JP6423995B2 - 有害生物の防除方法 - Google Patents
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Description
本発明は、有害生物の防除に有用な有害生物の防除方法に関する。
有害生物の防除方法として、有害生物防除成分を含有する薬液を空間に噴霧して有害生物を防除する方法が知られている。薬液の噴霧方法としては、例えば、薬液と噴射剤とを同時に噴射して薬液を霧化する霧化装置を用いる方法（以下、「エアゾール式噴霧法」ともいう）が知られている。しかし、エアゾール式噴霧法は、噴射剤が用いられているため、霧化装置の小型化が困難である。
一方、噴射剤を用いない薬液の噴霧方法として、圧電振動子に多数の微細孔を有する振動板を接触させ、当該圧電振動子に電圧をかけてこの圧電振動子に超音波振動を生じさせることによって前記振動板の微細孔で薬液を霧化して噴霧する超音波霧化装置を用いる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
しかし、特許文献１に記載の方法では、開放系空間（特に、屋外空間）において、噴霧された薬液の粒子の粒子径が小さすぎると、風の影響を受けやすく薬液粒子が拡散しすぎてしまい、必要量の有害生物防除成分が噴霧されていても、目的のエリア内の有害生物を十分に防除することができないことがある。
また、薬液粒子の粒子径が大きすぎると、噴霧された薬液粒子が風にのらずに地面に落下しやすく、霧化装置の周囲（例えば、霧化装置を中心として半径約１０ｃｍの範囲）に薬液が付着することがある。
また、薬液粒子の粒子径が大きすぎると、噴霧された薬液粒子が風にのらずに地面に落下しやすく、霧化装置の周囲（例えば、霧化装置を中心として半径約１０ｃｍの範囲）に薬液が付着することがある。
本発明は、前記問題点に鑑みてなされたものであり、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物を効果的に防除することができ、かつ霧化装置の周囲における薬液の付着が少ない有害生物の防除方法を提供することを目的とする。
本発明の有害生物の防除方法は、超音波霧化装置を用いて有害生物防除成分を含有する薬液を屋外空間に間欠的に噴霧して有害生物を防除する屋外空間における有害生物の防除方法であって、
前記薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径が２〜５０μｍの範囲内となる噴霧粒子を生成し、前記５０％粒子径が前記範囲内のいずれの大きさであっても、［噴霧粒子の体積積算分布における５０％粒子径］×（［噴霧時間］／［噴霧の間隔時間］）の値が０．２〜２．０μｍとなるように、噴霧時間を０．５〜５秒間の範囲内で設定するとともに噴霧の間隔時間を設定し、設定した前記噴霧時間及び前記噴霧の間隔時間で屋外空間に前記噴霧粒子を噴霧する
ことを特徴とする。
前記薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径が２〜５０μｍの範囲内となる噴霧粒子を生成し、前記５０％粒子径が前記範囲内のいずれの大きさであっても、［噴霧粒子の体積積算分布における５０％粒子径］×（［噴霧時間］／［噴霧の間隔時間］）の値が０．２〜２．０μｍとなるように、噴霧時間を０．５〜５秒間の範囲内で設定するとともに噴霧の間隔時間を設定し、設定した前記噴霧時間及び前記噴霧の間隔時間で屋外空間に前記噴霧粒子を噴霧する
ことを特徴とする。
本発明の有害生物の防除方法は、超音波霧化装置を用いて有害生物防除成分を含有する薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径が２〜５０μｍの範囲内となる噴霧粒子を生成し、前記５０％粒子径が前記範囲内のいずれの大きさであっても、式（Ｉ）の値が０．２〜２．０μｍとなるように、噴霧時間及び噴霧の間隔時間で噴霧粒子を噴霧するので、噴霧粒子の粒子径が比較的小さい場合において、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物を効果的に防除することができ、かつ噴霧粒子の粒子径が比較的大きい場合においても、霧化装置の周囲における薬液の付着を少なくすることができる。
すなわち、本願発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意研究を行った結果、噴霧の間隔時間及び噴霧時間を特定の範囲に設定することによって、噴霧粒子の粒子径が比較的小さい場合において、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物を効果的に防除することができ、噴霧粒子の粒子径が比較的大きい場合においても、霧化装置の周囲における薬液の付着を少なくすることができることを見出し、本願発明に至った。
前記噴霧の間隔時間は、１５〜１２０秒間であることが好ましく、１５〜６０秒間であることがより好ましい。
また、前記噴霧時間は、０．５〜３秒間であることがより好ましい。
この場合、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物をより効果的に防除することができ、かつ霧化装置の周囲における薬液の付着をより一層少なくすることができる。
また、前記噴霧時間は、０．５〜３秒間であることがより好ましい。
この場合、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物をより効果的に防除することができ、かつ霧化装置の周囲における薬液の付着をより一層少なくすることができる。
前記有害生物防除成分は、メトフルトリン、プロフルトリン、トランスフルトリン、メパフルトリン、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル ２，２−ジメチル−３−［（１Ｚ）−３，３，３−トリフルオロプロプ−１−エニル］シクロプロパンカルボキシラート及びジメフルトリンからなる群より選択された少なくとも１種、好ましくはメトフルトリンであってもよい。
本発明の超音波霧化装置及び有害生物の防除方法によれば、開放系空間（特に、屋外空間）において、有害生物を効果的に防除することができ、かつ装置の周囲における薬液の付着を少なくすることができるという優れた効果を奏する。
まず、本発明の超音波霧化装置について添付図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る超音波霧化装置の機能構成を示すブロック図である。図１に示される超音波霧化装置１は、有害生物防除成分を含有する薬液を霧化して噴霧する霧化部１０と、霧化部１０に高周波電圧を印加する発振回路２０と、発振回路２０を介した圧電振動子１１への通電のオン−オフを制御する制御部３０と、電源４０とを備えている。
図１は、本発明の一実施形態に係る超音波霧化装置の機能構成を示すブロック図である。図１に示される超音波霧化装置１は、有害生物防除成分を含有する薬液を霧化して噴霧する霧化部１０と、霧化部１０に高周波電圧を印加する発振回路２０と、発振回路２０を介した圧電振動子１１への通電のオン−オフを制御する制御部３０と、電源４０とを備えている。
霧化部１０は、図２に示されるように、圧電振動子１１の超音波振動に伴って振動板１２に超音波振動を生じさせることによって前記薬液を霧化する霧化部本体１３と、前記薬液を貯留する薬液貯留部１４と、薬液貯留部１４から霧化部本体１３の振動板１２に前記薬液を供給する薬液供給部１５と、霧化部本体１３を薬液貯留部１４に固定する取付部材１６とを備えている。
霧化部本体１３は、通電によって超音波振動を生じる前記圧電振動子１１と、圧電振動子１１の振動によって前記薬液を霧化する前記振動板１２と、圧電振動子１１の上面及び振動板１２の下面にそれぞれに添わせた円環状の弾性部材としての一対の弾性リング１０２と、この一対の弾性リング１０２を介して圧電振動子１１及び振動板１２を弾性的に挟み込んで保持するケーシング１０３とを備えている。
圧電振動子１１は、中央部に開口部１１１が形成された円形薄板状の圧電セラミックスによって構成されている。この圧電振動子１１は、厚さ方向に分極されており、両面に形成された電極（図示せず）に高周波電圧を印加することにより、径方向への超音波振動を生じる。圧電振動子１１は、例えば、厚さが０．１〜４．０ｍｍ、外径が６〜６０ｍｍであり、発振周波数が３０〜５００ｋＨｚである圧電振動子であればよい。
前記振動板１２は、例えばニッケルからなる円形の薄板からなる。この振動板１２は、圧電振動子１１の開口部１１１を覆った状態で、図１において圧電振動子１１の下面に対して当該圧電振動子１１と同心に接合（固着）されている。この振動板１２は、例えば、厚さが０．０２〜２．０ｍｍ、外径が６〜６０ｍｍである。振動板１２の外径は、圧電振動子１１の開口部１１１の内径寸法より大きくなるように、圧電振動子１１の大きさに応じて適宜選択される。
振動板１２における圧電振動子１１の開口部１１１に臨む部分には、厚さ方向に貫通した多数の微細孔１１３ａが形成されている。微細孔１１３ａの孔径は、体積積算分布における５０％粒子径が２〜５０μｍの噴霧粒子を生じさせる観点から、好ましくは２〜２０μｍであり、より好ましくは４〜１２μｍである。
振動板１２の中央部には、その頂部から裾部へかけて曲面で構成された凸状部１１３が設けられている。この凸状部１１３は、上方（薬液の噴霧方向）へ膨出したドーム状である。振動板１２の中央部をかかる形状とすることによって、薬液をより拡散しやすくすることができる。この凸状部１１３は圧電振動子１１の径方向への伸縮（振動）に伴って、上下方向の超音波振動を生じる。
前記振動板１２には、当該振動板１２に前記薬液を供給するための薬液供給部１５が接触又は近接している。
前記振動板１２には、当該振動板１２に前記薬液を供給するための薬液供給部１５が接触又は近接している。
弾性リング１０２は一対のみ設けられている。かかる一対の弾性リング１０２は、ケーシング１０３と圧電振動子１１の上面との間、及びケーシング１０３と振動板１２の下面との間で弾性変形した状態で、それぞれ圧電振動子１１及び振動板１２と同心状に、前記上面及び下面に対して接触している。
この弾性リング１０２としては、線径０．５〜３ｍｍ、より好ましくは線径０．５〜２．０ｍｍのＯリングが好適に用いられる。
この弾性リング１０２としては、線径０．５〜３ｍｍ、より好ましくは線径０．５〜２．０ｍｍのＯリングが好適に用いられる。
また、弾性リング１０２の硬さは２０〜９０ ＩＲＨＤ、より好ましくは３０〜９０ ＩＲＨＤである。これにより、圧電振動子１１及び振動板１２を適度な弾力で保持して、圧電振動子１１及び振動板１２が過度に振動するのを効果的に抑制することができる。このため、薬液をより安定的に霧化させることができる。
なお、圧電振動子１１の上面に接触させた弾性リング１０２と、振動板１２の下面に接触させた弾性リング１０２とは、平均径[（内径＋外径）／２]、線径、硬さ等が同一のものが好ましく、特に平均径については同じものがよい。
なお、圧電振動子１１の上面に接触させた弾性リング１０２と、振動板１２の下面に接触させた弾性リング１０２とは、平均径[（内径＋外径）／２]、線径、硬さ等が同一のものが好ましく、特に平均径については同じものがよい。
弾性リング１０２の素材としては、ニトリルゴム、フッ素ゴム、エチレンプロピレンゴム、シリコーンゴム、アクリルゴム、水素化ニトリルゴム等が挙げられる。
ケーシング１０３は、上下に分離可能に二つ割りされた中空円環状のものであり、合成樹脂によって形成されている。このケーシング１０３の上下面の開口部１３１の内径は、圧電振動子１１及び振動板１２それぞれとの間で弾性リング１０２を挟み込んで支持できるように、当該弾性リング１０２の内径よりも小さくなっている。前記弾性リング１０２はケーシング１０３の内面に対しても接触している。
薬液貯留部１４は、例えば、上部に開口部１４１を有する有底円筒状の容器から構成されている。かかる薬液貯留部１４には、前記薬液が入れられている。薬液貯留部１４の素材としては、ガラス、合成樹脂等が挙げられる。
薬液供給部１５は、例えば不織布からなる直径が３〜４．５ｍｍの円柱状のものであり、その頂部が、振動板１２の凸状部１１３に近接又は接触している。この薬液供給部１５の下部側は、薬液貯留部１４内の薬液に浸漬されており、前記薬液を毛細管現象によって前記凸状部１１３に供給することができる。
取付部材１６は、円筒状のものであり、薬液貯留部１４の開口部１４１近傍の外周に、この開口部１４１を囲むように設けられている。
この取付部材１６の内周には、霧化部本体１３が固着されている。
この取付部材１６の内周には、霧化部本体１３が固着されている。
発振回路２０は、図１に示されるように、持続した交流を作る電気回路である。圧電振動子１１の両面に設けられた電極（図示せず）に電気的に接続されている。また、発振回路２０は、この発振回路２０への通電のオン−オフを制御する制御部３０に電気的に接続されている。
制御部３０は、所定の噴霧時間及び噴霧の間隔時間に基づく発振回路２０への通電のタイミングの情報を記憶するメモリ３１と、発振回路２０への通電のオン−オフを管理する通電管理部３２とから構成されている。
メモリ３１に記憶される情報は、噴霧時間が０．５〜５秒間であり、噴霧の間隔時間が１５〜１２０秒間であり、かつ式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなるように発振回路２０への通電をオン−オフするタイミングに関する情報である。
前記体積積算分布における５０％粒子径は、超音波霧化装置の周囲における薬液の付着を抑制する観点から、２〜５０μｍ、好ましくは２〜３０μｍ、より好ましくは２．５〜２３μｍである。
前記噴霧時間は、電力の浪費を低減する観点から、０．５〜５秒間、好ましくは０．５〜３秒間である。
前記噴霧の間隔時間は、高い効力及び良好な使用感を確保する観点から、１５〜１２０秒間、好ましくは１５〜６０秒間である。なお、本明細書において、「噴霧の間隔時間」とは、噴霧の開始時から次の噴霧の開始時までの間の時間を意味する。
また、式（Ｉ）の値は、霧化装置の周囲における薬液の付着を抑制する観点から、０．２〜２．５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍ、より好ましくは０．２〜１．８μｍである。
前記噴霧時間は、電力の浪費を低減する観点から、０．５〜５秒間、好ましくは０．５〜３秒間である。
前記噴霧の間隔時間は、高い効力及び良好な使用感を確保する観点から、１５〜１２０秒間、好ましくは１５〜６０秒間である。なお、本明細書において、「噴霧の間隔時間」とは、噴霧の開始時から次の噴霧の開始時までの間の時間を意味する。
また、式（Ｉ）の値は、霧化装置の周囲における薬液の付着を抑制する観点から、０．２〜２．５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍ、より好ましくは０．２〜１．８μｍである。
ここで、式（Ｉ）における体積積算分布における５０％粒子径は、振動板１２の微細孔１１３ａの実寸内径、振動板１２の厚さ、隣り合う微細孔１１３ａ間の距離、振動板１２の振幅や振動数、薬液の粘度等に応じて適宜設定することができる。また、噴霧の間隔時間及び噴霧時間は、上記範囲内で、前記式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなるように設定される。
通電管理部３２は、電源４０から電流を受領するとともに、メモリ３１に記憶された情報に基づいて発振回路２０への通電をオン−オフする。
なお、弾性部材としての弾性リング１０２は、前記Ｏリングに代えて、断面形状が楕円、四角形、三角形あるいは菱形等のリングであってもよく、また、Ｄ字型、Ｘ字型、Ｔ字型等のリングであってもよい。また、この弾性リング１０２は、周方向に完全につながって連続している必要はなく、周方向に一箇所切れ目が入っていてもよく、周方向に数箇所間欠的に切れ目が入っていてもよい。
振動板１２の凸状部１１３は、頂部が曲面で構成されたドーム状のみならず、この頂部が平面で構成された円錐台状であってもよく、その形状は任意である。
さらに、前記実施形態においては、振動板１２として凸状部１１３を噴霧方向に突出させた凸型振動板を例示したが、凸状部１１３を噴霧方向と反対方向に突出させて凹状部とした凹型振動板であってもよい。また、振動板１２は、中央部に凸状部及び凹状部を有しない平板型振動板であってもよい。
さらに、前記実施形態においては、振動板１２として凸状部１１３を噴霧方向に突出させた凸型振動板を例示したが、凸状部１１３を噴霧方向と反対方向に突出させて凹状部とした凹型振動板であってもよい。また、振動板１２は、中央部に凸状部及び凹状部を有しない平板型振動板であってもよい。
前記実施形態においては、円形薄板状の振動板１２が圧電振動子１１の開口部１１１を完全に覆うものを例示したが、矩形薄板状の振動板を用い、この振動板を圧電振動子１１の開口部１１１を跨ぐように掛け渡し、振動板の両端部を圧電振動子１１の一方の面に固着するようにしてもよい。
また、超音波霧化装置は、薬液供給部１５を有さず薬液貯留部１４から前記薬液を直接振動板１２に供給するものであってもよい。
また、超音波霧化装置は、薬液供給部１５を有さず薬液貯留部１４から前記薬液を直接振動板１２に供給するものであってもよい。
前記メモリ３１に記憶される情報は、製造時に、メモリ３１にプリセットされた情報であってもよく、使用時に、ユーザが目的に応じて入力した情報であってもよい。
つぎに、本発明の有害生物の防除方法について、説明する。
本発明の有害生物の防除方法は、有害生物防除成分を含有する薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径が２〜５０μｍの噴霧粒子を生成し、式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなる噴霧時間及び噴霧の間隔時間で噴霧する点に１つの大きな特徴がある。かかる範囲の粒子径の噴霧粒子の生成並びに式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなる噴霧時間及び噴霧の間隔時間の設定は、前述した超音波霧化装置を用いることによって容易に実施することができる。そこで、以下においては、前述した超音波霧化装置を用いて有害生物を防除する方法を例としてあげて説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
本発明の有害生物の防除方法は、有害生物防除成分を含有する薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径が２〜５０μｍの噴霧粒子を生成し、式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなる噴霧時間及び噴霧の間隔時間で噴霧する点に１つの大きな特徴がある。かかる範囲の粒子径の噴霧粒子の生成並びに式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなる噴霧時間及び噴霧の間隔時間の設定は、前述した超音波霧化装置を用いることによって容易に実施することができる。そこで、以下においては、前述した超音波霧化装置を用いて有害生物を防除する方法を例としてあげて説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。
適用対象となる有害生物としては、例えば、昆虫、ダニ等の節足動物等が挙げられる。かかる節足動物としては、例えば、双翅目害虫、鱗翅目害虫、膜翅目害虫、隠翅目害虫、等翅目害虫、半翅目害虫、鞘翅目害虫、総翅目害虫、直翅目害虫、ダニ目害虫等が挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。前記節足動物の具体例としては、下記（１）〜（１２）に示されるものが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。
（１）双翅目害虫
アカイエカ、コガタアカイエカ、ネッタイイエカ等のイエカ類、ネッタイシマカ、ヒトスジシマカ等のヤブカ類、シナハマダラカ、ガンビエハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ ｇａｍｂｉａｅ）等のハマダラカ類、ユスリカ類、イエバエ、オオイエバエ、ヒメイエバエ等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、タネバエ、タマネギバエ等のハナバエ類、ミバエ類、ショウジョウバエ類、チョウバエ類、ノミバエ類、アブ類、ブユ類、サシバエ類、ヌカカ類等。
アカイエカ、コガタアカイエカ、ネッタイイエカ等のイエカ類、ネッタイシマカ、ヒトスジシマカ等のヤブカ類、シナハマダラカ、ガンビエハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ ｇａｍｂｉａｅ）等のハマダラカ類、ユスリカ類、イエバエ、オオイエバエ、ヒメイエバエ等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、タネバエ、タマネギバエ等のハナバエ類、ミバエ類、ショウジョウバエ類、チョウバエ類、ノミバエ類、アブ類、ブユ類、サシバエ類、ヌカカ類等。
（２）鱗翅目害虫
ニカメイガ、コブノメイガ、ノシメコクガ等のメイガ類、ハスモンヨトウ、アワヨトウ、ヨトウガ等のヨトウ類、モンシロチョウ等のシロチョウ類、コカクモンハマキ等のハマキガ類、シンクイガ類、ハモグリガ類、ドクガ類、ウワバ類、カブラヤガ、タマナヤガ等のアグロティス属害虫（Ａｇｒｏｔｉｓ ｓｐ．）、ヘリコベルパ属害虫（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ ｓｐ．）、ヘリオティス属害虫（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ ｓｐ．）、コナガ、イチモンジセセリ、イガ、コイガ等。
ニカメイガ、コブノメイガ、ノシメコクガ等のメイガ類、ハスモンヨトウ、アワヨトウ、ヨトウガ等のヨトウ類、モンシロチョウ等のシロチョウ類、コカクモンハマキ等のハマキガ類、シンクイガ類、ハモグリガ類、ドクガ類、ウワバ類、カブラヤガ、タマナヤガ等のアグロティス属害虫（Ａｇｒｏｔｉｓ ｓｐ．）、ヘリコベルパ属害虫（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐａ ｓｐ．）、ヘリオティス属害虫（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ ｓｐ．）、コナガ、イチモンジセセリ、イガ、コイガ等。
（３）網翅目害虫
チャバネゴキブリ、クロゴキブリ、ワモンゴキブリ、コワモンゴキブリ、トビイロゴキブリ、コバネゴキブリ等。
チャバネゴキブリ、クロゴキブリ、ワモンゴキブリ、コワモンゴキブリ、トビイロゴキブリ、コバネゴキブリ等。
（４）膜翅目害虫
アリ類、ハチ類（フタモンアシナガバチ、トガリフタモンアシナガバチ、セグロアシナガバチ、キアシナガバチ、キボシアシナガバチ、コアシナガバチ、ヤマトアシナガバチ等のアシナガバチ類、オオスズメバチ、キイロスズメバチ、コガタスズメバチ、モンスズメバチ、ヒメスズメバチ、クロスズメバチ、シダクロスズメバチ、キオビホオナガスズメバチ等のスズメバチ類、アリガタバチ類、クマバチ、ベッコウバチ、ジガバチ、ドロバチ等）等。
アリ類、ハチ類（フタモンアシナガバチ、トガリフタモンアシナガバチ、セグロアシナガバチ、キアシナガバチ、キボシアシナガバチ、コアシナガバチ、ヤマトアシナガバチ等のアシナガバチ類、オオスズメバチ、キイロスズメバチ、コガタスズメバチ、モンスズメバチ、ヒメスズメバチ、クロスズメバチ、シダクロスズメバチ、キオビホオナガスズメバチ等のスズメバチ類、アリガタバチ類、クマバチ、ベッコウバチ、ジガバチ、ドロバチ等）等。
（５）隠翅目害虫
イヌノミ、ネコノミ、ヒトノミ等。
イヌノミ、ネコノミ、ヒトノミ等。
（６）シラミ目害虫
ヒトジラミ、ケジラミ、アタマジラミ、コロモジラミ等。
ヒトジラミ、ケジラミ、アタマジラミ、コロモジラミ等。
（７）等翅目害虫
ヤマトシロアリ、イエシロアリ等。
ヤマトシロアリ、イエシロアリ等。
（８）半翅目害虫
ヒメトビウンカ、トビイロウンカ、セジロウンカ等のウンカ類、ツマグロヨコバイ、タイワンツマグロヨコバイ等のヨコバイ類、アブラムシ類、カメムシ類、コナジラミ類、カイガラムシ類、グンバイムシ類、キジラミ類、トコジラミ類等。
ヒメトビウンカ、トビイロウンカ、セジロウンカ等のウンカ類、ツマグロヨコバイ、タイワンツマグロヨコバイ等のヨコバイ類、アブラムシ類、カメムシ類、コナジラミ類、カイガラムシ類、グンバイムシ類、キジラミ類、トコジラミ類等。
（９）鞘翅目害虫
ヒメカツオブシムシ、ヒメマルカツオブシムシ、ウエスタンコーンルートワーム、サザンコーンルートワーム等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイ、ヒメコガネ等のコガネムシ類、コクゾウムシ、イネミズゾウムシ、ワタミゾウムシ、アズキゾウムシ等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ、コクヌストモドキ等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ、キスジノミハムシ、ウリハムシ等のハムシ類、シバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ等のエピラクナ属（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ ｓｐ．）、ヒラタキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、カミキリムシ類、アオバアリガタハネカクシ等。
ヒメカツオブシムシ、ヒメマルカツオブシムシ、ウエスタンコーンルートワーム、サザンコーンルートワーム等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイ、ヒメコガネ等のコガネムシ類、コクゾウムシ、イネミズゾウムシ、ワタミゾウムシ、アズキゾウムシ等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ、コクヌストモドキ等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ、キスジノミハムシ、ウリハムシ等のハムシ類、シバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ等のエピラクナ属（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ ｓｐ．）、ヒラタキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、カミキリムシ類、アオバアリガタハネカクシ等。
（１０）総翅目害虫
ミナミキイロアザミウマ、ミカンキイロアザミウマ、ハナアザミウマ等。
ミナミキイロアザミウマ、ミカンキイロアザミウマ、ハナアザミウマ等。
（１１）直翅目害虫
ケラ、バッタ等。
ケラ、バッタ等。
（１２）ダニ目害虫
コナヒョウヒダニ、ヤケヒョウヒダニ等のヒョウヒダニ類、ケナガコナダニ、ムギコナダニ等のコナダニ類、チリニクダニ、イエニクダニ、サナアシニクダニ等のニクダニ類、クワガタツメダニ、フトツメダニ等のツメダニ類、ホコリダニ類、マルニクダニ類、イエササラダニ類、ナミハダニ、カンザワハダニ、ミカンハダニ、リンゴハダニ等のハダニ類、フタトゲチマダニ等のマダニ類等。
コナヒョウヒダニ、ヤケヒョウヒダニ等のヒョウヒダニ類、ケナガコナダニ、ムギコナダニ等のコナダニ類、チリニクダニ、イエニクダニ、サナアシニクダニ等のニクダニ類、クワガタツメダニ、フトツメダニ等のツメダニ類、ホコリダニ類、マルニクダニ類、イエササラダニ類、ナミハダニ、カンザワハダニ、ミカンハダニ、リンゴハダニ等のハダニ類、フタトゲチマダニ等のマダニ類等。
前記薬液は、有害生物防除成分を含有する。前記有害生物防除成分としては、例えば、合成ピレスロイド化合物、有機リン化合物、カーバメート化合物、ネライストキシン化合物、ネオニコチノイド化合物、ベンゾイル尿素化合物、フェニルピラゾール化合物、Ｂｔトキシン殺虫剤、ヒドラジン化合物、有機塩素化合物、天然系殺虫剤、その他の殺虫剤、その他の忌避剤等が挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。本発明においては、前記有害生物防除成分と、共力剤とを併用してもよい。かかる有害生物防除成分及び共力剤の具体例としては、下記（１）〜（１４）に示されるものが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。
（１）合成ピレスロイド化合物
アクリナトリン（ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、アレスリン（ａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ベータ−シフルトリン（ｂｅｔａ−ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ビフェントリン（ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、シクロプロトリン（ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、シフルトリン（ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、シハロトリン（ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、シペルメトリン（ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、エンペントリン（ｅｍｐｅｎｔｈｒｉｎ）、デルタメトリン（ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、エスフェンバレレート（ｅｓｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、エトフェンプロックス（ｅｔｈｏｆｅｎｐｒｏｘ）、フェンプロパトリン（ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、フェンバレレート（ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、フルシトリネート（ｆｌｕｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、フルフェンプロックス（ｆｌｕｆｅｎｏｐｒｏｘ）、フルメトリン（ｆｌｕｍｅｔｈｒｉｎ）、フルバリネート（ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、イミプロトリン（ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、ペルメトリン（ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、プラレトリン（ｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ピレトリン（ｐｙｒｅｔｈｒｉｎｓ）、レスメトリン（ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、シグマ−サイパーメトリン（ｓｉｇｍａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、シラフルオフェン（ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、テフルトリン（ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、トラロメトリン（ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、トランスフルトリン（ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テトラメトリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、フェノトリン（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、シフェノトリン（ｃｙｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、アルファシペルメトリン（ａｌｐｈａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ゼータシペルメトリン（ｚｅｔａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ラムダシハロトリン（ｌａｍｂｄａ−ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、ガンマシハロトリン（ｇａｍｍａ−ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、フラメトリン（ｆｕｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、タウフルバリネート（ｔａｕ−ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、メトフルトリン（ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、メパフルトリン（ｍｅｐｅｒｆｌｕｔｈｒｉｎ）、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル ２，２−ジメチル−３−［（１Ｚ）−３，３，３−トリフルオロプロプ−１−エニル］シクロプロパンカルボキシラート、ジメフルトリン（ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−メチルベンジル＝２，２−ジメチル−３−（１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル＝２，２−ジメチル−３−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル＝２，２，３，３−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル ２，２−ジメチル−３−（３，３，３−トリフルオロプロプ−１−エニル）シクロプロパンカルボキシラート等。
アクリナトリン（ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、アレスリン（ａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ベータ−シフルトリン（ｂｅｔａ−ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、ビフェントリン（ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、シクロプロトリン（ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、シフルトリン（ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、シハロトリン（ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、シペルメトリン（ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、エンペントリン（ｅｍｐｅｎｔｈｒｉｎ）、デルタメトリン（ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、エスフェンバレレート（ｅｓｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、エトフェンプロックス（ｅｔｈｏｆｅｎｐｒｏｘ）、フェンプロパトリン（ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、フェンバレレート（ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、フルシトリネート（ｆｌｕｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、フルフェンプロックス（ｆｌｕｆｅｎｏｐｒｏｘ）、フルメトリン（ｆｌｕｍｅｔｈｒｉｎ）、フルバリネート（ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、イミプロトリン（ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、ペルメトリン（ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、プラレトリン（ｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、ピレトリン（ｐｙｒｅｔｈｒｉｎｓ）、レスメトリン（ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、シグマ−サイパーメトリン（ｓｉｇｍａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、シラフルオフェン（ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、テフルトリン（ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、トラロメトリン（ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、トランスフルトリン（ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、テトラメトリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、フェノトリン（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、シフェノトリン（ｃｙｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、アルファシペルメトリン（ａｌｐｈａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ゼータシペルメトリン（ｚｅｔａ−ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、ラムダシハロトリン（ｌａｍｂｄａ−ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、ガンマシハロトリン（ｇａｍｍａ−ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、フラメトリン（ｆｕｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、タウフルバリネート（ｔａｕ−ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、メトフルトリン（ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、メパフルトリン（ｍｅｐｅｒｆｌｕｔｈｒｉｎ）、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル ２，２−ジメチル−３−［（１Ｚ）−３，３，３−トリフルオロプロプ−１−エニル］シクロプロパンカルボキシラート、ジメフルトリン（ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−メチルベンジル＝２，２−ジメチル−３−（１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル＝２，２−ジメチル−３−（２−メチル−１−プロペニル）シクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル＝２，２，３，３−テトラメチルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル ２，２−ジメチル−３−（３，３，３−トリフルオロプロプ−１−エニル）シクロプロパンカルボキシラート等。
（２）有機リン化合物
アセフェート（ａｃｅｐｈａｔｅ）、リン化アルミニウム（Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、ブタチオホス（ｂｕｔａｔｈｉｏｆｏｓ）、キャドサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）、クロルエトキシホス（ｃｈｌｏｒｅｔｈｏｘｙｆｏｓ）、クロルフェンビンホス（ｃｈｌｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、クロルピリホス（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ）、クロルピリホスメチル（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、シアノホス（ｃｙａｎｏｐｈｏｓ：ＣＹＡＰ）、ダイアジノン（ｄｉａｚｉｎｏｎ）、ＤＣＩＰ（ｄｉｃｈｌｏｒｏｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ｅｔｈｅｒ）、ジクロフェンチオン（ｄｉｃｈｌｏｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＥＣＰ）、ジクロルボス（ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ：ＤＤＶＰ）、ジメトエート（ｄｉｍｅｔｈｏａｔｅ）、ジメチルビンホス（ｄｉｍｅｔｈｙｌｖｉｎｐｈｏｓ）、ジスルホトン（ｄｉｓｕｌｆｏｔｏｎ）、ＥＰＮ、エチオン（ｅｔｈｉｏｎ）、エトプロホス（ｅｔｈｏｐｒｏｐｈｏｓ）、エトリムホス（ｅｔｒｉｍｆｏｓ）、フェンチオン（ｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＭＰＰ）、フエニトロチオン（ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ：ＭＥＰ）、ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、ホルモチオン（ｆｏｒｍｏｔｈｉｏｎ）、リン化水素（Ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、イソフェンホス（ｉｓｏｆｅｎｐｈｏｓ）、イソキサチオン（ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、マラチオン（ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、メスルフェンホス（ｍｅｓｕｌｆｅｎｆｏｓ）、メチダチオン（ｍｅｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ：ＤＭＴＰ）、モノクロトホス（ｍｏｎｏｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、ナレッド（ｎａｌｅｄ：ＢＲＰ）、オキシデプロホス（ｏｘｙｄｅｐｒｏｆｏｓ：ＥＳＰ）、パラチオン（ｐａｒａｔｈｉｏｎ）、ホサロン（ｐｈｏｓａｌｏｎｅ）、ホスメット（ｐｈｏｓｍｅｔ：ＰＭＰ）、ピリミホスメチル（ｐｉｒｉｍｉｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリダフェンチオン（ｐｙｒｉｄａｆｅｎｔｈｉｏｎ）、キナルホス（ｑｕｉｎａｌｐｈｏｓ）、フェントエート（ｐｈｅｎｔｈｏａｔｅ：ＰＡＰ）、プロフェノホス（ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、プロパホス（ｐｒｏｐａｐｈｏｓ）、プロチオホス（ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、ピラクロホス（ｐｙｒａｃｌｏｒｆｏｓ）、サリチオン（ｓａｌｉｔｈｉｏｎ）、スルプロホス（ｓｕｌｐｒｏｆｏｓ）、テブピリムホス（ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｆｏｓ）、テメホス（ｔｅｍｅｐｈｏｓ）、テトラクロルビンホス（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｖｉｎｐｈｏｓ）、テルブホス（ｔｅｒｂｕｆｏｓ）、チオメトン（ｔｈｉｏｍｅｔｏｎ）、トリクロルホン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｐｈｏｎ：ＤＥＰ）、バミドチオン（ｖａｍｉｄｏｔｈｉｏｎ）、フォレート（ｐｈｏｒａｔｅ）、カズサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）等。
アセフェート（ａｃｅｐｈａｔｅ）、リン化アルミニウム（Ａｌｕｍｉｎｉｕｍ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、ブタチオホス（ｂｕｔａｔｈｉｏｆｏｓ）、キャドサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）、クロルエトキシホス（ｃｈｌｏｒｅｔｈｏｘｙｆｏｓ）、クロルフェンビンホス（ｃｈｌｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、クロルピリホス（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ）、クロルピリホスメチル（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、シアノホス（ｃｙａｎｏｐｈｏｓ：ＣＹＡＰ）、ダイアジノン（ｄｉａｚｉｎｏｎ）、ＤＣＩＰ（ｄｉｃｈｌｏｒｏｄｉｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ｅｔｈｅｒ）、ジクロフェンチオン（ｄｉｃｈｌｏｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＥＣＰ）、ジクロルボス（ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ：ＤＤＶＰ）、ジメトエート（ｄｉｍｅｔｈｏａｔｅ）、ジメチルビンホス（ｄｉｍｅｔｈｙｌｖｉｎｐｈｏｓ）、ジスルホトン（ｄｉｓｕｌｆｏｔｏｎ）、ＥＰＮ、エチオン（ｅｔｈｉｏｎ）、エトプロホス（ｅｔｈｏｐｒｏｐｈｏｓ）、エトリムホス（ｅｔｒｉｍｆｏｓ）、フェンチオン（ｆｅｎｔｈｉｏｎ：ＭＰＰ）、フエニトロチオン（ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ：ＭＥＰ）、ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、ホルモチオン（ｆｏｒｍｏｔｈｉｏｎ）、リン化水素（Ｈｙｄｒｏｇｅｎ ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、イソフェンホス（ｉｓｏｆｅｎｐｈｏｓ）、イソキサチオン（ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、マラチオン（ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、メスルフェンホス（ｍｅｓｕｌｆｅｎｆｏｓ）、メチダチオン（ｍｅｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ：ＤＭＴＰ）、モノクロトホス（ｍｏｎｏｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、ナレッド（ｎａｌｅｄ：ＢＲＰ）、オキシデプロホス（ｏｘｙｄｅｐｒｏｆｏｓ：ＥＳＰ）、パラチオン（ｐａｒａｔｈｉｏｎ）、ホサロン（ｐｈｏｓａｌｏｎｅ）、ホスメット（ｐｈｏｓｍｅｔ：ＰＭＰ）、ピリミホスメチル（ｐｉｒｉｍｉｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリダフェンチオン（ｐｙｒｉｄａｆｅｎｔｈｉｏｎ）、キナルホス（ｑｕｉｎａｌｐｈｏｓ）、フェントエート（ｐｈｅｎｔｈｏａｔｅ：ＰＡＰ）、プロフェノホス（ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、プロパホス（ｐｒｏｐａｐｈｏｓ）、プロチオホス（ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、ピラクロホス（ｐｙｒａｃｌｏｒｆｏｓ）、サリチオン（ｓａｌｉｔｈｉｏｎ）、スルプロホス（ｓｕｌｐｒｏｆｏｓ）、テブピリムホス（ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｆｏｓ）、テメホス（ｔｅｍｅｐｈｏｓ）、テトラクロルビンホス（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｖｉｎｐｈｏｓ）、テルブホス（ｔｅｒｂｕｆｏｓ）、チオメトン（ｔｈｉｏｍｅｔｏｎ）、トリクロルホン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｐｈｏｎ：ＤＥＰ）、バミドチオン（ｖａｍｉｄｏｔｈｉｏｎ）、フォレート（ｐｈｏｒａｔｅ）、カズサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）等。
（３）カーバメート化合物
アラニカルブ（ａｌａｎｙｃａｒｂ）、ベンダイオカルブ（ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）、ベンフラカルブ（ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、フェノブカルブ〔メチルカルバミド酸ｏ−（ｓｅｃ−ブチル）フェニル（ＢＰＭＣ）〕、カルバリル（ｃａｒｂａｒｙｌ）、カルボフラン（ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、カルボスルファン（ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、クロエトカルブ（ｃｌｏｅｔｈｏｃａｒｂ）、エチオフェンカルブ（ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、フェノブカルブ（ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェノキシカルブ（ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、フラチオカルブ（ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、イソプロカルブ（ｉｓｏｐｒｏｃａｒｂ：ＭＩＰＣ）、メトルカルブ（ｍｅｔｏｌｃａｒｂ）、メソミル（ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、メチオカルブ（ｍｅｔｈｉｏｃａｒｂ）、１−ナフチルメチルカーバメート（ＮＡＣ）、オキサミル（ｏｘａｍｙｌ）、ピリミカーブ（ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、プロポキスル（ｐｒｏｐｏｘｕｒ：ＰＨＣ）、３，５−キシリルメチルカルバメート（ＸＭＣ）、チオジカルブ（ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、キシリルカルブ（ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）、アルジカルブ（ａｌｄｉｃａｒｂ）等。
アラニカルブ（ａｌａｎｙｃａｒｂ）、ベンダイオカルブ（ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）、ベンフラカルブ（ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、フェノブカルブ〔メチルカルバミド酸ｏ−（ｓｅｃ−ブチル）フェニル（ＢＰＭＣ）〕、カルバリル（ｃａｒｂａｒｙｌ）、カルボフラン（ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、カルボスルファン（ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、クロエトカルブ（ｃｌｏｅｔｈｏｃａｒｂ）、エチオフェンカルブ（ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、フェノブカルブ（ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ）、フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、フェノキシカルブ（ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、フラチオカルブ（ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、イソプロカルブ（ｉｓｏｐｒｏｃａｒｂ：ＭＩＰＣ）、メトルカルブ（ｍｅｔｏｌｃａｒｂ）、メソミル（ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、メチオカルブ（ｍｅｔｈｉｏｃａｒｂ）、１−ナフチルメチルカーバメート（ＮＡＣ）、オキサミル（ｏｘａｍｙｌ）、ピリミカーブ（ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、プロポキスル（ｐｒｏｐｏｘｕｒ：ＰＨＣ）、３，５−キシリルメチルカルバメート（ＸＭＣ）、チオジカルブ（ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、キシリルカルブ（ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）、アルジカルブ（ａｌｄｉｃａｒｂ）等。
（４）ネライストキシン化合物
カルタップ（ｃａｒｔａｐ）、ベンスルタップ（ｂｅｎｓｕｌｔａｐ）、チオシクラム（ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、モノスルタップ（ｍｏｎｏｓｕｌｔａｐ）、ビスルタップ（ｂｉｓｕｌｔａｐ）等。
カルタップ（ｃａｒｔａｐ）、ベンスルタップ（ｂｅｎｓｕｌｔａｐ）、チオシクラム（ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、モノスルタップ（ｍｏｎｏｓｕｌｔａｐ）、ビスルタップ（ｂｉｓｕｌｔａｐ）等。
（５）ネオニコチノイド化合物
イミダクロプリド（ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ）、ニテンピラム（ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、アセタミプリド（ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、チアメトキサム（ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、チアクロプリド（ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、ジノテフラン（ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、クロチアニジン（ｃｌｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）等。
イミダクロプリド（ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ）、ニテンピラム（ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、アセタミプリド（ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、チアメトキサム（ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、チアクロプリド（ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、ジノテフラン（ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、クロチアニジン（ｃｌｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）等。
（６）ベンゾイル尿素化合物
クロルフルアズロン（ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、ビストリフルロン（ｂｉｓｔｒｉｆｌｕｒｏｎ）、ジアフェンチウロン（ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、ジフルベンズロン（ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、フルアズロン（ｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、フルシクロクスロン（ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、フルフェノクスロン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、ヘキサフルムロン（ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、ルフェヌロン（ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、ノバルロン（ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、ノビフルムロン（ｎｏｖｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、テフルベンズロン（ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、トリフルムロン（ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、トリアズロン（ｔｒｉａｚｕｒｏｎ）等。
クロルフルアズロン（ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、ビストリフルロン（ｂｉｓｔｒｉｆｌｕｒｏｎ）、ジアフェンチウロン（ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、ジフルベンズロン（ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、フルアズロン（ｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、フルシクロクスロン（ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、フルフェノクスロン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、ヘキサフルムロン（ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、ルフェヌロン（ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、ノバルロン（ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、ノビフルムロン（ｎｏｖｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、テフルベンズロン（ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、トリフルムロン（ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、トリアズロン（ｔｒｉａｚｕｒｏｎ）等。
（７）フェニルピラゾール化合物
アセトプロール（ａｃｅｔｏｐｒｏｌｅ）、エチプロール（ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、フィプロニル（ｆｉｐｒｏｎｉｌ）、バニリプロール（ｖａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、ピリプロール（ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、ピラフルプロール（ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）等。
アセトプロール（ａｃｅｔｏｐｒｏｌｅ）、エチプロール（ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、フィプロニル（ｆｉｐｒｏｎｉｌ）、バニリプロール（ｖａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、ピリプロール（ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、ピラフルプロール（ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）等。
（８）Ｂｔトキシン殺虫剤
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞及び産生結晶毒素、並びにそれらの混合物。
バチルス・チューリンゲンシス菌由来の生芽胞及び産生結晶毒素、並びにそれらの混合物。
（９）ヒドラジン化合物
クロマフェノジド（ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、ハロフェノジド（ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、メトキシフェノジド（ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、テブフェノジド（ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）等。
クロマフェノジド（ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、ハロフェノジド（ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、メトキシフェノジド（ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、テブフェノジド（ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）等。
（１０）有機塩素化合物
アルドリン（ａｌｄｒｉｎ）、ディルドリン（ｄｉｅｌｄｒｉｎ）、ジエノクロル（ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、エンドスルファン（ｅｎｄｏｓｕｌｆａｎ）、メトキシクロル（ｍｅｔｈｏｘｙｃｈｌｏｒ）等。
アルドリン（ａｌｄｒｉｎ）、ディルドリン（ｄｉｅｌｄｒｉｎ）、ジエノクロル（ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、エンドスルファン（ｅｎｄｏｓｕｌｆａｎ）、メトキシクロル（ｍｅｔｈｏｘｙｃｈｌｏｒ）等。
（１１）天然系殺虫剤
マシン油（ｍａｃｈｉｎｅ ｏｉｌ）、硫酸ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅ−ｓｕｌｆａｔｅ）等。
マシン油（ｍａｃｈｉｎｅ ｏｉｌ）、硫酸ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅ−ｓｕｌｆａｔｅ）等。
（１２）その他の殺虫剤
アベルメクチン（ａｖｅｒｍｅｃｔｉｎ−Ｂ）、ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、ブプロフェジン（ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）、クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｐｈｅｎａｐｙｒ）、シロマジン（ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）、Ｄ−Ｄ（１，３−Ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、エマメクチンベンゾエート（ｅｍａｍｅｃｔｉｎ−ｂｅｎｚｏａｔｅ）、フェナザキン（ｆｅｎａｚａｑｕｉｎ）、フルピラゾホス（ｆｌｕｐｙｒａｚｏｆｏｓ）、ハイドロプレン（ｈｙｄｒｏｐｒｅｎｅ）、メトプレン（ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、インドキサカルブ（ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、メトキサジアゾン（ｍｅｔｏｘａｄｉａｚｏｎｅ）、ミルベマイシンＡ（ｍｉｌｂｅｍｙｃｉｎ−Ａ）、ピメトロジン（ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、ピリダリル（ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）、スピノサッド（ｓｐｉｎｏｓａｄ）、スルフラミド（ｓｕｌｆｌｕｒａｍｉｄ）、トルフェンピラド（ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、トリアゼメイト（ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、フルベンジアミド（ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）、レピメクチン（ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、亜ひ酸（Ａｒｓｅｎｉｃ ａｃｉｄ）、ベンクロチアズ（ｂｅｎｃｌｏｔｈｉａｚ）、石灰窒素（Ｃａｌｃｉｕｍ ｃｙａｎａｍｉｄｅ）、石灰硫黄合剤（Ｃａｌｃｉｕｍ ｐｏｌｙｓｕｌｆｉｄｅ）、クロルデン（ｃｈｌｏｒｄａｎｅ）、ジクロロジフェニルトリクロロエタン（ＤＤＴ）、３，３’−ジチオビス（プロピオン酸スクシンイミジル）（ＤＳＰ）、フルフェネリウム（ｆｌｕｆｅｎｅｒｉｍ）、フロニカミド（ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）、フルリムフェン（ｆｌｕｒｉｍｆｅｎ）、ホルメタネート（ｆｏｒｍｅｔａｎａｔｅ）、メタム・アンモニウム（ｍｅｔａｍ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、メタム・ナトリウム（ｍｅｔａｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、臭化メチル（Ｍｅｔｈｙｌ ｂｒｏｍｉｄｅ）、オレイン酸カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｏｌｅａｔｅ）、プロトリフェンビュート（ｐｒｏｔｒｉｆｅｎｂｕｔｅ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、硫黄（Ｓｕｌｆｕｒ）、メタフルミゾン（ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）、スピロテトラマット（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、ピリフルキナゾン（ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎｅ）、スピネトラム（ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）、クロラントラニリプロール（ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、トラロピリル（ｔｒａｌｏｐｙｒｉｌ）等。
アベルメクチン（ａｖｅｒｍｅｃｔｉｎ−Ｂ）、ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、ブプロフェジン（ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）、クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｐｈｅｎａｐｙｒ）、シロマジン（ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）、Ｄ−Ｄ（１，３−Ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、エマメクチンベンゾエート（ｅｍａｍｅｃｔｉｎ−ｂｅｎｚｏａｔｅ）、フェナザキン（ｆｅｎａｚａｑｕｉｎ）、フルピラゾホス（ｆｌｕｐｙｒａｚｏｆｏｓ）、ハイドロプレン（ｈｙｄｒｏｐｒｅｎｅ）、メトプレン（ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、インドキサカルブ（ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、メトキサジアゾン（ｍｅｔｏｘａｄｉａｚｏｎｅ）、ミルベマイシンＡ（ｍｉｌｂｅｍｙｃｉｎ−Ａ）、ピメトロジン（ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、ピリダリル（ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）、スピノサッド（ｓｐｉｎｏｓａｄ）、スルフラミド（ｓｕｌｆｌｕｒａｍｉｄ）、トルフェンピラド（ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、トリアゼメイト（ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、フルベンジアミド（ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）、レピメクチン（ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、亜ひ酸（Ａｒｓｅｎｉｃ ａｃｉｄ）、ベンクロチアズ（ｂｅｎｃｌｏｔｈｉａｚ）、石灰窒素（Ｃａｌｃｉｕｍ ｃｙａｎａｍｉｄｅ）、石灰硫黄合剤（Ｃａｌｃｉｕｍ ｐｏｌｙｓｕｌｆｉｄｅ）、クロルデン（ｃｈｌｏｒｄａｎｅ）、ジクロロジフェニルトリクロロエタン（ＤＤＴ）、３，３’−ジチオビス（プロピオン酸スクシンイミジル）（ＤＳＰ）、フルフェネリウム（ｆｌｕｆｅｎｅｒｉｍ）、フロニカミド（ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）、フルリムフェン（ｆｌｕｒｉｍｆｅｎ）、ホルメタネート（ｆｏｒｍｅｔａｎａｔｅ）、メタム・アンモニウム（ｍｅｔａｍ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、メタム・ナトリウム（ｍｅｔａｍ−ｓｏｄｉｕｍ）、臭化メチル（Ｍｅｔｈｙｌ ｂｒｏｍｉｄｅ）、オレイン酸カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ ｏｌｅａｔｅ）、プロトリフェンビュート（ｐｒｏｔｒｉｆｅｎｂｕｔｅ）、スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、硫黄（Ｓｕｌｆｕｒ）、メタフルミゾン（ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）、スピロテトラマット（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）、ピリフルキナゾン（ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎｅ）、スピネトラム（ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）、クロラントラニリプロール（ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、トラロピリル（ｔｒａｌｏｐｙｒｉｌ）等。
（１３）その他の忌避剤
Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミド、リモネン、リナロール、シトロネラール、メントール、メントン、ヒノキチオール、ゲラニオール、ユーカリプトール、インドキサカルブ、カラン−３，４−ジオール、２，５−ピリジンジカルボン酸ジプロピル（ＭＧＫ−Ｒ−３２６）、２−（オクチルチオ）エタノール（ＭＧＫ−Ｒ−８７４）及びＢＡＹ−ＫＢＲ−３０２３等。
Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｍ−トルアミド、リモネン、リナロール、シトロネラール、メントール、メントン、ヒノキチオール、ゲラニオール、ユーカリプトール、インドキサカルブ、カラン−３，４−ジオール、２，５−ピリジンジカルボン酸ジプロピル（ＭＧＫ−Ｒ−３２６）、２−（オクチルチオ）エタノール（ＭＧＫ−Ｒ−８７４）及びＢＡＹ−ＫＢＲ−３０２３等。
（１４）共力剤
５−〔２−（２−ブトキシエトキシ）エトキシメチル〕−６−プロピル−１，３−ベンゾジオキソール、Ｎ−（２−エチルヘキシル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、オクタクロロジプロピルエーテル、チオシアノ酢酸イソボルニル、Ｎ−（２−エチルへキシル）−１−イソプロピル−４−メチルビシクロ［２．２．２］オクト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等。
５−〔２−（２−ブトキシエトキシ）エトキシメチル〕−６−プロピル−１，３−ベンゾジオキソール、Ｎ−（２−エチルヘキシル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、オクタクロロジプロピルエーテル、チオシアノ酢酸イソボルニル、Ｎ−（２−エチルへキシル）−１−イソプロピル−４−メチルビシクロ［２．２．２］オクト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等。
前記有害生物防除成分のなかでは、揮散しやすく、有害生物を効果的に防除することができることから、メトフルトリン、プロフルトリン、トランスフルトリン、メパフルトリン、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（メトキシメチル）ベンジル ２，２−ジメチル−３−［（１Ｚ）−３，３，３−トリフルオロプロプ−１−エニル］シクロプロパンカルボキシラート及びジメフルトリンが好ましく、メトフルトリンがより好ましい。また、これらは、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
有害生物防除成分が液体である場合、有害生物防除成分は、そのまま噴霧してもよく、溶剤に希釈して噴霧してもよい。また、有害生物防除成分が固体である場合、溶剤に溶かして噴霧することができる。
有害生物防除成分の希釈又は溶解に用いられる溶剤としては、例えば、芳香族又は脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、スルホキシド類、酸アミド類、炭酸アルキリデン類、植物油、植物精油、水等が挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。かかる溶剤の具体例としては、下記（１）〜（１３）に示されるものが挙げられるが、本発明は、かかる具体例のみに限定されるものではない。
（１）芳香族又は脂肪族炭化水素類
キシレン、トルエン、アルキルナフタレン、フェニルキシリルエタン、ケロシン、軽油、ヘキサン、シクロヘキサン等；
キシレン、トルエン、アルキルナフタレン、フェニルキシリルエタン、ケロシン、軽油、ヘキサン、シクロヘキサン等；
（２）ハロゲン化炭化水素類
クロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等；
クロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等；
（３）アルコール類
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール等；
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール等；
（４）エーテル類
ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等；
ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等；
（５）エステル類
酢酸エチル、酢酸ブチル等；
酢酸エチル、酢酸ブチル等；
（６）ケトン類
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等；
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等；
（７）ニトリル類
アセトニトリル、イソブチロニトリル等；
アセトニトリル、イソブチロニトリル等；
（８）スルホキシド類
ジメチルスルホキシド等；
ジメチルスルホキシド等；
（９）酸アミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−ピロリドン等；
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−ピロリドン等；
（１０）炭酸アルキリデン類
炭酸プロピレン等；
炭酸プロピレン等；
（１１）植物油
大豆油、綿実油等；
大豆油、綿実油等；
（１２）植物精油
オレンジ油、ヒソップ油、レモン油等
オレンジ油、ヒソップ油、レモン油等
薬液中における有害生物防除成分の含有量は、当該薬液を噴霧した際に、有害生物を防除するのに十分な量であればよい。具体的には、薬液中における有害生物防除成分の含有量は、十分な効力を確保するとともに、製品コストを低減する観点から、好ましくは０．０１〜１０質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。
前記体積積算分布における５０％粒子径、噴霧時間及び噴霧の間隔時間それぞれの範囲は、前述した超音波霧化装置における体積積算分布における５０％粒子径、噴霧時間及び噴霧の間隔時間それぞれの範囲と同様である。なお、前記体積積算分布における５０％粒子径は、用いられた超音波霧化装置より噴霧される噴霧粒子の体積積算分布における５０％粒子径に応じて定められる。
前述した超音波霧化装置を、防除対象の有害生物が存在する所定空間内に設置し、電源を入れると、制御部３０によって噴霧時間及び噴霧の間隔時間が式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなるように、圧電振動子１１への通電がオン−オフされる。圧電振動子１１への通電がオンとなって圧電振動子１１に高周波電圧が印加された場合には、圧電振動子１１に超音波振動が生じ、さらに、振動板１２の凸状部１１３が振動する。このとき、薬液供給部１５を介して凸状部１１３に供給された前記薬液は、毛細管現象によって凸状部１１３の微細孔１１３ａに導入され、霧化されて体積積算分布における５０％粒子径２〜５０μｍの噴霧粒子となり、所定の噴霧時間で上方に噴霧される。一方、圧電振動子１１への通電がオフとなった場合には、薬液の噴霧が停止する。これにより、前記薬液を、式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなる噴霧時間及び噴霧の間隔時間で、体積積算分布における５０％粒子径２〜５０μｍの噴霧粒子として噴霧することができる。
したがって、かかる有害生物の防除方法によれば、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物を効果的に防除することができ、かつ当該超音波霧化装置の周囲における薬液の付着を少なくすることができる。
したがって、かかる有害生物の防除方法によれば、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物を効果的に防除することができ、かつ当該超音波霧化装置の周囲における薬液の付着を少なくすることができる。
なお、本発明においては、本発明の超音波霧化装置の代わりに、一般的な超音波霧化装置を用いてもよい。この場合においても、有害生物防除成分を含有する薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径２〜５０μｍの噴霧粒子を生成し、式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなる噴霧時間及び噴霧の間隔時間で噴霧すればよい。
以下、実施例によって本発明をさらに詳しく説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
（製造例１）
薬液の調製
有害生物防除成分として、メトフルトリン（住友化学（株）製、商品名：エミネンス）を、溶剤（エクソンモービル社製、商品名：エクソールＤ１１０）に溶解して薬液を調製した。薬液中におけるメトフルトリンの含有量は、１回あたりの薬液噴霧量から２０分間あたりの薬液噴霧量を算出し、全ての試験条件下でメトフルトリンが同一量噴霧するように薬液濃度を設定した。
薬液の調製
有害生物防除成分として、メトフルトリン（住友化学（株）製、商品名：エミネンス）を、溶剤（エクソンモービル社製、商品名：エクソールＤ１１０）に溶解して薬液を調製した。薬液中におけるメトフルトリンの含有量は、１回あたりの薬液噴霧量から２０分間あたりの薬液噴霧量を算出し、全ての試験条件下でメトフルトリンが同一量噴霧するように薬液濃度を設定した。
（製造例２）
超音波霧化装置の作製
以下の仕様の超音波式霧化装置を作製した。本実施例の超音波式霧化装置は、下記（５）の設定を除き、図１に示される超音波式霧化装置と同じ構造を有する装置である。
（１） 圧電振動子１１：外径１５ｍｍ、内径５ｍｍ、厚さ０．４ｍｍの圧電セラミックス
（２） 振動板：凸型振動板
厚さ０．０４ｍｍ（ニッケル製）
凸状部の基端部の直径３ｍｍ
凸状部の微細孔の内径：表１〜６に示されるように設定
（３） 印加電圧：４０Ｖｐ−ｐ
（４） 圧電振動子１１（超音波励振機）の周波数：１１０ｋＨｚ
（５） 圧電振動子１１（超音波励振機）への通電設定：５〜１８０秒間の間隔での断続的駆動と、１回あたりの駆動時間が０．１〜１０秒間の連続駆動とを自由に選択して設定可能
（６） 噴霧粒子の体積積算分布における５０％粒子径：表１〜６の「噴霧粒子径」を参照。
なお、噴霧粒子の粒子径は、粒度分布計（日機装（株）製、商品名：ＡＥＲＯＴＲＡＣ ＳＰＲ）を用いて測定した。
超音波霧化装置の作製
以下の仕様の超音波式霧化装置を作製した。本実施例の超音波式霧化装置は、下記（５）の設定を除き、図１に示される超音波式霧化装置と同じ構造を有する装置である。
（１） 圧電振動子１１：外径１５ｍｍ、内径５ｍｍ、厚さ０．４ｍｍの圧電セラミックス
（２） 振動板：凸型振動板
厚さ０．０４ｍｍ（ニッケル製）
凸状部の基端部の直径３ｍｍ
凸状部の微細孔の内径：表１〜６に示されるように設定
（３） 印加電圧：４０Ｖｐ−ｐ
（４） 圧電振動子１１（超音波励振機）の周波数：１１０ｋＨｚ
（５） 圧電振動子１１（超音波励振機）への通電設定：５〜１８０秒間の間隔での断続的駆動と、１回あたりの駆動時間が０．１〜１０秒間の連続駆動とを自由に選択して設定可能
（６） 噴霧粒子の体積積算分布における５０％粒子径：表１〜６の「噴霧粒子径」を参照。
なお、噴霧粒子の粒子径は、粒度分布計（日機装（株）製、商品名：ＡＥＲＯＴＲＡＣ ＳＰＲ）を用いて測定した。
（試験例１）
（１）忌避率の評価
製造例１で得られた薬液を、製造例２で得られた超音波霧化装置の薬液貯留部１４に入れ、開放系空間内に設置した。制御部３０による発振回路２０への通電のオン−オフを、表１〜６に示される噴霧時間及び噴霧間隔（噴霧の間隔時間）となるように設定した。薬液の最初の噴霧開始時から２０分間経過後、超音波霧化装置の設置場所から３．６ｍ離れた場所における有害生物の密度減少（以下、忌避率）を求めた。忌避率は、式（２）：
〔（［薬液噴霧前の有害生物の密度］−［薬液の最初の噴霧開始時から２０分間経過後の有害生物の密度］）／［薬液噴霧前の有害生物の密度］〕×１００
式（２）
に従って算出した。その結果を表１〜６に示す。
（１）忌避率の評価
製造例１で得られた薬液を、製造例２で得られた超音波霧化装置の薬液貯留部１４に入れ、開放系空間内に設置した。制御部３０による発振回路２０への通電のオン−オフを、表１〜６に示される噴霧時間及び噴霧間隔（噴霧の間隔時間）となるように設定した。薬液の最初の噴霧開始時から２０分間経過後、超音波霧化装置の設置場所から３．６ｍ離れた場所における有害生物の密度減少（以下、忌避率）を求めた。忌避率は、式（２）：
〔（［薬液噴霧前の有害生物の密度］−［薬液の最初の噴霧開始時から２０分間経過後の有害生物の密度］）／［薬液噴霧前の有害生物の密度］〕×１００
式（２）
に従って算出した。その結果を表１〜６に示す。
（２）薬液の付着の度合いの評価
製造例１で得られた薬液を、製造例２で得られた超音波霧化装置の薬液貯留部１４に入れ、開放系空間内に設置した。制御部３０による発振回路２０への通電のオン−オフを、表１〜６に示される噴霧時間及び噴霧間隔（噴霧の間隔時間）となるように設定した。薬液の最初の噴霧開始時から２０分間経過後、超音波霧化装置の噴霧口（図２中、開口部１３１）を中心とした半径６ｃｍの範囲（範囲Ａ）における薬液の付着部分（薬液付着部分）の面積を測定した。
表中、薬液の付着の度合い（表中、「薬液付着」）の評価基準は、以下の通りである。
＜評価基準＞
Ｓ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が１割未満である。
Ａ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が１割以上３割未満である。
Ｂ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が３割以上５割未満である。
Ｃ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が５割以上である。
製造例１で得られた薬液を、製造例２で得られた超音波霧化装置の薬液貯留部１４に入れ、開放系空間内に設置した。制御部３０による発振回路２０への通電のオン−オフを、表１〜６に示される噴霧時間及び噴霧間隔（噴霧の間隔時間）となるように設定した。薬液の最初の噴霧開始時から２０分間経過後、超音波霧化装置の噴霧口（図２中、開口部１３１）を中心とした半径６ｃｍの範囲（範囲Ａ）における薬液の付着部分（薬液付着部分）の面積を測定した。
表中、薬液の付着の度合い（表中、「薬液付着」）の評価基準は、以下の通りである。
＜評価基準＞
Ｓ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が１割未満である。
Ａ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が１割以上３割未満である。
Ｂ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が３割以上５割未満である。
Ｃ：範囲Ａに対する薬液付着部分の面積の割合が５割以上である。
表１〜６に示された結果から、式（Ｉ）（表中、「噴霧粒子径×Ａ」）の値が０．２〜２．５μｍの範囲であれば、高い忌避率を確保することができ、しかも、超音波霧化装置の周囲における薬液の付着が少ないことがわかる。
以上の結果から、有害生物防除成分を含有する薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径２〜５０μｍの噴霧粒子を生成し、噴霧時間０．５〜５秒間、噴霧の間隔時間１５〜６０秒間で、かつ式（Ｉ）の値が０．２〜２．５μｍとなるように噴霧時間及び噴霧の間隔時間を設定することにより、開放系空間（特に、屋外空間）において有害生物を効果的に防除することができ、かつ当該超音波霧化装置の周囲における薬液の付着を少なくすることができることがわかる。
１ 超音波霧化装置
１１ 圧電振動子
１２ 振動板
１４ 薬液貯留部
１５ 薬液供給部
３０ 制御部
１１３ａ 微細孔
１１ 圧電振動子
１２ 振動板
１４ 薬液貯留部
１５ 薬液供給部
３０ 制御部
１１３ａ 微細孔
Claims (6)
- 超音波霧化装置を用いて有害生物防除成分を含有する薬液を屋外空間に間欠的に噴霧して有害生物を防除する屋外空間における有害生物の防除方法であって、
前記薬液を霧化して体積積算分布における５０％粒子径が２〜５０μｍの範囲内となる噴霧粒子を生成し、前記５０％粒子径が前記範囲内のいずれの大きさであっても、［噴霧粒子の体積積算分布における５０％粒子径］×（［噴霧時間］／［噴霧の間隔時間］）の値が０．２〜２．０μｍとなるように、噴霧時間を０．５〜５秒間の範囲内で設定するとともに噴霧の間隔時間を設定し、設定した前記噴霧時間及び前記噴霧の間隔時間で屋外空間に前記噴霧粒子を噴霧する、
ことを特徴とする屋外空間における有害生物の防除方法。 - 前記噴霧の間隔時間が、１５〜１２０秒である、請求項１に記載の方法。
- 前記噴霧の間隔時間が、１５〜６０秒である、請求項１に記載の方法。
- 前記噴霧時間が、０．５〜３秒間である請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
- 前記有害生物防除成分が、メトフルトリン、プロフルトリン、トランスフルトリン、メパフルトリン、テフルメトリン及びジメフルトリンからなる群より選択された少なくとも１種である請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
- 前記有害生物防除成分が、メトフルトリンである請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
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|---|---|---|---|
| JP2012283303A JP6423995B2 (ja) | 2011-12-29 | 2012-12-26 | 有害生物の防除方法 |
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| JP2011290288 | 2011-12-29 | ||
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Country Status (8)
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