。
また、排ガス分析中においてPM捕集フィルタの目詰まりにより、PM捕集フィルタを通過する通過流量が低下した場合に、ポンプの回転数を変えることなく、還流流量調整機構を制御することで、通過流量の低下分を補正することができる。
前記第1分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を捕集するPM捕集フィルタであり、前記第2分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を連続測定する分析計であることが望ましい。なお、分析計としては、粒子状物質の質量を間接的に示唆する物性、例えば、粒子状物質の表面積、数、粒子径分布などを連続測定するものが考えられる。
これならば、PM捕集フィルタにより得られたPM質量と、分析計により得られた測定値との相関を取ることにより、PM質量の動的変化を求めることができる。
路上を実走行する車両に搭載されて、車両走行中における排ガス中の粒子状物質を測定するものであることが望ましい。
これならば、補正ガス流路を不要として小型化するという本発明の効果が顕著となる。
また、本発明に係るポンプ装置は、流入ポート及び流出ポートを有する流路と、前記流路に設けられたポンプと、前記ポンプの入口側及び出口側を接続して、前記ポンプの出口側から入口側に流体の一部を戻す還流流路と、前記還流流路に設けられて、流体の還流流量を調整するための還流流量調整機構とを備え、前記還流流量調整機構により前記還流流路を流れる流体の還流流量を調整して、前記流入ポートから流入する流量又は前記流出ポートから流出する流量を調整することを特徴とする。
このようなものであれば、ポンプの回転数を一定回転としながらも、還流流量調整機構により還流流量を調整することにより、ポンプ装置による流量を制御することができる。なお、ポンプの回転数を可変としつつ、還流流量を調整することにより、ポンプ装置による流量の制御の自由度を増すこともできる。
このように構成した本発明によれば、排ガスの分析精度の低下を抑えつつ、圧縮空気源を有する補正ガス導入管を不要にすることができる。
本実施形態の排ガス分析システムの構成を示す模式図。 各流路を流れる流量を示す模式図。 変形実施形態の希釈排ガス流量調整機構(ポンプ装置)を示す模式図。
以下に本発明に係る排ガス分析システムの一実施形態について図面を参照して説明する。
本実施形態の排ガス分析システム100は、例えば乗用車やトラックなどの自動車に搭載されて、路上走行中に内燃機関であるエンジンから排出される排ガス中に含まれる粒子状物質(PM)の質量濃度などを測定するものである。
具体的に排ガス分析システム100は、図1に示すように、エンジンに接続された排気管を流れる排ガスの一部を分流採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析するものであり、排ガスが流れる排ガス流路2と、希釈用ガスが流れる希釈用ガス流路3と、排ガス流路2及び希釈用ガス流路3が接続され、排ガス及び希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すメイン流路4と、メイン流路4から希釈排ガスの一部を採取する希釈排ガス採取流路5とを備えている。
以下、各流路2〜5とともに当該流路2〜5に設けられた機器について説明する。
排ガス流路2は、排気管又は排気管の開口を覆うアタッチメント管10を流れる排ガスの一部を分流採取して希釈することなくメイン流路4に導入するものであり、一端が排気管又はアタッチメント管10の内部に開口し、他端がメイン流路4に接続されている。本実施形態の排ガス流路2には、排ガス流量を測定する測定機器及び排ガス流量を制御する制御機器は設けられていない。
なお、排気管又はアタッチメント管10において排ガス流路2の一端開口よりも下流側には、例えばピトー管式流量計等の排ガス流量センサ11が設けられている。この排ガス流量センサ11により、排気管又はアタッチメント管10を流れる排ガス流量、すなわち内燃機関からの排ガス排出流量が測定される。
希釈用ガス流路3は、排ガスを希釈するための希釈用ガス(本実施形態では大気)をメイン流路4に導入するものであり、一端が大気を取り込み可能な位置に設けられ、他端がメイン流路4に接続されている。そして、希釈用ガス流路3には、メイン流路4に導入される希釈用ガス流量を調整するための希釈用ガス流量調整機構31と、その希釈用ガス流量を測定するための希釈用ガス流量測定機構32が、上流側からこの順で設けられている。
なお、希釈用ガス流路3において希釈用ガス流量調整機構31よりも上流側には、大気に含まれる水分を除去するミストセパレータ33、大気に含まれる有機成分を除去するための例えば活性炭吸着フィルタなどのフィルタ34、大気に含まれる塵埃を除去する例えばHEPAフィルタなどのフィルタ35が、上流側からこの順で設けられている。
希釈用ガス流量調整機構31は、例えばダイアフラム式の供給ポンプ31aと、当該供給ポンプ31aの上流側又は下流側(本実施形態では下流側)に設けられた電磁比例弁などの流量調整弁31bとを有する。また、希釈用ガス流量測定機構32は、差圧式のものであり、ベンチュリ32aと、当該ベンチュリ32aの入り口圧力を測定する圧力センサ32bと、ベンチュリ32aの入り口及びノド部の圧力差を測定する差圧センサ32cとを有する。なお、ベンチュリ32a以外に、オリフィス、フローノズル、ピトー管等の流体抵抗を用いたものでも良い。
このように構成された希釈用ガス流量測定機構32により得られた希釈用ガス流量に基づいて、希釈用ガス流量調整機構31の流量調整弁31bの弁開度が、図示しない制御機器により制御されることによって、メイン流路4に導入される希釈用ガス流量が制御される。
メイン流路4は、前記排ガス流路2及び前記希釈用ガス流路3が接続されて排ガス及び希釈用ガスを混合するための希釈器(マイクロトンネル)41と、当該希釈器41の下流側に設けられ、希釈排ガス中の塵埃を除去する例えばサイクロン型のダスト除去器42と、当該ダスト除去器42の下流側に設けられ、第1分析機器であるPM捕集フィルタ6が設置されるフィルタ設置部43と、当該フィルタ設置部43(PM捕集フィルタ6)の下流側に設けられ、メイン流路4を流れる希釈排ガス流量を測定する希釈排ガス流量測定機構44と、当該希釈排ガス流量測定機構44の下流側に設けられ、希釈排ガス流量を調整する希釈排ガス流量調整機構45とを有する。なお、希釈器41、ダスト除去器42、フィルタ設置部43及びそれらの間の流路は、ヒータによって所定温度(例えば47±5℃)に加熱されている。
希釈排ガス流量測定機構44は、差圧式のものであり、ベンチュリ44aと、当該ベンチュリ44aの入り口圧力を測定する圧力センサ44bと、ベンチュリ44aの入り口及びノド部の圧力差を測定する差圧センサ44cとを有する。なお、ベンチュリ44a以外に、オリフィス、フローノズル、ピトー管等の流体抵抗を用いたものでも良い。
また、希釈排ガス流量調整機構45は、例えばダイアフラム式の吸引ポンプであり、図示しない制御機器により、その回転数が制御されて吸引流量が変更可能に構成されたものである。なお、この吸引ポンプは、入口側の吸引流量と、出口側の吐出流量とが同一となるように構成されたものである。
希釈排ガス採取流路5は、メイン流路4から希釈排ガスの一部を採取して、第2分析機器である分析計7に導入するものであり、希釈排ガス採取流路5を流れる希釈排ガスの採取流量を測定する採取流量測定機構51を有する。なお、本実施形態では、分析計7の内部に設けられた吸引ポンプ(不図示)により、希釈排ガス採取流路5に希釈排ガスが採取されるように構成されているが、分析計7とは別に採取流量測定機構51の下流側に吸引ポンプを設けても良い。また、分析計7は、希釈排ガスに含まれる粒子状物質を連続測定するものであり、粒子状物質の質量を間接的に示唆する物性、例えば、粒子状物質の表面積、数、粒子径分布などを連続測定するものである。本実施形態の分析計としては、例えば、拡散電荷法センサ(DCS)、水素炎イオン化法センサ(FID)、凝縮粒子カウンタ(CPC)、電子式低圧インパクタ(ELPI)、走査型移動度パーティクルアナライザ(SMPS)等である。
採取流量測定機構51は、差圧式のものであり、オリフィス51aと、当該オリフィス51aの上流側圧力を測定する圧力センサ51bと、オリフィス51aの上流側及び下流側の圧力差を測定する差圧センサ51cとを有する。なお、オリフィス51a以外に、ベンチュリ、フローノズル、ピトー管等の流体抵抗を用いたものでも良い。
そして、排ガス分析システム100の制御機器は、希釈用ガス流量調整機構31及び希釈排ガス流量調整機構45を制御することによって、排ガス流量センサ11により得られた排ガス排出流量と、排ガス流路2を流れる排ガス流量との比(分流比)が一定になるように、希釈器41に導入される希釈用ガス流量をリアルタイムに制御(分流希釈制御)する。
具体的に制御機器は、図2に示すように、排ガス流路2を流れる排ガス流量(分流流量)Q及び希釈用ガス流路3を流れる希釈用ガス流量Qの合計流量Q(=Q+Q)を一定にするとともに、排ガス排出流量QEXと分流流量Qが一定比率となるように希釈用ガス流量Qを増減させる。つまり、制御機器は、排ガス流量センサ11から排ガス排出流量データを取得して、当該排ガス排出流量データに基づいて、希釈用ガス流量Qを増減させるべく、希釈用ガス流量調整機器31の電磁比例弁31bに制御信号を入力する。
さらに制御機器は、希釈排ガス採取流路5を流れる希釈排ガス採取流量qに応じて、希釈排ガス流量調整機構45による設定流量Qを変更する。つまり、制御機器は、採取流量測定機構51から採取流量データを取得して、当該採取流量データに基づいて、希釈排ガス流量調整機構45に設定流量Qを変更すべく、制御信号を入力する。
なお、この設定流量Qは、希釈排ガス採取流路5を有さないシステムの場合には、前記合計流量Qとなり、PM捕集フィルタ6を通過する流量Qと一致する。
より詳細に制御機器は、前記設定流量Qを、合計流量Qから採取流量qを差し引いた値(Q−q)とする。これにより、希釈排ガス採取流路5の採取流量qに関係なく、合計流量Q(つまり希釈排ガス採取流量5の一端開口よりも上流側の希釈排ガス流量)を、設定値(一定値)に維持することができる。このとき、PM捕集フィルタを通過する流量Qは、合計流量Qから採取流量qを差し引いた値(Q−q)となる。
本実施形態の希釈排ガス流量調整機構45は回転数可変の吸引ポンプであるため、制御機器は、希釈排ガス採取流路5を流れる希釈排ガスの採取流量qに応じて、吸引ポンプの回転数を制御して設定流量Q(=Q−q)とする。
なお、この排ガス分析システム100において、PM捕集フィルタ6に希釈排ガスを採取している間、分析計により得られた連続計測データ(例えば連続粒子径濃度データ)を保存しておく。そして、データ採取終了後に、有効なデータが得られている区間のみ粒子径濃度積分値と、全区間の粒子径濃度の積分値との比率を計算する。このとき、分析計により得られた濃度値とPM質量との間に相関があると仮定すると、この比率を用いて、フィルタ重量法で得られた全区間のPM捕集質量から有効区間のみのPM質量を算出することができる。
このように構成した排ガス分析システム100によれば、希釈排ガス採取流路5を流れる希釈排ガス採取流量qに応じて、希釈排ガス流量調整機構45による設定流量Qを変更しているので、排ガス流路2を流れる排ガス流量Q及び希釈用ガス流路3を流れる希釈用ガス流量Qの合計流量Q(=Q+Q)が採取流量qに応じて変動することを防ぎつつ、圧縮空気源を有する補正ガス流路を不要にすることができる。これにより、分流希釈制御の誤差を抑えて分析精度の低下を抑えつつ、排ガス分析システム100を小型化することができる。
また、PM捕集フィルタ6を通過した希釈排ガスには、外部からのガス(例えば従来の補正ガスや大気)が混じることが一切無いため、メイン流路4の排気(具体的には希釈排ガス流量調整機構45の下流側)で、例えば希釈排ガスのCO濃度などを測定することができ、容易に希釈比の精度を検証することができる。
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、前記実施形態の希釈排ガス流量調整機構は、回転数可変の吸引ポンプにより構成しているのが、図3に示すポンプ装置8により構成しても良い。
このポンプ装置8は、流入ポートP1及び流出ポートP2を有する流路81と、流路81に設けられたポンプ82と、ポンプ82の入口側及び出口側を接続して、ポンプ82の出口側から入口側に希釈排ガスの一部を戻す還流流路83と、還流流路83に設けられて、希釈排ガスの還流流量を調整するための還流流量調整機構84とを備えている。
ポンプ82は、流路81上において、入口側の吸引流量と、出口側の吐出流量とが同一となるように構成されたものである。また、還流流量調整機構84は、電磁比例弁であり、制御機器により、希釈排ガス採取流路5の採取流量に応じてその弁開度が制御される。なお、図3においては、電磁比例弁の詰まりを防止するために、還流流路83の還流流路調整機構84の上流側に防塵フィルタ85が設けられている。
そして、制御機器が、還流流量調整機構84を制御することにより、還流流路83を流れる希釈排ガスの還流流量を調整して、流入ポートP1から流入する希釈排ガスの流量又は流出ポートP2から流出する希釈排ガスの流量を調整する。
このポンプ装置8によれば、還流流路調整機構84を制御するだけで設定流量を所望の値にすることができるようになる。また、ポンプ82を例えば定格回転や脈動が無視できる程度の高速回転に固定することができ、ポンプ82の脈動を最小限に抑えることができる。さらに、流量調整機構をポンプ82の入口側又は出口側に配置して流量調整をする必要が無いので、当該流量調整機構による圧損を考慮することなく、ポンプ82の能力限界まで負圧の流体を引くことができる。その上、希釈排ガス自体を還流させる構成であり、他のガスが混ざることが無く、ポンプ装置8の流入ポートP1の流量及び流出ポートP2の流量が同じとなる。このため、ポンプ装置8の上流側及び下流側の何れにも流量測定機構を配置することが可能となり、ポンプ装置8の下流側に分析計を接続して、希釈排ガスを分析することも可能となる。
また、排ガス分析においてPM捕集フィルタの目詰まりにより、PM捕集フィルタを通過する通過流量が低下する場合があり、ポンプ82の回転数を変更する必要がある。一般にポンプ82の回転数を下げると脈動発生の原因となってしまう。この場合、ポンプ82の回転数を変えることなく、還流流量調整機構84を制御して通過流量の低下分を補正することで脈動発生を抑えつつ、目詰まりによる流量低下をキャンセルすることができる。
また、前記実施形態では、内燃機関からの排ガス排出流量に対して、一定比率で排ガスを分流採取してメイン流路に導入されるように希釈用ガス流量を制御する比例希釈制御を行うものであったが、排ガス流路により分流採取される分流流量と希釈用ガス流量との比が一定、すなわち希釈比が一定となるように、希釈用ガス流量を制御する一定希釈制御を行うものであっても良い。
さらに、前記実施形態では、内燃機関から排出される排ガスの一部を分流採取するものであったが、前記排ガスの全部を採取して、その採取した排ガスを希釈して分析するものであっても良い。
その上、前記実施形態の排ガス分析システムをシャシダイナモ上に設置された自動車のエンジンから排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析するものであっても良い。
加えて、前記実施形態では、自動車に搭載された内燃機関からの排ガスを分析するものであったが、その他、航空機や船舶等の移動体に搭載された内燃機関からの排ガスを分析するものであっても良い。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
100・・・排ガス分析システム
2 ・・・排ガス流路
3 ・・・希釈用ガス流路
31 ・・・希釈用ガス流量調整機構
32 ・・・希釈用ガス流量測定機構
4 ・・・メイン流路
44 ・・・希釈排ガス流量測定機構
45 ・・・希釈排ガス流量調整機構(吸引ポンプ)
5 ・・・希釈排ガス採取流路
51 ・・・採取流量測定機構
6 ・・・第1分析機器(PM捕集フィルタ)
7 ・・・第2分析機器(分析計)
8 ・・・ポンプ装置
82 ・・・ポンプ
83 ・・・還流流路
84 ・・・還流流量調整機構

Claims (6)

  1. 内燃機関から排出される排ガスの一部又は全部を採取するとともに、当該排ガスを希釈して分析する排ガス分析システムであって、
    前記排ガスが流れる排ガス流路と、
    前記希釈用ガスが流れる希釈用ガス流路と、
    前記排ガス流路及び前記希釈用ガス流路が接続され、前記排ガス及び前記希釈用ガスを混合した希釈排ガスを流すとともに、前記排ガスを分析するための第1分析機器が設けられるメイン流路と、
    前記メイン流路の前記第1分析機器よりも上流側に接続されて、前記メイン流路から希釈排ガスの一部を採取して、前記排ガスを分析するための第2分析機器に導入する希釈排ガス採取流路と、
    前記メイン流路の前記第1分析機器よりも下流側に設けられ、前記メイン流路を流れる希釈排ガス流量を調整する希釈排ガス流量調整機構と、
    前記希釈排ガス採取流路を流れる希釈排ガス採取流量に応じて、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を変更する制御機器と、を備える排ガス分析システム。
  2. 前記希釈用ガス流路に設けられ、前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量を調整する希釈用ガス流量調整機構をさらに備え、
    前記制御機器が、前記希釈排ガス流量調整機構及び前記希釈用ガス流量調整機構を制御して、前記排ガス流路を流れる排ガス流量及び前記希釈用ガス流路を流れる希釈用ガス流量の合計流量が所定流量であり、且つ、前記内燃機関からの排ガス排出流量に対して前記排ガス流路を流れる排ガス流量が所定の比率となるように前記希釈用ガス流量を増減させるとともに、前記希釈排ガス流量調整機構による設定流量を、前記合計流量から前記希釈排ガス採取流量を差し引いた値とする請求項1記載の排ガス分析システム。
  3. 前記希釈排ガス流量調整機構が、吸引ポンプを有し、
    前記制御機器が、前記吸引ポンプの回転数を制御することにより前記設定流量とするものである請求項1又は2記載の排ガス分析システム。
  4. 前記希釈排ガス流量調整機構が、吸引ポンプと、当該吸引ポンプの入口側及び出口側を接続して、前記吸引ポンプの出口側から入口側に希釈排ガスの一部を戻す還流流路と、前記還流流路に設けられて、希釈排ガスの還流流量を調整するための還流流量調整機構と、を有し、
    前記制御機器が、前記還流流量調整機構により前記還流流路を流れる希釈排ガスの還流流量を調整することにより前記設定流量とするものである請求項1又は2記載の排ガス分析システム。
  5. 前記第1分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を捕集するPM捕集フィルタであり、
    前記第2分析機器が、前記希釈排ガスに含まれる粒子状物質を連続測定する分析計である請求項1乃至4の何れか一項に記載の排ガス分析システム。
  6. 路上を実走行する車両に搭載されて、車両走行中における排ガス中の粒子状物質を測定するものである請求項1乃至5の何れか一項に記載の排ガス分析システム。
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