JP6407762B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
該処理室内に設けられ、基板を上面に載置可能な回転テーブルと、
前記処理室の内側壁から前記回転テーブルの中心軸に向かって延び、前記回転テーブルの半径方向に沿って前記回転テーブルの上方に延在するガスノズルと、
前記処理室の内側壁の少なくとも一部、及び/又は、前記回転テーブルの中心軸の周囲の少なくとも一部を壁面状に覆うように設けられた側壁ヒータと、を有し、
し、
少なくとも前記回転テーブルの中心軸側に設けられた側壁ヒータは、前記ガスノズルの延在方向に交わる位置を含む領域に設けられている。
2 回転テーブル
4 凸状部
5 突出部
7 ヒータユニット
11 天板
12 容器本体
24 凹部(基板載置領域)
31、32 処理ガスノズル
34 ノズルカバー
41、42 分離ガスノズル
80 プラズマ発生器
110〜113 側壁ヒータ
110a、112a 電熱線
110b、112b ケーシング
112c 切り欠き部
120 温度調節部
C 中心領域
D 分離領域
P1、P2 処理領域
W ウエハ
Claims (15)
- 略円筒形の処理室と、
該処理室内に設けられ、基板を上面に載置可能な回転テーブルと、
前記処理室の内側壁から前記回転テーブルの中心軸に向かって延び、前記回転テーブルの半径方向に沿って前記回転テーブルの上方に延在するガスノズルと、
前記処理室の内側壁の少なくとも一部、及び前記回転テーブルの中心軸の周囲の少なくとも一部を壁面状に覆うように設けられた側壁ヒータと、を有し、
少なくとも前記回転テーブルの中心軸側に設けられた側壁ヒータは、前記ガスノズルの延在方向に交わる位置を含む領域に設けられた成膜装置。 - 前記側壁ヒータは、前記処理室の内側壁側及び前記回転テーブルの中心軸側の少なくとも一方において、周方向に離間して複数設けられた請求項1に記載の成膜装置。
- 前記処理室の内側壁に設けられた前記側壁ヒータは、前記ガスノズルの延在方向に交わる位置を含む領域に設けられた請求項1又は2に記載の成膜装置。
- 前記側壁ヒータは、前記処理室の内側壁の全周面及び前記回転テーブルの中心軸の周囲の全周に亘って設けられた請求項1又は3に記載の成膜装置。
- 前記側壁ヒータは、電熱線と、該電熱線を覆うケーシングとを有する請求項1乃至4のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記ケーシングは、石英からなる請求項5に記載の成膜装置。
- 前記ケーシングは、前記ガスノズルが延在する箇所には前記ガスノズルを通過させる切欠き部を有する請求項5又は6に記載の成膜装置。
- 前記側壁ヒータの温度を調整する温度調整手段を更に有する請求項1乃至7のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記回転テーブルは、周方向に沿って複数の前記基板を載置可能である請求項1乃至8のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記回転テーブルの下方には、前記基板を下方から加熱可能な第2のヒータが設けられた請求項1乃至9のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記ガスノズルは、前記処理室の周方向において離間して複数設けられた請求項1乃至10のいずれか一項に記載の成膜装置。
- 前記ガスノズルは、前記基板に吸着可能な第1の処理ガスを供給する第1の処理ガスノズルと、
前記第1の処理ガスと反応して反応生成物を生成可能な第2の処理ガスを供給する第2の処理ガスノズルと、を含む請求項1乃至11のいずれか一項に記載の成膜装置。 - 前記第1の処理ガスノズルと前記第2の処理ガスノズルとの間の領域には、前記処理室の上面から前記回転テーブルに向かって下方に突出した略扇形の凸状部を有する分離領域が設けられ、
該分離領域内に、前記第1の処理ガスと前記第2の処理ガスとを分離可能な分離ガスを供給する分離ガスノズルが設けられた請求項12に記載の成膜装置。 - 前記第1の処理ガスノズルは、前記回転テーブルの回転方向において前記分離領域に両側を区画された第1の処理領域に設けられ、
前記第2の処理ガスノズルは、前記回転テーブルの回転方向において前記分離領域に両側を区画された第2の処理領域に設けられ、
前記側壁ヒータは、前記第1の処理領域及び前記第2の処理領域の各々に設けられた請求項13に記載の成膜装置。 - 前記凸状部から連続して下方に突出して前記回転テーブルの中心軸の周囲に設けられた環状の突出部を更に有し、
前記回転テーブルの中心軸側の側壁ヒータは、前記突出部の外周側面を覆うように設けられた請求項13又は14に記載された成膜装置。
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