JP6384799B2 - ガラスパネルユニット - Google Patents

Description

ガラスパネルユニットが開示される。

２枚以上のガラスパネルを間をあけて重ねて密閉した空間を形成し、その空間を真空にしたガラスパネルユニットが知られている。このようなガラスパネルユニットは、複層ガラスとも呼ばれている。このようなガラスパネルユニットは、真空断熱ガラスとも呼ばれている。ガラスパネルユニットは断熱性が高い。ガラスパネルユニットでは、真空が維持されることが重要である。

ガラスパネルユニットの真空空間の厚みを保つためにスペーサを使用することが提案されている。スペーサは、２枚のガラスパネルの間で挟まれる材料である。スペーサは、強度が求められ、その材料として、金属がよく知られている。一方、米国特許第６，５４１，０８４号のようにポリマーを使用したスペーサも開示されている。この技術では、スペーサの材料としてポリマーを使用することで、スペーサにフレキシブル性を付与している。しかしながら、真空空間の厚みをポリマーのスペーサで良好に形成することは容易ではない。

本開示の目的は、真空空間を安定して形成できるガラスパネルユニットを提供することである。

ガラスパネルユニットが開示される。前記ガラスパネルユニットは、第１ガラスパネルと、第２ガラスパネルと、シールと、真空空間と、少なくとも１つのスペーサとを備える。前記第２ガラスパネルは、前記第１ガラスパネルと対向するように配置される。前記シールは、前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルとを枠状に気密に接合する。前記真空空間は、前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルと前記シールとで囲まれている。前記スペーサは、前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルとの間に配置されている。好ましくは、前記スペーサは、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含む。あるいは、好ましくは、前記スペーサは、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも大きいポリマーを含む。

本開示のガラスパネルユニットによれば、真空空間を安定して形成することができる。

ガラスパネルユニットの一例を示す概略断面図である。 ガラスパネルユニットの一例を示す概略平面図である。 スペーサの一例を示す概略断面図である。 ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。 ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。 ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。 ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。 ガラスパネルユニット用の組立て品の概略平面図である。 ガラスパネルユニット用の組立て品の概略断面図である。 ガラスパネルユニットの製造例を示す斜視図である。 ガラスパネルユニットの一例を示す概略断面図である。

ガラスパネルユニットが、以下で開示される。より詳しくは、一対のガラスパネルの間に真空空間を備えたガラスパネルユニットが開示される。

図１及び図２は、ガラスパネルユニット１０の一実施形態を示す。本実施形態のガラスパネルユニット１０は、真空断熱ガラスユニットである。真空断熱ガラスユニットは、少なくとも一対のガラスパネルを備える複層ガラスパネルの一種であって、一対のガラスパネル間に真空空間５０を有している。なお、図２では、内部構造が理解しやすいよう、第１ガラスパネル２０の一部（左下）を破断して、描画している。なお、図の上下左右の方向は、数字が正しく読み取れる方向に基づく。

ガラスパネルユニット１０は、第１ガラスパネル２０と、第２ガラスパネル３０と、シール４０と、真空空間５０と、スペーサ７０と、を備える。第２ガラスパネル３０は、第１ガラスパネル２０と対向するように配置される。シール４０は、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とを枠状に気密に接合する。真空空間５０は、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とシール４０とで囲まれている。スペーサ７０は、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０との間に配置されている。スペーサ７０は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含む。

ガラスパネルユニット１０は、スペーサ７０がベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むため、スペーサ７０の強度が高まる。さらに、スペーサ７０は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むことで、弾力性が付与される。さらに、スペーサ７０は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むことで、耐熱性が高まる。そのため、真空空間５０が良好に形成され、外部からの衝撃に対して強いガラスパネルユニット１０が得られる。

第１ガラスパネル２０は、第１ガラスパネル２０の平面形状を定める本体２１と、コーティング２２と、を備える。本体２１は、矩形状であり、互いに平行な厚み方向の第１面（外面；図１における上面）及び第２面（内面；図１における下面）を有する。本体２１の第１面及び第２面はいずれも平面である。第１ガラスパネル２０の本体２１の材料は、たとえば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。なお、第１ガラスパネル２０は、コーティング２２を有さなくてもよい。第１ガラスパネル２０は、本体２１のみから構成されてもよい。

コーティング２２は、本体２１の第２面に形成される。コーティング２２は、好ましくは、赤外線反射膜である。なお、コーティング２２は、赤外線反射膜に限定されず、所望の物理特性を有する膜であってもよい。

第２ガラスパネル３０は、第２ガラスパネル３０の平面形状を定める本体３１を備える。本体３１は、矩形状であり、互いに平行な厚み方向の第１面（内面；図１における上面）及び第２面（外面；図１における下面）を有する。本体３１の第１面及び第２面はいずれも平面である。第２ガラスパネル３０の本体３１の材料は、たとえば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。本体３１の材料は、本体２１の材料と同じであってよい。本体３１の平面形状は、本体２１と同じである。つまり、第２ガラスパネル３０の平面形状は、第１ガラスパネル２０と同じである。

第２ガラスパネル３０は、本体３１のみで構成されている。つまり、本体３１そのものが第２ガラスパネル３０である。第２ガラスパネル３０は、コーティングを有していてもよい。コーティングは、本体３１の第１面に形成され得る。このコーティングは、第１ガラスパネル２０のコーティング２２と同じであってよい。

第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とは、本体２１の第２面と本体３１の第１面とが互いに平行かつ対向するように配置されている。つまり、本体２１の第１面はガラスパネルユニット１０の外側に向けられ、本体２１の第２面はガラスパネルユニット１０の内側に向けられる。また、本体３１の第１面はガラスパネルユニット１０の内側に向けられ、本体３１の第２面はガラスパネルユニット１０の外側に向けられる。

第１ガラスパネル２０の厚みは、特に限定されるものではないが、たとえば、１〜１０ｍｍの範囲内である。第２ガラスパネル３０の厚みは、特に限定されるものではないが、たとえば、１〜１０ｍｍの範囲内である。第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とは、厚みが同じであってもよいし、厚みが異なっていてもよい。第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０との厚みが同じであると、ガラスパネルユニット１０の形成が容易になる。第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とは、平面視における外縁が揃っている。

図１及び図２では、ガラスパネルユニット１０は、ガス吸着体６０をさらに備える。ガス吸着体６０は、真空空間５０内に配置される。本実施形態では、ガス吸着体６０は、長尺状である。ガス吸着体６０は、第２ガラスパネル３０の長さ方向の第２端側（図２における左端側）に、第２ガラスパネル３０の幅方向に沿って形成されている。つまり、ガス吸着体６０は、真空空間５０の端に配置される。このようにすれば、ガス吸着体６０を目立たなくすることができる。また、ガラスパネルにガス吸着体６０を直接配置するようにすると、ガス吸着体６０の配置が容易になる。なお、ガス吸着体６０は、真空空間５０の任意の場所に設けられ得る。

ガス吸着体６０は、不要なガス（残留ガス等）を吸着するために用いられる。不要なガスは、たとえば、シール４０が形成される際に放出されるガスである。あるいは、不要なガスは、シール４０の隙間から内部に侵入するガスである。ガスが増加すると、真空度が低下し、断熱性が低下し得る。

ガス吸着体６０は、ゲッタを有する。ゲッタは、所定の大きさより小さい分子を吸着する性質を有する材料である。ゲッタは、たとえば、蒸発型ゲッタである。蒸発型ゲッタは、たとえば、ゼオライトまたはイオン交換されたゼオライトである。

シール４０は、真空空間５０を完全に囲むとともに、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とを気密に接合する。シール４０は、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０との間に配置される。シール４０は、矩形の枠状である。真空空間５０は、真空度が所定値以下である。所定値は、たとえば、０．１Ｐａである。真空空間５０は、排気により形成され得る。排気は、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とシール４０のうちの少なくとも一つに排気するための孔を形成して、内部の気体を吸引することで行われ得る。ただし、後述する排気が行われて、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０との両方に、排気口が存在していないことが好ましい。それにより、外観のよいガラスパネルユニット１０を得ることができる。図１では、第１ガラスパネル２０及び第２ガラスパネル３０は、排気口を有していない。

真空空間５０は、加熱しながら排気することによって真空が形成され得る。加熱により真空性が高まる。また、加熱によって、シール４０が形成され得る。真空を形成する際の加熱の温度は、３００℃以上であってよい。それにより、真空性がさらに向上する。真空空間５０の形成の具体的な手法は後述する。

シール４０は、熱接着剤で形成される。熱接着剤は、たとえば、ガラスフリットである。ガラスフリットは、たとえば、低融点ガラスフリットである。低融点ガラスフリットは、たとえば、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットである。シール４０は、後述のように、複数の熱接着剤で形成されてもよい。

ガラスパネルユニット１０は、複数のスペーサ７０を備える。複数のスペーサ７０は、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０との間隔を所定間隔に維持するために用いられる。スペーサ７０により、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とのスペースがより確実に確保される。スペーサ７０は１つでもよいが、ガラスパネル間の厚みを確保するためには２つ以上の方が好ましい。複数のスペーサ７０が用いられると、ガラスパネルユニット１０の強度が高まる。

複数のスペーサ７０は、真空空間５０内に配置されている。具体的には、複数のスペーサ７０は、仮想的な矩形状の格子の交差点に配置されている。たとえば、複数のスペーサ７０の間隔は、１〜１０ｃｍの範囲内であり、具体的には２ｃｍであり得る。ただし、スペーサ７０の大きさ、スペーサ７０の数、スペーサ７０の間隔、スペーサ７０の配置パターンは、適宜選択することができる。

スペーサ７０は、上記所定間隔（第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０との間隔）とほぼ等しい高さを有する円柱状である。たとえば、スペーサ７０は、直径が０．１〜１０ｍｍの範囲内であり、高さが１０〜１０００μｍの範囲内であってよい。具体的には、スペーサ７０は、直径が０．５ｍｍで高さが１００μｍであり得る。なお、各スペーサ７０は、角柱状や球状などの所望の形状であってもよい。スペーサ７０の高さは、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０との間の距離、すなわち、真空空間５０の厚みを規定する。真空空間５０の厚みは、たとえば、１０〜１０００μｍの範囲内であってよい。真空空間５０の厚みは、具体的には、１００μｍであり得る。

スペーサ７０は、透明な材料を用いて形成される。それにより、スペーサ７０が目立たなくなる。ただし、各スペーサ７０は、十分に小さければ、不透明な材料を用いて形成されていてもよい。スペーサ７０の材料は、後述する第１溶融工程、排気工程、第２溶融工程において、スペーサ７０が変形しないように選択される。たとえば、スペーサ７０の材料は、第１熱接着剤の第１軟化点及び第２熱接着剤の第２軟化点よりも高い軟化点（軟化温度）を有するように選択される。

スペーサ７０は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含む。ポリイミドは、下記の一般式（１）で示される構造を有するポリマーである。

式（１）において、Ｒ及びＲ’は独立して有機基を表し、ｎは１以上の整数を表す。

上記一般式（１）で示さされる構造中に、ベンゾオキサゾール構造が導入される。ベンゾオキサゾール構造は、一般式（１）の有機基Ｒ’に導入されることが好ましい。ベンゾオキサゾールを式（２）で示す。式（２）のベンゾオキサゾール中の水素がポリイミド中の他の元素に置換されることで、ベンゾオキサゾール構造はポリイミドに導入され得る。好ましくは、２つ以上の水素が置換されて、ポリマーの主鎖の中にベンゾオキサゾール構造が導入される。

ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドは、フェニルベンゾオキサゾール構造を有していてもよい。フェニルベンゾオキサゾールを式（３）で示す。式（３）のフェニルベンゾオキサゾール中の水素がポリイミド中の他の元素に置換されることで、フェニルベンゾオキサゾール構造はポリイミドに導入され得る。好ましくは、２つ以上の水素が置換されて、ポリマーの主鎖の中にフェニルベンゾオキサゾール構造が導入される。

ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドは、フェニレンビスベンゾオキサゾール構造を有していてもよい。フェニレンビスベンゾオキサゾールを式（４）で示す。式（４）のフェニレンビスベンゾオキサゾール中の水素がポリイミド中の他の元素に置換されることで、フェニレンビスベンゾオキサゾール構造はポリイミドに導入され得る。好ましくは、２つ以上の水素が置換されて、ポリマーの主鎖の中にフェニレンビスベンゾオキサゾール構造が導入される。

ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドは、ジフェニルベンゾビスオキサゾール構造を有していてもよい。ジフェニルベンゾビスオキサゾールを式（５）で示す。式（５）のジフェニルベンゾビスオキサゾール中の水素がポリイミド中の他の元素に置換されることで、ジフェニルベンゾビスオキサゾール構造はポリイミドに導入され得る。好ましくは、２つ以上の水素が置換されて、ポリマーの主鎖の中にジフェニルベンゾビスオキサゾール構造が導入される。

ポリイミドは、ジアミン類とテトラカルボン酸無水物類との重縮合により得られる。ジアミン類は、好ましくは芳香族ジアミン類である。テトラカルボン酸無水物類は、好ましくは芳香族テトラカルボン酸無水物類である。芳香族ジアミン類と芳香族テトラカルボン酸無水物類との反応で得たポリイミドが好ましく用いられる。芳香族ジアミン類は、ベンゾオキサゾール構造を有することが好ましい。ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類を使用することで、ポリイミドにベンゾオキサゾール構造が導入され得る。

ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類として、たとえば、下記の式（６）、式（７）、式（８）のいずれかで表されるものが挙げられる。

上記のベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類として、具体的には、５−アミノ−２−（ｐ−アミノフェニル）ベンゾオキサゾール、６−アミノ−２−（ｐ−アミノフェニル）ベンゾオキサゾール、５−アミノ−２−（ｍ−アミノフェニル）ベンゾオキサゾール、６−アミノ−２−（ｍ−アミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２，２−ｐ−フェニレンビス（５−アミノベンゾオキサゾール）、１，５−（５−アミノベンゾオキサゾロ）−４−（５−アミノベンゾオキサゾロ）ベンゼン、２，６−（４，４’−ジアミノジフェニル）ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ビスオキサゾール、２，６−（４，４’−ジアミノジフェニル）ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ビスオキサゾール、２，６−（３，４’−ジアミノジフェニル）ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ビスオキサゾール、２，６−（３，４’−ジアミノジフェニル）ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ビスオキサゾール、２，６−（３，３’−ジアミノジフェニル）ベンゾ［１，２−ｄ：５，４−ｄ’］ビスオキサゾール、２，６−（３，３’−ジアミノジフェニル）ベンゾ［１，２−ｄ：４，５−ｄ’］ビスオキサゾール、が例示される。

これらの芳香族ジアミン類は、そのうちの一つを単独で使用することも、二種以上を併用することも可能である。

芳香族テトラカルボン酸無水物類としては、たとえば、ピロメリット酸無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物、４，４’−オキシジフタル酸無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸無水物、２，２−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン酸無水物、が挙げられる。

これらの芳香族テトラカルボン酸無水物類は、そのうちの一つを単独で使用することも、二種以上を併用することも可能である。

従来、ガラスパネルユニットのスペーサとしては金属が汎用されている。しかし、金属は熱伝導性が高く、断熱性に不利である。また、金属は弾力性に乏しく、衝撃を吸収しにくいため、ガラスパネルユニットが衝撃に対して弱くなりやすい。また、スペーサにガラスやセラミックを用いることも考えられるが、その場合、強度が低下しやすくなる。また、熱伝導性の低い樹脂を用いる方法も考えられるが、強度と耐熱性の点でその選定が難しい。本開示のガラスパネルユニットでは、上記のポリイミドによって、強度の高いスペーサ７０が得られる。スペーサ７０は、弾力性を有し、耐衝撃性を向上させる。スペーサ７０は、熱に強く、潰れが生じにくい。スペーサ７０は、熱伝導性が低く、断熱性を向上させる。

スペーサ７０は、好ましくは、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも大きいポリイミドで形成される。それにより、強度が高いガラスパネルユニット１０が得られる。ポリイミドは、４００℃のときの粘弾性係数が１×１０^６ＭＰａより小さくてもよい。ポリイミドは、４００℃のときの粘弾性係数が、１０００ＭＰａよりも大きいことがより好ましく、１５００ＭＰａよりも大きいことがさらに好ましく、２０００ＭＰａよりも大きいことがよりさらに好ましい。粘弾性係数は、粘弾性測定装置で測定される。例えば、ＤＭＡ（動的粘弾性測定装置）、ＴＭＡ（熱機械分析装置）が例示される。スペーサ７０に含まれるポリイミドは、２０℃のときの粘弾性係数Ｖ_２０に対する４００℃のときの粘弾性係数Ｖ_４００の比（Ｖ_４００／Ｖ_２０）が、０．１以上であることが好ましい。この比（Ｖ_４００／Ｖ_２０）は、０．２以上であることがより好ましく、０．３以上であることがさらに好ましく、０．４以上であることがよりさらに好ましい。スペーサ７０は、好ましくは、４００℃のときの熱膨張係数が１０ｐｐｍ／℃よりも小さいポリイミドで形成される。それにより、強度が高いガラスパネルユニット１０が得られる。ポリイミドは、４００℃のときの熱膨張係数が０．１ｐｐｍ／℃よりも大きくてもよい。熱膨張係数は、熱膨張係数測定装置で測定される。例えば、ＴＭＡ（熱機械分析装置）が例示される。スペーサ７０は、さらに好ましくは、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも大きく、４００℃のときの熱膨張係数が１０ｐｐｍ／℃よりも小さいポリイミドで形成される。

ここで、スペーサ７０は、少なくとも１つのポリイミドフィルムから形成されることが好ましい。ポリイミドフィルムの使用によって、スペーサ７０の形成が容易になる。ポリイミドフィルムは、スペーサ７０の形状に切り取られてスペーサ７０として用いられ得る。

図３に、スペーサ７０の一例を示す。スペーサ７０は、２以上のフィルムの積層体であることが好ましい。積層体のうちの少なくとも１つのフィルムは、ポリイミドフィルムであってよい。図３では、２以上のフィルム７１の積層体で構成されたスペーサ７０が示されている。図３で示されるスペーサ７０は、図１のガラスパネルユニット１０に組み込まれ得る。図３では、３つのフィルム７１が用いられている。フィルム７１の数は２であってもよいし、４以上でもよい。ポリイミドフィルムは厚みが厚くなると、物性が不安定になり、強度等にばらつきが生じるおそれがあるが、積層体を用いれば、１つのポリイミドフィルムの厚みは小さくできるため、積層体の厚みが厚くなっても物性を安定化させることができる。そのため、強度等が安定したスペーサ７０を得ることができる。

フィルム７１の厚みは、たとえば、１〜５０μｍの範囲内であってよい。フィルム７１の厚みがこの範囲であることで、効率よく耐衝撃性を高めることができる。また、フィルム７１の厚みがこの範囲であると、樹脂の物性が不安定化することを抑制しつつ、効率よく真空空間５０のスペースを形成するための高さを確保することができる。フィルム７１の厚みは、５μｍ以上であってもよく、あるいは１０μｍ以上であってもよく、さらには２０μｍ以上であってもよい。フィルム７１の厚みが厚い方が、スペースの確保に有利になる。フィルム７１の厚みは、４５μｍ以下であってもよく、あるいは４０μｍ以下であってもよい。フィルム７１の厚みが小さい方が、樹脂の不安定化を抑制することができる。ポリイミドフィルムの厚みが小さい方が、不安定化を抑制することができる。ポリイミドフィルムは、厚みが大きくなりすぎると、製造時に溶剤の揮発が容易ではなくなる可能性があり、そのため、物性が低下し得る。ポリイミドフィルムは、熱膨張性が小さく、弾力性が高いという利点がある。

ポリイミドフィルムは、上記で説明したベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類と、上記で説明した芳香族テトラカルボン酸無水物とを原料として製造され得る。たとえば、まず、これらを溶媒中で縮合させてポリアミド酸溶液を得る。次いで、ポリアミド酸溶液を支持体上に塗布して自己支持性がでる程度乾燥させてグリーンフィルムを得る。次いで、グリーンフィルムを熱処理してイミド化させる。こうして、ポリイミドフィルムが形成される。このとき、フィルムの延伸を行ってもよいが、無延伸であることが好ましい。それにより、物性がより安定化する。無延伸のポリイミドフィルムは好ましく用いられる。

スペーサ７０が、ポリイミドフィルム以外のフィルム７１を備える場合、ポリイミドフィルム以外のフィルム７１は、適宜の材料で形成されたフィルム７１であり得る。ポリイミドフィルム以外のフィルムは、他のフィルムと定義される。スペーサ７０に含まれるフィルム７１の全てが、ポリイミドフィルムであってもよいし、スペーサ７０に含まれるフィルム７１の一部がポリイミドフィルムで、他部が他のフィルムであってもよい。

他のフィルムが、ガラス、金属、セラミック、及びグラファイトから選ばれる１つ以上の材料を含むことが好ましい。他のフィルムは、ガラスフィルムであり得る。他のフィルムは、金属フィルムであり得る。他のフィルムはセラミックフィルムであり得る。他のフィルムはグラファイトフィルムであり得る。ガラスフィルムは、薄膜ガラスであってよい。また、ガラスフィルムは、ガラス繊維を含んでいてもよい。ガラスフィルムは、ガラス織布であってもよい。あるいは、ガラスフィルムは、ガラス不織布であってもよい。金属フィルムは、金属箔であってもよい。金属フィルムは圧延金属であってもよい。金属フィルムの材料の好ましい一例として、ステンレス（ＳＵＳ）が挙げられる。なお、上述したフィルムは、シートと読み替えてもよい。たとえば、セラミックフィルムはセラミックシートということができる。

スペーサ７０は、たとえば、積層体の積層方向の両側にポリイミドフィルムが配置され、その２つのポリイミドフィルムの間に他のフィルムが配置された構造であってよい。それにより、耐衝撃性が効果的に高まる。積層体の積層方向は、ガラスパネルユニット１０の厚み方向と等しい。

２以上のフィルム７１は、接着剤によって接着される。接着剤から接着層７２が形成される。接着剤としては、たとえば、樹脂接着剤が用いられる。樹脂としては、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂が例示される。フィルム７１の積層は、第１ガラスパネル２０と第２ガラスパネル３０とが接着される前にあらかじめ行われる。スペーサ７０は、２以上のフィルム７１と、１以上の接着層７２とを有する。接着層７２は、２つのフィルム７１の間に配置される。

フィルム７１を接着する接着剤としては、ポリアミド酸が好ましい。好ましくは、２以上のフィルム７１は、ポリアミド酸で接着される。ポリアミド酸は、接着力に優れ、耐熱性が高い。接着層７２は、好ましくは、ポリアミド酸から形成される。

接着層７２の厚みは、たとえば、０．１〜１０μｍの範囲内であってよい。接着層７２は、フィルム７１よりも、厚みが小さいことが好ましい。接着層７２の厚みは、フィルム７１の厚みの半分未満であることがより好ましく、１０分の１未満であることがさらに好ましい。接着層７２の厚みは、０．５μｍ以上であってもよく、あるいは０．８μｍ以上であってもよい。接着層７２の厚みは、５μｍ以下であってもよく、あるいは３μｍ以下であってもよい。

フィルム７１の積層体は、隣り合う２つのフィルム７１の間に接着剤を配置して２以上のフィルム７１を重ね、フィルム７１が重なったもの（未接着の積層体）を加熱加圧することにより形成することができる。このとき、真空プレスで加熱加圧することが好ましい。プレスの加熱温度は、たとえば、３００〜５００℃の範囲内であってよい。プレスの圧力は、たとえば、８〜１２ＭＰａの範囲内であってよい。プレスの時間は、たとえば、５分〜２時間の範囲内であってよい。

フィルム７１の積層体は、２以上のフィルム７１が接着剤で接着された後、スペーサ７０の形状に合わせて切り取られることで、スペーサ７０としての利用が可能になる。積層体の切り取りは、パンチなどの打ち抜きによって行われ得る。円形に切り取ることにより、円柱状のスペーサ７０が得られる。フィルム７１の積層方向は、ガラスパネルユニット１０の厚み方向と一致していてよい。

スペーサ７０は、平面視したときのガラスパネルユニット１０に対する面積率が、０．０１〜０．２％の範囲内であることが好ましい。それにより、スペーサ７０を目立たなくさせるとともに、ガラスパネルユニット１０の強度を高めることができる。平面視とは、ガラスパネルユニット１０の厚みの方向で見たときのことを意味する。ガラスパネルユニット１０の厚みの方向は、スペーサ７０の高さの方向と等しい。

スペーサ７０の変形例として、ガラス、金属、セラミック、及びグラファイトから選ばれる少なくとも１つの材料を含むスペーサ７０が挙げられる。この場合、スペーサ７０の機能を向上させることができる。たとえば、スペーサ７０の強度が高まり得る。あるいは、スペーサ７０の熱伝導率が下がり得る。ガラス、金属、セラミック、及びグラファイトから選ばれる少なくとも１つの材料は、ここでは、機能性材料と定義される。機能性材料は、上記のようにフィルム７１に含まれてもよいし、接着層７２に含まれてもよい。あるいは、ポリイミドフィルムに機能性材料が含まれてもよい。機能性材料は、接着層７２に含まれることがより好ましい。その場合、機能性材料を容易にスペーサ７０内に含ませることができる。たとえば、接着剤に機能性材料を配合し、その接着剤によりフィルム７１を接着することで、機能性材料を含む接着層７２が形成される。

図４〜図１０により、ガラスパネルユニット１０の製造方法について説明する。図４〜図１０は、ガラスパネルユニット１０の製造例である。図４〜図１０に示す方法により、図１〜図３で示されるガラスパネルユニット１０が製造され得る。図４〜図１０の方法では、排気口を有さないガラスパネルユニット１０が製造される。

ガラスパネルユニット１０は、まず、図４〜図６に示されるように仮組立て品１００を得た後、所定の処理によって、図７〜図９に示す組立て品１１０を得るようにする。その後、図１０に示すように、組立て品１１０から一部を切り出してガラスパネルユニット１０を得ることができる。

ガラスパネルユニット１０の製造方法は、準備工程と、組立工程と、密閉工程と、除去工程と、を有する。なお、準備工程は、省略してもよい。

準備工程は、第１ガラス基板２００、第２ガラス基板３００、枠体４１０、仕切り４２０、ガス吸着体６０、及び複数のスペーサ７０を準備する工程である。準備工程により、内部空間５００、通気路６００、排気口７００が形成され得る。

第１ガラス基板２００は、第１ガラスパネル２０に利用される基板である。図９に示すように、第１ガラス基板２００は、第１ガラス基板２００の平面形状を定めるガラス板２１０と、コーティング２２０と、を備える。ガラス板２１０は、矩形状の平板であり、互いに平行な厚み方向の第１面及び第２面を有する。コーティング２２０は、ガラス板２１０の第２面に形成される。ガラス板２１０は、第１ガラスパネル２０の本体２１を構成する。ガラス板２１０の第１面は本体２１の第１面に対応し、ガラス板２１０の第２面は本体２１の第２面に対応する。コーティング２２０は、第１ガラスパネル２０のコーティング２２を構成する。なお、コーティング２２０は存在しなくてもよい。

第２ガラス基板３００は、第２ガラスパネル３０に利用される基板である。図９に示すように、第２ガラス基板３００は、第２ガラス基板３００の平面形状を定めるガラス板３１０を備える。ガラス板３１０は、矩形状の平板であり、互いに平行な厚み方向の第１面及び第２面を有する。第２ガラス基板３００は、第２ガラスパネル３０の本体３１を構成する。ガラス板３１０の第１面は本体３１の第１面に対応し、ガラス板３１０の第２面は本体３１の第２面に対応する。ガラス板３１０の平面形状及び平面サイズは、ガラス板２１０と同じである。つまり、第２ガラス基板３００の平面形状は、第１ガラス基板２００と同じである。また、ガラス板３１０の厚みは、ガラス板２１０と同じである。第２ガラス基板３００は、ガラス板３１０のみで構成されている。つまり、ガラス板３１０が第２ガラス基板３００そのものである。

第２ガラス基板３００は、第１ガラス基板２００に対向するように配置される。具体的には、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とは、ガラス板２１０の第２面とガラス板３１０の第１面とが互いに平行かつ対向するように配置される。

枠体４１０は、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００との間に配置され、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを気密に接合する。これによって、図６に示すように、枠体４１０と第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とで囲まれた内部空間５００が形成される。

枠体４１０は、熱接着剤（第１軟化点を有する第１熱接着剤）で形成される。第１熱接着剤は、たとえば、ガラスフリットである。ガラスフリットは、たとえば、低融点ガラスフリットである。低融点ガラスフリットは、たとえば、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットである。

枠体４１０は、矩形の枠状である。枠体４１０の平面形状は、ガラス板２１０，３１０と同じであるが、枠体４１０の平面サイズはガラス板２１０，３１０より小さい。図４に示すように、枠体４１０は、第２ガラス基板３００の外周に沿って形成されている。つまり、枠体４１０は、第２ガラス基板３００上のほぼすべての領域を囲うように形成されている。

仕切り４２０は、内部空間５００内に配置される。図６に示すように、仕切り４２０は、内部空間５００を、排気空間５１０と通気空間５２０とに仕切る。排気空間５１０は後に排気される空間であり、通気空間５２０は排気空間５１０の排気に使用される空間である。仕切り４２０は、排気空間５１０が通気空間５２０よりも大きくなるように、第２ガラス基板３００の中央よりも第２ガラス基板３００の長さ方向（図４における左右方向）の第１端側（図４における右端側）に形成される。

仕切り４２０は、壁部４２１と、一対の遮断部４２２（第１遮断部４２２１及び第２遮断部４２２２）と、を備える。壁部４２１は、第２ガラス基板３００の幅方向に沿って形成されている。幅方向とは、図６においては、矩形状の仮組立て品１００の短辺に沿った方向を意味する。ただし、壁部４２１の長さ方向の両端は、枠体４１０とは接触していない。一対の遮断部４２２は、壁部４２１の長さ方向の両端から、第２ガラス基板３００の長さ方向の第１端側に延びている。

仕切り４２０は、熱接着剤（第２軟化点を有する第２熱接着剤）で形成されている。第２熱接着剤は、たとえば、ガラスフリットである。ガラスフリットは、たとえば、低融点ガラスフリットである。低融点ガラスフリットは、たとえば、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットである。第２熱接着剤は、第１熱接着剤と同じであり、第２軟化点と第１軟化点は等しい。

ガス吸着体６０は、排気空間５１０内に配置される。具体的には、ガス吸着体６０は、排気空間５１０の端に配置される。また、ガス吸着体６０は、仕切り４２０及び通気路６００から離れた位置にある。そのため、排気空間５１０の排気時に、ガス吸着体６０が排気を妨げる可能性を低くできる。

複数のスペーサ７０は、図１、図２及び図３を用いて説明したのと同様である。すなわち、スペーサ７０は、好ましくは、図３に示されるフィルム７１の積層体で構成され得る。スペーサ７０は、上述したように、少なくとも１つのポリイミドフィルムを含む２以上のフィルム７１を接着剤で接着し、その後、接着物を切り取ることにより得られる。準備工程に、スペーサ７０を形成する工程が加えられてもよい。図４に示すように、複数のスペーサ７０は、縦横に所定の間隔で配置され得る。

ところで、ガラスパネルユニット１０に組み込まれる前の部材としてのスペーサ７０と、ガラスパネルユニット１０が形成された後のスペーサ７０とは、高さが異なっていてもよい。スペーサ７０は、２つのガラスパネルに挟まれることで高さ方向に圧縮され得る。スペーサ７０がベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含む場合、強度が高まるため、スペーサ７０が圧縮されすぎるのを抑制できる。そのため、真空空間５０の厚みを確保しやすくなる。また、ガラスパネルユニット１０の強度を高めることができる。また、スペーサ７０の潰れが抑制され、ガラスパネルユニット１０の外観（審美性）を向上させることができる。

通気路６００は、内部空間５００内で排気空間５１０と通気空間５２０とをつなぐ。通気路６００は、第１通気路６１０と、第２通気路６２０と、を備える。第１通気路６１０は、第１遮断部４２２１と第１遮断部４２２１に対向する枠体４１０の部分との間に形成された空間である。第２通気路６２０は、第２遮断部４２２２と第２遮断部４２２２に対向する枠体４１０の部分との間に形成された空間である。上記のように仕切り４２０を配置することで、通気路６００が形成される。

排気口７００は、通気空間５２０と外部空間とをつなぐ孔である。排気口７００は、通気空間５２０及び通気路６００を介して排気空間５１０を排気するために用いられる。したがって、通気路６００と通気空間５２０と排気口７００とは、排気空間５１０を排気するための排気路を構成する。排気口７００は、通気空間５２０と外部空間とをつなぐように第２ガラス基板３００に形成されている。具体的には、排気口７００は、第２ガラス基板３００の角部分に位置している。

以上のような部材により、準備工程が行われる。準備工程は、第１〜第６工程を有する。なお、第２〜第６工程の順番は、適宜変更してもよい。

第１工程は、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００を形成する工程（基板形成工程）である。たとえば、第１工程では、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００を作製する。また、第１工程では、必要に応じて、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００を洗浄する。

第２工程は、排気口７００を形成する工程である。第２工程では、第２ガラス基板３００に、排気口７００を形成する。また、第２工程では、必要に応じて、第２ガラス基板３００を洗浄する。なお、排気口７００は、第１ガラス基板２００に設けられてもよい。

第３工程は、枠体４１０及び仕切り４２０を形成する工程（シール材形成工程）である。第３工程では、ディスペンサなどを利用して、枠体４１０の材料（第１熱接着剤）及び仕切り４２０の材料（第２熱接着剤）を第２ガラス基板３００（ガラス板３１０の第１面）上に塗布する。そして、枠体４１０の材料及び仕切り４２０の材料を乾燥させるとともに、仮焼成する。たとえば、枠体４１０の材料及び仕切り４２０の材料が塗布された第２ガラス基板３００を４８０℃で２０分間加熱する。なお、第１ガラス基板２００を第２ガラス基板３００と一緒に加熱してもよい。つまり、第１ガラス基板２００を第２ガラス基板３００と同じ条件（４８０℃で２０分間）で加熱してもよい。これにより、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００との反りの差を低減できる。

第４工程は、スペーサ７０を設置する工程（スペーサ設置工程）である。第４工程では、複数のスペーサ７０を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のスペーサ７０を、第２ガラス基板３００の所定位置に設置する。なお、複数のスペーサ７０は、公知の薄膜形成技術を利用して形成されていてもよい。例えば、ポリイミド又はポリイミドを形成するための組成物を第２ガラス基板３００の上に塗布することで、スペーサ７０が形成され得る。

第５工程は、ガス吸着体６０を形成する工程（ガス吸着体形成工程）である。第５工程では、ゲッタの粉体が分散された溶液を第２ガラス基板３００の所定位置に塗布し、乾燥させることで、ガス吸着体６０を形成する。

第１工程から第５工程が終了することで、図４に示されるような、枠体４１０、仕切り４２０、通気路６００、排気口７００、ガス吸着体６０、複数のスペーサ７０が形成された第２ガラス基板３００が得られる。

第６工程は、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを配置する工程（配置工程）である。第６工程では、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とは、ガラス板２１０の第２面とガラス板３１０の第１面とが互いに平行かつ対向するように配置される。図５は、第１ガラス基板２００を第２ガラス基板３００に重ねている様子を示している。なお、本例では、第２ガラス基板３００に各部材（枠体４１０、仕切り４２０など）を配置しているが、第１ガラス基板２００に各部材を配置してもよい。

組立工程は、仮組立て品１００を用意する工程である。具体的には、組立工程では、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを接合することで、仮組立て品１００を用意する。つまり、組立工程は、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを枠体４１０により気密に接合する工程（第１溶融工程）である。

第１溶融工程では、第１軟化点以上の所定温度（第１溶融温度）で第１熱接着剤を一旦溶融させることで、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを気密に接合する。第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とは、枠体４１０によって気密に接合される。具体的には、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００は、溶融炉内に配置され、第１溶融温度で所定時間（第１溶融時間）だけ加熱される。

第１溶融温度及び第１溶融時間は、枠体４１０の熱接着剤によって第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とが気密に接合されるが、仕切り４２０によって通気路６００が塞がれることがないように、設定される。つまり、第１溶融温度の下限は、第１軟化点であるが、第１溶融温度の上限は、仕切り４２０によって通気路６００が塞がれることがないように設定される。たとえば、第１軟化点及び第２軟化点が４３４℃である場合、第１溶融温度は、４４０℃に設定される。また、第１溶融時間は、たとえば、１０分である。なお、第１溶融工程では、枠体４１０からガスが放出されるが、このガスはガス吸着体６０によって吸着されてもよい。

上述した組立工程（第１溶融工程）によって、図６に示される仮組立て品１００が得られる。仮組立て品１００は、第１ガラス基板２００と、第２ガラス基板３００と、枠体４１０と、内部空間５００と、仕切り４２０と、通気路６００と、排気口７００と、ガス吸着体６０と、複数のスペーサ７０と、を備える。

密閉工程は、仮組立て品１００に上記所定の処理を行って組立て品１１０を得る工程である。密閉工程は、排気工程と、溶融工程（第２溶融工程）と、を有する。つまり、排気工程及び第２溶融工程が上記所定の処理に相当する。

排気工程は、所定温度（排気温度）で、排気空間５１０を、通気路６００と通気空間５２０と排気口７００とを介して排気して真空空間５０とする工程である。このように、排気工程では加熱されることが好ましい。それにより、真空性が高まる。

排気は、たとえば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図６に示されるように、排気管８１０と、シールヘッド８２０と、により仮組立て品１００に接続される。排気管８１０は、たとえば、排気管８１０の内部と排気口７００とが連通するように第２ガラス基板３００に接合される。そして、排気管８１０にシールヘッド８２０が取り付けられ、これによって、真空ポンプの吸気口が排気口７００に接続される。

第１溶融工程と排気工程と第２溶融工程とは、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００を溶融炉内に配置したまま行われる。このとき、第２ガラス基板３００は、枠体４１０、仕切り４２０、通気路６００、排気口７００、ガス吸着体６０、複数のスペーサ７０が設けられている。排気管８１０は、少なくとも第１溶融工程の前に、第２ガラス基板３００に接合される。

排気工程では、所定の排気温度で所定時間（排気時間）だけ、通気路６００と通気空間５２０と排気口７００とを介して排気空間５１０を排気する。排気温度は、ガス吸着体６０のゲッタの活性化温度（たとえば、３５０℃）より高く、かつ、第１軟化点及び第２軟化点（たとえば、４３４℃）より低く設定される。排気温度は、好ましくは、３００℃以上である。たとえば、排気温度は、３９０℃である。このようにすれば、枠体４１０及び仕切り４２０は変形しない。また、ガス吸着体６０のゲッタが活性化し、ゲッタが吸着していた分子（ガス）がゲッタから放出される。そして、ゲッタから放出された分子（つまりガス）は、排気空間５１０、通気路６００、通気空間５２０、及び、排気口７００を通じて排出される。したがって、排気工程では、ガス吸着体６０の吸着能力が回復する。排気時間は、所望の真空度（たとえば、０．１Ｐａ以下の真空度）の真空空間５０が得られるように設定される。たとえば、排気時間は、１２０分に設定される。

第２溶融工程は、仕切り４２０を変形させて、通気路６００を塞ぐ隔壁４２を形成することで、真空空間５０を囲むシール４０を形成する工程である。第２溶融工程では、第２軟化点以上の所定温度（第２溶融温度）で第２熱接着剤を一旦溶融させることで、仕切り４２０を変形させて隔壁４２を形成する。具体的には、第１ガラス基板２００及び第２ガラス基板３００は、溶融炉内で、第２溶融温度で所定時間（第２溶融時間）だけ加熱される。

第２溶融温度及び第２溶融時間は、第２熱接着剤が軟化し、通気路６００を塞ぐ隔壁４２が形成されるように設定される。第２溶融温度の下限は、第２軟化点（４３４℃）である。ただし、第２溶融工程では、第１溶融工程とは異なり、仕切り４２０を変形させることを目的としているから、第２溶融温度は、第１溶融温度（４４０℃）より高くしている。たとえば、第２溶融温度は、４６０℃に設定される。また、第２溶融時間は、たとえば、３０分である。

隔壁４２が形成されると、真空空間５０が通気空間５２０から分離される。そのため、真空ポンプで真空空間５０を排気することはできなくなる。第２溶融工程が終了するまでは、枠体４１０及び隔壁４２が加熱されているから、枠体４１０及び隔壁４２からガスが放出されることがある。しかしながら、枠体４１０及び隔壁４２から放出されたガスは、真空空間５０内のガス吸着体６０に吸着される。そのため、真空空間５０の真空度が悪化することが防止される。つまり、ガラスパネルユニット１０の断熱性が悪くなることが防止される。

第１溶融工程でも、枠体４１０及び隔壁４２が加熱されているから、枠体４１０及び隔壁４２からガスが放出されることがある。枠体４１０及び隔壁４２から放出されたガスはガス吸着体６０に吸着されるから、第１溶融工程によってガス吸着体６０の吸着能力が低下している場合がある。しかしながら、排気工程では、ガス吸着体６０のゲッタの活性化温度以上の排気温度で排気空間５１０の排気を行い、これによって、ガス吸着体６０の吸着能力を回復させている。したがって、ガス吸着体６０は、第２溶融工程において、枠体４１０及び隔壁４２から放出されたガスを十分に吸着できる。つまり、ガス吸着体６０が枠体４１０及び隔壁４２から放出されたガスを十分に吸着できずに真空空間５０の真空度が悪化することを防止できる。

また、第２溶融工程では、排気工程から継続して、通気路６００と通気空間５２０と排気口７００とを介して排気空間５１０を排気する。つまり、第２溶融工程では、第２溶融温度で、通気路６００と通気空間５２０と排気口７００とを介して排気空間５１０を排気しながら、仕切り４２０を変形させて通気路６００を塞ぐ隔壁４２を形成する。これによって、第２溶融工程中に、真空空間５０の真空度が悪化することがさらに防止される。ただし、第２溶融工程では、必ずしも、通気路６００と通気空間５２０と排気口７００とを介して排気空間５１０を排気する必要はない。

上記所定の処理では、所定温度（排気温度）で、通気路６００、通気空間５２０、及び排気口７００を介して排気空間５１０を排気して排気空間５１０を真空空間５０とする。排気温度は、ガス吸着体６０のゲッタの活性化温度より高くしている。これによって、排気空間５１０の排気とゲッタの吸着能力の回復とが同時に行える。

また、上記所定の処理では、仕切り４２０を変形させて、通気路６００を塞ぐ隔壁４２を形成することで、真空空間５０を囲むシール４０を形成する（図８参照）。仕切り４２０は、第２熱接着剤を含んでいるから、第２軟化点以上の所定温度（第２溶融温度）で第２熱接着剤を一旦溶融させることで、仕切り４２０を変形させて隔壁４２を形成することができる。なお、第１溶融温度は、第２溶融温度より低くしている。これによって、枠体４１０で第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを接合する際に、仕切り４２０が変形して通気路６００が塞がれることを防止できる。なお、仕切り４２０は、枠体４１０よりも溶融時の変形性が大きい材料で形成されてもよい。

仕切り４２０は、第１遮断部４２２１が第１通気路６１０を塞ぎ、第２遮断部４２２２が第２通気路６２０を塞ぐように、変形される。このようにして仕切り４２０を変形することで得られた隔壁４２は、真空空間５０を通気空間５２０から（空間的に）分離する。隔壁（第２部分）４２と枠体４１０において真空空間５０に対応する部分（第１部分）４１とが、真空空間５０を囲むシール４０を構成する。

このように、真空空間５０は、通気空間５２０、及び排気口７００を介して排気空間５１０を排気することで形成される。真空空間５０は、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とシール４０とで完全に密閉されているから、通気空間５２０及び排気口７００から分離されている。

また、矩形の枠状のシール４０が形成される。シール４０は、第１部分４１と、第２部分４２と、を有する。第１部分４１は、枠体４１０において真空空間５０に対応する部分である。つまり、第１部分４１は、枠体４１０において真空空間５０に面している部分である。第１部分４１は、略Ｕ字状であり、シール４０の四辺のうちの三辺を構成する。第２部分４２は、仕切り４２０を変形することで得られる隔壁である。第２部分４２は、Ｉ字状であり、シール４０の四辺のうちの残りの一辺を構成する。

排気工程では、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とが近づく方向の力が発生する。このとき、スペーサ７０が、第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００との間の空間を確保する。

ここで、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むスペーサ７０を使用した場合、それ以外の場合に比べて、真空空間５０の厚みを確保しやすくなる。ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドは耐熱性と強度が高いからである。ポリイミド以外のポリマーを用いた場合、及び、ベンゾオキサゾール構造を有さないポリイミドを用いた場合、スペーサの潰れが発生しやすくなる。潰れが発生すると、真空空間の厚みが小さくなり得る。また、潰れの発生は断熱性の低下を招きやすくなる。また、スペーサの潰れは、強度の低下を招くおそれがある。また、スペーサの潰れは、ガラスパネルユニットの外観の悪化を招くおそれがある。

上述した密閉工程によって、図７〜図９に示される組立て品１１０が得られる。組立て品１１０は、第１ガラス基板２００と、第２ガラス基板３００と、シール４０と、真空空間５０と、通気空間５２０と、ガス吸着体６０と、複数のスペーサ７０と、を備える。図８では、内部構造が理解しやすいよう、第１ガラス基板２００の一部（右下）を破断して、描画している。

除去工程は、組立て品１１０から通気空間５２０を有する部分１１を除去することで、真空空間５０を有する部分であるガラスパネルユニット１０を得る工程である。図８に示されるように、具体的には、溶融炉から取り出された組立て品１１０は、切断線９００に沿って切断され、真空空間５０を有する所定部分（ガラスパネルユニット）１０と、通気空間５２０を有する部分（不要な部分）１１と、に分割される。不要な部分１１は、主に、第１ガラス基板２００のうち通気空間５２０に対応する部分２３０と、第２ガラス基板３００のうち通気空間５２０に対応する部分３２０と、枠体４１０のうち通気空間５２０に対応する部分４１１と、を含んでいる。ガラスパネルユニット１０の製造コストを考慮すれば、不要な部分１１は小さいほうが好ましい。図１０では、組立て品１１０から不要な部分１１を除去する様子を示している。

切断は、適宜の切断装置によって行われる。切断装置としては、スクライバ、レーザが例示される。第１ガラス基板２００と第２ガラス基板３００とを同時に切断すると、ガラスパネルユニット１０を効率よく切り出すことができる。なお、切断線９００の形状は、ガラスパネルユニット１０の形状によって定まる。ガラスパネルユニット１０は矩形状であるから、切断線９００は、壁４２の長さ方向に沿った直線となっている。

上述した、準備工程、組立工程、密閉工程、及び除去工程を経て、図１及び図２に示すようなガラスパネルユニット１０が得られる。第１ガラスパネル２０は、第１ガラス基板２００のうち真空空間５０に対応する部分である。第２ガラスパネル３０は、第２ガラス基板３００のうち真空空間５０に対応する部分である。真空空間５０を形成するための排気口７００は、第２ガラス基板３００において通気空間５２０に対応する部分３２０に存在し、排気管８１０は部分３２０に接続されている。そのため、第２ガラスパネル３０には、排気口７００が存在していない。

以下、ガラスパネルユニットの更なる変形例を説明する。変形例の説明にあたっては、同様の構成の番号について括弧を付す。

上記実施形態では、ガラスパネルユニット（１０）は矩形状であるが、ガラスパネルユニット（１０）は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第１ガラスパネル（２０）、第２ガラスパネル（３０）、及びシール（４０）は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。なお、第１ガラス基板（２００）、第２ガラス基板（３００）、枠体（４１０）、及び、隔壁（４２）のそれぞれの形状は、上記実施形態の形状に限定されず、所望の形状のガラスパネルユニット（１０）が得られるような形状であればよい。なお、ガラスパネルユニット（１０）の形状や大きさは、ガラスパネルユニット（１０）の用途に応じて決定される。

また、第１ガラスパネル（２０）の本体（２１）の第１面及び第２面はいずれも平面に限定されない。同様に、第２ガラスパネル（３０）の本体（３１）の第１面及び第２面はいずれも平面に限定されない。

また、第１ガラスパネル（２０）の本体（２１）と第２ガラスパネル（３０）の本体（３１）とは同じ平面形状及び平面サイズを有していなくてもよい。また、本体（２１）と本体（３１）とは同じ厚みを有していなくてもよい。また、本体（２１）と本体（３１）とは同じ材料で形成されていなくてもよい。同様に、第１ガラス基板（２００）のガラス板（２１０）と第２ガラス基板（３００）のガラス板（３１０）とは同じ平面形状及び平面サイズを有していなくてもよい。また、ガラス板（２１０）とガラス板（３１０）とは同じ厚みを有していなくてもよい。ガラス板（２１０）とガラス板（３１０）とは同じ材料で形成されていなくてもよい。

また、シール（４０）は、第１ガラスパネル（２０）及び第２ガラスパネル（３０）と同じ平面形状を有していなくてもよい。同様に、枠体（４１０）は、第１ガラス基板（２００）及び第２ガラス基板（３００）と同じ平面形状を有していなくてもよい。

また、第１ガラスパネル（２０）は、さらに、所望の物理特性を有して本体（２１）の第２平面に形成されるコーティングを備えていてもよい。あるいは、第１ガラスパネル（２０）は、コーティング（２２）を備えていなくてもよい。つまり、第１ガラスパネル（２０）は、本体（２１）のみで構成されていてもよい。

また、第２ガラスパネル（３０）は、さらに、所望の物理特性を有するコーティングを備えていてもよい。コーティングは、たとえば、本体（３１）の第１平面及び第２平面にそれぞれ形成される薄膜の少なくとも一方を備えていればよい。コーティングは、たとえば、特定波長の光を反射する膜（赤外線反射膜、紫外線反射膜）などである。

上記実施形態では、枠体（４１０）は、第１熱接着剤で形成されている。ただし、枠体（４１０）は、第１熱接着剤に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。つまり、枠体（４１０）は、第１熱接着剤を含んでいればよい。また、上記実施形態では、枠体（４１０）は、第２ガラス基板（３００）のほぼすべての領域を囲うように形成されている。しかしながら、枠体（４１０）は、第２ガラス基板（３００）上の所定の領域を囲うように形成されていればよい。つまり、枠体（４１０）は、第２ガラス基板（３００）のほぼすべての領域を囲うように形成されている必要はない。また、組立て品（１１０）は、２以上の枠体（４１０）を有していてもよい。つまり、組立て品（１１０）は、２以上の内部空間（５００）を有していてもよい。この場合、１つの組立て品（１１０）から２以上のガラスパネルユニット（１０）を得ることができる。

上記実施形態では、仕切り（４２０）は、第２熱接着剤で形成されている。ただし、仕切り（４２０）は、第２熱接着剤に加えて、芯材等の他の要素を備えていてもよい。つまり、仕切り（４２０）は、第２熱接着剤を含んでいればよい。また、上記実施形態では、仕切り（４２０）はその両端が枠体（４１０）とは連結されていない。そして、仕切り（４２０）の両端と枠体（４１０）との隙間が、通気路（６１０，６２０）である。ただし、仕切り（４２０）は、その両端の一方のみが枠体（４１０）に連結されていなくてもよく、この場合、仕切り（４２０）と枠体（４１０）との間に一つの通気路（６００）が形成される。あるいは、仕切り（４２０）は、その両端が枠体（４１０）に連結されていてもよい。この場合、通気路（６００）は、仕切り（４２０）に形成された貫通孔であってもよい。あるいは、通気路（６００）は、仕切り（４２０）と第１ガラス基板（２００）との隙間であってもよい。あるいは、仕切り（４２０）は、間隔をあけて配置された２以上の仕切りで形成されていてもよい。この場合、通気路（６００）は、２以上の仕切りの隙間であってもよい。

上記実施形態では、内部空間（５００）は、一つの排気空間（５１０）と一つの通気空間（５２０）とに仕切られている。ただし、内部空間（５００）は、１以上の排気空間（５１０）と１以上の通気空間（５２０）とに仕切られていてもよい。内部空間（５００）が２以上の排気空間（５１０）を有する場合、１つの組立て品（１１０）から２以上のガラスパネルユニット（１０）を得ることができる。

上記実施形態では、第２熱接着剤は、第１熱接着剤と同じであり、第２軟化点と第１軟化点は等しい。ただし、第２熱接着剤は、第１熱接着剤と異なる材料であってもよい。たとえば、第２熱接着剤は、第１熱接着剤の第１軟化点と異なる第２軟化点を有していてもよい。ここで、第２軟化点は、第１軟化点より高いことが好ましい。この場合、第１溶融温度を、第１軟化点以上第２軟化点未満とすることができる。このようにすれば、第１溶融工程において、仕切り（４２０）が変形してしまうことを防止できる。

また、第１接着剤及び第２熱接着剤は、ガラスフリットに限定されず、たとえば、低融点金属や、ホットメルト接着材などであってもよい。

上記実施形態では、枠体（４１０）、ガス吸着体（６０）、及び仕切り（４２０）の加熱に溶融炉を利用している。しかしながら、加熱は、適宜の加熱手段で行うことができる。加熱手段は、たとえば、レーザや、熱源に接続された伝熱板などである。

上記実施形態では、通気路（６００）は２つの通気路（６１０，６２０）を備えているが、通気路（６００）は、一つの通気路だけで構成されていてもよいし、３以上の通気路で構成されていてもよい。また、通気路（６００）の形状は、特に限定されない。

上記実施形態では、排気口（７００）は、第２ガラス基板（３００）に形成されている。しかし、排気口（７００）は、第１ガラス基板（２００）のガラス板（２１０）に形成されていてもよいし、枠体（４１０）に形成されていてもよい。要するに、排気口（７００）は、不要な部分（１１）に形成されていればよい。

上記実施形態では、ガス吸着体（６０）のゲッタは蒸発型ゲッタであるが、ゲッタは非蒸発型ゲッタであってもよい。非蒸発型ゲッタは、所定温度（活性化温度）以上になると、吸着された分子が内部に入り込むことで、吸着能力が回復する。ただし、蒸発型ゲッタとは異なり、吸着された分子を放出するわけではないので、非蒸発型ゲッタは、ある程度以上の分子を吸着すると、たとえ活性化温度以上に加熱されても、吸着能力が回復しなくなる。

上記実施形態では、ガス吸着体（６０）は、長尺状であるが、他の形状であってもよい。また、ガス吸着体（６０）は、必ずしも真空空間（５０）の端にある必要はない。また、上記実施形態では、ガス吸着体（６０）は、ゲッタの粉体を含む液体（たとえばゲッタの粉体を液体に分散して得られた分散液や、ゲッタの粉体を液体に溶解させて得られた溶液）を塗布することにより形成される。しかしながら、ガス吸着体（６０）は、基板と、基板に固着されたゲッタと、を備えていてもよい。このようなガス吸着体（６０）は、ゲッタの粉末を含む液体に基板を浸漬し、乾燥することで得ることができる。なお、基板は、所望の形状であってよく、たとえば、長尺の矩形状である。

あるいは、ガス吸着体（６０）は、第２ガラス基板（３００）のガラス板（３１０）の表面（第１面）に全体的あるいは部分的に形成された膜であってもよい。このようなガス吸着体（６０）は、第２ガラス基板（３００）のガラス板（３１０）の表面（第１面）をゲッタの粉末を含む液体でコーティングすることで得ることができる。

あるいは、ガス吸着体（６０）は、スペーサ（７０）に含まれていてもよい。たとえば、スペーサ（７０）を、ゲッタを含む材料で形成すれば、ガス吸着体（６０）を含むスペーサ（７０）を得ることができる。たとえば、接着層（７２）がゲッタを含有してもよい。

あるいは、ガス吸着体（６０）は、ゲッタで形成された固形物であってもよい。このようなガス吸着体（６０）は、比較的大きく、第１ガラス基板（２００）と第２ガラス基板（３００）との間に配置できないことがある。この場合には、第２ガラス基板（３００）のガラス板（３１０）に凹所を形成して、この凹所にガス吸着体（６０）を配置すればよい。

あるいは、ガス吸着体（６０）は、ゲッタが分子を吸着しないように、予めパッケージ内に配置しておいてもよい。この場合、第２溶融工程の後に、パッケージを破壊して、ガス吸着体（６０）を真空空間（５０）に曝せばよい。

上記実施形態では、ガラスパネルユニット（１０）はガス吸着体（６０）を備えているが、ガラスパネルユニット（１０）は、ガス吸着体（６０）を備えていなくてもよい。

上記実施形態では、ガラスパネルユニット（１０）は複数のスペーサ（７０）を備えているが、ガラスパネルユニット（１０）は、一つのスペーサ（７０）を備えていてもよい。

上記実施形態では、スペーサ（７０）はベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含んでいる。しかし、スペーサ（７０）は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含んでいなくて、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも大きいポリマーを含んでいてもよい。その場合も、強度が高いガラスパネルユニット（１０）が得られる。スペーサ（７０）に含まれるポリマーは、４００℃のときの粘弾性係数が１×１０^６ＭＰａより小さくてもよい。ポリマーは、４００℃のときの粘弾性係数が、１０００ＭＰａよりも大きいことがより好ましく、１５００ＭＰａよりも大きいことがさらに好ましく、２０００ＭＰａよりも大きいことがよりさらに好ましい。スペーサ（７０）は、このようなポリマーのフィルムの積層体であってもよい。また、スペーサ（７０）は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含んでいなくて、２０℃のときの粘弾性係数Ｖ_２０に対する４００℃のときの粘弾性係数Ｖ_４００の比（Ｖ_４００／Ｖ_２０）が、０．１以上であるポリマーを含んでいてもよい。この比（Ｖ_４００／Ｖ_２０）は、０．２以上であることがより好ましく、０．３以上であることがさらに好ましく、０．４以上であることがよりさらに好ましい。また、スペーサ（７０）は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含んでいなくて、４００℃のときの熱膨張係数が１０ｐｐｍ／℃よりも小さいポリマーを含んでいてもよい。その場合も、強度が高いガラスパネルユニット（１０）が得られる。スペーサ（７０）に含まれるポリマーは、４００℃のときの熱膨張係数が０．１ｐｐｍ／℃より大きくてもよい。さらに、スペーサ（７０）は、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含んでいなくて、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも大きく、４００℃のときの熱膨張係数が１０ｐｐｍ／℃よりも小さいポリマーを含んでいてもよい。

上記実施形態では、不要な部分（１１）を除去することで、排気口を有さないガラスパネルユニット（１０）を形成することを説明したが、ガラスパネルユニット（１０）は、排気口を有していてもよい。その場合、排気口は、第１ガラスパネル（２０）と、第２ガラスパネル（３０）とのうちの少なくともいずれか一方に設けられ得る。真空空間（５０）の真空を維持するため、排気口は閉じられる。第１ガラスパネル（２０）及び第２ガラスパネル（３０）の少なくともいずれか一方に排気口が設けられた場合、キャップ材により排気口が閉じられ得る。ただし、外観をよくするためには、ガラスパネルユニット（１０）は排気口を有していないことが好ましい。

図１１に、ガラスパネルユニットの変形例（ガラスパネルユニット１０Ａ）を示す。ガラスパネルユニット１０Ａは、第２ガラスパネル３０に排気口７００を有する。排気口７００は、封止部８１により、閉鎖されている。これにより、真空空間５０は真空が維持される。封止部８１は、排気管８１０から形成されている。封止部８１は、たとえば排気管８１０を構成するガラスの熱溶着で形成され得る。封止部８１の外側にはキャップ８０が配置されている。キャップ８０は封止部８１を覆っている。キャップ８０が封止部８１を覆うことで、排気口７００を高く閉鎖できる。また、キャップ８０により、排気口７００部分での破損を抑制できる。ガラスパネルユニット１０Ａは、排気口７００、封止部８１及びキャップ８０が設けられていること以外は、図１〜図３のガラスパネルユニット１０と同じである。図１〜図３のガラスパネルユニット１０と同じ構成については同じ符号を付しており、それらの構成には、適宜、図１〜図３で行った説明を適用できる。ガラスパネルユニット１０Ａは、仮組立て品１００の作製方法に準じて製造することができる。ガラスパネルユニット１０Ａは、排気口７００を有する部分を除去しなくてもよいため、製造が容易になり得る。

（実施例）
ガラスパネルユニットについて、スペーサの違いによる物性の違いを試験した。スペーサとして、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドフィルムを用いたスペーサ（実施例１）と、ベンゾオキサゾール構造を有さないポリイミドフィルムを用いたスペーサ（比較例１、２）と、ステンレス製のスペーサ（比較例３）と、を準備した。実施例１のスペーサは、直径０．５ｍｍ、高さ０．１１６ｍｍとした。比較例１のスペーサは、直径０．５ｍｍ、高さ０．１２５ｍｍとした。比較例２のスペーサは、直径０．８ｍｍ、高さ０．１２５ｍｍとした。比較例３のスペーサは、ＳＵＳ３０４、直径０．４ｍｍ、高さ０．１５ｍｍとした。なお、スペーサのサイズは、ガラスパネルユニットに組み込まれる前の値である。

実施例１のスペーサでは、ポリイミドフィルムとして東洋紡績製「ゼノマックス」（登録商標）を使用した。実施例１で使用したポリイミドフィルムは、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも大きく（２５００ＭＰａ）、４００℃のときの熱膨張係数が１０ｐｐｍ／℃よりも小さい（約１ｐｐｍ／℃）ポリイミドで形成されている。比較例１及び２のスペーサでは、ポリイミドフィルムとして、カネカ製「アピカル」（登録商標）を使用した。比較例１及び２のポリイミドは、ピロメリット酸二無水物と４，４’−ジアミノジフェニルエーテルとの縮合物（略称：ＰＤＭＡ／ＯＤＡ）である。比較例１及び２で使用したポリイミドフィルムは、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも小さく（２５０ＭＰａ）、４００℃のときの熱膨張係数が１０ｐｐｍ／℃よりも大きい（約２８ｐｐｍ／℃）ポリイミドで形成されている。

表１に、ガラスパネルユニットの強度（衝撃強度）、熱伝導性（ガラス熱貫流率）、スペーサ径を比較した結果を示す。衝撃強度は、２２５ｇの球体をガラスパネルユニットの上に落として、ガラスパネルユニットの表面に傷が入った平均の高さ（単位：ｃｍ）である。ガラス熱貫流率（単位：Ｗ／ｍ^２・Ｋ）は、熱伝導測定装置で測定される。スペーサ径は、ガラスパネルユニットが形成された後のスペーサ径である。スペーサは、２つのガラスパネルの間に挟まって、ガラスパネルユニットに組み込まれる前に比べて、スペーサ径が増加し得る。スペーサ径が大きくなりすぎると、スペーサが目立ちやすくなり、審美性が低下する。衝撃強度は、５０ｃｍを超えることが好ましい。熱伝導性は、１．０Ｗ／ｍ^２・Ｋ以下が好ましい。スペーサ径は、０．６ｍｍ以下が好ましい。表１に示すように、実施例１のガラスパネルユニットは、衝撃強度が高く、熱伝導性が低く、スペーサ径が小さい。一方、比較例３は、衝撃強度が低く、熱伝導性が高い。比較例２は、熱伝導性が高く、スペーサ径も大きい。比較例２では、衝撃強度が５０ｃｍを超えるようにスペーサを選定したために、スペーサ径が大きくなった。比較例１では、衝撃強度が低く、スペーサ径も大きい。

表１から、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むスペーサ（直径５００μｍ）と、ベンゾオキサゾール構造を有さないポリイミドを含むスペーサ（直径５００μｍ）とについて、ガラスパネルユニット形成後のスペーサ径が比較できる（実施例１と比較例１）。真空空間を形成する際の排気条件は、４５０℃で１５分である。ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むスペーサでは、直径が大きくなったものの５６０μｍで留まったのに対し、ベンゾオキサゾール構造を有さないポリイミドを含むスペーサでは、直径が７００μｍにまで拡大した。ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むスペーサは、スペーサ径の拡大が抑制される。

さらに、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含むスペーサ（実施例１Ａ）と、ベンゾオキサゾール構造を有さないポリイミドを含むスペーサ（比較例１Ａ）とについて、ガラスパネルユニットに占める面積率を変化させて、ガラスパネルユニットの圧力特性を比較した。ガラスパネルユニットを両面から押して、ガラスパネルユニットが破壊された場合は「×」とし、ガラスパネルユニットが破壊されない場合は「○」とした。結果を表２に示す。

表２に示すように、実施例１Ａでは、強度の高いガラスパネルユニットが得られた。

また、実施例１で使用したスペーサと、比較例１で使用したスペーサとについて、ガラスパネルユニットを形成する際の排気温度を変化させ、粘弾性係数と排気後のスペーサ形状について試験した。実施例１で使用したスペーサは、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドから形成されており、直径０．５ｍｍである。比較例１で使用したスペーサは、ベンゾオキサゾール構造を有さないポリイミドから形成されており、直径０．５ｍｍである。プレスの圧力は２００ＭＰａとした。スペーサ形状は、目視により、潰れが確認された場合は「×」とし、潰れが確認されなかった場合は「○」とした。結果を表３に示す。

表３に示すように、ベンゾオキサゾール構造を有さないポリイミドでは、３００℃以上で急激に粘弾性係数が低下した。一方、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドでは、粘弾性係数の低下度合いが少ない。スペーサの潰れを抑制するためには、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａより大きいことが有利である。スペーサの潰れを抑制するためには、２０℃のときの粘弾性係数Ｖ_２０に対する４００℃のときの粘弾性係数Ｖ_４００の比（Ｖ_４００／Ｖ_２０）が、０．１以上であることが有利である。

Claims (8)

1. 第１ガラスパネルと、
   前記第１ガラスパネルと対向するように配置された第２ガラスパネルと、
   前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルとを枠状に気密に接合するシールと、
   前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルと前記シールとで囲まれた真空空間と、
   前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルとの間に配置された少なくとも１つのスペーサと、を備え、
   前記スペーサは、ベンゾオキサゾール構造を有するポリイミドを含む、
   ガラスパネルユニット。
2. 第１ガラスパネルと、
   前記第１ガラスパネルと対向するように配置された第２ガラスパネルと、
   前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルとを枠状に気密に接合するシールと、
   前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルと前記シールとで囲まれた真空空間と、
   前記第１ガラスパネルと前記第２ガラスパネルとの間に配置された少なくとも１つのスペーサと、を備え、
   前記スペーサは、４００℃のときの粘弾性係数が５００ＭＰａよりも大きいポリマーを含む、
   ガラスパネルユニット。
3. 前記スペーサは、２以上のフィルムの積層体である、
   請求項１又は２に記載のガラスパネルユニット。
4. 前記真空空間は、加熱しながら排気することによって真空が形成された、
   請求項１乃至３のいずれか１項に記載のガラスパネルユニット。
5. 前記加熱の温度は、３００℃以上である、
   請求項４に記載のガラスパネルユニット。
6. 前記第１ガラスパネル及び前記第２ガラスパネルは、排気口を有していない、
   請求項１乃至５のいずれか１項に記載のガラスパネルユニット。
7. 前記スペーサは、平面視したときの前記ガラスパネルユニットに対する面積率が、０．０１〜０．２％の範囲内である、
   請求項１乃至６のいずれか１項に記載のガラスパネルユニット。
8. 前記スペーサは、ガラス、金属、セラミック、及びグラファイトから選ばれる少なくとも１つの材料を含む、
   請求項１乃至７のいずれか１項に記載のガラスパネルユニット。

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