JP6406676B2 - 不斉水素化および異性化を組み合わせることによって特定の生成物を定量的に得るためのｅ／ｚ異性体の混合物の使用 - Google Patents

Description

発明の詳細な説明

［技術分野］
本発明は、不斉水素化ならびにキラルケトン、アルデヒド、アセタールおよびケタールの合成の分野に関する。

［発明の背景］
キラルケトンおよびアルデヒドは、着香料および香料または医薬品およびビタミンの分野における化合物の合成のための非常に重要な生成物または中間体である。

これらの生成物は、それらの特性を非常に独特なものにする立体中心を有する。

立体炭素中心を生成する１つの可能性は、特に、水素分子の化合物を、好適な出発材料のプロキラルな炭素−炭素二重結合に付加することである。

典型的な化学反応は、主に、前記立体中心において立体異性体の混合を生じ、費用のかかる分離プロセスの使用を必要とする。

したがって、長い間、特定の立体配置をもたらす高度に立体選択的な反応に対する大きな需要があった。

国際公開第２００６／０６６８６３ Ａ１号パンフレットには、水素化によって形成される立体中心の特定の立体配置を得るためのアルケンの不斉水素化が開示されている。

しかしながら、技術的に、アルケンは、ＥおよびＺ異性体の混合物であることが非常に多い。

アルケンの炭素−炭素二重結合が異性化され得ることは公知である。遷移金属誘導体ならびに硫化物または二硫化物またはモノメルカプタンなどの硫黄化合物が、例えば、独国特許第２５ ５７ ８３７号明細書に記載されるように、ファルネソールを異性化することが公知である。

米国特許第４，０２８，３８５号明細書には、ファルネシル酢酸およびエステルの異性化ならびに対応する立体異性体混合物の精留のための、遷移金属触媒ならびに硫化物または二硫化物またはモノメルカプタンなどの有機硫黄化合物が開示されている。

しかしながら、これらの文献中の異性化の開示は、不斉水素化に関してではなかった。

［発明の概要］
したがって、本発明が解決しようとする課題は、水素化によって形成される立体中心において所望の立体配置を有する水素化生成物を得るための、プロキラルな炭素−炭素二重結合を有する不飽和化合物のＥ／Ｚ異性体の混合物の使用を可能にする方法を提供することである。

意外なことに、この課題は、請求項１に記載の方法によって解決され得ることが示された。

この方法において、異性体の混合物が、使用され得、全ての異性体が、所望の生成物に転化され得る。

特に、アセタールおよびケタールの水素化が、非常に有効であり、不斉水素化に使用されるキラル錯体のはるかにより良好な効率を提供することが示された。

本発明のさらなる態様は、さらなる独立請求項の主題である。特に好ましい実施形態は、従属請求項の主題である。

［発明の詳細な説明］
第１の態様において、本発明は、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物から、式（Ｉ−Ａ）もしくは（Ｉ−Ｂ）

（式中、Ｑが、ＨまたはＣＨ_３を表し、ｍおよびｐが、互いに独立して、０〜３の値を表し、ただし、ｍおよびｐの合計が、０〜３であり、波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素−炭素二重結合に連結される炭素−炭素結合を表し、ｓ１およびｓ２によって表される式（Ｉ）および（ＩＩ）の部分構造が、任意の配列であってもよく；
式（Ｉ）または（ＩＩ）中の点線（

）を有する二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表す）
の化合物またはそのアセタールもしくはケタールを製造する方法であって、以下の工程
ａ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物から、Ｅ−立体配置を有する異性体を分離する工程；
および
ｂ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＺ−立体配置を有する異性体を、シス／トランス異性化にかけ、異性化生成物を、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールの異性体の混合物に加える工程；
および
ｃ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ−立体配置を有する分離された異性体を、^＊によって示される立体中心においてＳ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子による水素化にかける工程；
または
ａ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物から、Ｚ−立体配置を有する異性体を分離する工程；
および
ｂ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ−立体配置を有する異性体を、シス／トランス異性化にかけ、異性化生成物を、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールの異性体の混合物に加える工程；
および
ｃ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＺ−立体配置を有する分離された異性体を、^＊によって示される立体中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）；

（式中、
ｎが、１または２または３、好ましくは、１または２であり；
Ｘ^１およびＸ^２が、互いに独立して、水素原子、Ｃ_１〜４−アルキル、Ｃ_５〜７−シクロアルキル、アダマンチル、フェニル（１〜３つのＣ_１〜５−アルキル、Ｃ_１〜４−アルコキシ、Ｃ_１〜４−パーフルオロアルキル基および／または１〜５つのハロゲン原子で任意選択的に置換される））、ベンジル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−フリルまたはフェロセニルであり；
Ｚ^１およびＺ^２が、互いに独立して、水素原子、Ｃ_１〜５−アルキルまたはＣ_１〜５−アルコキシ基であり；
またはＺ^１およびＺ^２が、一緒に、５〜６員環を形成する架橋基を表し；

が、特に、ハロゲン化物、ＰＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻、テトラ（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）ボレート（ＢＡｒ_Ｆ ⁻）、ＢＦ_４ ⁻、過フッ素化スルホネート、好ましくは、Ｆ_３Ｃ−ＳＯ_３ ⁻またはＦ_９Ｃ_４−ＳＯ_３ ⁻；ＣｌＯ_４ ⁻、Ａｌ（ＯＣ_６Ｆ_５）_４ ⁻、Ａｌ（ＯＣ（ＣＦ_３）_３）_４ ⁻、Ｎ（ＳＯ_２ＣＦ_３）_２ ⁻Ｎ（ＳＯ_２Ｃ_４Ｆ_９）_２ ⁻およびＢ（Ｃ_６Ｆ_５）_４ ⁻からなる群から選択されるアニオンであり；
Ｒ^１が、フェニルまたはｏ−トリルまたはｍ−トリルまたはｐ−トリルまたは式（ＩＶａ）もしくは（ＩＶｂ）もしくは（ＩＶｃ）

の基のいずれかを表し、
式中、Ｒ^２およびＲ^３が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれかを表すか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し、
Ｒ^４およびＲ^５が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し；
Ｒ^６およびＲ^７およびＲ^８がそれぞれ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基を表し；
Ｒ^９およびＲ^１０が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し；
^＊が、式（ＩＩＩ）の錯体の立体中心を表す）
のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子による水素化にかける工程
のいずれかを含む方法に関する。

ｍおよびｐの合計は、好ましくは、０〜２、特に、０または１である。

「不飽和ケトンまたはアルデヒド」または「不飽和アセタールまたはケタール」という用語は、本明細書全体において、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその好ましい実施形態に関する。

本明細書中の「互いに独立して」という用語は、置換基、部分、または基に関連して、同じ分子中に、異なる意味を有する同じように示された置換基、部分、または基が、同時に存在し得ることを意味する。

「Ｃ_ｘ−ｙ−アルキル」基は、ｘ〜ｙ個の炭素原子を含むアルキル基であり、すなわち、例えば、Ｃ_１〜３−アルキル基は、１〜３つの炭素原子を含むアルキル基である。アルキル基は、直鎖状または分枝鎖状であり得る。例えば、−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−ＣＨ_３は、Ｃ_４−アルキル基とみなされる。

「Ｃ_ｘ−ｙ−アルキレン」基は、ｘ〜ｙ個の炭素原子を含むアルキレン基であり、すなわち、例えば、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキレン基は、２〜６つの炭素原子を含むアルキル基である。アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であり得る。例えば、基−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−は、Ｃ_３−アルキレン基とみなされる。

「フェノールアルコール」は、本明細書において、芳香族基に直接結合されたヒドロキシル基を有するアルコールを意味する。

本明細書において使用される際の「立体中心」という用語は、基のいずれか２つの入れ替えにより立体異性体が生じるように基を担持する原子である。立体異性体は、同じ分子式および結合される原子の配列（構成）を有するが、空間中のそれらの原子の三次元の配向が異なる異性体分子である。

シス／トランス異性体は、二重結合において異なる配向を有する立体配置異性体である。本明細書において、「シス」という用語は、「Ｚ」の代わりに同等に使用され、逆もまた同様であり、また、「トランス」が「Ｅ」の代わりに使用され、逆もまた同様である。したがって、例えば、「シス／トランス異性化触媒」という用語は、「Ｅ／Ｚ異性化触媒」という用語と同等である。

「Ｅ／Ｚ」、「シス／トランス」および「Ｒ／Ｓ」という用語は、ＥとＺの混合、シスとトランスの混合、およびＲとＳの混合をそれぞれ示す。

本明細書において、記号または基についての同じ表示が、いくつかの式中に存在する場合、１つの特定の式に関連してなされる前記基または記号の定義は、前記同じ表示を含む他の式にも適用される。

本明細書において、任意の単一点線は、置換基を分子の残りの部分に結合するための結合を表す。

不斉水素化の「アッセイの収率」は、本出願において、水素化にかけられる、不飽和ケトンまたはアルデヒドまたはケタールまたはアセタールの分子の数に対する、完全に飽和したケトンまたはアルデヒドまたはケタールまたはアセタールの分子の数のモル比である。

式（Ｉ−Ａ）もしくは（Ｉ−Ｂ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールを製造する方法は、出発材料として、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物を使用する。

式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールは、プロキラルな炭素−炭素二重結合を有する。

特に好ましいのは、特に、６，１０−ジメチルウンデカ−３，５，９−トリエン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−３−エン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−３，５−ジエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９，１３−トリエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンおよび（Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンならびに全てのそれらの可能なＥ／Ｚ−異性体からなる群から選択される（ＩＩ）の化合物である。

最も好ましくは、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物は、３，７−ジメチルオクタ−６−エナール、３，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエナール、３，７−ジメチルオクタ−２−エナール、６，１０−ジメチルウンデカ−３，５，９−トリエン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−３−エン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−３，５−ジエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９，１３−トリエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンおよび（Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンならびに全てのそれらの可能なＥ／Ｚ−異性体からなる群から選択される。

最も好ましくは、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物は、ケトンである。

［アセタール／ケタールの形成］
ケトンからのケタールの形成、またはアルデヒドからのアセタールの形成は、それ自体、当業者に公知である。

式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物のケタールまたはアセタールは、好ましくは、式（Ｉ）または（ＩＩ）の上記の化合物およびアルコールから形成され得る。

アセタールまたはケタールの合成の代替的な経路があることが、当業者に公知である。原理的に、ケタールおよびアセタールはまた、ケトンまたはアルデヒドをオルト−エステルで処理することによって、または例えば、Ｐｅｒｉｏ ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，１９９７，３８（４５），７８６７−７８７０またはＬｏｒｅｔｔｅ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６０，２５，５２１−５２５（両方の全内容が、参照により本明細書に援用される）に開示されるものなどのケタール交換（ｔｒａｎｓ−ｋｅｔａｌｉｚａｔｉｏｎ）によって形成され得る。

好ましくは、ケタールまたはアセタールは、式（Ｉ）または（ＩＩ）の上記の化合物およびアルコールから形成される。

ケタールまたはアセタールの形成に使用されるアルコールは、主に、任意のアルコールであることができ、すなわち、アルコールは、１つまたは複数のヒドロキシル基を含み得る。アルコールは、フェノールアルコールまたは脂肪族もしくは脂環式アルコールであり得る。しかしながら、好ましくは、アルコールは、１つのヒドロキシル基（＝モノ）または２つのヒドロキシル基を有する（＝ジオール）。

アルコールが１つのヒドロキシル基を有する場合、アルコールは、好ましくは、１〜１２個の炭素原子を有するアルコールである。特に、１つのヒドロキシル基を有するアルコールは、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、２−ブタノール、ペンタン−１−オール、３−メチルブタン−１−オール、２−メチルブタン−１−オール、２，２−ジメチルプロパン−１−オール、ペンタン−３−オール、ペンタン−２−オール、３−メチルブタン−２−オール、２−メチルブタン−２−オール、ヘキサン−１−オール、ヘキサン−２−オール、ヘキサン−３−オール、２−メチル−１−ペンタノール、３−メチル−１−ペンタノール、４−メチル−１−ペンタノール、３−メチル−２−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、２−メチル−３−ペンタノール、２，２−ジメチル−１−ブタノール、２，３−ジメチル−１−ブタノール、３，３−ジメチル−１−ブタノール、３，３−ジメチル−２−ブタノール、２−エチル−１−ブタノール、ならびにヘプタノール、オクタノールおよびハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_８−アルキルアルコールの全ての構造異性体、特に、２，２，２−トリフルオロエタノールからなる群から選択される。特に好適なのは、第一級または第二級アルコールである。好ましくは、第一級アルコールは、１つのヒドロキシル基を有するアルコールとして使用される。特に、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノールまたは２，２，２−トリフルオロエタノール、好ましくは、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノールまたは２，２，２−トリフルオロエタノールが、１つのヒドロキシル基を有するアルコールとして使用される。

別の実施形態において、アルコールはジオールである。好ましくは、ジオールは、エタン−１，２−ジオール、プロパン−１，２−ジオール、プロパン−１，３−ジオール、ブタン−１，４−ジオール、ブタン−１，３−ジオール、ブタン−１，２−ジオール、ブタン−２，３−ジオール、２−メチル−プロパン−１，２−ジオール、２−メチルプロパン−１，３−ジオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、１，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、３−メチルペンタン−２，４−ジオールおよび２−（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサノール、ベンゼン−１，２−ジオールおよびシクロヘキサン−１，２−ジオールからなる群から選択される。２つのシクロヘキサン−１，２−ジオールから、好ましい立体異性体は、ｓｙｎ−シクロヘキサン−１，２−ジオール（＝シス−シクロヘキサン−１，２−ジオール）である。

２つのヒドロキシル基は、一実施形態において、２つの隣接する炭素原子に結合され、したがって、これらのジオールは、ビシナルジオールである。ビシナルジオールは、ケタールまたはアセタール中に５員環を形成する。

特に好適なのは、エタン−１，２−ジオール、プロパン−１，２−ジオール、ブタン−１，２−ジオール、ブタン−２，３−ジオール、２−メチルプロパン−１，２−ジオール、ベンゼン−１，２−ジオールおよびｓｙｎ−シクロヘキサン−１，２−ジオール、特に、エタン−１，２−ジオールからなる群から選択されるビシナルジオールである。

他の特に好適なものは、ヒドロキシル基が３つの炭素原子によって隔てられ、したがって、ケタールまたはアセタール中に非常に安定した６員環を形成するジオールである。このタイプの特に好適なジオールは、プロパン−１，３−ジオール、ブタン−１，３−ジオール、２−メチルプロパン−１，３−ジオール、２−メチルブタン−１，３−ジオール、２，２−ジメチル−プロパン−１，３−ジオール、１，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、３−メチルペンタン−２，４−ジオールおよび２−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサノールである。

好ましくは、第一級アルコールが、ジオールとして使用される。

一実施形態において、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物のアセタールまたはケタールは、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物と、アルコール、特に、モノールまたはジオール、好ましくは、ハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_８−アルキルアルコールからなる群から選択されるかまたはエタン−１，２−ジオール、プロパン−１，２−ジオール、プロパン−１，３−ジオール、ブタン−１，４−ジオール、ブタン−１，３−ジオール、ブタン−１，２−ジオール、ブタン−２，３−ジオール、２−メチルプロパン−１，２−ジオール、２−メチルプロパン−１，３−ジオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、１，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、３−メチルペンタン−２，４−ジオールおよび２−（ヒドロキシメチル）シクロヘキサノール、ベンゼン−１，２−ジオールおよびシクロヘキサン−１，２−ジオールからなる群から選択されるアルコールとの反応によって得られる。

アセタールまたはケタールの形成に使用される反応条件および化学量論量は、当業者に公知である。特に、アセタールまたはケタールは、酸の影響下で形成される。

式（Ｉ）または（ＩＩ）の好ましいケタールまたはアセタールは、式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）

のものである。

式（ＸＩ）および（ＸＩＩ）中の基および記号は、本明細書において式（Ｉ）および（ＩＩ）について上述されるのと同じ意味を有する。

Ｑ^１およびＱ^２が、個々にまたは両方とも、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基を表し；
または一緒に、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキレン基またはＣ_６〜Ｃ_８シクロアルキレン基を形成する。

Ｑ^１およびＱ^２が、特に、直鎖状Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基またはフッ素化直鎖状Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基、好ましくは、直鎖状Ｃ_１〜Ｃ_４アルキル基または−ＣＨ_２ＣＦ_３基
または式

（式中、Ｑ^３、Ｑ^４、Ｑ^５およびＱ^６が、互いに独立して、水素原子またはメチルもしくはエチル基である）
の基のいずれかを表す。

好ましくは、式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）のケタールまたはアセタールは、（Ｅ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３，７−ジエン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（Ｅ）−２，６−ジメチル−１０，１０−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−２，６−ジエン、（Ｅ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３−エン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（Ｅ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロ−エトキシ）ウンデカ−５−エン、（Ｅ）−２，５，５−トリメチル−２−（４，８，１２−トリメチルトリデカ−３−エン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（Ｒ，Ｅ）−２，５，５−トリメチル−２−（４，８，１２−トリメチルトリデカ−３−エン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５−エン、（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５−エン、（Ｚ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３，７−ジエン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（Ｚ）−２，６−ジメチル−１０，１０−ビス（２，２，２−トリ−フルオロエトキシ）ウンデカ−２，６−ジエン、（Ｚ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３−エン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（Ｚ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−５−エン、（Ｚ）−２，５，５−トリメチル−２−（４，８，１２−トリメチルトリデカ−３−エン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（Ｒ，Ｚ）−２，５，５−トリメチル−２−（４，８，１２−トリメチルトリデカ−３−エン−１−イル）−１，３−ジオキサン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｅ，７Ｅ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７，１１−トリエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（６Ｅ，１０Ｅ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｅ，７Ｅ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７−ジエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（５Ｅ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｚ，７Ｅ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７，１１−トリエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｅ，７Ｚ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７，１１−トリエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｚ，７Ｚ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７，１１−トリエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（６Ｚ，１０Ｅ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン、（６Ｅ，１０Ｚ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン、（６Ｚ，１０Ｚ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｚ，７Ｅ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７−ジエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｅ，７Ｚ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７−ジエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｚ，７Ｚ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７−ジエン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（５Ｚ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、（５Ｅ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、（５Ｚ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、（Ｅ）−２−（２，６−ジメチル−ヘプタ−１−エン−１−イル）−５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン、（Ｅ）−３，７−ジメチル−１，１−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタ−２−エン、（Ｅ）−３，７−ジメチル−１，１−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタ−２，６−ジエン、（Ｚ）−２−（２，６−ジメチルヘプタ−１−エン−１−イル）−５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン、（Ｚ）−３，７−ジメチル−１，１−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタ−２−エン、（Ｚ）−３，７−ジメチル−１，１−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタ−２，６−ジエン、２，６−ジメチル−８，８−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタ−２−エン、（Ｒ）−２，６−ジメチル−８，８−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタ−２−エン、２−（（１Ｚ，３Ｅ）−４，８−ジメチルノナ−１，３，７−トリエン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、２−（（１Ｅ，３Ｚ）−４，８−ジメチルノナ−１，３，７−トリエン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、２−（（１Ｚ，３Ｚ）−４，８−ジメチルノナ−１，３，７−トリエン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（６Ｚ，８Ｅ）−２，６−ジメチル−１０，１０−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−２，６，８−トリエン、（６Ｅ，８Ｚ）−２，６−ジメチル−１０，１０−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−２，６，８−トリエン、（６Ｚ，８Ｚ）−２，６−ジメチル−１０，１０−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−２，６，８−トリエン、（Ｚ）−２，５−ジメチル−２−（４，８，１２−トリメチルトリデカ−３−エン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（Ｒ，Ｚ）−２，５−ジメチル−２−（４，８，１２−トリメチルトリデカ−３−エン−１−イル）−１，３−ジオキサン、（Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５−エン、（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５−エンである。

［工程の順序］
本発明の方法は、順序の２つの主な可能性を有する。第１の実施形態において、本方法は、工程ａ１）およびｂ１）およびｃ１）：
ａ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物から、Ｅ−立体配置を有する異性体を分離する工程と；
ｂ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＺ−異性体を有する異性体を、シス／トランス異性化にかけ、異性化生成物を、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールの異性体の混合物に加える工程と；
ｃ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ−立体配置を有する分離された異性体を、^＊によって示される立体中心においてＳ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子による水素化にかける工程と
を含む。

第２の実施形態において、本方法は、工程ａ２）およびｂ２）およびｃ２）：
ａ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物から、Ｚ−立体配置を有する異性体を分離する工程と；
ｂ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ−立体配置を有する異性体を、シス／トランス異性化にかけ、異性化生成物を、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールの異性体の混合物に加える工程と；
ｃ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＺ−立体配置を有する分離された異性体を、^＊によって示される立体中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子による水素化にかける工程と
を含む。

［分離］
工程ａ１）およびａ２）において、Ｅ−立体配置を有するかまたはＺ−立体配置を有する異性体が、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物から分離される。

工程ａ１）およびａ２）における異性体のこの分離は、様々な方法で行われ得る。第１の可能性は、クロマトグラフィーによる分離である。

分離のさらなる好ましい方法は、工程ａ１）およびａ２）における異性体の分離が、蒸留によって行われることである。分離は、異性体が異なる沸点を有することによって可能である。異性体の熱分解を最小限に抑えるために、減圧下で、および蒸留塔によって蒸留するのが望ましい。

非常に多くの場合、異性体の沸点は、非常に類似しているが、それでもなお、特定の蒸留技術および装置を用いて、所望の異性体の分離または少なくとも富化が可能である。

混合物から分離される異性体の純度を最適化するために、蒸留は、他の異性体の不純物ができる限り少なくなるように、特定の蒸留技術を用いることによって行われる。これはまた、特に、所望の異性体のごく一部、すなわち、最も純粋な留分が、蒸留の際に収集される一方、残りが、蒸留フラスコ中に残され、および純度の低い留分が、さらに蒸留されるかまたは蒸留の残りの部分に加えられて行われる。

Ｅ−立体配置を有する異性体の分離ならびにＺ−立体配置を有する異性体の分離は、逐次分別蒸留によって、または好適な蒸留技術または装置を用いることによって、行われ得る。例えば、全内容が参照により本明細書に援用される欧州特許出願公開第２ ２６９ ９９８ Ａ２号明細書、特に、図１および３に開示されている技術および装置など、例えば、精留塔の側部引き抜き（ｓｉｄｅ ｔａｋｅ−ｏｆｆ）点および最終的には前記側部引き抜きにおいて収集された材料のさらなる精留を用いることによって。

分離される異性体は、できる限り純粋であるのが好ましく、できる限り少ない他の異性体を含有する。

式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物が、２つ以上のプロキラルな炭素−炭素二重結合を含有する場合、このような化合物は、同じ（「全てＺ」または「全てＥ」）Ｅ／Ｚ立体配置を有していてもよく、または異なるＥ／Ｚ立体配置（例えばＥＺまたはＺＥ）を有していてもよい。本発明の目的のために、全てのプロキラルな炭素−炭素二重結合においてＥ−立体配置を有する式（Ｉ）または（ＩＩ）のそれらの異性体のみおよび全てのプロキラルな炭素−炭素二重結合においてＺ−立体配置を有する式（Ｉ）または（ＩＩ）のそれらの異性体のみが、工程ｃ１）またはｃ２）において不斉水素化のために分離されるのが望ましい。同じ分子中に、プロキラルな炭素−炭素二重結合において異なるＥ／Ｚ立体配置を有する式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物が、工程ｂ１）またはｂ２）において、前記プロキラルな炭素−炭素二重結合のシス／トランス異性化の工程にかけられるのが好ましい。

［シス／トランス異性化］
工程ｂ１）およびｂ２）において、異性体は、シス／トランス異性化される。

シス／トランス異性化は、好ましくは、シス／トランス異性化触媒の存在下で行われる。

好ましい実施形態において、蒸留は、シス／トランス異性化触媒の存在下で行われる。

シス／トランス異性化触媒は、炭素炭素二重結合を異性化する触媒である。

本発明の目的のために、前記シス／トランス異性化触媒は、好ましくは、一酸化窒素（ＮＯ）または有機硫黄化合物、特に、ポリチオールであることが分かった。

シス／トランス異性化触媒として特に好適なのは、式（Ｘ）

（式中、ｎ１が、１〜４、特に、２の整数を表し、
ｍ１が、２〜８、特に、３または４、好ましくは、４の整数を表し；
Ａが、２８ｇ／ｍｏｌ〜４００ｇ／ｍｏｌ、特に、９０〜１５０ｇ／ｍｏｌの分子量の脂肪族ｍ１価炭化水素基を表す）
のポリチオールまたは芳香族ポリチオール、好ましくは、式（Ｘ）のポリチオールである。

ポリチオールペンタエリトリトールテトラ（メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（メルカプトアセテート）、グリコールジメルカプトアセテート、ペンタエリトリトールテトラ−（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリ−（３−メルカプトプロピオネート）（＝２−エチル−２−（（（３−メルカプトプロパノイル）オキシ）メチル）プロパン−１，３−ジイルビス（３−メルカプトプロパノエート））およびグリコールジ−（３−メルカプトプロピオネート）が、式（Ｘ）の非常に好ましいポリチオールであることが示され、全ての上記のポリチオールの好ましいポリチオールである。

芳香族ポリチオールとして特に好ましいのは、４，４’−ジメルカプトビフェニルまたは４，４’−チオジベンゼンチオールである。

シス／トランス異性化触媒としての式（Ｘ）のポリチオールの使用は、ポリチオールが、一般に、非常に低い蒸気圧（すなわち高い沸点）を有するため、例えば低沸点の異性体を蒸留しながら、高温で使用可能である点で、非常に有利である。さらに、ポリチオールは、分子量当たり高い密度のチオール官能基を担持し、これは、ごくわずかな触媒を加えるだけで済む点で非常に有利である。

シス／トランス異性化触媒としてのポリチオールの使用は、それらが非常に高速の異性化を可能にするため非常に有利である。

一酸化窒素（ＮＯ）は、気体であり、そのままでまたは気体混合物の形態で、特に、少なくとも１種の不活性ガス、特に、窒素と組み合わせて、異性化されるケトンまたはケタールに導入され得る。気体混合物が使用される場合、気体混合物中の一酸化窒素の量は、好ましくは、気体混合物の１〜９９重量％、特に、５〜９５重量％の範囲である。特に、腐食および毒性を考慮して、気体混合物中の一酸化窒素の量は、好ましくは、気体混合物の１０〜６０重量％の範囲である。

シス／トランス異性化触媒としての一酸化窒素の使用は、異性化触媒が、異性化されるケトンまたはケタールから非常に容易に除去され得る点で非常に有利である。

一酸化窒素は、好ましくは、大気圧または最高で１ＭＰａの過圧で、ケトンまたはケタールに導入される。過圧は、好ましくは、１０〜３００ｋＰａになる。

一酸化窒素（ＮＯ）または一酸化窒素（ＮＯ）と他の気体との混合物が、好ましくは、管によって連続して導入され、異性化されるケトンまたはケタールに通してバブリングされる。

シス／トランス異性化の使用により、シスおよびトランス異性体の熱力学的に平衡した混合物を得るための、純粋なシスまたはトランス異性体または異性体の任意の混合物の変換が可能になる。全体として、これにより、蒸留による所望の異性体の分離および好ましくない異性体（残留異性体）から所望の異性体への変換（異性化）が可能になる。

所望の異性体が、連続して改質され、蒸留によって分離され得るように、蒸留は、シス／トランス異性化触媒の存在下で行われ得る（ワンポット異性化またはインサイチュの異性化）。

さらに、シス／トランス異性化は、別個の容器中で行うことができ、この容器中で、シス／トランス異性化触媒が、蒸留の残りの部分に加えられる。したがって、残留異性体は、シス／トランス異性化触媒によって異性化され、その後、異性体の対応する出発混合物に加えられる。

工程ｂ１）またはｂ２）におけるシス／トランス異性化の使用は、所望の異性体の高い収率を可能にする。好ましい場合、本質的に全ての望ましくない異性体が、所望の異性体へと全体的に異性化されることが実現され得る。

好ましくは、特に、異性化触媒が一酸化窒素でない場合、より好ましくは、異性化触媒としてのポリチオールの場合、異性化は、２０℃より高い温度、特に、２０℃と所望の異性体の沸点との間の温度、特に５０℃と所望の異性体の沸点との間の温度で行われる。異性化は、周囲圧力または減圧で行われ得る。ワンポット異性化の場合、異性化は、好ましくは、減圧下で行われる。

特に、一酸化窒素がシス／トランス異性化触媒である場合、異性化は、周囲圧力または過圧で行われる。

ポリチオールによる異性化の際、アミド、ピロリドン、スルホン、スルホキシド、イオン性液体、特に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミド（ＤＭＦ）またはＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、スルホラン、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）および１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムブロミドなどの極性溶媒の添加が、異性化の促進効果を有することがさらに観察された。

したがって、シス／トランス異性化のプロセスが、極性溶媒、特に、イオン性液体、特に、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムブロミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、スルホランおよびジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）からなる群から選択される極性溶媒の存在下で行われるのが好ましい。

シス／トランス異性化のプロセスが、極性溶媒、特に、イオン性液体、特に、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムブロミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）およびジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）からなる群から選択される極性溶媒の存在下で行われるのがより好ましい。

シス／トランス異性化触媒の量は、好ましくは、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物の量に対して１〜２０重量％である。

［不斉水素化］
工程ｃ１）およびｃ２）において、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ−立体配置またはＺ−立体配置を有する分離された異性体は、式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子による水素化にかけられる。

プロキラルな炭素−炭素二重結合においてＥ−立体配置を有する式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物の異性体が、^＊によって示される立体中心においてＳ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子によって不斉水素化され、Ｒ−立体配置を有する立体炭素中心が、水素化された化合物中、すなわち、式（Ｉ−Ａ）または（Ｉ−Ｂ）の化合物中に形成される（工程ｃ１）ことが分かったことを認識することが重要である。

プロキラルな炭素−炭素二重結合においてＥ−立体配置を有する式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物の異性体が、^＊によって示される立体中心においてＳ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子によって、Ｒ−立体異性体、すなわち、式（Ｉ−Ａ）または（Ｉ−Ｂ）の化合物へと不斉水素化される（工程ｃ１）ことが分かったことを認識することが重要である。

プロキラルな炭素−炭素二重結合においてＺ−立体配置を有する式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物の異性体が、^＊によって示される立体中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子によって、Ｒ−立体異性体、すなわち、式（Ｉ−Ａ）または（Ｉ−Ｂ）の化合物へと不斉水素化される（工程ｃ２）ことがさらに分かった。

式（ＩＩＩ）の錯体は、中性であり、すなわち、この錯体は、上述されるように、複合的な式（ＩＩＩ’）のカチオンとアニオンＹからなる。

当業者は、アニオンおよびカチオンが解離され得ることを認識している。

Ｘ^１および／またはＸ^２が、好ましくは、水素原子、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル、イソ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソ−ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、アダマントリ、フェニル、ベンジル、ｏ−トリル、ｍ−トリル、ｐ−トリル、４−メトキシフェニル、４−トリフルオロメチルフェニル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、３，５−ジメトキシフェニル、１−ナフチル、ナフチル、２−フリル、フェロセニルまたは１〜５つのハロゲン原子で置換されるフェニル基を表す。

Ｘ^１および／またはＸ^２が、１〜５つのハロゲン原子で置換されるフェニル基を表す場合、フッ素原子で置換されるフェニル基、すなわち、Ｃ_６Ｈ_４Ｆ、Ｃ_６Ｈ_３Ｆ_２、Ｃ_６Ｈ_２Ｆ_３、Ｃ_６ＨＦ_４またはＣ_６Ｆ_５が特に有用である。

Ｘ^１および／またはＸ^２が、１〜３つのＣ_１〜４−アルキルで置換されるフェニル基を表す場合、メチル基で置換されるフェニル基、特に、オルト−トリルおよびパラ−トリルが特に有用である。

好ましくは、Ｘ^１およびＸ^２が両方とも、同じ置換基を表す。

最も好ましくは、Ｘ^１およびＸ^２が両方とも、フェニルまたはオルト−トリル基である。

上記のＲ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５ Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９およびＲ^１０の定義において使用されるＣ_１〜Ｃ_４−アルキルまたはアルコキシ基が、第一級または第二級、好ましくは、第一級、アルキルまたはアルコキシ基であるのが好ましい。

式（ＩＶａ）の特に好適な置換基Ｒ^１は、９−アントリルまたは１−ナフチル基である。

式（ＩＶｂ）のさらなる特に好適な置換基Ｒ^１は、メシチル基である。

式（ＩＶｃ）のさらなる特に好適な置換基Ｒ^１は、２−ナフチル基である。

好ましくは、Ｒ^１が、フェニル（「Ｐｈ」と略記される）または式（ＩＶ−１）もしくは（ＩＶ−２）もしくは（ＩＶ−３）、特に、（ＩＶ−１）もしくは（ＩＶ−３）によって表される。

最も好ましい置換基Ｒ^１が、９−アントリルまたはフェニルのいずれかであることが分かった。

式（ＩＩＩ）の好ましいキラルイリジウム錯体は、式（ＩＩＩ−Ａ）、（ＩＩＩ−Ｂ）、（ＩＩＩ−Ｃ）、（ＩＩＩ−Ｄ）、（ＩＩＩ−Ｅ）および（ＩＩＩ−Ｆ）の錯体である。

式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体として最も好ましいのは、式（ＩＩＩ−Ｃ）および（ＩＩＩ−Ｄ）および（ＩＩＩ−Ｆ）の錯体、特に、式（ＩＩＩ−Ｃ）または（ＩＩＩ−Ｆ）の錯体である。

式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体は、全内容が参照により本明細書に援用されるＣｈｅｍ．Ｓｃｉ．，２０１０，１，７２−７８に詳細に記載されているように、相応に合成され得る。

式（ＩＩＩ）のイリジウム錯体はキラルである。アスタリスクによって示される前記キラル中心におけるキラリティは、ＳまたはＲのいずれかであり、すなわち、式（ＩＩＩ）のキラル錯体の２つの鏡像異性体（ＩＩＩａ）および（ＩＩＩｂ）が存在する。

式（ＩＩＩ）の錯体の個々の鏡像異性体は、基本的に、ラセミ混合物からの錯体化工程の後に分離され得る。しかしながら、Ｃｈｅｍ．Ｓｃｉ．，２０１０，１，７２−７８に開示されているように、式（ＩＩＩ）の錯体の合成は、非ラセミ体（ｎｏｎ−ｒａｃｅｍｉｃ）キラルアルコールを必要とする反応を含む。さらなる反応工程が錯体のキラリティを変更しないことが知られているように、その異性体純度（Ｓ：Ｒ比）が、したがって、前記アルコールの鏡像異性体純度によって左右される。前記対応するアルコールが、９９％超または１％未満のＲ／Ｓ比で得られる際、式（ＩＩＩ）の錯体は、非常に高い鏡像異性体純度、特に、９９％超または１％未満のＲ／Ｓ比で得られる。

キラルイリジウム錯体は、好ましくは、過剰な１つの鏡像異性体中で使用される。

特に、式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の個々の鏡像異性体のモル量の比率Ｒ：Ｓが、９０超：１０または１０未満：９０、好ましくは、１００：０〜９８：２または０：１００〜２：９８の範囲であるのが好ましい。最も好ましいのは、この比率が、約１００：０または約０：１００であることである。最終的に好ましい比率は、１００：０または０：１００である。

一実施形態において、^＊によって示される立体中心は、Ｒ−立体配置を有する。

別の実施形態において、^＊によって示される立体中心は、Ｓ−立体配置を有する。

水素化剤は、水素分子（Ｈ_２）である。

キラルイリジウム錯体の量は、好ましくは、水素化の際、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールの量を基準にして、０．０００１〜５モル％、好ましくは、約０．００１〜約２モル％、より好ましくは、約０．００１〜約１モル％、最も好ましくは、０．００１〜０．１モル％の範囲の量で存在する。

水素化は、物質または不活性担体、特に、不活性溶媒、または不活性溶媒の混合物中で行われ得る。水素化は、好ましくは、物質（純粋）中で行われる。

好ましい好適な溶媒は、ハロゲン化炭化水素、炭化水素、カーボネート、エーテルおよびハロゲン化アルコールである。

特に好ましい溶媒は、炭化水素、フッ素化アルコールおよびハロゲン化炭化水素、特に、ハロゲン化脂肪族炭化水素である。

炭化水素の好ましい例は、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレンおよびベンゼン、特に、トルエンおよびヘプタンである。

好ましいエーテルは、ジアルキルエーテルである。特に有用なエーテルは、８つ未満の炭素原子を有するジアルクリエーテルである。最も好ましいエーテルは、メチルｔｅｒｔ．−ブチルエーテル（ＣＨ_３−Ｏ−Ｃ（ＣＨ_３）_３）である。

好ましいハロゲン化アルコールは、フッ素化アルコールである。特に好ましいフッ素化アルコールは、２，２，２−トリフルオロエタノールである。

ハロゲン化炭化水素の１つの好ましい基は、ハロゲン化芳香族化合物、特に、クロロベンゼンである。

ハロゲン化脂肪族炭化水素の好ましい例は、モノ−またはポリハロゲン化直鎖状または分枝鎖状または環状Ｃ_１〜Ｃ_１５−アルカンである。特に好ましい例は、モノ−またはポリ塩素化または臭素化直鎖状または分枝鎖状または環状Ｃ_１〜Ｃ_１５−アルカンである。より好ましいのは、モノ−またはポリ塩素化直鎖状または分枝鎖状または環状Ｃ_１〜Ｃ_１５−アルカンである。最も好ましいのは、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、クロロホルム、および臭化メチレンである。

水素化のための最も好ましい溶媒は、ジクロロメタンである。

使用される溶媒の量はそれほど重要でない。しかしながら、水素化されるケトンまたはケタールの濃度が、好ましくは、０．０５〜１Ｍ、特に、０．２〜０．７Ｍであることが示されている。

水素化反応は、好都合には、約１〜約１００バールの水素分子の絶対圧力で、好ましくは、約２０〜約７５バールの水素分子の絶対圧力で行われる。反応温度は、好都合には、約０〜約１００℃、好ましくは、約１０〜約６０℃である。

反応剤および溶媒の添加の順序は重要でない。

水素化に適した技術および装置は、基本的に、当業者に公知である。

不斉水素化によって、プロキラルな炭素−炭素二重結合が、炭素原子の一方または両方においてキラル立体中心を形成するように水素化される。

［水素化された化合物］
工程ｃ１）およびｃ２）における不斉水素化の結果として、式（Ｉ−Ａ）もしくは（Ｉ−Ｂ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールが形成される。

式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールの炭素−炭素二重結合がプロキラルである場合、立体中心が、工程ｃ１）およびｃ２）において形成される。この立体中心は、Ｒ−立体配置を有する。式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールの炭素−炭素二重結合がプロキラルでない場合、立体中心が、工程ｃ１）およびｃ２）において形成されていない。

式（Ｉ−Ａ）および（Ｉ−Ｂ）の好ましい化合物は、（Ｒ）−３，７−ジメチルオクタナール、（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オンおよび（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカン−２−オンである。

式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物が、ケタールまたはアセタールの形態で不斉水素化された場合、不斉水素化の後、不斉水素化されたケタールまたはアセタールは、好ましくは、式（ＸＶ）または（ＸＶＩ）または（ＸＶＩＩ）

で表され、式中、ＱおよびＱ^１およびＱ^２が、式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）について定義されるとおりである。

特に、式（ＸＶ）または（ＸＶＩ）または（ＸＶＩＩ）のケタールまたはアセタールは、式（ＸＶａ）、（Ｒ）−２−（４，８−ジメチルノニル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（Ｒ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカン、および（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカンからなる群から選択される。

式（ＸＶａ）中、ＱおよびＱ^１およびＱ^２が、式（ＸＩ）または（ＸＶ）について定義されるとおりである。

一実施形態において、式（ＸＩ）または（ＸＶ）のケタールまたはアセタールは、（Ｒ）−１，１−ジメトキシ−３，７−ジメチルオクタン、（Ｒ）−１，１−ジエトキシ−３，７−ジメチルオクタン、（Ｒ）−３，７−ジメチル−１，１−ジプロポキシオクタン、（Ｒ）−１，１−ジブトキシ−３，７−ジメチルオクタン、（Ｒ）−１，１−ジイソブトキシ−３，７−ジメチルオクタン、（Ｒ）−３，７−ジメチル−１，１−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタン、（Ｒ）−２−（２，６−ジメチルヘプチル）−１，３−ジオキソラン、２−（（Ｒ）−２，６−ジメチルヘプチル）−４−メチル−１，３−ジオキソラン、２−（（Ｒ）−２，６−ジメチル−ヘプチル）−４，５−ジメチル−１，３−ジオキソラン、２−（（Ｒ）−２，６−ジメチルヘプチル）ヘキサヒドロ−ベンゾ［ｄ］［１，３］ジオキソール、（Ｒ）−２−（２，６−ジメチルヘプチル）−１，３−ジオキサン、２−（（Ｒ）−２，６−ジメチルヘプチル）−５−メチル−１，３−ジオキサン、（Ｒ）−２−（２，６−ジメチルヘプチル）−５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン；（Ｒ）−２−（４，８−ジメチルノニル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（Ｒ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカンおよび（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカンからなる群から選択される。

さらなる実施形態において、式（ＸＩ）または（ＸＶ）のケタールまたはアセタールは、（Ｒ）−３，７−ジメチル−１，１−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）オクタン、（Ｒ）−２−（２，６−ジメチルヘプチル）−５，５−ジメチル−１，３−ジオキサン；（Ｒ）−２−（４，８−ジメチルノニル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン、（Ｒ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカンおよび（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカンからなる群から選択される。

キラルイリジウム錯体の存在下における水素分子による式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物、特に、式（ＩＩＩ）の化合物の不斉水素化が、既にかなり速く効率的であり、高い転化率ならびに優れた選択性を示す事実にもかかわらず、対応するケトンのケタールまたはアセタールが不斉水素化されるとき、不斉水素化が、さらに改善され得ることが観察された。

本発明の好ましい実施形態において、工程ｃ１）および／または工程ｃ２）における不斉水素化は、有機スルホン酸、有機スルホン酸の遷移金属塩、金属アルコキシド、アルミノオキサン、アルキルアルミノオキサンおよびＢ（Ｒ）_{（３−ｖ）}（ＯＺ）_ｖ；
（式中、ｖが、０、１、２または３を表し、
Ｒが、Ｆ、Ｃ_１〜６−アルキル、ハロゲン化Ｃ_１〜６−アルキル、アリールまたはハロゲン化アリール基を表し；
Ｚが、Ｃ_１〜６−アルキル、ハロゲン化Ｃ_１〜６−アルキル、アリールまたはハロゲン化アリール基を表す）
からなる群から選択される添加剤の存在下で行われる。

特に好適な添加剤は、トリフルオロメタンスルホン酸、アルキルアルミノオキサン、特に、メチルアルミノオキサン、エチルアルミノオキサン、テトラアルコキシチタネート、Ｂ（Ｒ）_{（３−ｖ）}（ＯＺ）_ｖ；特に、ホウ酸トリイソプロピルおよびトリエチルボランおよび好ましくは、ＢＦ_３エーテレートの形態のＢＦ_３からなる群から選択される。

有機スルホン酸の遷移金属塩として特に有用なのは、有機スルホン酸のスカンジウム塩、インジウム塩、イットリウム塩およびジルコニウム塩である。

金属アルコキシドは、当業者に公知である。この用語は、特に、周期律表の第４族および第１３族の元素のアルコキシドに関する。金属アルコキシドは、明確な構造を形成しないことが多いことも当業者に公知である。特徴的に、金属アルコキシドは、酸素原子によって金属中心に結合されたヒドロカルビル基を有する。金属アルコキシドは、酸素または例えば（多核）アルミニウムオキソアルコキシドなどの酸素含有基によって架橋される異なる金属中心も有し得る。

金属アルコキシドとして特に有用なのは、チタンアルコキシド（アルコキシチタネートとも呼ばれる）ジルコニウムアルコキシド（アルコキシジルコネートとも呼ばれる）またはアルミニウムアルコキシドである。

金属アルコキシドの特に好ましい種類は、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｄａｌｔｏｎ Ｔｒａｎｓ．，２００２，２５９−２６６またはＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ １９９３，１２，２４２９−２４３１に開示されているものなどの多核アルミニウムオキソアルコキシドのタイプのものである。

アルキルアルミノオキサンは、チーグラー・ナッタ型の、オレフィン重合のための共触媒として特に有用な公知の生成物である。アルキルアルミノオキサンは、トリアルキルアルミニウム化合物、特に、トリメチルアルミニウムまたはトリエチルアルミニウムの制御された加水分解によって調製される。加水分解は、例えば、水和金属塩（結晶水を含有する金属塩）によって行われ得る。

好ましくは、添加剤は、トリフルオロメタンスルホン酸、アルキルアルミノオキサン、特に、メチルアルミノオキサン、エチルアルミノオキサン、テトラアルコキシチタネート、Ｂ（Ｒ）_{（３−ｖ）}（ＯＺ）_ｖ；特に、ホウ酸トリイソプロピルおよびトリエチルボランおよび好ましくは、ＢＦ_３エーテレートの形態のＢＦ_３からなる群から選択される。

より好ましいのは、トリフルオロメタンスルホン酸、アルキルアルミノオキサン、特に、メチルアルミノオキサン、エチルアルミノオキサン、テトラアルコキシチタネート、Ｂ（Ｒ）_{（３−ｖ）}（ＯＺ）_ｖ；特に、ホウ酸トリイソプロピルおよびトリエチルボランである。

特に良好な結果が、トリメチルアルミノオキサンおよび２，２，２−トリフルオロエタノールから、またはトリアルキルアルミニウムおよび２，２，２−トリフルオロエタノールから得られた添加剤によって得られた。

キラルイリジウム錯体の存在下における水素分子を用いた不斉水素化の品質および速度が、上記の添加剤が使用されるとき、著しく向上されることが分かった。

最も著しくは、不斉水素化の効率が、上記の添加剤が、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物の対応するケタールまたはアセタールとともに使用されるとき、最大になることがさらに観察された。

向上した効率は、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物自体の対応する不斉水素化と比較して、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物のケタールまたはアセタールの使用および／または特に、フッ素化アルコール、特に、２，２，２−トルフルオロエタノールと組み合わせた上記の添加剤の添加によって、不斉水素化の際に所与の収率および立体特異的水素化を得るためのキラルイリジウム錯体の量が著しく減少され得るという効果を有する。

さらに、式（Ｉ）または（ＩＩ）の化合物のアセタールまたはケタールが、工程ｃ１）および／またはｃ２）において水素化された場合、水素化されたケタールまたはアセタールは、任意選択の工程ｅ）において、対応するケトンまたはアルデヒドへと、すなわち、式（Ｉ−Ａ）または（Ｉ−Ｂ）の化合物へと加水分解され得る。水素化されたケタールまたはアセタールから対応するケトンまたはアルデヒドへの加水分解および加水分解のための条件は、当業者に公知である。特に好適なのは、酸による加水分解および特に、抽出によるケトンまたはアルデヒドの単離である。

さらなる態様において、本発明は、式（ＸＸ−Ａ）

（式中、Ｑ^１およびＱ^２が、式（ＸＩ）および（ＸＩＩ）について詳細に上述されるとおりであり、点線（

）を有する二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表す）
のケタールに関する。

さらなる態様において、本発明は、式（ＸＸ−Ｂ）

（式中、Ｑ^１およびＱ^２が、式（ＸＩ）および（ＸＩＩ）について詳細に上述されるとおりであり、波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素−炭素二重結合を連結する炭素−炭素結合を表す）
のケタールに関する。

さらなる態様において、本発明は、式（ＸＸ−Ｃ）

（式中、Ｑ^１およびＱ^２が、式（ＸＩ）および（ＸＩＩ）について詳細に上述されるとおりであり、点線（

）を有する二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表し；
波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素単結合（

が、

を表す）または隣接する炭素−炭素二重結合（

が、

を表す）のいずれかに連結される炭素−炭素結合を表す）
のアセタールに関する。

さらなる態様において、本発明は、式（ＸＸＩ−Ａ）または（ＸＸＩ−Ｂ）または（ＸＸＩ−Ｃ）または（ＸＸＩ−Ｄ）

（式中、Ｑが、ＨまたはＣＨ_３を表し、ｍおよびｐが、互いに独立して、０〜３の値を表し、ただし、ｍおよびｐの合計が、０〜３であり、上式中の点線（

）を有する二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表し；
波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素単結合（

が、

を表す）または隣接する炭素−炭素二重結合（

が、

を表す）に連結される炭素−炭素結合を表す）
のアセタールに関する。

式（ＸＸ−Ａ）、（ＸＸ−Ｂ）、（ＸＸ−Ｃ）、（ＸＸＩ−Ａ）、（ＸＸＩ−Ｂ）、（ＸＸＩ−Ｃ）または（ＸＸＩ−Ｄ）の全てのこれらの化合物が、詳細に上述される式（Ｉ−Ａ）もしくは（Ｉ−Ｂ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールを製造する方法の非常に興味深い出発材料または生成物であることが示されている、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物のアセタールもしくはケタールまたは式（Ｉ−Ａ）もしくは（Ｉ−Ｂ）の化合物のアセタールもしくはケトンの部分群である。

さらなる態様において、本発明は、
− 式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）の少なくとも１つのケタールと、
− 式（ＩＩＩ）の少なくとも１つのキラルイリジウム錯体と
を含む組成物に関する。

式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）のケタールおよび式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体、それらの比率および同様にそれらの好ましい実施形態、特性および効果は、本明細書において既にかなり詳細に説明されている。

式（Ｉ−Ａ）、（Ｉ−Ｂ）の化合物ならびに特に、式（ＸＸ−Ａ）、（ＸＸ−Ｂ）、（ＸＸ−Ｃ）、（ＸＸＩ−Ａ）、（ＸＸＩ−Ｂ）、（ＸＸＩ−Ｃ）または（ＸＸＩ−Ｄ）の化合物ならびに式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）のケタールと、式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体とを含む組成物は、トコフェロール、ビタミンＫ１の合成のための、ならびに着香料および香料または医薬品の分野における組成物の合成のための中間体として使用されるのに興味深い。それらの大部分は、それらを、着香料および香水などの香料の業界の製品中の成分として使用されるのに非常に魅力的なものにもする典型的な香りを有する。

以下の段落において、本発明のある好ましい実施形態が、概略的な図１〜３によってさらに説明される。しかしながら、これは、本発明を、本明細書において図中で説明される実施形態に限定するものと理解されるべきではない。

図１〜３は、式（Ｉ）および（ＩＩ）の化合物の例としての６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンおよび６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンおよび６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンに関する本発明の方法の一実施形態を概略的に示す。 図１〜３は、式（Ｉ）および（ＩＩ）の化合物の例としての６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンおよび６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンおよび６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンに関する本発明の方法の一実施形態を概略的に示す。 図１〜３は、式（Ｉ）および（ＩＩ）の化合物の例としての６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンおよび６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンおよび６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンに関する本発明の方法の一実施形態を概略的に示す。 異性化実験の結果を示す。 異性化実験の結果を示す。 異性化実験の結果を示す。 異性化実験の結果を示す。 異性化実験の結果を示す。

（Ｒ−ＩＩ）などの、図中の括弧内の参照符号は、後述されるように、識別目的のために使用され、本明細書の残りの部分に使用される（ＩＩ）などの式の表示と混同されるべきではない。

図１ａ）およびｂ）において、６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンまたは６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンのＥ／Ｚ混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）からの、（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オン（Ｒ−ＩＩ）の合成のための方法が概略的に示される。

図１ａ）は、第１の経路を示す。Ｅ−異性体（Ｅ−Ｉ）（すなわち、それぞれ（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンまたは（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オン）が、工程ａ１）において、対応するＺ−異性体（Ｚ−Ｉ）（すなわち、それぞれ（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン、または（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オン）から分離され、Ｅ／Ｚ異性体の混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）から分離される。工程ａ１）における分離は、好ましくは、カラムにおける蒸留によって行われる。

Ｅ−異性体（Ｅ−Ｉ）は、工程ｃ１）において、式（ＩＩＩ）中の^＊によって示される立体中心においてＳ−立体配置を有する式（ＩＩＩａ）のキラルイリジウム錯体（Ｓ−Ｉｒ−錯体）の存在下で、水素分子を用いて不斉水素化される。Ｚ−異性体（Ｚ−Ｉ）は、工程ｂ１）において、シス／トランス異性化触媒（ｃ／ｔ−ｃａｔ）の添加および加熱によって、シス／トランス異性化にかけられる。使用されるのが好ましいシス／トランス異性化触媒は、ＮＯまたは特に、式（Ｘ）のポリチオールである。シス／トランス異性化触媒の作用によって、（Ｚ−異性体（Ｚ−Ｉ））は、Ｅ−異性体およびＺ−異性体の混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）へと異性化され、それが、工程β）において混合物に加えられ得る。

図１ｂ）は、第２の経路を示す。Ｚ−異性体（Ｚ−Ｉ）（すなわち、それぞれ（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンまたは（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オン）が、工程ａ２）において、対応するＥ−異性体（Ｅ−Ｉ）（すなわち、それぞれ（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン、または（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オン）から分離され、Ｅ／Ｚ異性体の混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）から分離される。工程ａ２）における分離は、好ましくは、カラムにおける蒸留によって行われる。

Ｚ−異性体（Ｚ−Ｉ）は、工程ｃ２）において、式（ＩＩＩ）中の^＊によって示される立体中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩａ）のキラルイリジウム錯体（Ｒ−Ｉｒ−錯体）の存在下で、水素分子を用いて不斉水素化される。Ｅ−異性体（Ｅ−Ｉ）は、工程ｂ２）において、シス／トランス異性化触媒（ｃ／ｔ−ｃａｔ）の添加および加熱によって、シス／トランス異性化にかけられる。使用されるのが好ましいシス／トランス異性化触媒は、ＮＯまたは特に、式（Ｘ）のポリチオールである。シス／トランス異性化触媒の作用によって、（Ｅ−異性体（Ｅ−Ｉ））は、Ｅ−異性体およびＺ−異性体の混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）へと異性化され、それが、工程β）において混合物に加えられ得る。

図１ｃ）において、（Ｚ）−異性体（Ｚ−Ｉ）は、工程ｃ２）において、図１ｂ）について上述されるように不斉水素化される。シス／トランス異性化触媒（ｃ／ｔ−ｃａｔ）が、Ｅ−異性体およびＺ−異性体の混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）に加えられる。工程ａ２）において、異性体（Ｚ−異性体（Ｚ−Ｉ））の分離は、（ワンポット異性化またはインサイチュ異性化）でシス／トランス異性化触媒の存在下で、蒸留によって行われる。Ｚ−異性体が蒸留によって分離されるにつれて、Ｅ−異性体を含む高沸点の異性体に富んだ残りの部分が、蒸留容器中で、Ｚ−およびＥ−異性体の間の熱力学的平衡が連続して形成されるように異性化される。この手順は、望ましくない異性体の全てが、最初にＺ−異性体へと転化される異性体混合物中に存在することを可能にし得る。このスキームは、Ｅ−異性体が、工程ａ１）において分離され、工程ｂ１）において異性化され、工程ｃ１）において水素化される異性体であろう場合に同様に適用されるであろう。

図２は、異なる例を概略的に示す。図２は、個々の物質がＣ５単位によって拡張されることを除いて、図１に相当する。同様に、（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンと（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オン（Ｅ／Ｚ−Ｒ−ＩＩＩ）との混合物（Ｅ／Ｚ−Ｒ−ＩＩＩ）の少なくとも１つの異性体が、工程ｂ１）またはｂ２）において分離され、工程ｂ１）またはｂ２）において（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカン−２−オン（Ｒ−ＩＶ）へと不斉水素化される。

図３）は、水素化プロセスの際のケタールまたはアセタールを用いた好ましい方法を概略的に示す。左側に、工程ｂ１）におけるワンポット異性化およびＥ／Ｚ異性体の混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）からのＥ−異性体（Ｅ−Ｉ）（すなわち、（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンまたは（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンの分離が示される。工程ａ１）における分離は、好ましくは、カラムにおける蒸留によって行われる。Ｅ−異性体（Ｅ−Ｉ）は、酸の存在下で、アルコール（図３中で、２，２，２−トリフルオロエタノールが示される）を用いることによって、対応するケタールへと、すなわち、Ｅ−異性体のケタール（Ｅ−ＩＫ）へと転化される。Ｅ−異性体のケタール（Ｅ−ＩＫ）は、工程ｃ１）において、式（ＩＩＩ）中の^＊によって示される立体中心においてＳ−立体配置を有する式（ＩＩＩａ）のキラルイリジウム錯体（Ｓ−Ｉｒ−錯体）の存在下で、水素分子を用いて不斉水素化される。（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オンのケタール（Ｒ−ＩＩＫ）は、工程ｅ）において、酸によって、（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オン（Ｒ−ＩＩ）へと加水分解される。

右側に、第２の変形形態が示される。Ｚ−異性体（Ｅ−Ｚ）（すなわち（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンまたは（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンが、工程ａ２）においてＥ／Ｚ異性体の混合物（Ｅ／Ｚ−Ｉ）から分離され、それは、好ましくは、カラムにおける蒸留によって行われる。蒸留（ａ２）の残りの部分は、工程ｂ２）においてワンポット異性化によって異性化される。次に、Ｚ−異性体（Ｚ−Ｉ）は、酸の存在下で、アルコール（図３中で、２，２，２−トリフルオロエタノールが示される）を用いることによって、対応するケタールへと、すなわち、Ｚ−異性体のケタール（Ｚ−ＩＫ））へと転化される。

Ｚ−異性体のケタール（Ｚ−ＩＫ）は、工程ｃ２）において、式（ＩＩＩ）中の^＊によって示される立体中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩａ）のキラルイリジウム錯体（Ｒ−Ｉｒ−錯体）の存在下で、水素分子を用いて不斉水素化される。（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オンのケタール（Ｒ−ＩＩＫ）は、工程ｅ）において、酸によって、（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オン（Ｒ−ＩＩ）へと加水分解される。

［実施例］
本発明が、以下の実験によってさらに例示される。

［分析方法］
［６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン（ＤＨＧＡ）、（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オン（ＴＨＧＡ）および（Ｒ）−６，１０，１４−トリメチル−ペンタデカ−５−エン−２−オン（Ｒ−ＴＨＦＡ）のＥ／Ｚ比および／または純度のＧＣ測定：］
アジレント（Ａｇｉｌｅｎｔ）６８５０、カラムＤＢ−５ＨＴ（３０ｍ、０．２５ｍｍの直径、０．１０μｍの膜厚）、１０７ｋＰａのヘリウムキャリアガス）。試料を、ヘキサン中の溶液として、３００：１の分割比、２００℃の注入器温度、３５０℃の検出器温度で注入した。オーブン温度プログラム：１００℃（８分間）、１０℃／分で２００℃まで（１分間）、２０℃／分で２２０℃まで（４分間）、実行時間２４分間。

［（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカン−２−オンの純度のＧＣ測定］
アジレント６８５０、カラムＤＢ−５ＨＴ（３０ｍ、０．２５ｍｍの直径、０．１０μｍの膜厚）、１１５ｋＰａのヘリウムキャリアガス）。試料を、ヘキサン中の溶液として、３００：１の分割比、２００℃の注入器温度、３５０℃の検出器温度で注入した。オーブン温度プログラム：１２０℃（５分間）、１４℃／分で２６０℃まで（２分間）、２０℃／分で２８０℃まで（４分間）、実行時間２２分間。

［（３ＲＳ，７Ｒ，１１Ｒ）−３，７，１１，１５−テトラメチルヘキサデカ−１−エン−３−オール（（Ｒ，Ｒ）−イソフィトール）の純度のＧＣ測定］
水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）を備えたアジレント６８５０機器。２５ｐｓｉの水素分子キャリアガスを含むアジレントＤＢ−５カラム（３０ｍ、０．３２ｍｍの直径、０．２５μｍの膜厚）。試料を、５０：１の分割比でアセトニトリル中の溶液として注入した。注入器温度：２５０℃、検出器温度：３５０℃。オーブン温度プログラム：１００℃、４℃／分で２５０℃まで。

［６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９，１３−トリエン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンおよびケタールのＥ／Ｚ比および／または純度のＧＣ測定：］
アジレント６８５０機器、カラムアジレントＤＢ−５（１２３−５０３２Ｅ、３０ｍ×０．３２ｍｍ、０．２５μｍの膜）、試料を、アセトニトリル中の溶液として、分割比５０：１、注入器２５０℃、検出器３５０℃で注入した。オーブン温度プログラム：１００℃、４℃／分で２５０℃まで、合計実行時間３７．５分間。

［不斉水素化された反応生成物の分析］
対応するジメチル、エチレングリコール、ネオペンチルおよびビス（トリフルオロエチル）ケタールを、酸水溶液の存在下でケトンへと加水分解し、ケトンについて、以下の方法を用いて、転化率およびそれらの立体異性体比率について分析した。

水素化反応の転化率を、アキラルカラム（ａｃｈｉｒａｌ ｃｏｌｕｍｎ）を用いたガスクロマトグラフィーによって測定した。

［転化方法：］
ＦＩＤを備えたアジレント７８９０Ａ ＧＣ。２５ｐｓｉの水素分子キャリアガスを含むアジレントＨＰ−５カラム（３０ｍ、０．３２ｍｍの直径、０．２５μｍの膜厚）。試料を、１０：１の分割比でジクロロメタン中の溶液として注入した。注入器温度：２５０℃、検出器温度：３００℃。オーブン温度プログラム：５０℃（２分間）、次に、１５℃／分で３００℃まで、５分間保持。

Ａ．Ｋｎｉｅｒｚｉｎｇｅｒ，Ｗ．Ｗａｌｔｈｅｒ，Ｂ．Ｗｅｂｅｒ，Ｒ．Ｋ．Ｍｕｅｌｌｅｒ，Ｔ．Ｎｅｔｓｃｈｅｒ，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ １９９０，７３，１０８７−１１０７に記載されるように、異性体比率の測定のために、水素化されたケトンは、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル［Ｓｉ（ＣＨ_３）_３（ＯＳＯ_２ＣＦ_３）］の存在下で、（＋）−ジイソプロピル−Ｏ，Ｏ’−ビス（トリメチルシリル）−Ｌ−タートレートまたは（−）−ジイソプロピル−Ｏ，Ｏ’−ビス（トリメチルシリル）−Ｄ−タートレートのいずれかと反応されて、ジアステレオマーケタールが形成され得る。ケタールは、異性体比率を測定するために、アキラルカラムを用いたガスクロマトグラフィーによって分析され得る。水素化されたケトン６，１０−ジメチルウンデカン−２−オンのために、Ｄ−（−）−またはＬ−（＋）−ジイソプロピルタートレートのいずれかが使用され得る。６，１０，１４−トリメチルペンタデカン−２−オンのために、Ｌ−（＋）−ジイソプロピルタートレートが、存在する（６Ｒ，１０Ｒ）−異性体の量を測定するのに使用され得る。Ｄ−（−）−ジイソプロピルタートレートが、（６Ｓ，１０Ｓ）−異性体の量を測定するのに使用され得る。したがって、立体選択的水素化の選択性が、間接的に測定され得る。

［異性体の測定方法：］
ＦＩＤを備えたアジレント６８９０Ｎ ＧＣ。１６ｐｓｉの水素分子キャリアガスを含むＦＡＭＥカラム（６０ｍ、０．２５ｍｍの直径、０．２０μｍの膜厚）用のアジレントＣＰ−Ｓｉｌ８８。試料を、５：１の分割比で酢酸エチル中の溶液として注入した。注入器温度：２５０℃、ＦＩＤ検出器温度：２５０℃。オーブン温度プログラム：１６５℃（等温、２４０分間）。

以下の実験において示されるＩｒ錯体は、Ｃｈｅｍ．Ｓｃｉ．，２０１０，１，７２−７８の開示にしたがって調製される。

［実験Ｅ１−１：６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンのＥ／Ｚ異性体混合物の分離（工程ａ１／ａ２）］
７．０２ｋｇの６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンを、独国特許第１ １９３ ４９０号明細書の実施例１０にしたがって調製し、上に示されるＧＣ方法によって分析したところ、（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンおよび（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンの５７％／４３％の混合物（９９％の純度）であった。

混合物を、流下膜式蒸発器を備えた蒸留器（ｓｔｉｌｌ）（体積：９リットル）、精留塔（７０ｍｍの内径、高さ５ｍ）からなる分離装置を用いて蒸留した。カラムは、非常に効率的な構造充填物（Ｓｕｌｚｅｒ）を備えていた。混合物を、約５ミリバールの塔頂圧および１０５〜１１２℃の範囲の塔頂温度および約１２５℃の蒸留器中の塔底温度で精留した。還流比を２０に調整した。

（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンを含有する留分（Ｚ−異性体の含量＝９９％、Ｅ−異性体＜１％）ならびに（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンを含有する留分（Ｅ−異性体の含量９７％、Ｚ−異性体＜３％）を収集した。最後に、（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン（Ｅ−異性体の含量＝９９．５％、Ｚ−異性体＝０．５％）が、蒸留器中に残ったことが分かった。

［実験Ｅ１−２：６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンの不斉水素化（工程ｃ１／ｃ２）］
異性体（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン（「Ｅ−ＤＨＧＡ」）（Ｅ／Ｚ＝９９．５／０．５）および（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン（「Ｚ−ＤＨＧＡ」）（Ｚ／Ｅ＝９９／１）の両方を、以下の方法で、不斉水素化し、互いに分離した。

２Ｌのオートクレーブに、７０ｇ（０．３５３ｍｏｌ）の特定の異性体、７００ｍＬの２，２，２−トリフルオロエタノールおよび無水ジクロロメタン（１０ｇ）中の前記式中の^＊によって示される中心において表１に示されるキラリティを有する式（ＩＩＩ−Ｆ）のキラルイリジウム錯体の溶液（５７０ｍｇ、０．３５６ｍｍｏｌ、０．１モル％）を充填した。オートクレーブを閉鎖し、５０バールの水素分子の圧力をかけた。反応混合物を、２時間にわたって撹拌しながら３０℃に加熱した。その後、圧力を解放し、溶媒を除去した。形成された生成物は、（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オンである。形成された異性体の転化率ならびに量が、上に示されるように測定され、結果が、表１に示される。

２つの別個の不斉水素化の生成物は、組み合わされていた。

［実験Ｅ１−３：６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンの異性化（工程ｂ１／ｂ２）］
さらなる実験において、６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンの異性体を、蒸留によって分離した。Ｅ−異性体（＝Ｅ−ＤＨＧＡ）を、９５．５％の（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンの含量（ＧＣによって測定される）を有するように単離し、Ｚ−異性体（＝Ｚ−ＤＨＧＡ）を、７２．０％の（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンの含量および２７．２％の（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オンの含量（ＧＣによって測定される、合計で９９．２％の異性体）を有する富化された留分中で単離した。

４，４’−チオジベンゼンチオール（３）を、異なる濃度（１重量％、３重量％および３重量％）で、Ｅ−ＤＨＧＡまたはＺ−ＤＨＧＡにそれぞれ加えた。次に、混合物をアルゴン下で撹拌し、１４０℃まで加熱し、異性化した。ＥおよびＺ異性体の量を、一定の加熱時間の後、定期的にＧＣによって測定した。

図４）は、この異性化実験の結果を示す。ｘ軸が、加熱時間、すなわち、１４０℃における異性化の時間を表し、ｙ軸が、試料において測定される異性体の合計におけるＥ−異性体（Ｅ／（Ｅ＋Ｚ））のパーセンテージを表す。例えば、８０％のＥ／（Ｅ＋Ｚ）値は、８０：２０のＥ／Ｚ比を表す。図４）は、ポリチオールの異なる濃度：１％（「３（１％）」）、３％（「３（３％）」）および５％（「３（５％）」）の影響を示す。異性化率は、使用される濃度に左右される。さらに、図４）は、６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンの平衡シス／トランス比が、約６５％のＥ／（Ｅ＋Ｚ）であることを示す。

［実験Ｅ２−１：（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−ペンタデカ−５−エン−２−オンのＥ／Ｚ異性体混合物の分離（工程ａ１／ａ２）］
（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンと、（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オン［１．９４ｋｇ、３６％の（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンおよび４９％の（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オン）との混合物を、流下膜式蒸発器を備えた蒸留器（体積：９リットル）、精留塔（７０ｍｍの内径、高さ５ｍ）からなる分離装置を用いて分別した。カラムは、非常に効率的な構造充填物（Ｓｕｌｚｅｒ）を備えていた。精留プロセスを、約２ミリバールの塔頂圧および９５〜１２２℃の範囲で変化する塔頂温度で運転し、蒸留器中の塔底温度は１６５℃であった。還流比を２０に調整した。蒸留物流の分別により、（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンを含有する留分（Ｚ−異性体の含量＝９７％）が得られた。最後に、（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンが、蒸留器中に残ったことが分かった（Ｅ−異性体の含量＝９４％）。両方の異性体を、分別によってさらに精製し、９９．５％の純度をそれぞれ有する両方のＥ−異性体およびＺ−異性体の留分を得た）

［実験Ｅ２−２：（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンおよび（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンの不斉水素化（工程ｃ１／ｃ２）］
両方の異性体（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オン（「Ｒ，Ｅ−ＴＨＦＡ」）（Ｅ／Ｚ＝９９．５／０．５、Ｒ／Ｓ＝９２／８）および（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オン（「Ｒ，Ｚ−ＴＨＦＡ」）（Ｚ／Ｅ＝９９．５／０．５、Ｒ／Ｓ＝９２／８）を、以下の方法で、不斉水素化し、互いに分離した。

１２５ｍＬのオートクレーブに、７．０ｇ（２６ｍｍｏｌ）の特定の異性体、５０ｍＬの２，２，２−トリフルオロエタノールおよび無水ジクロロメタン（４ｇ）中の前記式中の^＊によって示される中心において表２に示されるキラリティを有する式（ＩＩＩ−Ｆ）のキラルイリジウム錯体の溶液（４２ｍｇ、０．０２６ｍｍｏｌ、０．１モル％）を充填した。オートクレーブを閉鎖し、５０バールの水素分子の圧力をかけた。反応混合物を、１６時間にわたって撹拌しながら３０℃に加熱した。その後、圧力を解放し、溶媒を除去した。形成された生成物は、（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカン−２−オンである。形成された異性体の転化率ならびに量が、表２に示される。

２つの別個の不斉水素化の生成物は、組み合わされていた。

さらなる実験において、オートクレーブ中に、０．２５ｍｍｏｌの（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オン（「Ｒ，Ｅ−ＴＨＦＡ」）および１モル％の、式（ＩＩＩ−Ｄ）のＩｒ錯体および１．２５ｍｌの無水（乾燥）ジクロロメタンを入れた。オートクレーブを閉鎖し、５０バールの水素の圧力をかけた。撹拌しながら、反応溶液を、１４時間にわたって室温に保持した。その後、圧力を解放し、溶媒を除去した。転化率の測定のため、粗生成物を、さらに精製せずに、アキラルガスクロマトグラフィーによって分析した。異性体の量が、上記の方法を用いて測定されており、表２に示される。

［実験Ｅ２−３：（Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンの異性化（工程ｂ１／ｂ２）］
さらなる実験において、（Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンの異性体を、蒸留によって分離した。Ｅ−異性体を、９６．３％の（Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンの含量（ＧＣによって測定される）を有するように単離し、（Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンを、（ＧＣによって測定される８９．４％の純度で）０．１：８９．３のＥ／Ｚ比を有するように単離した。

５重量％のペンタエリトリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を、Ｅ−またはＺ−異性体に加えた後、表３に示される溶媒を加えた。次に、混合物を撹拌し、アルゴン下で９０℃まで加熱し、その条件下で、異性化を行った。個々の異性体の量を、一定の反応時間の後、定期的にＧＣによって測定した。

図５ａ）〜ｃ）は、これらの異性化実験の結果を示す。ｘ軸が、加熱時間、すなわち、９０℃における異性化の時間を表し、ｙ軸が、試料において測定される異性体の合計におけるＥ−異性体（Ｅ／（Ｅ＋Ｚ））のパーセンテージを表す。例えば、８０％のＥ／（Ｅ＋Ｚ）値は、８０：２０のＥ／Ｚ比を表す。図５ａ）は、異性化の率に対するＤＭＦの促進効果を示す。図５ｂ）は、異性化の率に対する１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムブロミド、イオン性液体の促進効果を示す。図５ｃ）は、異性化の率に対するＤＭＳＯの促進効果を示す。

図５ａ）〜ｃ）は、（Ｅ／Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンの平衡シス／トランス比が、約６０〜６３％のＥ／（Ｅ＋Ｚ）であることを示す。

［実験Ｅ３−１：６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンのＥＥ／ＺＺ／（ＥＺ＋ＺＥ）異性体混合物の分離（工程ａ１／ａ２）］
（５Ｅ，９Ｅ）−／（５Ｅ，９Ｚ）−／（５Ｚ，９Ｅ）−／と（５Ｚ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンとの混合物である６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンの試料を、分別蒸留によって、（５Ｚ，９Ｚ）−異性体（以下で「ＺＺ−異性体」またはＺＺ−ＤＨＦＡと表示される）の低沸点留分と、（５Ｅ，９Ｅ）異性体（以下で「ＥＥ−異性体」またはＥＥ−ＤＨＦＡと表示される）の高沸点留分と、（５Ｅ，９Ｚ）−および（５ＺＥ，９Ｅ）−異性体の両方（以下で「ＥＺ／ＺＥ−異性体」と表示される）を含有する中沸点留分とに分離した。

ＥＺ−およびＺＥ−異性体の中沸点混合物（以下で「ＥＺ／ＺＥ−異性体」と表示される）を、９３．３％の（５Ｅ，９Ｚ）−および（５Ｚ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンの合計、３．０％の（５Ｅ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンおよび１．０％の（５Ｚ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン（ＧＣによって測定される、合計で９７．３％の６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン異性体）の含量を有するように単離した。

［実験Ｅ３−２：６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンの（ＥＺ／ＺＥ）−異性体の異性化（ｂ１／ｂ２）］
５重量％のペンタエリトリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を、上記の実験Ｅ３−１のＥＺ／ＺＥ−異性体に加えた。次に、混合物を撹拌し、アルゴン下で９０℃まで加熱し、その条件下で、異性化を行った。個々の異性体の量を、一定の反応時間の後、定期的にＧＣによって測定した。

図６ａ）〜ｃ）は、この異性化実験の結果を示す。ｘ軸が、加熱時間、すなわち、９０℃における異性化の時間を表し、ｙ軸が、図６ａ）において、ＥＥ／（ＺＺ＋ＥＺ＋ＺＥ＋ＥＥ）の重量比を表す。ｙ軸が、図６ｂ）において、（ＥＺ＋ＺＥ）／（ＺＺ＋ＥＺ＋ＺＥ＋ＥＥ）の重量比を表す。ｙ軸が、図６ｃ）において、ＺＺ／（ＺＺ＋ＥＺ＋ＺＥ＋ＥＥ）の重量比を表す。図６ａ）〜ｃ）は、全ての異性体が異性化され、約１５％のＺＺ／（ＺＺ＋ＥＺ＋ＺＥ＋ＥＥ）、約５４％の（ＥＺ＋ＺＥ）／（ＺＺ＋ＥＺ＋ＺＥ＋ＥＥ）および約３１％のＥＥ／（ＺＺ＋ＥＺ＋ＺＥ＋ＥＥ）で、平衡に近づくことを示す。

［実験Ｅ３−３：（５Ｅ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタ−デカ−５，９−ジエン−２−オンおよび（５Ｚ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンの不斉水素化（ｃ１／ｃ２）］
上記の実験Ｅ３−１のＥＥ−異性体およびＺＺ−異性体の両方の留分を、以下の方法で、不斉水素化し、互いに分離した。０．２５ｍｍｏｌの、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オンの対応する異性体（ＥＥ−異性体またはＺＺ−異性体）、１モル％の、表２に示される式のＩｒ錯体および１．２５ｍｌの無水（乾燥）ジクロロメタン（ＤＣＭ）または２，２，２−トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）をそれぞれ、オートクレーブに入れた。オートクレーブを閉鎖し、５０バールの水素の圧力をかけた。反応溶液を室温で１２〜１８時間撹拌した。その後、圧力を解放し、溶媒を除去した。転化率の測定のため、粗生成物を、さらに精製せずに、アキラルガスクロマトグラフィーによって分析した。異性体の量が、上記の方法を用いて測定されており、実施例７〜１１として表４に示される。

［実験Ｅ４：ケタールの調製］
［ａ）ジメチルケタールの調製］
表５ａまたは５ｂに示される対応するケトンを、オルトギ酸トリメチル（５０．８ｍＬ、４９．２ｇ、４５１ｍｍｏｌ、２．６５当量）に加え、５℃に冷却した。ＭｅＯＨ（１６ｍＬ）中の硫酸（９６％、３２．３ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ、０．２モル％）を、５分以内で加えた。その後、反応物を、３時間にわたって加熱還流させた（６５℃ ＩＴ）。冷却後、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）分析により、完全な転化が示された。ＮａＯＭｅ（０．２４ｍＬの、ＭｅＯＨ中２５％の溶液）を加えて、酸を中和した。混合物を減圧下で濃縮し、その後、ヘキサン（５０ｍＬ）で希釈した。生じた沈殿物をろ過して取り除き、ろ液を濃縮した。粗生成物を、蒸留によって精製したところ、所望のジメチルケタールが得られた。ケタールの特性評価が、以後、詳細に示される。

［特性評価データ：］
［（Ｅ）−１０，１０−ジメトキシ−２，６−ジメチルウンデカ−２，６−ジエン（Ｅ−ＧＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １．２６（ｓ，３Ｈ）、１．５８（ｓ，３Ｈ）、１．６０（ｓ，３Ｈ）、１．６０〜１．６５（ｍ，２Ｈ）による重複、１．６６（ｂｒ ｓ，３Ｈ）、１．９２〜２．０９（ｍ，６Ｈ）、３．１７（ｓ，６Ｈ）、５．０２〜５．１４（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １５．９（１Ｃ）、１７．６（１Ｃ）、２０．８（１Ｃ）、２２．８（１Ｃ）、２５．６（１Ｃ）、２６．６（１Ｃ）、３６．４（１Ｃ）、３９．６（１Ｃ）、４７．９（２Ｃ）、１０１．４（１Ｃ）、１２３．８（１Ｃ）、１２４．２（１Ｃ）、１３１．２（１Ｃ）、１３５．１（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：２４０（Ｍ^＋、＜１）、２２５．３［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１］、２０９．３［（Ｍ−ＣＨ_３Ｏ）^＋、２０］、１９３．３（８）、１７６．２（１８）、１６１．２（１６）、１３９．２（２０）、１２３．２（１４）、１０７．２（７５）、８９．２（１００）、６９．２（６５）、４１．１（５６）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９２８（ｍ）、２８５７（ｗ）、２８２８（ｗ）、１６７０（ｗ）、１４５２（ｍ）、１３７６（ｓ）、１３４５（ｗ）、１３０２（ｗ）、１２６２（ｗ）、１２２２（ｗ）、１１９６（ｍ）、１１７２（ｍ）、１１２３（ｓ）、１１０２（ｓ）、１０５３（ｓ）、９８５（ｗ）、９２９（ｗ）、８５４（ｓ）、７４４（ｗ）、６１９（ｗ）。

［（Ｚ）１０，１０−ジメトキシ−２，６−ジメチルウンデカ−２，６−ジエン（Ｚ−ＧＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ １．２７（ｓ，３Ｈ）、１．５６〜１．６５（ｍ，５Ｈ）、１．６８（ｂｒ．ｓ，６Ｈ）、１．９６〜２．０９（ｍ，６Ｈ）、３．１７（ｓ，６Ｈ）、５．１１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ、２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １７．６（１Ｃ）、２０．９（１Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２３．３（１Ｃ）、２５．７（１Ｃ）、２６．６（１Ｃ）、３１．９（１Ｃ）、３６．７（１Ｃ）、４８．０（２Ｃ）、１０１．４（１Ｃ）、１２４．２（１Ｃ）、１２４．６（１Ｃ）、１３１．５（１Ｃ）、１３５．４（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：カラムにおける分解のため、ＧＣ−ＭＳが得られなかった。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９４３（ｍ）、２８５８（ｗ）、２８２８（ｗ）、１４５１（ｍ）、１３７６（ｍ）、１３４８（ｗ）、１３０１（ｗ）、１２６１（ｗ）、１１９７（ｍ）、１１７２（ｍ）、１１５３（ｗ）、１１２０（ｓ）、１０９８（ｍ）、１０５３（ｓ）、９２９（ｗ）、８５４（ｍ）、８３３（ｍ）、７４５（ｗ）、６２２（ｗ）。

［（Ｅ）−２，２−ジメトキシ−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン（Ｅ−ＤＨＧＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８３（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、１．０２〜１．１３（ｍ，２Ｈ）、１．２４（ｓ，３Ｈ）、１．２７〜１．３９（ｍ，２Ｈ）、１．４９（ｔｑｑ，Ｊ＝６．４、６．４、６，４Ｈｚ、１Ｈ）、１．５３〜１．６３（ｍ，２Ｈ）による重複、１．５６（ｓ，３Ｈ）による重複、１．８７〜２．０３（ｍ，４Ｈ）、３．１３（ｓ，６Ｈ）、５．０７（ｔｑ，Ｊ＝７．０、１．４Ｈｚ、１Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １６．１（１Ｃ）、２１．２（１Ｃ）、２３．０（２Ｃ）、２３．２（１Ｃ）、２６．０（１Ｃ）、２８．２（１Ｃ）、３６．９（１Ｃ）、３９．０（１Ｃ）、４０．２（１Ｃ）、４８．３（２Ｃ）、１０１．８（１Ｃ）、１２４．０（１Ｃ）、１３５．９（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：カラムにおける分解のため、ＧＣ−ＭＳが得られなかった。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｓ）、２９３１（ｓ）、２８７０（ｍ）、２８２８（ｍ）、２１０８（ｗ）、１６６８（ｗ）、１４６０（ｍ）、１３７７（ｓ）、１３６７（ｍ）、１３４５（ｗ）、１３０１（ｗ）、１２６２（ｍ）、１２２１（ｍ）、１１９８（ｍ）、１１７２（ｓ）、１１１９（ｓ）、１１００（ｓ）、１０７７（ｓ）、１０５３（ｓ）、９６７（ｗ）、９２７（ｗ）、８５４（ｗ）、７９６（ｗ）、７３９（ｗ）、６２０（ｗ）。

［（Ｚ）−２，２−ジメトキシ−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン（Ｚ−ＤＨＧＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、１．１２〜１．２１（ｍ，２Ｈ）、１．２８（ｓ，３Ｈ）、１．３２〜１．４３（ｍ，２Ｈ）、１．５３（ｄｓｐｔ，Ｊ＝６．６、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．５７〜１．６６（ｍ，２Ｈ）、１．６８（ｑ，Ｊ＝１．１Ｈｚ、３Ｈ）、１．９４〜２．０６（ｍ，４Ｈ）、３．１８（ｓ，６Ｈ）、５．１０（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ、１Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ２０．９（１Ｃ）、２２．６（２Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２３．３（１Ｃ）、２５．８（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、３１．９（１Ｃ）、３６．８（１Ｃ）、３８．９（１Ｃ）、４８．０（２Ｃ）、１０１．５（１Ｃ）、１２４．３（１Ｃ）、１３５．９（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：カラムにおける分解のため、ＧＣ−ＭＳが得られなかった。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｓ）、２８７０（ｗ）、２８２８（ｗ）、１４６１（ｗ）、１３７６（ｍ）、１３０１（ｗ）、１２６１（ｗ）、１２０５（ｍ）、１１７２（ｍ）、１１１９（ｍ）、１０９７（ｍ）、１０７４（ｍ）、１０５３（ｓ）、１０２２（ｗ）、９２７（ｗ）、８５４（ｍ）、７３８（ｗ）、６２１（ｗ）。

［（５Ｅ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−ペンタデカ−５，９，１３−トリエン−２−オン（ＥＥ−ＦＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ−ＮＭＲ（３００．１ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ＝１．２８（ｓ，２−ＣＨ_３）、１．５６〜１．７０（ｍ，４ＣＨ_３＋ＣＨ_２）、１．９２〜２．１２（ｍ，１０Ｈ）、３．１８（ｓ，２ＯＣＨ_３）、５．０５〜５．１７（ｍ，３Ｈ_{ｏｌｅｆｉｎ}）。
^１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ＝１６．０（２Ｃ）、１７．７、２０．９、２２．８、２５．７、２６．６、２６．８、３６．５、３９．６７、３９．７２、４８．０（２ＯＣＨ_３）、１０１．５（Ｃ−２）、１２３．８および１２４．２および１２４．４（３Ｃ_{ｏｌｅｆｉｎ}）、１３１．３および１３５．０および１３５．３（３Ｃ_{ｏｌｅｆｉｎ}）。
ＩＲ（ＡＴＲ、ｃｍ^−１）：２９２４ｓ、２８５６ｗ、２８２８ｗ、１６６８ｍ、１４５０ｓ、１３７６ｓ、１３４６ｗ、１３０２ｍ、１２６１ｍ、１２２２ｍ、１１９６ｍ、１１７２ｍ、１１５３ｗ、１１２３ｓ、１０５３ｓ、９８５ｗ、９２９ｗ、８５４ｓ、７４４ｍ、６２０ｗ
ＭＳ（ｍ／ｚ）：３０８（Ｍ^＋、０．１％）、２９３［（Ｍ−１５）^＋、０．２］、２７６［（Ｍ−ＣＨ_３ＯＨ）^＋、６］、２４４［（Ｍ−２ＣＨ_３ＯＨ）^＋、４］、２０７［（Ｍ−ＣＨ_３ＯＨ−Ｃ_５Ｈ_９）^＋、１１］、１７５［（Ｍ−２ＣＨ_３ＯＨ−Ｃ_５Ｈ_９）^＋、１９］、１０７［（Ｍ−２ＣＨ_３ＯＨ−２Ｃ_５Ｈ_９＋Ｈ）^＋、７１］、６９（Ｃ_５Ｈ_９ ^＋、１００）。

［（５Ｅ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン（ＥＥ−ＤＨＦＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、１．０６〜１．１７（ｍ，２Ｈ）、１．２８（ｓ，３Ｈ）、１．３１〜１．４２（ｍ，２Ｈ）、１．５３（ｔｑｑ，Ｊ＝６．６、６．６、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．５８（ｓ，３Ｈ）による重複、１．５８〜１．６５（ｍ，２Ｈ）による重複、１．６２（ｓ，３Ｈ）による重複、１．９０〜２．１１（ｍ，８Ｈ）、３．１８（ｓ，６Ｈ）、５．０６〜５．１５（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １６．３（１Ｃ）、１６．４（１Ｃ）、２１．３（１Ｃ）、２３．０（２Ｃ）、２３．３（１Ｃ）、２６．２（１Ｃ）、２７．０（１Ｃ）、２８．３（１Ｃ）、３６．９（１Ｃ）、３９．０（１Ｃ）、４０．１（１Ｃ）、４０．３（１Ｃ）、４８．４（２Ｃ）、１０１．９（１Ｃ）、１２４．２５（１Ｃ）、１２４．３１（１Ｃ）、１３５．６６（１Ｃ）、１３５．７１（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：カラムにおける分解のため、ＧＣ−ＭＳが得られなかった。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｍ）、２９３０（ｍ）、２８７０（ｍ）、２８２８（ｗ）、１６６８（ｗ）、１４５７（ｍ）、１３７７（ｍ）、１３４５（ｗ）、１３０２（ｗ）、１２６２（ｍ）、１２２２（ｍ）、１１９６（ｍ）、１１７２（ｍ）１１２３（ｓ）、１０５４（ｓ）、９２９（ｗ）、８５４（ｓ）、７３９（ｗ）、６２０（ｗ）。

［（５Ｚ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン（ＺＺ−ＤＨＦＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、１．１１〜１．２１（ｍ，２Ｈ）、１．２８（ｓ，３Ｈ）、１．３０〜１．４３（ｍ，２Ｈ）、１．５４（ｑｑ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．５７〜１．６６（ｍ，２Ｈ）による重複、１．６７（ｂｒ ｓ，３Ｈ）、１．６９（ｑ，Ｊ＝１．３Ｈｚ、３Ｈ）、１．９４〜２．１０（ｍ，８Ｈ）、３．１８（ｓ，６Ｈ）、５．１２（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ、２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ２０．９（１Ｃ）、２２．３（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２３．３９（１Ｃ）、２３．４０（１Ｃ）、２５．８（１Ｃ）、２６．３（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、３１．９（１Ｃ）、３２．２（１Ｃ）、３６．７（１Ｃ）、３８．９（１Ｃ）、４８．０（２Ｃ）、１０１．４（１Ｃ）、１２４．６（１Ｃ）、１２４．７（１Ｃ）、１３５．４（１Ｃ）、１３５．８（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：カラムにおける分解のため、ＧＣ−ＭＳが得られなかった。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｍ）、２８７０（ｍ）、２８２８（ｗ）、１４５４（ｍ）、１３７（ｍ）、１３０２（ｗ）、１２６１（ｍ）、１２０１（ｍ）、１１７２（ｍ）、１１５２（ｍ）、１０９８（ｍ）、１０５４（ｓ）、８５４（ｓ）、７４９（ｗ）、６２２（ｗ）。

［ｂ）エチレングリコールケタールの調製］
窒素下で、反応容器に、グリコール（１１２ｍＬ、１２５ｇ、２．１ｍｏｌ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（０．１５０ｇ、０．５７７４ｍｍｏｌ）および０．５ｍｏｌの、（Ｅ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンまたは（Ｚ）−６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オンのいずれかを充填した。混合物を、減圧（０．３９ミリバール）下で５時間にわたって周囲温度で撹拌させた。低圧を保ちながら、温度をゆっくりと４０℃まで上昇させた。９５％を超えるケトンの転化率で、温度をさらに上昇させて、グリコールの穏やかな蒸留を可能にし、９９％を超える転化率が得られるまで続けた。

室温で、生成物を、ヘプタン中のトリエチルアミンの溶液（ヘプタンの１Ｌ当たり２ｍＬのトリエチルアミン）によって抽出した。グリコール相を分離し、ヘプタン層を水中のＮａＨＣＯ_３溶液で洗浄した。ヘプタン相の分離、無水Ｎａ_２ＳＯ_４上での乾燥、ろ過および減圧下での溶媒の除去により、粗製ケタールが得られた。ケタールを、蒸留によってさらに精製した。対応するケタールを、^１Ｈ−ＮＭＲによって特定した。

［特性評価データ：］
［（Ｅ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３−エン−１−イル）−２−メチル−１，３−ジオキソラン（Ｅ−ＤＨＧＡ−ｅｎ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ ５．１２（ｔ，１Ｈ）、３．９５（ｍ，４Ｈ）、２，２〜２（ｍ，２Ｈ）、１．９４（ｔ，２Ｈ）、１．８〜１．３（ｍ，１１Ｈ）、１．２〜１．０（ｍ，２Ｈ）、０．８７（ｄ，６Ｈ）ｐｐｍ。

［（Ｚ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３−エン−１−イル）−２−メチル−１，３−ジオキソラン（Ｚ−ＤＨＧＡ−ｅｎ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ ５．１２（ｔ，１Ｈ）、３．９４（ｍ，４Ｈ）、２．１５〜１．９（ｍ，４Ｈ）、１．７〜１．４５（ｍ，６Ｈ）、１．４４〜１．２７（ｍ，５Ｈ）、１．２３〜１．０８（ｍ，２Ｈ）、０．８８（ｄ，６Ｈ）ｐｐｍ。

［ｃ）ネオペンチルグリコールケタールの調製］
表５ｄまたは５ｅに示されるケトン（９０．７ｍｍｏｌ）、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール、３２．４ｇ、２８３ｍｍｏｌ、３．４当量）およびｐ−トルエンスルホン酸一水和物（６０ｍｇ、０．３１ｍｍｏｌ、０．３モル％）を、トルエン（３００ｍＬ）中で懸濁させた。反応物を９０℃に加熱すると、均一な溶液が形成された。その後、トルエンをゆっくりと留去する（４時間にわたって約１００ｍＬ）ために、７５℃で、減圧を注意深くかけた（まず、６３ミリバール、次に、２４ミリバール）。４時間後、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）分析により、ケトンの完全な転化が示された。反応物を室温に冷まし、ヘプタン（３００ｍＬ）で希釈すると、過剰なネオペンチルグリコールが沈殿した。沈殿物をろ過して取り除いた（１７．４ｇ湿潤）。ろ液をＥｔ_３Ｎ（１ｍＬ）で処理し、その後、ＮａＨＣＯ_３水溶液（２．４％ ｗ／ｗ、２×３００ｍＬ）で洗浄し、ＭｇＳＯ_４上で乾燥させ、減圧下で濃縮した。粗生成物を蒸留によって精製したところ、所望のネオペンチルケタールが得られた。ケタールの特性評価が、以後、詳細に示される。

［特性評価データ：］
［（Ｅ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３，７−ジエン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン（Ｅ−ＧＡ−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．９２（ｓ，３Ｈ）、０．９９（ｓ，３Ｈ）、１．３７（ｓ，３Ｈ）、１．５９（ｓ，３Ｈ）、１．６１（ｓ，３Ｈ）、１．６７（ｓ，３Ｈ）、１．６８〜１．７５（ｍ，２Ｈ）、１．９４〜２．１５（ｍ，６Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４６、δ_Β＝３．５２、Ｊ_ＡＢ＝１１．３Ｈｚ、４Ｈ）、５．０５〜５．１７（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １５．９（１Ｃ）、１７．６（１Ｃ）、２０．８（１Ｃ）、２２．０（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２５．６（１Ｃ）、２６．７（１Ｃ）、２９．９（１Ｃ）、３７．３（１Ｃ）、３９．６（１Ｃ）、７０．３（２Ｃ）、９８．８（１Ｃ）、１２４．１（１Ｃ）、１２４．３（１Ｃ）、１３１．２（１Ｃ）、１３５．１（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：２８０（Μ^＋、３）、２６５［（Μ−ＣＨ_３）^＋、１４］、１７６（２１）、１２９［（Ｃ_７Ｈ_１３Ｏ_２）^＋、１００］、６９（６３）、４３（４３）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５４（ｍ）、２９２５（ｍ）、２８５８（ｍ）、２７３１（ｗ）、１７２０（ｗ）、１６６９（ｗ）、１４７３（ｗ）、１４５０（ｍ）、１３９４（ｍ）、１３７２（ｍ）、１３４９（ｗ）、１３０６（ｗ）、１２７１（ｗ）、１２４９（ｍ）、１２１１（ｍ）、１１８６（ｍ）、１１２３（ｓ）、１０８８（ｓ）、１０４３（ｍ）、１０２１（ｍ）、９８４（ｗ）、９５０（ｗ）、９２５（ｗ）、９０７（ｗ）、８６２（ｍ）、８３７（ｗ）、７９２（ｗ）、７４２（ｗ）、６７７（ｗ）、６６７（ｗ）。

［（Ｚ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３，７−ジエン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン（Ｚ−ＧＡ−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．９１（ｓ，３Ｈ）、０．９７（ｓ，３Ｈ）、１．３５（ｓ，３Ｈ）、１．６０（ｓ，３Ｈ）、１．６４〜１．７４（ｍ，５Ｈ）、１．６７（ｂｒ ｓ，３Ｈ）による重複、１．９９〜２．１８（ｍ，６Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４４、δ_Β＝３．５１、Ｊ_ＡＢ＝１１．３Ｈｚ、４Ｈ）、５．０７〜５．１６（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １７．５（１Ｃ）、２０．９（１Ｃ）、２１．３（１Ｃ）、２１．９（１Ｃ）、２２．５（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２３．３（１Ｃ）、２５．７（１Ｃ）、２６．６（１Ｃ）、２９．９（１Ｃ）、３１．８（１Ｃ）、３７．５（１Ｃ）、７０．３（１Ｃ）、９８．７（１Ｃ）、１２４．３（１Ｃ）、１２４．９（１Ｃ）、１３１．４（１Ｃ）、１３５．２（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：２８０（Ｍ^＋、３）、２６５［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１３］、１７６（１９）、１２９［（Ｃ_７Ｈ_１３Ｏ_２）^＋、１００］、１０７（１５）、６９（６２）、４３（３９）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５４（ｍ）、２９２７（ｍ）、２８５８（ｍ）、２７２９（ｗ）、１７２１（ｗ）、１６７１（ｗ）、１４７３（ｍ）、１４５０（ｍ）、１３９４（ｍ）、１３７４（ｍ）、１３４９（ｗ）、１３１５（ｗ）、１２７１（ｍ）、１２４９（ｍ）、１２１１（ｍ）、１１８７（ｍ）、１１４９（ｗ）、１１２０（ｓ）、１０８６（ｓ）、１０４３（ｍ）、１０２１（ｍ）、９８５（ｗ）、９５１（ｍ）、９２５（ｗ）、９０７（ｍ）、８５７（ｍ）、８３３（ｍ）、７９２（ｗ）、７４３（ｗ）、６７７（ｗ）、６６７（ｗ）。

［（Ｅ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３−エン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン（Ｅ−ＤＨＧＡ−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、０．９３（ｓ，３Ｈ）、１．００（ｓ，３Ｈ）、１．０６〜１．２２（ｍ，２Ｈ）、１．３１〜１．４３（ｍ，２Ｈ）、１．３８（ｓ，３Ｈ）による重複、１．５３（ｔｑｑ，Ｊ＝６．６、６．６、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．６１（ｂｒ ｓ，３Ｈ）、１．６５〜１．７７（ｍ，２Ｈ）、１．９４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ、２Ｈ）、２．０５〜２．１７（ｍ，２Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４６、δ_Β＝３．５４、Ｊ_ＡＢ＝１１．４Ｈｚ、４Ｈ）、５．１３（ｔｑ，Ｊ＝７．１、１．１Ｈｚ、１Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １５．８（１Ｃ）、２０．９（１Ｃ）、２２．０（１Ｃ）、２２．５９（１Ｃ）、２２．６３（２Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２５．７（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、２９．９（１Ｃ）、３７．３（１Ｃ）、３８．６（１Ｃ）、３９．９（１Ｃ）、７０．３（２Ｃ）、９８．８（１Ｃ）、１２３．８（１Ｃ）、１３５．６（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：２８２（Ｍ^＋、５）、２６７［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１０）、１２９（１００）、９５（１４）、６９（３６）、４３（３２）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｓ）、２９２９（ｍ）、２８６８（ｍ）、１７２０（ｗ）、１４６８（ｍ）、１３９４（ｍ）、１３８１（ｍ）、１３６８（ｍ）、１３４９（ｗ）、１３０６（ｗ）、１２７０（ｗ）、１２５０（ｍ）、１２１１（ｍ）、１１８７（ｗ）、１１１８（ｓ）、１０８７（ｓ）、１０６６（ｍ）、１０４４（ｍ）、１０２２（ｍ）、９５０（ｍ）、９２５（ｗ）、９０７（ｍ）、８６２（ｍ）、７９１（ｗ）、７３９（ｗ）、６７７（ｗ）、６６６（ｗ）。

［（Ｚ）−２−（４，８−ジメチルノナ−３−エン−１−イル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン（Ｚ−ＤＨＧＡ−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、０．９３（ｓ，３Ｈ）、０．９７（ｓ，３Ｈ）、１．１０〜１．２０（ｍ，２Ｈ）、１．３４〜１．４１（ｍ，３Ｈ）、１．３６（ｓ，３Ｈ）による重複、１．５３（ｔｑｑ，Ｊ＝６．６、６．６、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．６４〜１．７５（ｍ，２Ｈ）、１．６７（ｑ，Ｊ＝１．５Ｈｚ、３Ｈ）による重複、１．９５〜２．１５（ｍ，４Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４６、δ_Β＝３．５１、Ｊ_ＡＢ＝１１．１Ｈｚ、４Ｈ）、５．１２（ｂｒ ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ、１Ｈ）
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ２１．１（１Ｃ）、２２．０（１Ｃ）、２２．６１（３Ｃ）、２２．６５（１Ｃ）、２３．４（１Ｃ）、２５．７（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、２９．９（１Ｃ）、３１．９（１Ｃ）、３７．２（１Ｃ）、３８．８（１Ｃ）、７０．３（２Ｃ）、９８．８（１Ｃ）、１２４．６（１Ｃ）、１３５．８（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：２８２（Ｍ^＋、６）、２６７［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１１）、１２９（１００）、９５（１４）、６９（３５）、４３（３２）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｓ）、２８６７（ｍ）、１７２２（ｗ）、１４６８（ｍ）、１３９４（ｍ）、１３６８（ｍ）、１３４９（ｗ）、１３０６（ｗ）、１２７０（ｗ）、１２５０（ｍ）、１２１１（ｍ）、１１８９（ｗ）、１１１６（ｓ）、１０８６（ｓ）、１０４３（ｍ）、１０２２（ｍ）、９５１（ｍ）、９２５（ｗ）、９０７（ｍ）、８５６（ｍ）、７９２（ｗ）、７３９（ｗ）、６７７（ｗ）、６６７（ｗ）。

［２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｅ，７Ｅ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７−ジエン−１−イル）−１，３−ジオキサン（ＥＥ−ＤＨＦＡ−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）δ ０．８６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、０．９２（ｓ，３Ｈ）、０．９９（ｓ，３Ｈ）、１．０５〜１．２２（ｍ，２Ｈ）、１．３７（ｓ，３Ｈ）、１．３１〜１．４２（ｍ，２Ｈ）による重複、１．５２（ｔｑｑ，Ｊ＝６．６、６．６、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．５７（ｓ，３Ｈ）、１．６１（ｓ，３Ｈ）、１．６７〜１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．８８〜２．１６（ｍ，８Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４５、δ_Β＝３．５２、Ｊ_ＡＢ＝１１．３Ｈｚ、４Ｈ）、５．０５〜５．１７（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １５．８５（１Ｃ）、１５．９２（１Ｃ）、２０．９（１Ｃ）、２２．０（１Ｃ）、２２．５５（１Ｃ）、２２．６２（２Ｃ）、２２．６８（１Ｃ）、２５．７（１Ｃ）、２６．５（１Ｃ）、２７．８（１Ｃ）、２９．９（１Ｃ）、３７．３（１Ｃ）、３８．６（１Ｃ）、３９．７（１Ｃ）、３９．９（１Ｃ）、７０．３（２Ｃ）、９８．８（１Ｃ）、１２３．９（１Ｃ）、１２４．１（１Ｃ）、１３５．１（１Ｃ）、１３５．２（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：３５０（Ｍ^＋、４）、３３５［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１１）、２４６（１０）、２０６（１０）、１６１（９）、１２９（１００）、１０７（１３）、６９（３８）、４３（３２）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｓ）、２９２８（ｓ）、２８６７（ｍ）、１４６２（ｍ）、１３９４（ｍ）、１３８２（ｍ）、１３６８（ｍ）、１３０５（ｗ）、１２７１（ｗ）、１２４９（ｍ）、１２１１（ｍ）、１１８７（ｍ）、１１２３（ｓ）、１０８７（ｓ）、１０４３（ｍ）、１０２１（ｍ）、９５０（ｗ）、９２５（ｗ）、９０７（ｗ）、８６２（ｍ）７９１（ｗ）、７３９（ｗ）、６７８（ｗ）。

［２，５，５−トリメチル−２−（（３Ｅ，７Ｅ）−４，８，１２−トリメチルトリデカ−３，７−ジエン−１−イル）−１，３−ジオキサン（ＺＺ−ＤＨＦＡ−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８７（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ、６Ｈ）、０．９２（ｓ，３Ｈ）、０．９８（ｓ，３Ｈ）、１．１０〜１．２１（ｍ，２Ｈ）、１．２９〜１．４２（ｍ，２Ｈ）、１．３６（ｓ，３Ｈ）による重複、１．５３（ｑｑｔ，Ｊ＝６．７、６．７、６．７Ｈｚ、１Ｈ）、１．６６（ｂｒ．ｓ，３Ｈ）、１．６８（ｑ，Ｊ＝１．４Ｈｚ、３Ｈ）、１．６７〜１．７５（ｍ，２Ｈ）、１．９９（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ、２Ｈ）、２．０２〜２．１６（ｍ，６Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４５、δ_Β＝３．５２、Ｊ_ＡＢ＝１１．５Ｈｚ、４Ｈ）、５．０２〜５．２２（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ２０．９（１Ｃ）、２１．９（１Ｃ）、２２．６（３Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２３．３８（１Ｃ）、２３．４２（１Ｃ）、２５．８（１Ｃ）、２６．３（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、２９．９（１Ｃ）、３１．９（１Ｃ）、３２．１（１Ｃ）、３７．４（１Ｃ）、３８．９（１Ｃ）、７０．３（２Ｃ）、９８．８（１Ｃ）、１２４．７（１Ｃ）、１２５．０（１Ｃ）、１３５．２（１Ｃ）、１３５．６（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：３５０（Ｍ^＋、５）、３３５［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１０）、２４６（８）、２０６（８）、１５１（７）、１２９（１００）、１０７（１０）、６９（３５）、４３（２７）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｓ）、２８６７（ｍ）、１４５２（ｍ）、１３９４（ｗ）、１３７２（ｍ）、１３１５（ｗ）、１２７１（ｗ）、１２４９（ｍ）、１２１１（ｍ）、１１８９（ｗ）、１１１９（ｓ）、１０８７（ｓ）、１０４３（ｍ）、１０２１（ｍ）、９５１（ｗ）、９２５（ｗ）、９０７（ｗ）、８５６（ｍ）７９２（ｗ）、７３７（ｗ）、６６８（ｗ）。

［ｄ）ビス（トリフルオロエチル）ケタールの調製］
撹拌子を備えた２５０ｍＬの三つ口フラスコを、高真空下（ヒートガン２５０℃で）で乾燥させ、次に、冷却させ、アルゴンでフラッシュし、アルゴン下で１，１，１トリフルオロエタノール（ＴＦＥ）（４０ｍＬ）を充填した。フラスコを、氷浴で冷却する一方、トリメチルアルミニウム（ヘプタン中２Ｍ、２０．０ｍＬ、４０．０ｍｍｏｌ、１．９５当量）を、温度を２２℃未満に保ちながら、６０分以内で滴下して加えた。２相（ＴＦＥ／ヘプタン）混合物が数分後に再度透明になり、それを室温でさらに２０分間撹拌させた。上に示されるように調製された表３ｆまたは３ｇに示される対応するケトンの２０．７ｍｍｏｌのジメチルケタールを、室温で、５分以内で滴下して加えた。１．５時間後、ＧＣ分析により、出発材料の完全な転化が示された。反応物を、水（１００ｍＬ）中の酒石酸カリウムナトリウムの半飽和溶液でクエンチし、室温で２時間撹拌し、最後に、ｎ−ヘキサン（２００ｍＬ）で希釈した。有機相を分離し、ｎ−ヘキサン（２×１００ｍＬ）で抽出し、ＭｇＳＯ_４上で乾燥させ、濃縮した。粗生成物を、カラムクロマトグラフィー（中性の酸化アルミニウム、溶離剤：ｎ−ヘキサン）によって精製した。ケタールの特性評価が、以後、詳細に示される。

［特性評価データ：］
［（Ｅ）−２，６−ジメチル−１０，１０−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−２，６−ジエン（Ｅ−ＧＡ−ｔｆｅ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １．４１（ｓ，３Ｈ）、１．６２（ｂｒ ｓ，６Ｈ）、１．６７〜１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．６９（ｑ，Ｊ＝０．９Ｈｚ、３Ｈ）による重複、１．９３〜２．１５（ｍ，６Ｈ）、３．７３〜３．９７（ｍ，４Ｈ）、５．０２〜５．１８（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（１５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １５．９（１Ｃ）、１７．６（１Ｃ）、２１．３（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２５．７（１Ｃ）、２６．６（１Ｃ）、３６．９（１Ｃ）、３９．６（１Ｃ）、５９．３（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝３５．０Ｈｚ、２Ｃ）、１０３．４（１Ｃ）、１２４．０（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝２７５．０Ｈｚ、２Ｃ）、１２２．７（１Ｃ）、１２４．１（１Ｃ）、１３１．５（１Ｃ）、１３６．２（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：３６１［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１］、２７６［（Ｍ−ＴＦＥ）^＋、１５］、２２５［（ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ）_２Ｃ−ＣＨ_３］^＋、８６］、２０７（２０）、１５３（１８）、１３６（５８）、１０７（８０）、６９（１００）、４１（４０）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９２７（ｗ）、２８５９（ｗ）、１４５９（ｗ）、１４１９（ｗ）、１３８５（ｗ）、１２８１（ｓ）、１２２３（ｗ）、１１５６（ｓ）、１１３３（ｓ）、１０８１（ｓ）、９７１（ｓ）、８８９（ｍ）、８６０（ｗ）、８４５（ｗ）、６７８（ｗ）、６６３（ｗ）。

［（Ｅ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−５−エン（Ｅ−ＤＨＧＡ−ｔｆｅ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（６００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８８（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ、６Ｈ）、１．１１〜１．１７（ｍ，２Ｈ）、１．３５〜１．４０（ｍ，２Ｈ）、１．４１（ｓ，３Ｈ）、１．５４（ｑｑｔ，Ｊ＝６．７、６．７、６．７Ｈｚ、１Ｈ）、１．６１（ｂｒ ｓ，３Ｈ）、１．６９〜１．７３（ｍ，２Ｈ）、１．９５（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ、２Ｈ）、２．０３〜２．０９（ｍ，２Ｈ）、３．７８〜３．９１（ｍ，４Ｈ）、５．０９（ｔｑ，Ｊ＝７．１、１．３Ｈｚ、１Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（１５１ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １４．１（１Ｃ）、１５．８（１Ｃ）、２１．３（１Ｃ）、２２．５６（１Ｃ）、２２．６１（１Ｃ）、２５．６（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、３７．０（１Ｃ）、３８．６（１Ｃ）、３９．８（１Ｃ）、５９．２（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝３５．０Ｈｚ、２Ｃ）、１０３．４（１Ｃ）、１２４．０（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝２７７．０Ｈｚ、２Ｃ）、１２２．４（１Ｃ）、１３６．７（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：３６３［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１］、２７８［（Ｍ−ＴＦＥ）^＋、２２］、２２５［（ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ）_２Ｃ−ＣＨ_３）^＋、６０］、１９３（１００）、１５３（１３）、１２７（１１）、８３（ＣＦ_３ＣＨ_２ ^＋、２５）、６９（１３）、４３（１７）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５６（ｗ）、２９３３（ｗ）、２８７２（ｗ）、１４６２（ｗ）、１４１９（ｗ）、１３８５（ｗ）、１３６８（ｗ）、１２８１（ｓ）、１２２３（ｗ）、１１５６（ｓ）、１１３４（ｓ）、１０８１（ｓ）、９７１（ｓ）、８８９（ｍ）、８６０（ｗ）、８４５（ｗ）、６７９（ｗ）、６６３（ｍ）。

［（６Ｅ，１０Ｅ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン（ＥＥ−ＦＡ−ｔｆｅ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １．４１（ｓ，３Ｈ）、１．６１（ｂｒ ｓ，６Ｈ）、１．６３（ｂｒ ｓ，３Ｈ）、１．６７〜１．７５（ｍ，２Ｈ）、１．６９（ｂｒ ｑ，Ｊ＝０．９Ｈｚ、３Ｈ）による重複、１．９３〜２．１６（ｍ，１０Ｈ）、３．７４〜３．９５（ｍ，４Ｈ）、５．１１（ｂｒ ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ、３Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １５．９４（１Ｃ）、１５．９８（１Ｃ）、１７．６（１Ｃ）、２１．３（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２５．６（１Ｃ）、２６．５（１Ｃ）、２６．８（１Ｃ）、３７．０（１Ｃ）、３９．６（１Ｃ）、３９．７（１Ｃ）、５９．３（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝３４．９Ｈｚ、２Ｃ）、１０３．４（１Ｃ）、１２４．０（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝２７５．８Ｈｚ、２Ｃ）、１２２．７（１Ｃ）、１２４．０（１Ｃ）、１２４．３（１Ｃ）、１３１．３（１Ｃ）、１３５．１（１Ｃ）、１３６．２（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：４４４（Ｍ^＋、５）、４２９［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１］、３４４［（Ｍ−ＴＦＥ）^＋、４］、２２５［（ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ）_２Ｃ−ＣＨ_３）^＋、５４］、１７５（３３）、１３６（２８）、１０７（４８）、８１（５３）、６９（１００）、４１（３４）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９２２（ｗ）、２８５８（ｗ）、１４５７（ｗ）、１４１９（ｗ）、１３８５（ｗ）、１２８２（ｓ）、１２２３（ｗ）、１１５７（ｓ）、１１３３（ｓ）、１１１１（ｍ）、１０８１（ｓ）、９７１（ｓ）、８８９（ｍ）、８６０（ｗ）、８４５（ｗ）、６７８（ｗ）、６６３（ｍ）。

［（５Ｅ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン（ＥＥ−ＤＨＦＡ−ｔｆｅ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、１．０８〜１．２０（ｍ，２Ｈ）、１．３２〜１．４４（ｍ，２Ｈ）、１．４１（ｓ，３Ｈ）による重複、１．５４（ｔｑｑ，Ｊ＝６．６、６．６、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．６０（ｂｒ ｓ，３Ｈ）、１．６３（ｂｒ ｓ，３Ｈ）、１．６７〜１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．８９〜２．１７（ｍ，８Ｈ）、３．７３〜３．９７（ｍ，４Ｈ）、５．０４〜５．１７（ｍ，２Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １５．８９（１Ｃ）、１５．９５（１Ｃ）、２１．４（１Ｃ）、２２．６０（１Ｃ）、２２．６１（２Ｃ）、２５．８（１Ｃ）、２６．５（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、３７．０（１Ｃ）、３８．６（１Ｃ）、３９．７（１Ｃ）、３９．９（１Ｃ）、５９．３（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝３５．５Ｈｚ、２Ｃ）、１０３．４（１Ｃ）、１２４．０（ｑ，Ｊ_Ｃ，Ｆ＝２７６．０Ｈｚ、２Ｃ）、１２２．７（１Ｃ）、１２３．７（１Ｃ）、１３５．５（１Ｃ）、１３６．２（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：４３１［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１］、３４６［（Ｍ−ＴＦＥ）^＋、１３］、２６２（９）、２２５［（ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ）_２Ｃ−ＣＨ_３）^＋、９３］、２０６（４３）、１５３（１７）、１２７（２４）、１０７（４５）、８３（ＣＦ_３ＣＨ_２ ^＋、１００）、６９（５１）、５５（４３）、４３（２８）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５５（ｗ）、２９３１（ｗ）、２８７１（ｗ）、１４６２（ｗ）、１４１９（ｗ）、１３８５（ｍ）、１２８２（ｓ）、１２２３（ｗ）、１１５７（ｓ）、１１３３（ｓ）、１０８０（ｓ）、９７１（ｓ）、８８９（ｍ）、８６０（ｗ）、８４５（ｗ）、６７９（ｗ）、６６３（ｍ）。

［実験Ｅ５：ケタールの不斉水素化（工程ｂ／ｃ）］
ケタールおよびアセタールを、以下の方法で不斉水素化した。オートクレーブ容器に、表６ａ〜ｋに示される^＊によって示されるキラル中心において立体配置を有する表６ａ〜ｋに示される式のキラルイリジウム錯体、表６ａ〜ｋに示されるケタールまたはアセタール（濃縮形態）、表６ａ〜ｋに示される溶媒を、窒素下で充填した。反応容器を閉鎖し、表６ａ〜ｋに示される圧力（ｐＨ_２）になるまで水素分子で加圧した。反応混合物を、水素下で、表６ａ〜ｋに示される時間（ｔ）にわたって室温で撹拌した。次に、圧力を解放し、アッセイの収率および完全に水素化された生成物の立体異性体の分布を測定した。触媒充填量（Ｓ／Ｃ）が、ケタールまたはアセタール（「基材」）（ｍｍｏｌ）／キラルイリジウム錯体（ｍｍｏｌ）として定義される。これ以降、水素化されたケタール／アセタールの特性評価が示される。

［（Ｒ）−２，２−ジメトキシ−６，１０−ジメチルウンデカン（Ｒ−ＴＨＧＡ−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８４８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、３Ｈ）、０．８５２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）による重複、１．０１〜１．４１（ｍ，１１Ｈ）、１．２５（ｓ，３Ｈ）による重複、１．４４〜１．６１（ｍ，３Ｈ）、３．１６（ｓ，６Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １４．１（１Ｃ）、１９．６（１Ｃ）、２０．９（１Ｃ）、２１．７（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２４．８（１Ｃ）、２７．９（１Ｃ）、３２．７（１Ｃ）、３６．８（１Ｃ）、３７．２（１Ｃ）、３７．４（１Ｃ）、３９．３（１Ｃ）、４７．９（１Ｃ）、１０１．７（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：カラムにおける分解のため、ＧＣ−ＭＳが得られなかった。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５１（ｓ）、２９２７（ｍ）、２８７０（ｍ）、２８２８（ｍ）、１７２３（ｗ）、１４６２（ｍ）、１３７７（ｍ）、１３０９（ｗ）、１２５６（ｍ）、１２１５（ｍ）、１１９４（ｍ）、１１７２（ｍ）、１１１１（ｍ）、１０８９（ｍ）、１０５３（ｓ）、９７２（ｗ）、９３４（ｗ）、９２０（ｗ）、８５５（ｍ）、８１５（ｍ）、７３６（ｗ）、６１８（ｗ）。

［（Ｒ）−２−（４，８−ジメチルノニル）−２，５，５−トリメチル−１，３−ジオキサン（Ｒ−ＴＨＧＡ−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８７（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、９Ｈ）、０．９１（ｓ，３Ｈ）、１．０１（ｓ，３Ｈ）、１．０４〜１．６１（ｍ，１２Ｈ）、１．３６（ｓ，３Ｈ）による重複、１．６１〜１．７４（ｍ，２Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４４、δ_Β＝３．５４、Ｊ_ＡＢ＝１１．７Ｈｚ、４Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １９．７（１Ｃ）、２０．４（１Ｃ）、２１．０（１Ｃ）、２２．５６（１Ｃ）、２２．６１（１Ｃ）、２２．７１（１Ｃ）、２２．７７（１Ｃ）、２４．８（１Ｃ）、２８．０（１Ｃ）、３０．０（１Ｃ）、３２．８（１Ｃ）、３７．３（１Ｃ）、３７．４（１Ｃ）、３８．２（１Ｃ）、３９．３（１Ｃ）、７０．３（２Ｃ）、９９．１（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：２６９［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、６５）、１９９（８）、１２９（１００）、１０９（８）、６９（３２）、５５（１０）、４３（２５）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５３（ｓ）、２９２５（ｓ）、２８６８（ｍ）、１７２２（ｗ）、１４６４（ｍ）、１３９４（ｍ）、１３７１（ｍ）、１３１６（ｗ）、１２５８（ｍ）、１２１２（ｍ）、１１６１（ｍ）、１１４１（ｍ）、１１１１（ｓ）、１０９５（ｓ）、１０４３（ｍ）、１０２０（ｍ）、９５１（ｍ）、９２５（ｍ）、９０７（ｍ）８７０（ｍ）、８５５（ｍ）、８０１（ｍ）、７９２（ｍ）、７３７（ｍ）、６７７（ｗ）、６６７（ｗ）。

［（Ｒ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカン（Ｒ−ＴＨＧＡ−ｔｆｅ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８８（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、６Ｈ）、０．８７（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ、３Ｈ）、１．０３〜１．２３（ｍ，５Ｈ）、１．３９（ｓ，３Ｈ）、１．３８〜１．４０（ｍ，６Ｈ）、１．４６〜１．７１（ｍ，３Ｈ）、３．７３〜３．９４（ｍ，４Ｈ）。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １９．５（１Ｃ）、２１．３９（１Ｃ）、２１．４７（１Ｃ）、２２．５８（１Ｃ）、２２．６８（１Ｃ）、２４．７（１Ｃ）、２８．０（１Ｃ）、３２．６（１Ｃ）、３７．０（１Ｃ）、３７．１９（１Ｃ）、３７．２３（１Ｃ）、３９．３（１Ｃ）、５９．２（ｑ，^２Ｊ_Ｃ，Ｆ＝３２．５Ｈｚ、２Ｃ）、１０３．６（１Ｃ）、１２４．１（ｑ，^１Ｊ_Ｃ，Ｆ＝２７９．０Ｈｚ、２Ｃ）。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：３６５［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１］、２８１（２）、２２５［（ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ）_２Ｃ−ＣＨ_３）^＋、１００］、１５３（８）、１４０（６）、８３（ＣＦ_３ＣＨ_２ ^＋、６）、４３（７）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５５（ｗ）、２９２９（ｗ）、２８７２（ｗ）、１４６３（ｗ）、１４１９（ｗ）、１３８５（ｗ）、１２８１（ｓ）、１２１６（ｗ）、１１５６（ｓ）、１１２２（ｍ）、１０８２（ｓ）、９７２（ｍ）、８９２（ｍ）、８６１（ｗ）、７３７（ｗ）、６７９（ｗ）、６６３（ｍ）。

［（６Ｒ，１０Ｒ）−２，２−ジメトキシ−６，１０，１４−トリメチルペンタデカン（ＲＲ１８−ＤＭ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８３〜０．８９（ｍ，１２Ｈ）、０．９８〜１．４５（ｍ，２１Ｈ）、１．４６〜１．６５（ｍ，３Ｈ）、３．１８（ｓ，６Ｈ）。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １９．６８（１Ｃ）、１９．７３（１Ｃ）、２１．０（１Ｃ）、２１．７（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２４．５（１Ｃ）、２４．８（１Ｃ）、２８．０（１Ｃ）、３２．７２（１Ｃ）、３２．７８（１Ｃ）、３６．８（１Ｃ）、３７．２８（１Ｃ）、３７．３３（１Ｃ）、３７．３６（１Ｃ）、３７．４１（１Ｃ）、３９．４（１Ｃ）、４８．０（２Ｃ）、１０１．７（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５１（ｓ）、２９２６（ｓ）、２８６９（ｓ）、２８２８（ｍ）、１７３４（ｗ）、１７２３（ｗ）、１２１６（ｗ）、１４６３（ｓ）、１３７７（ｓ）、１３０８（ｗ）、１２５５（ｍ）、１２１５（ｍ）、１１７２（ｓ）、１１０５（ｓ）、１０９０（ｓ）、１０５４（ｓ）、９７１（ｗ）、９３３（ｗ）、８６０（ｓ）、８１５（ｍ）、７３６（ｗ）６１８（ｗ）。

［２，５，５−トリメチル−２−（（４Ｒ，８Ｒ）−４，８，１２−トリメチルトリデシル）−１，３−ジオキサン（ＲＲ１８−ｎｅｏ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．７８〜０．９５（ｍ，１５Ｈ）、０．９５〜１．６１（ｍ，１９Ｈ）、１．０１（ｓ，３Ｈ）による重複、１．３６（ｓ，３Ｈ）、１．６３〜１．７４（ｍ，２Ｈ）、ＡＢシグナル（δ_Α＝３．４４、δ_Β＝３．５５、Ｊ_ＡＢ＝１１．７Ｈｚ、４Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １９．７２（１Ｃ）、１９．７４（１Ｃ）、２０．４（１Ｃ）、２０．９（１Ｃ）、２２．５６（１Ｃ）、２２．６２（１Ｃ）、２２．７２（１Ｃ）、２２．７７（１Ｃ）、２４．５（１Ｃ）、２４．８（１Ｃ）、２８．０（１Ｃ）、３０．０（１Ｃ）、３２．８（１Ｃ）、３２．８（１Ｃ）、３７．２８（１Ｃ）、３７．３５（１Ｃ）、３７．４２（２Ｃ）、３８．２（１Ｃ）、３９．４（１Ｃ）、７０．３（２Ｃ）、９９．１（１Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：３３９［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、８３］、２６９（５）、１２９（１００）、６９（２１）、４３（１８）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５２（ｓ）、２９２５（ｓ）、２８６７（ｍ）、１４６３（ｍ）、１３９４（ｍ）、１３７２（ｍ）、１２５８（ｍ）、１２１１（ｍ）、１１８９（ｗ）、１１４１（ｗ）、１１００（ｓ）、１０４３（ｍ）、１０２０（ｍ）、９５１（ｗ）、９２５（ｗ）、９０７（ｍ）、８５８（ｍ）、７９２（ｗ）、７３７（ｗ）、６７７（ｗ）。

［（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカン（ＲＲ１８−ｔｆｅ）］
^１Ｈ ＮＭＲ（６００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ ０．８６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、３Ｈ）、０．８７９（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、３Ｈ）、０．８８２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、３Ｈ）、０．８８４（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ、３Ｈ）、１．０３〜１．４６（ｍ，１８Ｈ）、１．４０（ｓ，３Ｈ）による重複、１．５４（ｑｑｔ，Ｊ＝６．６、６．６、６．６Ｈｚ、１Ｈ）、１．６０〜１．７０（ｍ，２Ｈ）、３．７７〜３．９０（ｍ，４Ｈ）ｐｐｍ。
^１３Ｃ ＮＭＲ（１５１ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３）：δ １９．６（１Ｃ）、１９．７（１Ｃ）、２１．４（１Ｃ）、２１．５（１Ｃ）、２２．６（１Ｃ）、２２．７（１Ｃ）、２４．５（１Ｃ）、２４．８（１Ｃ）、２８．０（１Ｃ）、３２．６（１Ｃ）、３２．８（１Ｃ）、３７．０（１Ｃ）、３７．２４（１Ｃ）、３７．３０（１Ｃ）、３７．３４（１Ｃ）、３７．４３（１Ｃ）、３９．４（１Ｃ）、５９．２（ｑ，^２Ｊ_Ｃ，Ｆ＝３５．０Ｈｚ、２Ｃ）、１０３．６（１Ｃ）、１２４．０（ｑ，^１Ｊ_Ｃ，Ｆ＝２７７．０Ｈｚ、２Ｃ）ｐｐｍ。
ＭＳ（ＥＩ、ｍ／ｚ）：４３５［（Ｍ−ＣＨ_３）^＋、１］、３５１（１）、２５０（１）、２２５［（ＣＦ_３ＣＨ_２Ｏ）_２Ｃ−ＣＨ_３）^＋、１００］、１５３（７）、１４０（５）、８３（ＣＦ_３ＣＨ_２ ^＋、３）、４３（６）。
ＩＲ（ｃｍ^−１）：２９５４（ｍ）、２９２７（ｍ）、２８７１（ｗ）、１４６３（ｗ）、１４１９（ｗ）、１３８４（ｗ）、１２８１（ｓ）、１２１５（ｗ）、１１５７（ｓ）、１１２３（ｍ）、１０８２（ｓ）、９７２（ｓ）、８９２（ｍ）、８６１（ｗ）、７３７（ｗ）、６７９（ｗ）、６６３（ｍ）。

［実験Ｅ６：水素化されたケタールの加水分解］
実験Ｅ５に示されるケタールの不斉水素化の後、得られた水素化されたケタールを、それぞれ（Ｒ）−６，１０−ジメチルウンデカン−２−オンまたは（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタデカン−２−オンへと加水分解した。

［方法１−ジクロロメタン中の不斉水素化反応からのネオペンチルケタール、ジメチルケタール］
不斉水素化反応からの反応混合物の試料（１〜２ｍｌ）を、室温で１時間にわたって等しい体積の塩酸の１Ｍ水溶液とともに撹拌した。ジクロロメタン（２ｍｌ）を加え、層を分離した。水層をジクロロメタン（２ｍｌ）で２回洗浄した。組み合わされた有機層を減圧下で蒸発させたところ、ケトンが無色ないし淡黄色の油として得られた。次に、粗製ケトンを、純度および異性体の比率について分析した。

［方法２−トリフルオロエタノール中の不斉水素化反応からのエチレングリコールケタール、ビス（トリフルオロエタノール）ケタールおよびジメチルケタール］
不斉水素化反応からの反応混合物の試料（１〜２ｍｌ）を、４０℃で１時間にわたって、９：１：０．２（体積基準）のメタノール：水：トリフルオロ酢酸の０．５ｍｌの溶液とともに撹拌した。ジクロロメタン（２ｍｌ）および水（２ｍｌ）を加え、層を分離した。水層をジクロロメタン（２ｍｌ）で２回洗浄した。組み合わされた有機層を減圧下で蒸発させたところ、ケトンが無色ないし淡黄色の油として得られた。次に、粗製ケトンを、純度および異性体の比率について分析した。

［実験Ｅ７：添加剤の調製］
添加剤オルトチタン酸テトライソプロピル（Ｔｉ（ＯｉＰｒ）_４）、トリフルオロメタンスルホン酸イットリウム（Ｙ（ＯＴｆ）_３）、ナトリウムテトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボレート（ＮａＢＡｒ_Ｆ）およびトリメチル−アルミニウム（ＴＭＡ）は市販されており、これを入手した状態で使用した。
ＴＭＡ／ＴＦＥ：ヘプタン（１ｍｍｏｌ）中の２ＭのＴＭＡ（ＴＭＡ：トリメチルアルミニウム（Ａｌ（ＣＨ_３）_３））溶液を、ＴＦＥ（３．１ｍｍｏｌ）でクエンチしたところ、わずかに過剰な遊離ＴＦＥが得られた。この添加剤は、新たに調製された後に使用される。

［実験Ｅ８：添加剤の存在下におけるケトンの不斉水素化（工程ｃ１／ｃ２）］
オートクレーブ容器に、^＊によって示されるキラル中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩ−Ｆ）のキラルイリジウム錯体、表７ａまたは７ｂに示されるＺ−ＤＨＧＡまたはＺＺ−ＦＡ（濃縮形態）、表７ａまたは７ｂに示される溶媒および表７ａまたは７ｂに示される添加剤を、窒素下で充填した。反応容器を閉鎖し、５０バールの圧力（ｐＨ_２）になるまで水素分子で加圧した。反応混合物を、水素下で、室温で２０時間撹拌した。次に、圧力を解放し、アッセイの収率および完全に水素化された生成物の立体異性体の分布を測定した。触媒充填量（Ｓ／Ｃ）が、ケトン（「基材」）（ｍｍｏｌ）／キラルイリジウム錯体（ｍｍｏｌ）として定義される。

［実験Ｅ９：添加剤の存在下におけるケタールの不斉水素化（工程ｃ１／ｃ２）］
オートクレーブ容器に、^＊によって示されるキラル中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩ−Ｆ）のキラルイリジウム錯体、溶媒の１Ｌ当たり０．２ｍｏｌのケタールの濃度のケタールＺ−ＤＨＧＡ−ｅｎまたはＺ−ＤＨＧＡ−ｎｅｏ（ＤＣＭまたはＴＦＥ）および表８に示される添加剤を、窒素下で充填した。反応容器を閉鎖し、５０バールの圧力になるまで水素分子で加圧し、水素下で、２０時間の間、室温で撹拌した。次に、圧力を解放し、アッセイの収率および完全に水素化された生成物の立体異性体の分布を測定した。ケタールの場合、アッセイの収率および立体異性体の分布は、実験Ｅ６に示されるように、酸によるケタールの加水分解の後、測定された。触媒充填量（Ｓ／Ｃ）が、ケタール（「基材」）（ｍｍｏｌ）／キラルイリジウム錯体（ｍｍｏｌ）として定義される。

Claims (16)

1. 式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはそのアセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の混合物から、式（Ｉ−Ａ）もしくは（Ｉ−Ｂ）
   

   

   
   （式中、Ｑが、ＨまたはＣＨ_３を表し、ｍおよびｐが、互いに独立して、０〜３の値を表し、ただし、ｍおよびｐの合計が、０〜３であり、波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素−炭素二重結合に連結される炭素−炭素結合を表し、ｓ１およびｓ２によって表される式（Ｉ）および（ＩＩ）の部分構造が、任意の配列であってもよく；
   式（Ｉ）または（ＩＩ）中の点線（
   

   

   
   ）を有する前記二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表す）
   の化合物またはそのアセタールもしくはケタールを製造する方法であって、以下の工程
   ａ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の前記混合物から、Ｅ−立体配置を有する異性体を分離する工程；
   および
   ｂ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールの前記Ｚ−立体配置を有する前記異性体を、シス／トランス異性化にかけ、異性化生成物を、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールの異性体の前記混合物に加える工程；
   および
   ｃ１）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールの前記Ｅ−立体配置を有する前記分離された異性体を、＊によって示される立体中心においてＳ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子による水素化にかける工程；
   または
   ａ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールのＥ／Ｚ異性体の前記混合物から、Ｚ−立体配置を有する異性体を分離する工程；
   および
   ｂ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールの前記Ｅ−立体配置を有する前記異性体を、シス／トランス異性化にかけ、異性化生成物を、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールの異性体の前記混合物に加える工程；
   および
   ｃ２）式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の化合物またはその前記アセタールもしくはケタールの前記Ｚ−立体配置を有する前記分離された異性体を、＊によって示される前記立体中心においてＲ−立体配置を有する式（ＩＩＩ）
   

   

   
   （式中、
   ｎが、１または２または３であり；
   Ｘ^１およびＸ^２が、互いに独立して、水素原子、Ｃ_１〜４−アルキル、Ｃ_５〜７−シクロアルキル、アダマンチル、フェニル（１〜３つのＣ_１〜５−アルキル、Ｃ_１〜４−アルコキシ、Ｃ_１〜４−パーフルオロアルキル基および／または１〜５つのハロゲン原子で任意選択的に置換される））、ベンジル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−フリルまたはフェロセニルであり；
   Ｚ^１およびＺ^２が、互いに独立して、水素原子、Ｃ_１〜５−アルキルまたはＣ_１〜５−アルコキシ基であり；
   またはＺ^１およびＺ^２が、一緒に、５〜６員環を形成する架橋基を表し；
   

   

   
   が、アニオンであり；
   Ｒ^１が、フェニルまたはｏ−トリルまたはｍ−トリルまたはｐ−トリルまたは式（ＩＶａ）もしくは（ＩＶｂ）もしくは（ＩＶｃ）
   

   

   
   の基のいずれかを表し、
   式中、Ｒ^２およびＲ^３が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれかを表すか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し、
   Ｒ^４およびＲ^５が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し；
   Ｒ^６およびＲ^７およびＲ^８がそれぞれ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基を表し；
   Ｒ^９およびＲ^１０が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し；
   ＊が、式（ＩＩＩ）の前記錯体の立体中心を表す）
   のキラルイリジウム錯体の存在下で、水素分子による水素化にかける工程
   のいずれかを含む方法。
2. 式（Ｉ）または（ＩＩ）の前記化合物が、３，７−ジメチルオクタ−６−エナール、３，７−ジメチルオクタ−２，６−ジエナール、３，７−ジメチルオクタ−２−エナール、６，１０−ジメチルウンデカ−３，５，９−トリエン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−５，９−ジエン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−５−エン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−３−エン−２−オン、６，１０−ジメチルウンデカ−３，５−ジエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９，１３−トリエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５，９−ジエン−２−オン、６，１０，１４−トリメチルペンタデカ−５−エン−２−オンおよび（Ｒ）−６，１０，１４−トリメチルペンタ−デカ−５−エン−２−オンならびに全てのそれらの可能なＥ／Ｚ−異性体からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
3. 式（Ｉ）または（ＩＩ）の前記化合物が、式（ＩＩ）のものである、請求項１に記載の方法。
4. 式（Ｉ）または（ＩＩ）の前記化合物の前記アセタールまたはケタールが、式（Ｉ）または（ＩＩ）の前記化合物と、アルコールとの反応によって得られることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
5. 式の前記キラルイリジウム錯体の式（ＩＩＩ）中のＲ^１が、
   

   

   
   からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 前記キラルイリジウム錯体が、前記水素化の際、式（Ｉ）もしくは（ＩＩ）の前記化合物またはその前記アセタールもしくはケタールの量を基準にして、０．０００１〜５モル％の範囲の量で存在することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
7. 工程ａ１）またはａ２）における異性体の前記分離が、蒸留によって行われることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
8. 工程ｂ１）またはｂ２）における前記シス／トランス異性化が、シス／トランス異性化触媒の存在下で行われることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
9. 前記シス／トランス異性化触媒が、一酸化窒素（ＮＯ）または有機硫黄化合物であることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
10. 前記シス／トランス異性化触媒が、式（Ｘ）
    

    

    
    （式中、ｎ１が、１〜４の整数を表し、
    ｍ１が、２〜８の整数を表し；
    Ａが、２８ｇ／ｍｏｌ〜４００ｇ／ｍｏｌの分子量の脂肪族ｍ１価炭化水素基を表す）
    のポリチオールであることを特徴とする、請求項８または９に記載の方法。
11. 前記水素化が、有機スルホン酸、有機スルホン酸の遷移金属塩、金属アルコキシド、アルミノオキサン、アルキルアルミノオキサンおよびＢ（Ｒ）_{（３−ｖ）}（ＯＺ）_ｖ；
    （式中、ｖが、０、１、２または３を表し、
    Ｒが、Ｆ、Ｃ_１〜６−アルキル、ハロゲン化Ｃ_１〜６−アルキル、アリールまたはハロゲン化アリール基を表し；
    Ｚが、Ｃ_１〜６−アルキル、ハロゲン化Ｃ_１〜６−アルキル、アリールまたはハロゲン化アリール基を表す）
    からなる群から選択される添加剤の存在下で行われることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 式（ＸＸ−Ｂ）
    

    

    
    （式中、Ｑ^１およびＱ^２が、個々にまたは両方とも、直鎖状Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基またはフッ素化直鎖状Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基を表し；または式
    

    

    
    （式中、Ｑ ^３ およびＱ ^４ が、互いに独立して、水素原子、メチル基またはエチル基である）の基を表し；
    波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素−炭素二重結合に連結される炭素−炭素結合を表す）
    のケタール。
13. 式（ＸＸ−Ｃ）
    

    

    
    （式中、Ｑ^１およびＱ^２が、個々にまたは両方とも、ハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基を表し；または一緒にＣ _６〜Ｃ_８シクロアルキレン基を形成し；または式
    

    

    
    （式中、Ｑ ^３ 、Ｑ ^４ 、Ｑ ^５ 及びＱ ^６ が、互いに独立して、水素原子、メチル基またはエチル基である）の基を表し；
    点線（
    

    

    
    ）を有する前記二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表し；
    波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素単結合（
    

    

    
    が、
    

    

    
    を表す）または隣接する炭素−炭素二重結合（
    

    

    
    が、
    

    

    
    を表す）に連結される炭素−炭素結合を表す）
    のアセタール。
14. 式（ＸＸＩ−Ａ）または（ＸＸＩ−Ｂ）または（ＸＸＩ−Ｃ）または（ＸＸＩ−Ｄ）
    

    

    
    （式中、Ｑが、ＨまたはＣＨ_３を表し、ｍおよびｐが、互いに独立して、０〜３の値を表し、ただし、ｍおよびｐの合計が、０〜３であり、前記上式中の点線（
    

    

    
    ）を有する前記二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表し；
    波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素単結合（
    

    

    
    が、
    

    

    
    を表す）または隣接する炭素−炭素二重結合（
    

    

    
    が、
    

    

    
    を表す）に連結される炭素−炭素結合を表す）
    のアセタールまたはケタール
    （ただし、（６Ｅ，１０Ｅ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン）、（５Ｅ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、（６Ｚ，１０Ｅ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン、（６Ｅ，１０Ｚ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン、（６Ｚ，１０Ｚ）−２，６，１０−トリメチル−１４，１４−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−２，６，１０−トリエン、（５Ｚ，９Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、（５Ｅ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、（５Ｚ，９Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５，９−ジエン、（６Ｒ，１０Ｒ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカン、（Ｅ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロ−エトキシ）ウンデカ−５−エン、（Ｚ）−６，１０−ジメチル−２，２
    −ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカ−５−エン、（Ｒ，Ｅ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５−エン、（Ｒ，Ｚ）−６，１０，１４−トリメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ペンタデカ−５−エン、および（Ｒ）−６，１０−ジメチル−２，２−ビス（２，２，２−トリフルオロエトキシ）ウンデカンを除く。）。
15. − 式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）の少なくとも１つのケタールまたはアセタールと、
    − 式（ＩＩＩ）の少なくとも１つのキラルイリジウム錯体と
    を含む組成物であって、
    

    

    
    式中、Ｑが、ＨまたはＣＨ_３を表し、ｍおよびｐが、互いに独立して、０〜３の値を表し、ただし、ｍおよびｐの合計が、０〜３であり、波線が、ＺまたはＥ−立体配置のいずれかで炭素−炭素二重結合を有するように、隣接する炭素−炭素二重結合に連結される炭素−炭素結合を表し、ｓ１およびｓ２によって表される式（Ｉ）および（ＩＩ）の前記部分構造が、任意の配列であってもよく；
    式（ＸＩ）または（ＸＩＩ）中の点線（
    

    

    
    ）を有する前記二重結合が、炭素−炭素単結合または炭素−炭素二重結合のいずれかを表し；
    Ｑ^１およびＱ^２が、個々にまたは両方とも、Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_１０アルキル基を表し；
    または一緒に、Ｃ_２〜Ｃ_６アルキレン基もしくはＣ_６〜Ｃ_８シクロアルキレン基を形成し、
    

    

    
    式中、
    ｎが、１または２または３であり；
    Ｘ^１およびＸ^２が、互いに独立して、水素原子、Ｃ_１〜４−アルキル、Ｃ_５〜７−シクロアルキル、アダマンチル、フェニル（１〜３つのＣ_１〜５−アルキル、Ｃ_１〜４−アルコキシ、Ｃ_１〜４−パーフルオロアルキル基および／または１〜５つのハロゲン原子で任意選択的に置換される））、ベンジル、１−ナフチル、２−ナフチル、２−フリルまたはフェロセニルであり；
    Ｚ^１およびＺ^２が、互いに独立して、水素原子、Ｃ_１〜５−アルキルまたはＣ_１〜５−アルコキシ基であり；
    またはＺ^１およびＺ^２が、一緒に、５〜６員環を形成する架橋基を表し；
    

    

    
    が、アニオンであり；
    Ｒ^１が、フェニルまたはｏ−トリルまたはｍ−トリルまたはｐ−トリルまたは式（ＩＶａ）もしくは（ＩＶｂ）もしくは（ＩＶｃ）
    

    

    
    （式中、Ｒ^２およびＲ^３が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれかを表すか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し、
    Ｒ^４およびＲ^５が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表し；
    Ｒ^６およびＲ^７およびＲ^８がそれぞれ、Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基を表し；
    Ｒ^９およびＲ^１０が、両方ともＨまたはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基またはハロゲン化Ｃ_１〜Ｃ_４−アルキル基のいずれか、またはハロゲン原子でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基でもしくはＣ_１〜Ｃ_４−アルコキシ基で任意選択的に置換される６員の脂環式または芳香環を一緒に形成する二価基を表す）
    の基のいずれかを表し、
    ＊が、式（ＩＩＩ）の前記錯体の立体中心を表す組成物。
16. トコフェロール、ビタミンＫ１の合成のための、ならびに着香料および香料または医薬品の分野における組成物の合成のための中間体としての、請求項１２に記載のケタール、請求項１３に記載のケタール、請求項１４に記載のアセタールまたは請求項１４に記載のアセタールもしくはケタールまたは請求項１６に記載の組成物の使用。

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