JP6423056B1 - インプリントモールド及びインプリントモールドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】WCの平均粒径が0.12μm以上0.8μm未満のWC基擬バインダーレス焼結体又はWC−M2C完全バインダーレス焼結体を用い、a)RIE法による加工後の加工面の表面粗さを15nmRa以下に抑え、その後、b)GCIB法による加工で表面粗さを5nmRa未満にし、このa)、b)を複数回繰り返すことにより、10nm以上かつ7μm未満の深さで、かつ底面の表面粗さが5nmRa未満の形状作成を、0.10μm/min以上の加工速度で行い、インプリントモールドを製造する。
【選択図】図3
Description
Claims (2)
- WCの平均粒径が0.12μm以上0.27μm以下で、WC−0.12mass%〜0.3mass%Niにおいて、V添加量を、Niに対して30mass%以上100mass%以下、Cr添加量を、Niに対して300mass%を越え1250mass%以下とすることにより、W、V、Cr、Ni及び/又は不可避不純物のFeの複合炭化物であるM2C相(M:金属元素を表す記号)が組織中に生じている、WC−M2C完全バインダレーレス焼結体、又は、
WCの平均粒径が0.27μmを越え0.34μm以下で、WC−0.12mass%〜0.3mass%Niにおいて、V添加量を、Niに対して30mass%以上100mass%以下、Cr添加量を、Niに対して130mass%以上300mass%以下とした、WC基擬バインダーレス焼結体、又は、
WCの平均粒径が0.34μmを越え0.8μm未満で、WC−0.3mass%〜0.7mass%Cr3C2−0.5mass%NiのWC基擬バインダーレス焼結体で構成され、
溝深さが10nm以上かつ7μm未満で、かつ溝底面の表面粗さが5nmRa未満で、かつ溝側面の表面粗さが5nmRaよりも大きく、溝側面の少なくとも一部に縞状および/または鱗状の組織を有する溝からなる微細形状を有する、
インクジェットプリンタのプリンタヘッドを構成するインク流路用インプリントモールド、または遺伝子解析又は臨床診断又は薬物スクリーニング又は環境モニタリングで用いられるマイクロ流路用インプリントモールド、または半導体デバイス用インプリントモールド、または光学部品用インプリントモールド、またはハードディスク又はDVD又はブルーレイディスクの記録デバイス用インプリントモールド、またはディスプレイの拡散板のパターン形成用インプリントモールド。 - フォトリソグラフィ法により作製した、加工面の表面粗さが0.8nmRa未満の、エッチング加工用の、
WCの平均粒径が0.12μm以上0.27μm以下で、WC−0.12mass%〜0.3mass%Niにおいて、V添加量を、Niに対して30mass%以上100mass%以下、Cr添加量を、Niに対して300mass%を越え1250mass%以下とすることにより、W、V、Cr、Ni及び/又は不可避不純物のFeの複合炭化物であるM 2 C相(M:金属元素を表す記号)が組織中に生じている、WC−M 2 C完全バインダレーレス焼結体、又は、
WCの平均粒径が0.27μmを越え0.34μm以下で、WC−0.12mass%〜0.3mass%Niにおいて、V添加量を、Niに対して30mass%以上100mass%以下、Cr添加量を、Niに対して130mass%以上300mass%以下とした、WC基擬バインダーレス焼結体、又は、
WCの平均粒径が0.34μmを越え0.8μm未満で、WC−0.3mass%〜0.7mass%Cr 3 C 2 −0.5mass%NiのWC基擬バインダーレス焼結体に対し、
a)RIE法による加工後の加工面の表面粗さを15nmRa以下に抑え、その後、b)GCIB法による加工で表面粗さを5nmRa未満にし、このa)とb)を複数回繰り返すことにより、10nm以上かつ7μm未満の深さで、かつ底面の表面粗さが5nmRa未満の形状作成を0.10μm/min以上の加工速度で行う、
インクジェットプリンタのプリンタヘッドを構成するインク流路用、または遺伝子解析又は臨床診断又は薬物スクリーニング又は環境モニタリングで用いられるマイクロ流路用、または半導体デバイス用、または光学部品用、またはハードディスク又はDVD又はブルーレイディスクの記録デバイス用、またはディスプレイの拡散板のパターン形成用の
インプリントモールドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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