JP6393517B2 - 親油性積層体、及びその製造方法、並びに物品 - Google Patents

Description

本発明は、親油性積層体、及びその製造方法、並びに前記親油性積層体を用いた物品に関する。

物品の表面に指紋が付着すると、物品の美観が損なわれる。例えば、ピアノ、高級家具、家電製品、自動車内外装部品などの表面に指紋が付着すると、美観が損なわれ見苦しくなる。

また、物品の表面に指紋が付着すると、視認性等の光学特性が低下する。例えば、タッチパネルをユーザインタフェース（ＵＩ）として搭載した、スマートフォン、タブレットＰＣなどの情報表示装置の前記タッチパネルは、表示画面を直接指で触ることで直感的に機器を操作できるという利点を持っている。しかし、前記タッチパネルに指紋が付着すると、画面の視認性が低下する。
物品の表面には指紋が付着しにくい、あるいは付着しても目立ちにくいという耐指紋性が求められている。

そこで、例えば、タッチパネルなどのディスプレイ表面として、フッ素系化合物やシリコーン系化合物などが最表面にでるように設計された防汚層が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この提案の技術では、撥水撥油表面を形成することで指紋を構成している油脂成分の付着力を弱め、布などでの拭き取りを容易にしている。
また、例えば、油脂成分をはじかない撥水親油表面が提案されている（例えば、特許文献２参照）。この提案の技術では、表面に付着した指紋の油脂成分は広がり、液滴を形成しないため、指紋が見え難くなる。
また、例えば、指紋の汚れを拭き取りやすくするため、微細構造を表面に有する光学素子も提案されている（例えば、特許文献３参照）。

ところで、物品には、様々な環境、用途で使用されるため、物品の表面に貼付される、防汚層としての役割を有する積層体には、長期的にも耐指紋性が良好であることが求められている。またさらに耐指紋性以外にも、使用者が触り心地がよいと感じられる仕様であることが求められる。
しかし、従来提案されている技術は、長期的な耐指紋性、良好な使用感という面では満足のいくものとはいえず、改良の余地があった。

したがって、長期使用においても優れた耐指紋性を有しつつ、使用者にとって良好な触り心地を実現した親油性積層体、及びその製造方法、並びに前記親油性積層体を用いた物品の提供が求められている。

特許第４６６６６６７号公報 特開２０１０−１２８３６３号公報 特開２０１２−１６３７２３号公報

本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、長期使用においても優れた耐指紋性を有しつつ、使用者にとって良好な触り心地を実現した親油性積層体、及びその製造方法、並びに前記親油性積層体を用いた物品を提供することを目的とする。

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ 基材と、前記基材上に親油性樹脂層とを有し、
前記親油性樹脂層が、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有し、
前記親油性樹脂層が、フィラー粒子を含有し、
前記フィラー粒子の一部が前記親油性樹脂層から露出しており、
前記親油性樹脂層の表面における前記フィラー粒子の露出部分の割合が、０．１％以上であることを特徴とする親油性積層体である。
＜２＞ 親油性樹脂層が、平均粒子径が２００μｍ未満のフィラー粒子を１質量％〜３０質量％含有する前記＜１＞に記載の親油性積層体である。
＜３＞ フィラー粒子が、有機粒子、無機粒子、及び有機と無機のハイブリッド粒子の少なくともいずれかである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の親油性積層体である。
＜４＞ フィラー粒子が、親油性樹脂層の表面から露出している高さａ（μｍ）が、０．１μｍ〜２９μｍである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の親油性積層体である。
＜５＞ 親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さをａ（μｍ）、親油性樹脂層の平均厚みをＬ（μｍ）としたとき、ａ／Ｌが、０．０１〜０．６７である前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の親油性積層体である。
＜６＞ 親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さをａ（μｍ）、親油性樹脂層における、微細な凸部の平均高さ及び微細な凹部の平均深さのいずれかをＸ（μｍ）としたとき、ａ／Ｘが、２〜２００である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の親油性積層体である。
＜７＞ 前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の親油性積層体の製造方法であって、
基材上にフィラー粒子が含有された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する未硬化樹脂層形成工程と、
前記未硬化樹脂層に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤を密着させ、加圧することで、前記未硬化樹脂層に前記微細な凸部及び凹部のいずれかの形状を形成させた後、加圧を取り除き、前記微細な凸部及び凹部のいずれかの形状が保持されている状態下で前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて前記微細な凸部及び凹部のいずれかを転写することにより、親油性樹脂層を形成する親油性樹脂層形成工程とを含むことを特徴とする親油性積層体の製造方法である。
＜８＞ 転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成される前記＜７＞に記載の親油性積層体の製造方法である。
＜９＞ 転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、レーザーを前記転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより形成される前記＜７＞に記載の親油性積層体の製造方法である。
＜１０＞ 前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載の親油性積層体を表面に有することを特徴とする物品である。

本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、長期使用においても優れた耐指紋性を有しつつ、使用者にとって良好な触り心地を実現した親油性積層体、及びその製造方法、並びに前記親油性積層体を用いた物品を提供することができる。

図１Ａは、凸部を有する親油性樹脂層の表面の一例を示す原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）像である。 図１Ｂは、図１Ａのａ−ａ線に沿った断面図である。 図１Ｃは、図１Ａの親油性樹脂層の走査型電子顕微鏡像（ＳＥＭ像）である。 図２Ａは、凹部を有する親油性樹脂層の表面の一例を示すＡＦＭ像である。 図２Ｂは、図２Ａのａ−ａ線に沿った断面図である。 図３Ａは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。 図３Ｂは、図３Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。 図３Ｃは、図３ＢのトラックＴにおける断面図である。 図４は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。 図５Ａは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図５Ｂは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図５Ｃは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図５Ｄは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図５Ｅは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図６Ａは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。 図６Ｂは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。 図６Ｃは、ロール原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。 図７Ａは、転写原盤である板状の原盤の構成の一例を示す平面図である。 図７Ｂは、図７Ａに示したａ−ａ線に沿った断面図である。 図７Ｃは、図７Ｂの一部を拡大して表す断面図である。 図８は、板状の原盤を作製するためのレーザー加工装置の構成の一例を示す概略図である。 図９Ａは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図９Ｂは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図９Ｃは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。 図１０Ａは、板状の原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。 図１０Ｂは、板状の原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。 図１０Ｃは、板状の原盤により微細な凸部又は凹部を転写する工程の一例を説明するための工程図である。 図１１Ａは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。 図１１Ｂは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。 図１１Ｃは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。 図１１Ｄは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。 図１１Ｅは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。 図１１Ｆは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。 図１２Ａは、凸部の微細形状と露出しているフィラー粒子とを有する親油性樹脂層の表面状態を説明するための模式図である。 図１２Ｂは、凸部の微細形状と露出しているフィラー粒子とを有する親油性樹脂層の断面を説明するための模式図である。 図１３Ａは、凸部の微細形状と露出しているフィラー粒子とを有する親油性樹脂層の断面を示す模式図である。 図１３Ｂは、凸部の微細形状と露出しているフィラー粒子とを有する親油性樹脂層の断面を示すＳＥＭ像である。 図１４Ａは、凸部の微細形状と露出しているフィラー粒子とを有する親油性樹脂層の断面を示す模式図である。 図１４Ｂは、凸部の微細形状と露出しているフィラー粒子とを有する親油性樹脂層の断面を示すＳＥＭ像である。 図１４Ｃは、図１４Ｂにおける凸部の微細形状を拡大したＡＦＭ像である。 図１５は、実施例１の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。 図１６は、実施例２の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。 図１７は、実施例３の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。 図１８は、実施例４の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。 図１９は、実施例５の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。 図２０は、実施例６の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。 図２１は、実施例７の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。 図２２は、比較例１の親油性積層体の親油性樹脂層の表面のフィラー粒子の露出部分の割合を示す光学顕微鏡像である。

（親油性積層体）
本発明の親油性積層体は、基材と、親油性樹脂層とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
前記親油性樹脂層は、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する。
前記親油性樹脂層は、フィラー粒子を含有する。
前記フィラー粒子の一部は、前記親油性樹脂層から露出しており、前記親油性樹脂層の表面における前記フィラー粒子の露出部分の割合は、０．１％以上である。

＜基材＞
前記基材の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ＰＣ／ＰＭＭＡ積層体、ゴム添加ＰＭＭＡなどが挙げられる。

前記基材は、樹脂製基材であることが好ましい。
前記基材は、透明性を有することが好ましい。

前記基材の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、フィルム状であることが好ましい。
前記基材がフィルム状の場合、前記基材の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ〜１，０００μｍが好ましく、５０μｍ〜５００μｍがより好ましい。

前記基材としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルム、ＰＣ／ＰＭＭＡ積層体が好ましく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムがより好ましい。

前記基材の表面には、文字、模様、画像などが印刷されていてもよい。

前記基材の表面には、前記親油性積層体を成形加工時、前記基材と成形材料との密着性を高めるため、又は成形加工時の成形材料の流動圧から前記文字、前記模様、及び前記画像を保護するために、バインダー層を設けてもよい。前記バインダー層の材質としては、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、エチレンブチルアルコール系、エチレン酢酸ビニル共重合体系等の各種バインダーの他、各種接着剤を用いることができる。なお、前記バインダー層は２層以上設けてもよい。使用するバインダーは、成形材料に適した感熱性、感圧性を有するものを選択できる。

＜親油性樹脂層＞
前記親油性樹脂層は、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する。
前記親油性樹脂層は、フィラー粒子を含有する。
前記フィラー粒子の一部は、前記親油性樹脂層から露出しており、前記親油性樹脂層の表面における前記フィラー粒子の露出部分の割合は、０．１％以上である。
前記親油性樹脂層は、前記基材上に形成されている。

前記親油性樹脂層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含有することが好ましい。

前記親油性樹脂層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０.１μｍ〜１００μｍが好ましく、１μｍ〜２０μｍがより好ましい。前記親油性樹脂層の平均厚みは、後述するフィラー粒子の種類、平均粒子径、あるいは含有量を考慮し、これらのバランスをとりながら調整するとよい。
前記親油性樹脂層の平均厚みＬ（μｍ）は、以下のようにして測定することができる。

［親油性樹脂層の平均厚みＬ（μｍ）の測定］
フィルメトリクス社製Ｆ２０膜厚測定システムにより、サンプルの反射スペクトルを測定する。次に、フィルメトリクス社製ＦＩＬＭｅａｓｕｒｅ薄膜測定ソフトウェア(Ｖｅｒ.２．４．３)を用いて膜厚を反射スペクトルから算出する。

＜＜微細な凸部、及び微細な凹部＞＞
前記親油性樹脂層は、その表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有している。
前記微細な凸部及び凹部のいずれかは、前記親油性樹脂層において、前記基材側と反対側の面に形成されている。

ここで、微細な凸部とは、前記親油性樹脂層の表面において、隣接する凸部の平均距離が、１，０００ｎｍ以下であることをいう。
ここで、微細な凹部とは、前記親油性樹脂層の表面において、隣接する凹部の平均距離が、１，０００ｎｍ以下であることをいう。

前記凸部、及び前記凹部の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、錐体状、柱状、針状、球体の一部の形状（例えば、半球体状）、楕円体の一部の形状（例えば、半楕円体状）、多角形状などが挙げられる。これらの形状は数学的に定義される完全な形状である必要はなく、多少の歪みがあってもよい。

前記凸部又は前記凹部は、前記親油性樹脂層の表面に２次元配列されている。その配列は、規則的な配列であってもよいし、ランダムな配列であってもよい。前記規則的な配列としては、充填率の点から、最密充填構造が好ましい。

隣接する前記凸部の平均距離としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜８００ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍが更により好ましく、５０ｎｍ〜５００ｎｍが特に好ましい。
隣接する前記凹部の平均距離としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜８００ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍが更により好ましく、５０ｎｍ〜５００ｎｍが特に好ましい。
隣接する前記凸部の平均距離及び隣接する前記凹部の平均距離が、前記好ましい範囲内であると、前記親油性樹脂層に付着した指紋成分が、効果的に濡れ広がる。また、指紋払拭性が高くなる。前記平均距離が、前記特に好ましい範囲内であると、指紋成分が濡れ広がる効果、及び指紋払拭性向上効果は顕著になる。

前記凸部の平均高さとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましく、１０ｎｍ〜１５０ｎｍが特に好ましい。
前記凹部の平均深さとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましく、１０ｎｍ〜１５０ｎｍが特に好ましい。
前記凸部の平均高さ及び前記凹部の平均深さが、前記好ましい範囲内であると、前記親油性樹脂層に付着した指紋成分が、効果的に濡れ広がる。また、指紋払拭性が高くなる。
前記平均高さ及び前記平均深さが、前記特に好ましい範囲内であると、指紋成分が濡れ広がる効果、及び指紋払拭性向上効果は顕著になる。

前記凸部の平均アスペクト比（前記凸部の平均高さ／隣接する前記凸部の平均距離）及び前記凹部の平均アスペクト比（前記凹部の平均深さ／隣接する前記凹部の平均距離）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１〜１，０００が好ましく、０．０１〜５０がより好ましく、０．０４〜３．０が特に好ましい。
前記凸部の平均アスペクト比及び前記凹部の平均アスペクト比が、前記好ましい範囲内であると、前記親油性樹脂層に付着した指紋成分が、効果的に濡れ広がる。また、指紋払拭性が高くなる。前記アスペクト比が、前記特に好ましい範囲内であると、指紋成分が濡れ広がる効果、及び指紋払拭性向上効果は顕著になる。

ここで、凸部又は凹部の平均距離（Ｐｍ）、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ（Ｈｍ：本発明では、「Ｘ」ともいう）は、以下のようにして測定できる。
尚、ここで、Ｘは、Ｈｍと同じ凸部の平均高さ又は凹部の平均深さを表すが、後述するａ／Ｘ値を算出するため、Ｈｍの（ｎｍ）単位を（μｍ）単位に換えたものである（Ｈｍ（ｎｍ）＝Ｘ（μｍ））。

［Ｐｍ（ｎｍ）、Ｈｍ（ｎｍ）の測定］
まず、凸部又は凹部を有する前記親油性樹脂層の表面Ｓを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、ＡＦＭの断面プロファイルから凸部又は凹部のピッチ、及び凸部の高さ又は凹部の深さを求める。これを前記親油性樹脂層の表面から無作為に選び出された１０箇所において繰り返し行い、ピッチＰ１、Ｐ２、・・・、Ｐ１０と、高さ又は深さＨ１、Ｈ２、・・・、Ｈ１０とを求める。
ここで、前記凸部のピッチは、前記凸部の頂点間の距離である。前記凹部のピッチは、前記凹部の最深部間の距離である。前記凸部の高さは、前記凸部間の谷部の最低点を基準とした前記凸部の高さである。前記凹部の深さは、前記凹部間の山部の最高点を基準とした前記凹部の深さである。
次に、これらのピッチＰ１、Ｐ２、・・・、Ｐ１０、及び高さ又は深さＨ１、Ｈ２、・・・、Ｈ１０をそれぞれ単純に平均（算術平均）して、凸部又は凹部の平均距離（Ｐｍ）、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ（Ｈｍ）を求める。
なお、前記凸部又は凹部のピッチが面内異方性を有している場合には、ピッチが最大となる方向のピッチを用いて前記Ｐｍを求めるものとする。また、前記凸部の高さ又は前記凹部の深さが面内異方性を有している場合には、高さ又は深さが最大となる方向の高さ又は深さを用いて前記Ｈｍを求めるものとする。
また、前記凸部又は凹部が棒状の場合には、短軸方向のピッチを、前記ピッチとして測定する。
なお、前記ＡＦＭ観察においては、断面プロファイルの凸の頂点、又は凹の底辺が、立体形状の凸部の頂点、又は凹部の最深部と一致するようにするため、断面プロファイルを、測定対象となる立体形状の凸部の頂点、又は立体形状の凹部の最深部を通る断面となるように、切り出している。

ここで、前記親油性樹脂層の表面に形成されている微細な形状が、凸部であるか、凹部であるかは、以下のようにして判断することができる。
凸部又は凹部を有する前記親油性樹脂層の表面Ｓを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、断面及び前記表面ＳのＡＦＭ像を得る。
そして、表面のＡＦＭ像を、最表面側を明るい像、深部側を暗い像にした場合、暗い像の中に、明るい像が島状に形成されている場合、その表面は、凸部を有するものとする。
一方、明るい像の中に、暗い像が島状に形成されている場合、その表面は、凹部を有するものとする。
例えば、図１Ａ及び図１Ｂに示す表面及び断面のＡＦＭ像を有する親油性樹脂層の表面は、凸部を有している。図２Ａ及び図２Ｂに示す表面及び断面のＡＦＭ像を有する表面は、凹部を有している。

隣接する前記凸部又は前記凹部は、離間していることが好ましい。前記離間の平均距離（平均離間距離）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ〜９９９ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜７９５ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜４９０ｎｍが更に好ましく、１００ｎｍ〜１９０ｎｍが特に好ましい。前記平均離間距離が、前記好ましい範囲内であると、前記親油性樹脂層に付着した指紋成分が、効果的に濡れ広がる。また、指紋払拭性が高まる。前記平均離間距離が、前記特に好ましい範囲内であると、指紋成分が濡れ広がる効果、及び指紋払拭性向上効果は顕著になる。

ここで、離間する前記凸部又は前記凹部の平均離間距離（Ｄｍ）は、以下のようにして測定できる。
まず、前記親油性樹脂層の表面Ｓを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、表面ＳＥＭ像から隣接する凸部又は凹部の離間距離を求める。前記離間距離は、前記表面Ｓを上面から見た場合の、隣接する凸部又は凹部の外縁間の最短距離である。前記親油性樹脂層の表面から無作為に選び出された１０箇所において繰り返し測定を行い、離間距離Ｄ１、Ｄ２、・・・、Ｄ１０を求める。
次に、これらの離間距離Ｄ１、Ｄ２、・・・、Ｄ１０を単純に平均（算術平均）して、凸部又は凹部の平均離間距離（Ｄｍ）を求める。
例えば、図１Ａ及び図１Ｂに示す表面及び断面のＡＦＭ像を有する親油性樹脂層のＳＥＭ写真を図１Ｃに示す。図１Ｃにおいて、凸部のピッチ（Ｐ）は、３１０ｎｍであり、凸部の離間距離（Ｄ）は、１７０ｎｍである。

＜＜フィラー粒子＞＞
前記親油性樹脂層は、フィラー粒子を含有する。
前記フィラー粒子としては、特に制限はなく、例えば、有機粒子、無機粒子、及び有機と無機のハイブリッド粒子のいずれも用いることができる。

前記有機粒子としては、例えば、アクリル系粒子、ポリウレタン系粒子、ポリスチレン系粒子、ポリオレフィン系粒子、ポリエステル系粒子などが挙げられる。
前記無機粒子としては、例えば、シリカ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子、酸化ニオブ粒子などが挙げられる。
前記有機と無機のハイブリッド粒子としては、例えば、シリコーン粒子、シリコーンゴム粒子、シラノール基含有ポリマー粒子、シルセスキオキサン粒子、有機コア／シリコーンシェル粒子、有機コア／シリコーンゴムシェル粒子、その他有機コア／無機シェル粒子、無機コア／有機シェル粒子などが挙げられる。

前記フィラー粒子の形状としては、特に制限はないが、例えば、球形であるとよい。ここで球形とは、略球形であればよく、例えば、球のみに限られず、楕円体、おわん形状、雪だるま形状であってもよい。

前記フィラー粒子の数平均粒子径は、特に制限はなく、前述した親油性樹脂層の平均厚みやフィラー粒子の種類を考慮したうえで適宜選択することができるが、２００μｍ未満であるとよい。これを超える場合は、本発明の所望とする親油性樹脂層が成膜できず、あるいはフィラー粒子の露出度を所望の範囲に調整するのが難しくなり、本発明の効果を得られないからである。

前記フィラー粒子の数平均粒子径としては、０．５μｍ〜１００μｍがより好ましく、１μｍ〜２０μｍが特に好ましい。

［平均粒子径の測定］
ここで、フィラー粒子の平均粒子径は、例えば、ＳＡＬＤ−７５００ｎａｎｏ（株式会社島津製作所製）により測定することができる。

本発明では、後述する親油性積層体の製造方法により製造した際、転写原盤を密着させ加圧する工程において、フィラー粒子が転写原盤により押され多少潰れる場合があるが、加圧を除去することにより、フィラー粒子はほとんどもとの形状に戻るため、転写原盤を密着する前と後とでフィラー粒子の粒径が大きく変わることはなく、ほぼ同じであると考えてよい。
尚、本発明では、親油性積層体を製造した後の親油性樹脂層中のフィラー粒子の粒径（ｂ）を以下のようにして測定することができる。

［フィラー粒子の粒子径（ｂ）の測定］
フィラー粒子の露出部の高さのピークあたりでＳＥＭの断面画像を撮り、該ＳＥＭ像をもとに計測することができる。

本発明では、転写原盤を密着・加圧させた際、フィラー粒子が多少潰れることにより、楕円体や雪だるま形状になり、親油性樹脂層に取り込まれることがあるが、その場合、フィラー粒子の粒径は、親油性樹脂層の平均厚みの方向での長さとする。つまり、図１３Ａ、及び図１４Ａにおいて、ｂが粒子径に相当する。

前記親油性樹脂層における前記フィラー粒子の含有量は、１質量％〜３０質量％が好ましく、１質量％〜１０質量％がより好ましい。フィラー粒子の含有量が、少なすぎるとフィラー粒子の露出部分が少なくなり、本発明の効果が十分発揮されず、多すぎると、成膜するために親油性樹脂層の平均厚みが厚くなり、フィラー粒子の露出部分が少なくなり、本発明の効果が十分発揮されない。

前記フィラー粒子のガラス転移温度（Ｔｇ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２５℃以上が好ましい。前記Ｔｇは、例えば、示差走査熱量測定装置や熱機械分析装置により求めることができる。

＜＜フィラー粒子の露出＞＞
前記フィラー粒子の一部は、前記親油性樹脂層から露出している。
表面に微細な凸部又は凹部が形成された前記親油性樹脂層にフィラー粒子が露出している様子を図１２Ａ及び図１２Ｂの模式図を用いて説明する。図１２Ａにおいて、基材（６３）上に凸部の微細形状が表面に施された親油性樹脂層（６２）が形成されており、フィラー粒子（６１）の一部が、前記親油性樹脂層（６２）から露出している。

前記親油性樹脂層の表面における前記フィラー粒子の露出部分の割合は、０．１％以上である。
この要件を満足する本発明の親油性積層体は、長期使用においても優れた耐指紋性を有しつつ、良好な触り心地の親油性積層体となる。
微細な凸部又は凹部の形状とフィラー粒子の露出の程度がバランスよく形成されているため、これらが相互に作用し、優れた触り心地、及び優れた耐指紋性を達成しているものと思われる。フィラー粒子の露出割合は少なくても多すぎても、触り心地は悪くなる。また、露出している部分が指紋汚れを目立たなくしており、且つ指紋汚れを吸収し汚れをつきにくくしていると思われる。
前記フィラー粒子の露出部分の割合を上記所望の範囲とするには、フィラー粒子の種類、フィラー粒子の平均粒子径、フィラー粒子の含有量、親油性樹脂層の平均厚みＬ（μｍ）などを考慮し、フィラー粒子が露出する高さａ（μｍ）を好適な範囲に調整し、さらに親油性樹脂層の凸部の平均高さや凹部の平均深さなども考慮し、それら各要件のバランスを図る必要がある。

また、本発明では、親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さａ（μｍ）が０．１μｍ〜２９μｍであるとより好ましい。
露出している高さａは、フィラー粒子の種類、平均粒子径、含有量、親油性樹脂層の平均厚みＬなどを考慮して、適宜調整するとよい。
フィラー粒子の露出の高さａが、上記範囲を超えると、触り心地は悪化し、また親油性樹脂層がきれいに成膜できないことがある。

本発明では、親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さをａ（μｍ）、親油性樹脂層の平均厚みをＬ（μｍ）としたとき、ａ／Ｌが、０．０１〜０．６７であるとより好ましい。
また、親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さをａ（μｍ）、親油性樹脂層における、微細な凸部の平均高さ及び微細な凹部の平均深さのいずれかをＸ（μｍ）としたとき、ａ／Ｘが、２〜２００であるとより好ましい。

図１２Ｂは、図１２Ａで示す凸部の微細形状と露出しているフィラー粒子とを有する親油性樹脂層を断面から見た図である。図１２Ｂにおいて、親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さａ（μｍ）、親油性樹脂層の平均厚みＬ（μｍ）、及び微細な凸部の平均高さ又は微細な凹部の平均深さＸ（μｍ）が示されている。
上述したａ、ａ／Ｌ、及びａ／Ｘの値を考慮し、前記フィラー粒子の露出部分の割合を所望の範囲とした本発明の親油性積層体は、親油性樹脂層がきれいに成膜でき、フィラー粒子が安定して親油性樹脂層に埋め込まれおり、さらに、長期に亘る耐指紋性と、良好な触り心地のいずれも満足するものとなっている。

凸部の微細形状にフィラー粒子が露出している本発明の親油性樹脂層の断面図の一例を示す。
図１３Ｂは、本発明の親油性樹脂層の断面のＳＥＭ像である。該図１３Ｂにおける親油性樹脂層とフィラー粒子の位置関係を説明するための模式図を図１３Ａに示す。図１３ではフィラー粒子として無機粒子が使われている。
また、図１４Ｂは、本発明の他の一例を示す親油性樹脂層の断面のＳＥＭ像である。また、図１４Ｂにおいて、フィラー粒子がない所の凸形状の拡大した画像（ＡＦＭ像）を図１４Ｃに示す。該図１４Ｂにおける親油性樹脂層とフィラー粒子の位置関係を説明するための模式図を図１４Ａに示す。図１４ではフィラー粒子として有機粒子が使われている。後述する製造方法により、親油性樹脂の表面に凸形状を形成させたところ、その製造工程において、有機粒子が面方向に若干潰れたため有機粒子は雪だるま形状になっている。

ここで、親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合、フィラー粒子が露出している高さａ（μｍ）は以下のように測定される。

［フィラー粒子の露出部分の割合の測定］
本発明の親油性積層体を１００ｍｍ×１００ｍｍ切り出したサンプルを、黒色アクリル板(三菱レイヨン製アクリライト５０２黒)に貼合し、光学顕微鏡（ＶＨＸ−９００：キーエンス社製）で７００倍で観察する。このとき、サンプル表面にピントを合わせ、画像（４００μｍ×３００μｍ）を撮影する。これを任意の１０点で繰り返し行う。次に、これらの画像を粒子によって突出している部分が黒くなるように２値化画像処理を行い、ＩｍａｇｅＪ １．４７の解析ソフトを用い、前記画像全体に占める黒色部の割合を算出し、その１０点平均をフィラー粒子の露出部分の割合（フィラー粒子の表面占有面積）とする。

［フィラー粒子の露出高さａ（μｍ）の測定］
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、フィラー粒子の露出部の高さのピークあたりのＳＥＭの断面画像を撮り、該ＳＥＭ像をもとに高さａ１を測定する。高さａ１を測定する際のゼロの基準は、図１２Ｂで示すように、凸部又は凹部が形成された親油性樹脂層において、凸部であれば凸部の頂点、凹部であれば山部の最高点とする。凸部における頂点、又は凹部における山部の最高点を１０箇所選び、その平均の高さを基準として、そこからフィラー粒子の頂点までの距離を測定することにより、フィラー粒子が露出している高さａ１を得る。粒子１０個の断面ＳＥＭ画像をもとに、各ＳＥＭ画像から得られたａ１値を平均して、ａ（μｍ）を求める。

＜＜活性エネルギー線硬化性樹脂組成物＞＞
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、多官能（メタ）アクリルモノマーと、光重合開始剤と、前記フィラー粒子とを少なくとも含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。

−多官能（メタ）アクリルモノマー−
前記多官能（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化（３）ビスフェノールＡジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、アクリレートエステル（ジオキサングリコールジアクリレート）、エトキシ化（４）ビスフェノールＡジアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、エトキシ化（４）ビスフェノールＡジメタクリレート、エトキシ化（６）ビスフェノールＡジメタクリレートなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

また、前記多官能（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、二官能ウレタン（メタ）アクリレート、二官能エポキシ（メタ）アクリレート、二官能ポリエステル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

前記二官能ウレタン（メタ）アクリレートは、市販品であってもよい。前記市販品としては、例えば、サートマー社製のＣＮ９４０、ＣＮ９６３、ＣＮ９６３Ａ８０、ＣＮ９６３Ｂ８０、ＣＮ９６３Ｅ７５、ＣＮ９６３Ｅ８０、ＣＮ９８２Ａ７５、ＣＮ９８２Ｂ８８、ＣＮ９８３、ＣＮ９８５Ｂ８８、ＣＮ９００１、ＣＮ９０１１、ＣＮ９０２Ｊ７５、ＣＮ９７７Ｃ７０、ＣＮ９９９、ＣＮ１９６３、ＣＮ２９２０、ダイセル・サイテック株式会社製のＥＢＥＣＲＹＬ ２８４、共栄社化学株式会社製のＡＴ−６００、ＵＦ−８００１Ｇなどが挙げられる。

前記二官能エポキシ（メタ）アクリレートは、市販品であってもよい。前記市販品としては、例えば、サートマー社製のＣＮ１０４、ＣＮ１０４Ａ８０、ＣＮ１０４Ｂ８０、ＣＮ１０４Ｄ８０、ＣＮ１１５、ＣＮ１１７、ＣＮ１２０、ＣＮ１２０Ａ７５、ＣＮ１２０Ｂ６０、ＣＮ１２０Ｂ８０、ＣＮ１２０Ｃ６０、ＣＮ１２０Ｃ８０、ＣＮ１２０Ｄ８０、ＣＮ１２０Ｅ５０、ＣＮ１２０Ｍ５０、ＣＮ１３６、ＣＮ１５１、ＣＮ ＵＶＥ１５１、ＣＮ ＵＶＥ１５０／８０、ＣＮ２１００、ダイセル・サイテック株式会社製のＥＢＥＣＲＹＬ ６００、 ＥＢＥＣＲＹＬ ６０５、 ＥＢＥＣＲＹＬ ３７００、 ＥＢＥＣＲＹＬ ３７０１、 ＥＢＥＣＲＹＬ ３７０２、 ＥＢＥＣＲＹＬ ３７０３、共栄社化学株式会社製の７０ＰＡ、２００ＰＡ、８０ＭＦＡ、３００２Ａ、３０００Ａなどが挙げられる。

前記二官能ポリエステル（メタ）アクリレートは、市販品であってもよい。前記市販品としては、例えば、サートマー社製のＣＮ２２０３、ＣＮ２２７２などが挙げられる。

前記多官能（メタ）アクリルモノマーのガラス転移温度（Ｔｇ）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０℃以上であることが好ましい。前記Ｔｇは、例えば、前記多官能（メタ）アクリルモノマー１００質量部に対して前記重合開始剤を５質量部配合し、水銀ランプを用いて、照射量１，０００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して得た硬化物を試験片として用い、示差走査熱量測定装置や熱機械分析装置により求めることができる。

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記多官能（メタ）アクリルモノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１５．０質量％〜９９．９質量％が好ましく、５０．０質量％〜９９．０質量％がより好ましく、７５．０質量％〜９８．０質量％が特に好ましい。

−光重合開始剤−
前記光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤、ビスアジド化合物、ヘキサメトキシメチルメラミン、テトラメトキシグリコユリルなどが挙げられる。
前記光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エトキシフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、１−フェニル２−ヒドロキシ−２メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニルエタンジオン、メチルフェニルグリオキシレートなどが挙げられる。

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記光重合開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１質量％〜１０質量％が好ましく、０．５質量％〜８質量％がより好ましく、１質量％〜５質量％が特に好ましい。

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、使用時には、有機溶剤を用いて希釈して用いることができる。前記有機溶剤としては、例えば、芳香族系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、グリコールエーテル系溶媒、グリコールエーテルエステル系溶媒、塩素系溶媒、エーテル系溶媒、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。

前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線が照射されることにより硬化する。前記活性エネルギー線としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線等）、マイクロ波、高周波などが挙げられる。

前記親油性樹脂層のマルテンス硬度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０Ｎ／ｍｍ^２〜３００Ｎ／ｍｍ^２が好ましく、１００Ｎ／ｍｍ^２〜３００Ｎ／ｍｍ^２がより好ましい。前記親油性積層体を成形加工する際、例えば、ポリカーボネートの射出成形時には、親油性積層体は、２９０℃、２００ＭＰａで加熱加圧される。このとき、前記親油性樹脂層の表面の微細な凸部及び凹部のいずれかは変形することがある。前記変形としては、例えば、微細な凸部の高さが低くなること、微細な凹部の深さが浅くなることなどがある。耐指紋性に影響がない範囲では変形してもよいが、変形しすぎるとオレイン酸接触角が高くなり耐指紋性が低下する。前記マルテンス硬度が、５０Ｎ／ｍｍ^２未満であると、前記親油性積層体を成形加工する際に前記親油性樹脂層の表面の微細な凸部及び凹部のいずれかが変形しすぎてしまい、オレイン酸接触角が高くなり耐指紋性が低下すること、及び、前記親油性積層体を製造又は成形加工する際のハンドリング及び面清掃等の、通常使用時の面清掃などで前記親油性樹脂層に傷が入り易いことがある。前記マルテンス硬度が、３００Ｎ／ｍｍ^２を超えると、成形加工時、前記親油性樹脂層にクラックが発生したり、前記親油性樹脂層が剥離することがある。前記マルテンス硬度が、前記特に好ましい範囲内であると、前記親油性積層体を、耐指紋性を低下させることなく、且つ傷付き、クラック、剥離等の不良を発生させることなく、様々な三次元形状に容易に成形加工できる点で有利である。
なお、前記親油性積層体を成形加工後、前記親油性樹脂層には射出成形工程にて高温高圧が加わるため、成形加工前よりも前記親油性樹脂層のマルテンス硬度が高まることがある。
前記マルテンス硬度は、例えば、ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ ＨＭ５００（商品名；フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて測定できる。荷重１ｍＮ／２０ｓとし、針としてダイアモンド錐体を用い、面角１３６°で測定する。

前記親油性樹脂層の鉛筆硬度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、Ｈ〜４Ｈが好ましい。前記鉛筆硬度が、Ｈ未満である（Ｈより柔らかい）と、前記親油性積層体を製造又は成形加工する際のハンドリングや面清掃等の、通常使用時の面清掃などで前記親油性樹脂層に傷が入り易い。また、前記親油性積層体を成形加工する際に前記親油性樹脂層の表面の微細な凸部及び凹部のいずれかが変形しすぎてしまい、オレイン酸接触角が高くなり耐指紋性が低下することがある。前記鉛筆硬度が、４Ｈを超える（４Ｈより硬い）と、成形加工時、前記親油性樹脂層にクラックが発生したり、前記親油性樹脂層が剥離することがある。前記鉛筆硬度が、前記特に好ましい範囲内であると、前記親油性積層体を、耐指紋性を低下させることなく、且つ傷付き、クラック、剥離等の不良を発生させることなく、様々な三次元形状に容易に成形加工できる点で有利である。
なお、前記親油性積層体を成形加工後、前記親油性樹脂層には射出成形工程にて高温高圧が加わるため、成形加工前よりも前記親油性樹脂層の鉛筆硬度が高まることがある。
前記鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４に従って測定する。

＜その他の部材＞
前記その他の部材としては、アンカー層、保護層、粘着層、接着層などが挙げられる。

＜＜アンカー層＞＞
前記アンカー層は、前記基材と、前記親油性樹脂層との間に設けられる層である。
前記親油性積層体に前記アンカー層を設けることにより、前記基材と前記親油性樹脂層との接着性を向上できる。
前記アンカー層の屈折率は、干渉ムラを防止するために、前記親油性樹脂層の屈折率と近いことが好ましい。そのため、前記アンカー層の屈折率は、前記親油性樹脂層の屈折率の±０．１０以内が好ましく、±０．０５以内がより好ましい。または、前記アンカー層の屈折率は、前記親油性樹脂層の屈折率と前記基材の屈折率との間であることが好ましい。

前記アンカー層は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布することにより形成できる。前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートと、光重合開始剤とを少なくとも含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。前記ウレタン（メタ）アクリレート、前記光重合開始剤としては、例えば、前記親油性樹脂層の説明において例示した前記二官能ウレタン（メタ）アクリレート、前記光重合開始剤がそれぞれ挙げられる。前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースロールコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、カーテンコーティング、コンマコート法、ディッピング法などが挙げられる。

前記アンカー層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．１μｍ〜５μｍがより好ましく、０．３μｍ〜３μｍが特に好ましい。

なお、前記アンカー層には、反射率低減や帯電防止の機能を付与してもよい。

＜＜保護層＞＞
前記保護層としては、前記親油性樹脂層上に形成された、前記親油性積層体を製造又は成形加工する際に、前記親油性樹脂層が傷付くのを防止する層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。前記保護層は、前記親油性積層体を使用する際には、剥がされる。

＜＜粘着層、接着層＞＞
前記粘着層及び前記接着層としては、前記基材上に形成され、前記親油性積層体を、被加工物、被着体などに接着させる層であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記親油性積層体の伸び率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０％以上が好ましく、１０％〜２００％がより好ましく、４０％〜１５０％が特に好ましい。前記伸び率が、１０％未満であると、成形加工が困難になることがある。前記伸び率が、前記特に好ましい範囲内であると、成形加工性に優れる点で有利である。
前記伸び率は、例えば、以下の方法により求めることができる。
前記親油性積層体を、長さ１０．５ｃｍ×幅２．５ｃｍの短冊状にして測定試料とする。得られた測定試料の引張り伸び率を引張り試験機（オートグラフＡＧ−５ｋＮＸｐｌｕｓ、株式会社島津製作所製）で測定（測定条件：引張り速度＝１００ｍｍ／ｍｉｎ；チャック間距離＝８ｃｍ）する。測定試料を目視で観察しながら測定を行い、親油性積層体にクラックが発生する直前の伸び率を求める。これをＮ＝５個の測定試料で求め、それらの平均値を親油性積層体の伸び率とする。なお、前記伸び率の値は、室温（２５℃）又は前記基材の軟化点で測定した際に満たしていればよい。

前記親油性積層体は、前記親油性積層体の面内におけるＸ方向とＹ方向の加熱収縮率差が小さい方が好ましい。前記親油性積層体の前記Ｘ方向と前記Ｙ方向とは、例えば、親油性積層体がロール形状の場合、ロールの長手方向と幅方向とに相当する。成形時の加熱工程に使用する加熱温度にて、親油性積層体におけるＸ方向の加熱収縮率とＹ方向の加熱収縮率との差は５％以内であることが好ましい。この範囲外であると、成形加工時に、前記親油性樹脂層に剥離やクラックが発生したり、基材の表面に印刷された前記文字、前記模様、前記画像などが変形や位置ズレを起こしてしまい、成形加工が困難になることがある。

前記親油性積層体は、インモールド成形用フィルム、インサート成形用フィルム、オーバーレイ成形用フィルムに特に適している。

前記親油性積層体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下に記載する本発明の親油性積層体の製造方法などが挙げられる。

（親油性積層体の製造方法）
本発明の親油性積層体の製造方法は、未硬化樹脂層形成工程と、親油性樹脂層形成工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
前記親油性積層体の製造方法は、本発明の前記親油性積層体を製造する方法である。

＜未硬化樹脂層形成工程＞
前記未硬化樹脂層形成工程としては、基材上にフィラー粒子が含有された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親油性積層体の説明において例示した前記基材などが挙げられる。
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親油性積層体の前記親油性樹脂層の説明において例示した前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。

前記未硬化樹脂層は、前記基材上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して、必要に応じて乾燥を行うことにより形成される。前記未硬化樹脂層は、固体の膜であってもよいし、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される低分子量の硬化性成分によって流動性を有した膜であってもよい。

前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースロールコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、カーテンコーティング、コンマコート法、ディッピング法などが挙げられる。

前記未硬化樹脂層は、活性エネルギー線が照射されていないため、硬化していない。

前記未硬化樹脂層形成工程においては、アンカー層が形成された前記基材の前記アンカー層上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して前記未硬化樹脂層を形成してもよい。
前記アンカー層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親油性積層体の説明において例示した前記アンカー層などが挙げられる。

＜親油性樹脂層形成工程＞
前記親油性樹脂層形成工程としては、前記未硬化樹脂層に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤を密着させ、加圧することで、前記未硬化樹脂層に前記微細な凸部及び凹部のいずれかの形状を形成させた後、加圧を取り除き、前記微細な凸部及び凹部のいずれかの形状が保持されている状態下で前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて前記微細な凸部及び凹部のいずれかを転写することにより、親油性樹脂層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

−転写原盤−
前記転写原盤は、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する。
前記転写原盤の材質、大きさ、構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかの形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成することが好ましい。また、レーザーを前記転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより形成することが好ましい。

−活性エネルギー線−
前記活性エネルギー線としては、前記未硬化樹脂層を硬化させる活性エネルギー線であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記親油性積層体の説明において例示した前記活性エネルギー線などが挙げられる。

ここで、前記親油性樹脂層形成工程の具体例を、図を用いて説明する。

＜＜第１の実施形態＞＞
第１の実施形態は、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として転写原盤の表面をエッチングすることにより微細な凸部及び凹部のいずれかを形成した転写原盤を用いて行う前記親油性樹脂層形成工程の一例である。

まず、転写原盤及びその製造方法について説明する。

［転写原盤の構成］
図３Ａは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図３Ｂは、図３Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。図３Ｃは、図３ＢのトラックＴにおける断面図である。ロール原盤２３１は、上述した構成を有する親油性積層体を作製するための転写原盤、より具体的には、前記親油性樹脂層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための原盤である。ロール原盤２３１は、例えば、円柱状又は円筒状の形状を有し、その円柱面又は円筒面が親油性樹脂層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための成形面とされる。この成形面には、例えば、複数の構造体２３２が２次元配列されている。図３Ｃにおいて、構造体２３２は、成形面に対して凹状を有している。ロール原盤２３１の材料としては、例えば、ガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。

ロール原盤２３１の成形面に配置された複数の構造体２３２と、前記親油性樹脂層の表面に配置された複数の凸部又は凹部とは、反転した凹凸関係にある。すなわち、ロール原盤２３１の構造体２３２の配列、大きさ、形状、配置ピッチ、高さ又は深さ、及びアスペクト比などは、前記親油性樹脂層の凸部又は凹部と同様である。

［ロール原盤露光装置］
図４は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。

レーザー光源２４１は、記録媒体としてのロール原盤２３１の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば、波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザー光２３４を発振するものである。レーザー光源２４１から出射されたレーザー光２３４は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）２４２へ入射する。電気光学素子２４２を透過したレーザー光２３４は、ミラー２４３で反射され、変調光学系２４５に導かれる。

ミラー２４３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー２４３を透過した偏光成分はフォトダイオード２４４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子２４２を制御してレーザー光２３４の位相変調を行う。

変調光学系２４５において、レーザー光２３４は、集光レンズ２４６により、ガラス（ＳｉＯ_２）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Ａｃｏｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉｃ Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）２４７に集光される。レーザー光２３４は、音響光学素子２４７により強度変調され発散した後、レンズ２４８によって平行ビーム化される。変調光学系２４５から出射されたレーザー光２３４は、ミラー２５１によって反射され、移動光学テーブル２５２上に水平かつ平行に導かれる。

移動光学テーブル２５２は、ビームエキスパンダ２５３、及び対物レンズ２５４を備えている。移動光学テーブル２５２に導かれたレーザー光２３４は、ビームエキスパンダ２５３により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ２５４を介して、ロール原盤２３１上のレジスト層へ照射される。ロール原盤２３１は、スピンドルモータ２５５に接続されたターンテーブル２５６の上に載置されている。そして、ロール原盤２３１を回転させると共に、レーザー光２３４をロール原盤２３１の高さ方向に移動させながら、ロール原盤２３１の周側面に形成されたレジスト層へレーザー光２３４を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザー光２３４の移動は、移動光学テーブル２５２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。

露光装置は、上述した複数の凸部又は凹部の２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構２５７を備えている。制御機構２５７は、フォーマッタ２４９とドライバ２５０とを備える。フォーマッタ２４９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光２３４の照射タイミングを制御する。ドライバ２５０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子２４７を制御する。

このロール原盤露光装置では、２次元パターンが空間的にリンクするように１トラック毎に極性反転フォーマッタ信号と回転コントローラを同期させて信号を発生し、音響光学素子２４７により強度変調している。角速度一定（ＣＡＶ）で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子パターンなどの２次元パターンを記録することができる。

［レジスト成膜工程］
まず、図５Ａの断面図に示すように、円柱状又は円筒状のロール原盤２３１を準備する。このロール原盤２３１は、例えば、ガラス原盤である。次に、図５Ｂの断面図に示すように、ロール原盤２３１の表面にレジスト層（例えば、フォトレジスト）２３３を形成する。レジスト層２３３の材料としては、例えば、有機系レジスト、無機系レジストなどが挙げられる。前記有機系レジストとしては、例えば、ノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどが挙げられる。前記無機系レジストとしては、例えば、金属化合物などが挙げられる。

［露光工程］
次に、図５Ｃの断面図に示すように、ロール原盤２３１の表面に形成されたレジスト層２３３に、レーザー光（露光ビーム）２３４を照射する。具体的には、図４に示したロール原盤露光装置のターンテーブル２５６上にロール原盤２３１を載置し、ロール原盤２３１を回転させると共に、レーザー光（露光ビーム）２３４をレジスト層２３３に照射する。このとき、レーザー光２３４をロール原盤２３１の高さ方向（円柱状又は円筒状のロール原盤２３１の中心軸に平行な方向）に移動させながら、レーザー光２３４を間欠的に照射することで、レジスト層２３３を全面にわたって露光する。これにより、レーザー光２３４の軌跡に応じた潜像２３５が、レジスト層２３３の全面にわたって形成される。

潜像２３５は、例えば、ロール原盤表面において複数列のトラックＴをなすように配置されると共に、所定の単位格子Ｕｃの規則的な周期パターンで形成される。潜像２３５は、例えば、円形状又は楕円形状である。潜像２３５が楕円形状を有する場合には、その楕円形状は、トラックＴの延在方向に長軸方向を有することが好ましい。

［現像工程］
次に、例えば、ロール原盤２３１を回転させながら、レジスト層２３３上に現像液を滴下して、レジスト層２３３を現像処理する。これにより、図５Ｄの断面図に示すように、レジスト層２３３に複数の開口部が形成される。レジスト層２３３をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光２３４で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、図５Ｄの断面図に示すように、潜像（露光部）２３５に応じたパターンがレジスト層２３３に形成される。開口部のパターンは、例えば、所定の単位格子Ｕｃの規則的な周期パターンである。

［エッチング工程］
次に、ロール原盤２３１の上に形成されたレジスト層２３３のパターン（レジストパターン）をマスクとして、ロール原盤２３１の表面をエッチング処理する。これにより、図５Ｅの断面図に示すように、錐体形状を有する構造体（凹部）２３２を得ることができる。錐体形状は、例えば、トラックＴの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状又は楕円錐台形状であることが好ましい。前記エッチングとしては、例えば、ドライエッチング、ウエットエッチングを用いることができる。このとき、エッチング処理とアッシング処理とを交互に行うことにより、例えば、錐体状の構造体２３２のパターンを形成することができる。以上により、目的とするロール原盤２３１が得られる。

［転写処理］
図６Ａの断面図に示すような露出したフィラー粒子６１を有する未硬化樹脂層２３６が形成された樹脂製基材２１１を用意する。
次に、図６Ｂの断面図に示すように、ロール原盤２３１と、樹脂製基材２１１上に形成された未硬化樹脂層２３６とを密着・加圧させ、未硬化樹脂層２３６に微細な凸部及び凹部のいずれか２１２ａを形成させた後、加圧を除去し、微細な凸部及び凹部のいずれか２１２ａの形状が保持されている状態下で、未硬化樹脂層２３６に活性エネルギー線２３７を照射し未硬化樹脂層２３６を硬化させて微細な凸部及び凹部のいずれかを転写し、微細な凸部及び凹部のいずれか２１２ａが形成された、露出したフィラー粒子６１を有する親油性樹脂層２１２を得る（図６Ｃ）。
上記の工程により、微細な凸部又は凹部の形状とフィラー粒子の露出部分とを両方有する表面層が形成できる。

ロール原盤を用いて密着・加圧させる際、未硬化樹脂層中のフィラー粒子がロール原盤によって押され多少潰れる場合があるが、加圧を除去することにより、もとの形状にほとんど戻り、その状態で活性エネルギー線が照射され、未硬化樹脂層が硬化するため、何ら支障なく、本発明の親油性積層体を作製することができる。尚、本発明では、密着・加圧時にフィラー粒子が多少潰れることにより、楕円体や雪だるま形状になり、その状態で、未硬化樹脂層が硬化され、硬化層にとりこまれることがあるが、そのような場合であってもよい。

ロール原盤を密着・加圧させる際、無機粒子は多少潰れるが、有機粒子の潰れ具合に比べるとその割合は少ない。そこで、密着・加圧時の時間、圧力は、フィラー粒子の種類、粒径、含有量、並びに、フィラー粒子の露出高さａ、及び親油性樹脂層の平均厚みＬを考慮し、適宜条件を設定するとよい。

ロール原盤を未硬化樹脂層に密着させる押し圧の程度は、フィラー粒子の露出部分以外の親油性樹脂層の表面部分に凹部又は凸部の形状が転写される程度であればよい。
尚、露出しているフィラー粒子の露出部分には、微細な凸部及び凹部のいずれかの形状が転写されても、されなくても、いずれの場合であってもよい。

加圧を除去した後、微細な凸部及び凹部のいずれかの形状が保持されている状態下で、未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射する。
本発明においては、おおむね１秒を目安に照射するとよい。

樹脂製基材２１１が紫外線などの活性エネルギー線を透過しない材料で構成されている場合には、活性エネルギー線を透過可能な材料（例えば、石英）でロール原盤２３１を構成し、ロール原盤２３１の内部から未硬化樹脂層２３６に対して活性エネルギー線を照射するようにしてもよい。なお、転写原盤は上述のロール原盤２３１に限定されるものではなく、平板状の原盤を用いるようにしてもよい。ただし、量産性向上の観点からすると、転写原盤として上述のロール原盤２３１を用いることが好ましい。

＜＜第２の実施形態＞＞
第２の実施形態は、レーザーを転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより微細な凸部及び凹部のいずれかを形成した転写原盤を用いて行う前記親油性樹脂層形成工程の一例である。

まず、転写原盤及びその製造方法について説明する。

［転写原盤の構成］
図７Ａは、板状の原盤の構成の一例を示す平面図である。図７Ｂは、図７Ａに示したａ−ａ線に沿った断面図である。図７Ｃは、図７Ｂの一部を拡大して表す断面図である。板状の原盤３３１は、上述した構成を有する親油性積層体を作製するための原盤、より具体的には、前記親油性樹脂層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための原盤である。板状の原盤３３１は、例えば、微細な凹凸構造が設けられた表面を有し、その表面が親油性樹脂層の表面に複数の凸部又は凹部を成形するための成形面とされる。この成形面には、例えば、複数の構造体３３２が設けられている。図７Ｃに示す構造体３３２は、成形面に対して凹状を有している。板状の原盤３３１の材料としては、例えば、金属材料を用いることができる。前記金属材料としては、例えば、Ｎｉ、ＮｉＰ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、及びその合金を用いることができる。前記合金としては、ステンレス鋼（ＳＵＳ）が好ましい。前記ステンレス鋼（ＳＵＳ）としては、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ４２０Ｊ２などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

板状の原盤３３１の成形面に設けられた複数の構造体３３２と、前記親油性樹脂層の表面に設けられた複数の凸部又は凹部とは、反転した凹凸関係にある。即ち、板状の原盤３３１の構造体３３２の配列、大きさ、形状、配置ピッチ、及び高さ又は深さなどは、前記親油性樹脂層の凸部又は凹部と同様である。

［レーザー加工装置の構成］
図８は、板状の原盤を作製するためのレーザー加工装置の構成の一例を示す概略図である。レーザー本体３４０は、例えば、サイバーレーザー株式会社製のＩＦＲＩＴ（商品名）である。レーザー加工に用いるレーザーの波長は、例えば、８００ｎｍである。ただし、レーザー加工に用いるレーザーの波長は、４００ｎｍや２６６ｎｍなどでもかまわない。繰り返し周波数は、加工時間と、形成される凹部又は凸部の狭ピッチ化とを考慮すると、大きいほうが好ましく、１，０００Ｈｚ以上であることが好ましい。レーザーのパルス幅は短い方が好ましく、２００フェムト秒（１０^−１５秒）〜１ピコ秒（１０^−１２秒）程度であることが好ましい。

レーザー本体３４０は、垂直方向に直線偏光したレーザー光を射出するようになっている。そのため、本装置では、波長板３４１（例えば、λ／２波長板）を用いて、偏光方向を回転などさせることで、所望の方向の直線偏光又は円偏光を得るようにしている。また、本装置では、四角形の開口を有するアパーチャー３４２を用いて、レーザー光の一部を取り出すようにしている。これは、レーザー光の強度分布がガウス分布となっているので、その中央付近のみを用いることで、面内強度分布の均一なレーザー光を得るようにしている。また、本装置では、直交させた２枚のシリンドリカルレンズ３４３を用いて、レーザー光を絞ることにより、所望のビームサイズになるようにしている。板状の原盤３３１を加工する際には、リニアステージ３４４を等速で移動させる。

板状の原盤３３１へ照射されるレーザーのビームスポットは、四角形形状であることが好ましい。ビームスポットの整形は、例えば、アパーチャー、シリンドリカルレンズなどによって行うことができる。また、ビームスポットの強度分布は、なるべく均一であることが好ましい。これは、型に形成する凹凸の深さなどの面内分布をなるべく均一化することが好ましいためである。一般的には、ビームスポットのサイズは、加工を行いたい面積よりも小さいため、ビームを走査することで加工を行いたい面積全てに凸凹形状を付与する必要がある。

前記親油性樹脂層の表面の形成に用いられる原盤（型）は、例えば、ＳＵＳ、ＮｉＰ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ等の金属などの基板に、パルス幅が１ピコ秒（１０^−１２秒）以下の超短パルスレーザー、いわゆるフェムト秒レーザーを用いてパターンを描画することにより形成される。また、レーザー光の偏光は、直線偏光であっても円偏光であっても楕円偏光であってもよい。このとき、レーザー波長、繰り返し周波数、パルス幅、ビームスポット形状、偏光、サンプルへ照射するレーザー強度、レーザーの走査速度などを適宜設定することにより、所望の凹凸を有するパターンを形成することができる。

所望の形状を得るために変化させることが可能なパラメーターには以下のようなものが挙げられる。フルエンスは、パルス１つあたりのエネルギー密度（Ｊ／ｃｍ^２）であり、以下の式で求められるものである。
Ｆ＝Ｐ／（ｆＲＥＰＴ×Ｓ）
Ｓ＝Ｌｘ×Ｌｙ
Ｆ：フルエンス
Ｐ：レーザーのパワー
ｆＲＥＰＴ：レーザーの繰り返し周波数
Ｓ：レーザーの照射位置での面積
Ｌｘ×Ｌｙ：ビームサイズ
なお、パルス数Ｎは、１箇所に照射されたパルスの数であり、以下の式で求められるものである。
Ｎ＝ｆＲＥＰＴ×Ｌｙ／ｖ
Ｌｙ：レーザーの走査方向のビームサイズ
ｖ：レーザーの走査速度

また、所望の形状を得るために板状の原盤３３１の材質を変化させてもいい。板状の原盤３３１の材質によってレーザー加工される形状は変化する。ＳＵＳ、ＮｉＰ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ等の金属などを用いるほかに、原盤表面に、例えば、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）などの半導体材料を被覆してもよい。前記原盤表面に前記半導体材料を被覆する方法としては、例えば、プラズマＣＶＤ、スパッタリングなどが挙げられる。被覆する前記半導体材料としては、ＤＬＣのほかにも、例えば、フッ素（Ｆ）を混入したＤＬＣ、窒化チタン、窒化クロムなどを使用できる。被覆して得られる被膜の平均厚みは、例えば、１μｍ程度とすればよい。

［レーザー加工工程］
まず、図９Ａに示すように、板状の原盤３３１を準備する。この板状の原盤３３１の被加工面である表面３３１Ａは、例えば、鏡面状態となっている。なお、この表面３３１Ａは、鏡面状態となっていなくてもよく、例えば、表面３３１Ａに、転写用のパターンよりも細かな凹凸が形成されていてもよいし、転写用のパターンと同等か、それよりも粗い凹凸が形成されていてもよい。

次に、図８に示したレーザー加工装置を用いて、以下のようにして板状の原盤３３１の表面３３１Ａをレーザー加工する。まず、板状の原盤３３１の表面３３１Ａに対して、パルス幅が１ピコ秒（１０^−１２秒）以下の超短パルスレーザー、いわゆるフェムト秒レーザーを用いてパターンを描画する。例えば、図９Ｂに示したように、板状の原盤３３１の表面３３１Ａに対して、フェムト秒レーザー光Ｌｆを照射すると共に、その照射スポットを表面３３１Ａに対してスキャンさせる。

このとき、レーザー波長、繰り返し周波数、パルス幅、ビームスポット形状、偏光、表面３３１Ａへ照射するレーザーの強度、レーザーの走査速度等が適宜設定されることにより、図９Ｃに示すように、所望の形状を有する複数の構造体３３２が形成される。

［転写処理］
図１０Ａの断面図に示すような露出したフィラー粒子６１を有する未硬化樹脂層３３３が形成された樹脂製基材３１１を用意する。
次に、図１０Ｂの断面図に示すように、板状の原盤３３１と、樹脂製基材３１１上に形成された未硬化樹脂層３３３とを密着・加圧し、未硬化樹脂層３３３に微細な凸部及び凹部のいずれかを形成させた後、加圧を除去し、微細な凸部及び凹部のいずれかの形状が保持されている状態下で、未硬化樹脂層３３３に活性エネルギー線３３４を照射し未硬化樹脂層３３３を硬化させて微細な凸部及び凹部のいずれかを転写し、微細な凸部及び凹部のいずれかが形成された、露出したフィラー粒子６１を有する親油性樹脂層３１２を得る（図１０Ｃ）。
なお、樹脂製基材３１１が紫外線などの活性エネルギー線を透過しない材料で構成されている場合には、活性エネルギー線を透過可能な材料（例えば、石英）で板状の原盤３３１を構成し、板状の原盤３３１の裏面（成形面とは反対側の面）から未硬化樹脂層３３３に対して活性エネルギー線を照射するようにしてもよい。

（物品）
本発明の物品は、本発明の前記親油性積層体を表面に有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
前記物品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、タッチパネル、スマートフォン、タブレットＰＣ、化粧品容器、アクセサリー類、ガラス窓、冷蔵・冷凍ショーケース、自動車のウインドウ等の窓材、浴室内の鏡、自動車サイドミラー等の鏡、ピアノ、建築資材などが挙げられる。
また、前記物品は、眼鏡、ゴーグル、ヘルメット、レンズ、マイクロレンズアレイ、自動車のヘッドライトカバー、フロントパネル、サイドパネル、リアパネル、ドアトリム、インストルメントパネル、センタークラスター・センターコンソールパネル、シフトノブ、シフトノブ周り、ステアリングエンブレムなどであってもよい。これらは、インモールド成形、インサート成形、オーバーレイ成形により形成されることが好ましい。

前記親油性積層体は、前記物品の表面の一部に形成されていてもよいし、全面に形成されていてもよい。
本発明の親油性積層体は、長期に亘る耐指紋性と良好な触り心地のいずれも満足するものであるため、物品の防汚層として有効に機能するものである。

前記物品の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、後述する本発明の物品の製造方法が好ましい。

（物品の製造方法）
本発明に関する物品の製造方法は、加熱工程と、親油性積層体成形工程と、射出成形工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
前記物品の製造方法は、本発明の前記物品の製造方法である。

＜加熱工程＞
前記加熱工程としては、親油性積層体を加熱する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記親油性積層体は、本発明の前記親油性積層体である。

前記加熱としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、赤外線加熱であることが好ましい。
前記加熱の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記基材が樹脂製基材である場合には、前記樹脂製基材のガラス転移温度近傍若しくはガラス転移温度以上であることが好ましい。
前記加熱の時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

＜親油性積層体成形工程＞
前記親油性積層体成形工程としては、加熱された前記親油性積層体を所望の形状に成形する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定の金型に密着させて、空気圧により、所望の形状に成形する工程などが挙げられる。

＜射出成形工程＞
前記射出成形工程としては、所望の形状に成形された前記親油性積層体の基材側に成形材料を射出し、前記成形材料を成形する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。

前記成形材料としては、例えば、樹脂などが挙げられる。前記樹脂としては、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、ＡＳ樹脂（アクリロニトリル−スチレン共重合体）、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、液晶ポリエステル、ポリアリル系耐熱樹脂、各種複合樹脂、各種変性樹脂などが挙げられる。

前記射出の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定の金型に密着させた前記親油性積層体の基材側に、溶融した前記成形材料を流し込む方法などが挙げられる。

前記物品の製造方法は、インモールド成形装置、インサート成形装置、オーバーレイ成形装置を用いて行うことが好ましい。

ここで、本発明の物品の製造方法の一例を、図を用いて説明する。この製造方法はインモールド成形装置を用いた製造方法である。
まず、親油性積層体５００を加熱する。加熱は赤外線加熱が好ましい。
続いて、図１１Ａに示すように、加熱した親油性積層体５００を、第１金型５０１と第２金型５０２との間の所定の位置に配置する。このとき、親油性積層体５００の樹脂製基材が第１金型５０１を向き、親油性樹脂層が第２金型５０２を向くように配置する。図１１Ａにおいて、第１金型５０１は、固定型であり、第２金型５０２は、可動型である。

第１金型５０１と第２金型５０２との間に親油性積層体５００を配置した後、第１金型５０１と第２金型５０２とを型締めする。続いて、第２金型５０２のキャビティ面に開口されている吸引穴５０４で親油性積層体５００を吸引して、第２金型５０２のキャビティ面に親油性積層体５００を装着する。そうすることにより、キャビティ面が親油性積層体５００で賦形される。また、このとき、図示されていないフィルム押さえ機構で親油性積層体５００の外周を固定し位置決めしてもよい。その後、親油性積層体５００の不要な部位をトリミングする（図１１Ｂ）。
なお、第２金型５０２が吸引穴５０４を有さず、第１金型５０１に圧空孔（図示せず）を有する場合には、第１金型５０１の圧空孔から親油性積層体５００に圧空を送ることにより、第２金型５０２のキャビティ面に親油性積層体５００を装着する。

続いて、親油性積層体５００の樹脂製基材に向けて、第１金型５０１のゲート５０５から溶融した成形材料５０６を射出し、第１金型５０１と第２金型５０２を型締めして形成したキャビティ内に注入する（図１１Ｃ）。これにより、溶融した成形材料５０６がキャビティ内に充填される（図１１Ｄ）。更に、溶融した成形材料５０６の充填完了後、溶融した成形材料５０６を所定の温度まで冷却して固化する。

その後、第２金型５０２を動かして、第１金型５０１と第２金型５０２とを型開きする（図１１Ｅ）。そうすることにより、成形材料５０６の表面に親油性積層体５００が形成され、かつ所望の形状にインモールド成形された物品５０７が得られる。
最後に、第１金型５０１から突き出しピン５０８を押し出して、得られた物品５０７を取り出す。

前記オーバーレイ成形装置を用いる場合の製造方法は、下記の通りである。これは、親油性積層体を成形材料の表面に直接加飾する工程であり、その一例としては、ＴＯＭ（Ｔｈｒｅｅ ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ Ｏｖｅｒｌａｙ Ｍｅｔｈｏｄ）工法が挙げられる。前記ＴＯＭ工法を用いた本発明の物品の製造方法の一例を下記に説明する。
まず、固定枠に固定された親油性積層体によって分断された装置内の両空間について、真空ポンプ等で空気を吸引し、前記両空間内を真空引きする。
この時、片側の空間に事前に射出成型した成形材料を設置しておく。同時に、親油性積層体が軟化する所定の温度になるまで赤外線ヒーターで加熱する。親油性積層体が加熱され軟化したタイミングで、装置内空間の成形材料がない側に大気を送り込むことにより真空雰囲気下で、成形材料の立体形状に、親油性積層体をしっかりと密着させる。必要に応じ、さらに大気を送り込んだ側からの圧空押付けを併用してもよい。親油性積層体が成形体に密着した後、得られた加飾成形品を固定枠から外す。真空成形は、通常８０℃〜２００℃、好ましくは１１０℃〜１６０℃程度で行われる。

オーバーレイ成形の際には、前記親油性積層体と前記成形材料とを接着するために、前記親油性積層体の親油性面とは反対側の面に粘着層を設けてもよい。前記粘着層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系粘着剤、ホットメルト接着剤などが挙げられる。前記粘着層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基材上に前記親油性樹脂層を形成後に、前記基材の前記親油性樹脂層側とは逆側に、粘着層用塗工液を塗工して、前記粘着層を形成する方法などが挙げられる。また、剥離シート上に粘着層用塗工液を塗工して前記粘着層を形成した後に、前記基材と前記剥離シート上の前記粘着層とをラミネートして、前記基材上に前記粘着層を積層してもよい。

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。尚、実施例において、フィラー粒子の平均粒子径とは、数平均粒子径をいう。

以下の実施例において、各測定及び評価は、以下のようにして行った。

＜凸部の平均距離、凹部の平均距離、凸部の平均高さ、凹部の平均深さ、平均アスペクト比＞
以下の実施例において、凸部の平均距離、凹部の平均距離、凸部の平均高さ、凹部の平均深さ、及び平均アスペクト比は、以下のようにして求めた。
まず、凸部又は凹部を有する親油性樹脂層の表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、ＡＦＭの断面プロファイルから凸部又は凹部のピッチ、及び凸部の高さ又は凹部の深さを求めた。これを前記親油性樹脂層の表面から無作為に選び出された１０箇所において繰り返し行い、ピッチＰ１、Ｐ２、・・・、Ｐ１０と、高さ又は深さＨ１、Ｈ２、・・・、Ｈ１０とを求めた。
ここで、前記凸部のピッチは、前記凸部の頂点間の距離である。前記凹部のピッチは、前記凹部の最深部間の距離である。前記凸部の高さは、前記凸部間の谷部の最低点を基準とした前記凸部の高さである。前記凹部の深さは、前記凹部間の山部の最高点を基準とした前記凹部の深さである。
次に、これらのピッチＰ１、Ｐ２、・・・、Ｐ１０、及び高さ又は深さＨ１、Ｈ２、・・・、Ｈ１０をそれぞれ単純に平均（算術平均）して、凸部又は凹部の平均距離（Ｐｍ）、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ（Ｈｍ）を求めた。
前記Ｐｍと、前記Ｈｍとから、平均アスペクト比（Ｈｍ／Ｐｍ）を求めた。

＜フィラー粒子の露出高さａ（μｍ）の測定＞
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、フィラー粒子の露出部の高さのピークあたりのＳＥＭの断面画像を撮り、該ＳＥＭ像をもとに高さａ１を測定した。凸部が形成された表面層において、凸部における頂点を１０箇所選び、その平均の高さを基準として、そこからフィラー粒子の頂点までの距離を測定することにより、フィラー粒子が露出している高さａ１を得た。同様にして他のフィラー粒子に対し撮ったＳＥＭ断面画像を９枚用意し、計１０枚のＳＥＭ画像をもとに、各ＳＥＭ画像から得られたａ１値を平均して、ａ（μｍ）を求めた。

＜親油性樹脂層の平均厚みＬ（μｍ）の測定＞
フィルメトリクス社製Ｆ２０膜厚測定システムにより、サンプルの反射スペクトルを測定した。次に、フィルメトリクス社製ＦＩＬＭｅａｓｕｒｅ薄膜測定ソフトウェア(Ｖｅｒ.２．４．３)を用いて膜厚を反射スペクトルから算出した。

＜親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合の測定＞
本発明の親油性積層体を１００ｍｍ×１００ｍｍ切り出したサンプルを、黒色アクリル板(三菱レイヨン製アクリライト５０２黒)に貼合し、光学顕微鏡（ＶＨＸ−９００：キーエンス社製）で７００倍で観察した。このとき、サンプル表面にピントを合わせ、画像（４００μｍ×３００μｍ）を撮影した。これを任意の１０点で繰り返し行った。次に、これらの画像を粒子によって突出している部分が黒くなるように２値化画像処理を行い、ＩｍａｇｅＪ １．４７の解析ソフトを用い、前記画像全体に占める黒色部の割合を算出し、その１０点平均をフィラー粒子の露出部分の割合（フィラー粒子の表面占有面積）とした。

＜オレイン酸接触角＞
オレイン酸接触角は、接触角計であるＰＣＡ−１（協和界面化学株式会社製）を用いて、下記条件で測定した。
オレイン酸をプラスチックシリンジに入れて、その先端にテフロンコート製の針を取り付けて評価面に滴下した。
オレイン酸の滴下量：１μＬ
測定温度：２５℃
オレイン酸を滴下して１００秒経過後の接触角を、親油性樹脂層表面の任意の１０か所で測定し、その平均値をオレイン酸接触角とした。
オレイン酸接触角の値は、小さい値が好ましい。それにより、指、ティッシュ、布等による付着指紋の払拭性が良好となる。
オレイン酸接触角の測定により、耐指紋性を評価することができる。

＜耐久試験後の耐オレイン酸接触角の測定＞
麻ひも（ホヒー３３（直径約３ｍｍ）：ＫＯＫＵＹＯ社製）を、本発明の親油性積層体を５０ｍｍ×１５０ｍｍ切り出したサンプルの表面に隙間なく並べ、荷重７５０ｇｆ／１ｃｍにて１万回往復摺動（摺動ストローク：３ｃｍ、摺動周波数：６０Ｈｚ）した後、上記方法にて、オレイン酸接触角を測定した。

＜触り心地＞
本発明の親油性積層体を１５ｃｍ×３０ｃｍ切り出したサンプルの任意の点１０点（各点の大きさ；５ｃｍ×５ｃｍ）を指で円を描くように触ってすべり感を評価した。
−評価基準−
◎：比較例１よりもすべり感のいいところが９点以上
○：比較例１よりもすべり感のいいところが７点以上９点未満
△：比較例１よりもすべり感のいいところが５点以上７点未満
×：比較例１よりもすべり感のいいところが４点以下

＜耐久試験後の触り心地の測定＞
麻ひも（ホヒー３３（直径約３ｍｍ）：ＫＯＫＵＹＯ社製）を、本発明の親油性積層体を１５ｃｍ×３０ｃｍ切り出したサンプルの表面に隙間なく並べ、荷重７５０ｇｆ／１ｃｍにて１万回往復摺動（摺動ストローク：３ｃｍ、摺動周波数：６０Ｈｚ）した後、上記方法にて、触り心地を測定した。

＜静止摩擦係数＞
自動摩擦摩耗解析装置であるＴｒｉｂｏｓｔｅｒ ＴＳ５０１（協和界面科学製）を用いて下記条件で測定した。
速度： ５０ｍｍ/ｓ
加重： １５０ｇ
移動距離：３０ｍｍ
静止摩擦係数：初期０．０２ｓを使用し、算出した。
摺動先端：人の人差し指の指紋のレプリカをシリコーンゴムに形成した。
静止摩擦係数は、触り心地を評価するうえで、重要な判断基準となる。

＜見た目の評価＞
サンプル（１０ｃｍ×１０ｃｍ）を黒色アクリル板(三菱レイヨン製アクリライト５０２黒)に貼合し、顔を写し込み、下記基準で評価した。
−評価基準−
○：顔及び輪郭がはっきり見える。
△：顔及び輪郭がはっきり見える部分もあるが、粒子によって像がゆがんでいる部分もある。
×：顔及び／もしくは輪郭がはっきり見えない。

（実施例１）
＜微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤（ガラスロール原盤）の作製＞
まず、外径１２６ｍｍのガラスロール原盤を準備し、このガラスロール原盤の表面に以下のようにしてレジスト層を形成した。即ち、シンナーでフォトレジストを質量比で１／１０に希釈し、この希釈レジストをディッピング法によりガラスロール原盤の円柱面上に平均厚み７０ｎｍ程度に塗布することにより、レジスト層を形成した。次に、ガラスロール原盤を、図４に示したロール原盤露光装置に搬送し、レジスト層を露光することにより、１つの螺旋状に連なると共に、隣接する３列のトラック間において六方格子パターンをなす潜像がレジスト層にパターニングされた。具体的には、六方格子状の露光パターンが形成されるべき領域に対して、０．５０ｍＷ／ｍのレーザー光を像様に照射し六方格子状の露光パターンを形成した。

次に、ガラスロール原盤上のレジスト層に現像処理を施して、露光した部分のレジスト層を溶解させて現像を行った。具体的には、図示しない現像機のターンテーブル上に未現像のガラスロール原盤を載置し、ターンテーブルごと回転させつつガラスロール原盤の表面に現像液を滴下してその表面のレジスト層を現像した。これにより、レジスト層が六方格子パターンに開口しているレジストガラス原盤が得られた。

次に、ロールエッチング装置を用い、ＣＨＦ_３ガス雰囲気中でのプラズマエッチングを行った。これにより、ガラスロール原盤の表面において、レジスト層から露出している六方格子パターンの部分のみエッチングが進行し、その他の領域はレジスト層がマスクとなりエッチングはされず、楕円錐形状の凹部がガラスロール原盤に形成された。この際、エッチング量（深さ）は、エッチング時間によって調整した。最後に、Ｏ_２アッシングにより完全にレジスト層を除去することにより、凹形状の六方格子パターンを有するガラスロール原盤を得た。

＜親油性積層体の作製＞
次に、上述のようにして得られたロール原盤を用いて、ＵＶインプリントにより親油性積層体を作製した。具体的には、以下のようにして行った。
樹脂製基材として、東レ株式会社のＵ４０（平均厚み１００μｍ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム）を用いた。

下記組成の親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を、得られる親油性樹脂層の平均厚みが４μｍとなるように、前記樹脂製基材上に塗布した。親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物が塗布された基材と、上述のようにして得られたロール原盤とを密着・加圧させ、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物層に微細の凸部を形成させた後、加圧を除去し、その１秒後にメタルハライドランプを用いて、樹脂製基材側から照射量１，０００ｍＪ／ｃｍ^２で紫外線を照射して、親油性樹脂層を硬化させた。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・総研化学株式会社製アクリルビーズ（平均粒子径：５μｍ）
（ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子） ３質量部

以上により、親油性樹脂層の表面に微細な凸部を有し、アクリルビーズが露出した親油性積層体を得た。

使用したフィラー粒子のＴｇを表１に示す。
得られた親油性積層体について、上述の方法により、凸部の平均距離（又は凹部の平均距離）（Ｐｍ）、凸部の平均高さ（又は凹部の平均深さ）（Ｈｍ）、平均アスペクト比（Ｈｍ／Ｐｍ）を求めた。結果を表２に示す。
親油性樹脂層の平均厚みＬ（μｍ）を表３に示す。
また、得られた親油性積層体について、上述の方法により、フィラー粒子の露出高さａ、フィラー粒子の露出部分の割合を求め、ａ／Ｌ、ａ／Ｘを算出した。結果を表３に示す。
さらに、得られた親油性積層体について、上述の方法により、オレイン酸接触角、耐久性試験後のオレイン酸接触角、触り心地、耐久性試験後の触り心地、静止摩擦係数、見た目を評価した。結果を表４に示す。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合を撮った光学顕微鏡画像を図１５に示す。

（実施例２）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・総研化学株式会社製アクリルビーズ（平均粒子径：１０μｍ）
（ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合を撮った光学顕微鏡画像を図１６に示す。

（実施例３）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４４質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製
トスパール１２０（シリコーン粒子、平均粒子径：２μｍ） １質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合を撮った光学顕微鏡画像を図１７に示す。

（実施例４）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４４質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製
トスパール１４５（シリコーン粒子、平均粒子径：４．５μｍ） １質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合を撮った光学顕微鏡画像を図１８に示す。

（実施例５）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４４質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製
トスパール１１１０（シリコーン粒子、平均粒子径：１１μｍ） １質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合を撮った光学顕微鏡画像を図１９に示す。

（実施例６）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・東レ株式会社製ＳＰ１０
（ナイロン粒子、平均粒子径：１０μｍ） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合を撮った光学顕微鏡画像を図２０に示す。

（実施例７）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・根上工業株式会社製Ｕ−６００
（ウレタン粒子、平均粒子径：１０μｍ） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合を撮った光学顕微鏡画像を図２１に示す。

（実施例８）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・総研化学株式会社製アクリルビーズ（平均粒子径：１μｍ）
（ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例９）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・総研化学株式会社製アクリルビーズ（平均粒子径：５０μｍ）
（ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１０）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・総研化学株式会社製アクリルビーズ（平均粒子径：１００μｍ）
（ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１１）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・株式会社ＡＤＥＫＡ社製シリカビーズアデライトＡＴ
（シリカ粒子、平均粒子径：１０μｍ） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１２）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・東宝チタニウム株式会社製チタニアビーズＨＴ０１１０
（チタニア粒子、平均粒子径：１０μｍ） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１３）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ３５質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ３０質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・根上工業株式会社製Ｕ−６００
（ウレタン粒子、平均粒子径：１０μｍ） ３０質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１４）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ４０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４０質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・根上工業株式会社製Ｕ−６００
（ウレタン粒子、平均粒子径：１０μｍ） １５質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１５）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４４．９質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・根上工業株式会社製Ｕ−６００
（ウレタン粒子、平均粒子径：１０μｍ） ０．１質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１６）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４４．５質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・根上工業株式会社製Ｕ−６００
（ウレタン粒子、平均粒子径：１０μｍ） ０．５質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１７）
実施例７において、ガラスロール原盤を作製する際のレジスト層の露光パターンを変更した以外は、実施例７と同様にして、親油性積層体を得た。

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１８）
実施例７において、ガラスロール原盤を作製する際のレジスト層の露光パターンを変更した以外は、実施例７と同様にして、親油性積層体を得た。

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例１９）
実施例７において、ガラスロール原盤を作製する際のレジスト層の露光パターンを変更した以外は、実施例７と同様にして、親油性積層体を得た。

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例２０）
＜微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤（板状の原盤）の作製＞
レーザー加工装置として、図８に示した装置を用いた。レーザー本体３４０としては、サイバーレーザー株式会社製のＩＦＲＩＴ（商品名）を用いた。レーザー波長は８００ｎｍ、繰り返し周波数は１，０００Ｈｚ、パルス幅は２２０ｆｓとした。
まず、板状の基材（ＳＵＳ）の表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）をスパッタリング法により被覆することにより、原盤を作製した。次に、この原盤のＤＬＣ膜の表面に対して、前記レーザー加工装置を用いて微細な凹部を形成した。この際、表１に示すレーザー加工条件にてレーザー加工を行った。以上により、形状転写用の板状の原盤を得た。なお、原盤のサイズは、２ｃｍ×２ｃｍの矩形状とした。

＜親油性積層体の作製＞
次に、上述のようにして得られた板状の原盤を用いて、ＵＶインプリントにより親油性積層体を作製した。具体的には、以下のようにして行った。
実施例７の親油性積層体の作製において、ロール原盤を、上述のようにして得られた板状の原盤に代えた以外は、実施例７と同様にして、親油性積層体を作製した。

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（実施例２１）
実施例２０において、板状の原盤の作製する際のレーザー照射条件を表１に示すように変更した以外は、実施例２０と同様にして、親油性積層体を得た。

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

(比較例１)
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４５質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。
得られた親油性積層体の親油性樹脂層の表面におけるフィラー粒子の露出部分の割合（０％）を撮った光学顕微鏡画像を図２２に示す。

（比較例２）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４４．９５質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・根上工業株式会社製Ｕ−６００
（ウレタン粒子、平均粒子径：１０μｍ） ０．０５質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（比較例３）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ３０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ２５質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・根上工業株式会社製Ｕ−６００
（ウレタン粒子、平均粒子径：１０μｍ） ４０質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（比較例４）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・総研化学株式会社製アクリルビーズ（平均粒子径：０．４μｍ）
（ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

（比較例５）
実施例１において、親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物を下記に示す組成に変更し、親油性樹脂層の平均厚みを表３に示すようにした以外は、実施例１と同様にして、親油性積層体を得た。

−親油性樹脂層用紫外線硬化性樹脂組成物−
・ＣＮ９００６（６官能脂肪族ウレタンアクリレート、サートマー社製） ５０質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート ４２質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）
（アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤） ５質量部
・総研化学株式会社製アクリルビーズ（平均粒子径：２００μｍ）
（ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）粒子） ３質量部

作製した親油性積層体について、実施例１と同様の測定及び評価を行った。結果を、表２〜４に示した。

実施例１〜２１の親油性積層体は、長期使用に耐えられる優れた耐指紋性、及び良好な触り心地のいずれをも満足するものであった。フィラー粒子の露出により、耐指紋性や触り心地が向上するが、見た目には何ら悪影響を及ぼすものでないことも確認された。

一方、比較例１は、フィラー粒子が露出していないため、比較例４は、フィラー粒子が含有されていても露出していないため、耐久性試験後のオレイン酸接触角の結果が悪化し、耐指紋性が満足のいく結果ではなく、また触り心地の結果も良くなかった。
比較例２は、フィラー粒子の含有量が少なく、露出部分の割合が十分でないために、耐久性試験後のオレイン酸接触角の結果が悪化し、耐指紋性が満足のいく結果ではなく、また触り心地の結果も良くなかった。
比較例３は、フィラー粒子の含有量を多くして親油性樹脂層中に存在させようとした場合、成膜するためにある程度の親油性樹脂層の平均厚みＬを確保する必要があり、その平均厚みＬで成膜すると、フィラー粒子の露出部分が少なくなり、耐久性試験後のオレイン酸接触角の結果が悪化し、耐指紋性が満足のいく結果ではなく、また触り心地の結果も良くなかった。
比較例５は、フィラー粒子の平均粒子径が２００μｍのものを使用したところ、成膜できず、結果が得られなかった。

本発明の親油性積層体は、タッチパネル、スマートフォン、スマートフォンカバー、タブレットＰＣ、家電製品、化粧品容器、アクセサリー類などへ貼り合わせて用いることができる。また、本発明の親油性積層体は、インモールド成形、インサート成形、オーバーレイ成形を利用して、ドアトリム、インストルメントパネル、センタークラスター・センターコンソールパネル、シフトノブ、シフトノブ周り、ステアリングエンブレム等の自動車内装部品表面、ドアハンドル等の自動車外装部品表面などに用いることができる。

６１ フィラー粒子
６２ 親油性樹脂層
６３ 基材
２１１ 樹脂性基材
２１２ 親油性樹脂層
２３１ ロール原盤
２３２ 構造体
２３６ 未硬化樹脂層
２３７ 活性エネルギー線
３１１ 樹脂製基材
３１２ 親油性樹脂層
３３１ 板状の原盤
３３２ 構造体
３３３ 未硬化樹脂層
３３４ 活性エネルギー線

Claims (11)

1. 基材と、前記基材上に親油性樹脂層とを有し、
   前記親油性樹脂層が、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有し、
   前記親油性樹脂層が、ポリメタクリル酸メチル粒子、ウレタン粒子、及びシリコーン粒子の少なくともいずれかを含むフィラー粒子を含有し、
   前記フィラー粒子の一部が前記親油性樹脂層から露出しており、
   前記親油性樹脂層の表面における前記フィラー粒子の露出部分の割合が、０．１％以上であることを特徴とする親油性積層体。
2. 基材と、前記基材上に親油性樹脂層とを有し、
   前記親油性樹脂層が、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有し、
   前記親油性樹脂層が、ポリメタクリル酸メチル粒子、ウレタン粒子、シリコーン粒子、シリカ粒子、及びチタニア粒子の少なくともいずれかを含むフィラー粒子を含有し、
   前記フィラー粒子の平均粒子径が、０．５μｍ以上２００μｍ未満であり、
   前記フィラー粒子の一部が前記親油性樹脂層から露出しており、
   前記親油性樹脂層の表面における前記フィラー粒子の露出部分の割合が、０．１％以上１．７５％以下であることを特徴とする親油性積層体。
3. 親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さをａ（μｍ）、親油性樹脂層における、微細な凸部の平均高さ及び微細な凹部の平均深さのいずれかをＸ（μｍ）としたとき、ａ／Ｘが、２〜２００である請求項１から２のいずれかに記載の親油性積層体。
4. 基材と、前記基材上に親油性樹脂層とを有し、
   前記親油性樹脂層が、表面に微細な凸部及び凹部のいずれかを有し、
   前記親油性樹脂層が、フィラー粒子を含有し、
   前記フィラー粒子の一部が前記親油性樹脂層から露出しており、
   前記親油性樹脂層の表面における前記フィラー粒子の露出部分の割合が、０．１％以上であり、
   前記親油性樹脂層の表面から前記フィラー粒子が露出している高さをａ（μｍ）、前記親油性樹脂層における、前記微細な凸部の平均高さ及び前記微細な凹部の平均深さのいずれかをＸ（μｍ）としたとき、ａ／Ｘが、２〜２００である、
   ことを特徴とする親油性積層体。
5. 親油性樹脂層が、平均粒子径が２００μｍ未満のフィラー粒子を１質量％〜３０質量％含有する請求項１から４のいずれかに記載の親油性積層体。
6. フィラー粒子が、親油性樹脂層の表面から露出している高さａ（μｍ）が、０．１μｍ〜２９μｍである請求項１から５のいずれかに記載の親油性積層体。
7. 親油性樹脂層の表面からフィラー粒子が露出している高さをａ（μｍ）、親油性樹脂層の平均厚みをＬ（μｍ）としたとき、ａ／Ｌが、０．０１〜０．６７である請求項１から６のいずれかに記載の親油性積層体。
8. 請求項１から７のいずれかに記載の親油性積層体の製造方法であって、
   基材上にフィラー粒子が含有された活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する未硬化樹脂層形成工程と、
   前記未硬化樹脂層に微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤を密着させ、加圧することで、前記未硬化樹脂層に前記微細な凸部及び凹部のいずれかの形状を形成させた後、加圧を取り除き、前記微細な凸部及び凹部のいずれかの形状が保持されている状態下で前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて前記微細な凸部及び凹部のいずれかを転写することにより、親油性樹脂層を形成する親油性樹脂層形成工程とを含むことを特徴とする親油性積層体の製造方法。
9. 転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成される請求項８に記載の親油性積層体の製造方法。
10. 転写原盤の微細な凸部及び凹部のいずれかが、レーザーを前記転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより形成される請求項８に記載の親油性積層体の製造方法。
11. 請求項１から７のいずれかに記載の親油性積層体を表面に有することを特徴とする物品。