JP6378179B2 - 新規化合物,有機カチオントランスポーター3の検出剤及び活性阻害剤 - Google Patents
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- 0 *CC*C*N=C(N)N Chemical compound *CC*C*N=C(N)N 0.000 description 12
- IBSSVMSTAKNDST-UHFFFAOYSA-N CC(NC(CCSCc1cc(N=C(N)N)ncc1)=N1)=C(CCc2ccccc2)C1=O Chemical compound CC(NC(CCSCc1cc(N=C(N)N)ncc1)=N1)=C(CCc2ccccc2)C1=O IBSSVMSTAKNDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZVJDCEEFFFGR-UHFFFAOYSA-N Cc1nc(CSCCC(NC(C)=C2CCc3ccccc3)N(C)C2=O)c[s]1 Chemical compound Cc1nc(CSCCC(NC(C)=C2CCc3ccccc3)N(C)C2=O)c[s]1 ZMZVJDCEEFFFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBXWYUDHRJIKOL-UHFFFAOYSA-N N#CCCSCc1c[s]cn1 Chemical compound N#CCCSCc1c[s]cn1 BBXWYUDHRJIKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIZYSWMUNPHDIW-UHFFFAOYSA-N NC(CCSCc1c[s]cn1)=N Chemical compound NC(CCSCc1c[s]cn1)=N SIZYSWMUNPHDIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRXIYHCLZNTYMB-UHFFFAOYSA-N NC(N)=Nc1nc(CSCCNC(CO)=O)c[s]1 Chemical compound NC(N)=Nc1nc(CSCCNC(CO)=O)c[s]1 SRXIYHCLZNTYMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAMFCZHJGYMUTD-UHFFFAOYSA-N NC(SCc1c[s]cn1)=N Chemical compound NC(SCc1c[s]cn1)=N BAMFCZHJGYMUTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D277/32—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
R1は,水素原子,ハロゲン原子,アミノ基,ニトロ基,C1−5アルキル基,C1−3アルコキシ基,C1−3アルキルチオ基,C1−3ハロゲノアルキル基,C6−10アリール基,R11(R12)N−で示される基,又はR13R14N(R15R16N)C=N−で示される基を示す。
水素原子,ハロゲン原子,ニトロ基,C1−5アルキル基,C1−3アルコキシ基,C1−3アルキルチオ基,C1−3ハロゲノアルキル基,C6−10アリール基,又は隣合うR13,R15,窒素原子及び炭素原子が環状に結合したイミダゾリジンを示す。
R31は,C1−5アルキル基を示し,
R32は,酸素原子(−O−),硫黄原子(−S−),又は−NH−を示し,
R33は,C1−5アルキル基を示し,
R34は,C1−5アルキル基を示し,
R35は,酸素原子(−O−),硫黄原子(−S−),又は−NH−を示し,
R36は,C1−5アルキル基を示し,
R37は,酸素原子(−O−),硫黄原子(−S−),又は−NH−を示し,
R38は,C1−5アルキル基を示す。
水素原子,
ハロゲン原子,
シアノ基,
C1−3アルコキシ基,
−N3で示される基,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,
−C(=O)NHR47で示される基,
−NHR48で示される基,又は
−C(OCH3)=R49で示される基を示す。
そして,R43は,水素原子,又は−SO2−R431を示す。
R431は,アミノ基,C1−3ハロゲノアルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
R44は,炭素原子,又は窒素原子を示す。
R45は,水素原子,シアノ基,又はニトロ基を示す。
R46は,水素原子又はC1−5アルキル基を示す。
R47は,C1−5アルキル基,又は−CO−R471を示す。
R471は,C1−5アルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
R48は,水素原子,C1−5アルキル基,又は−CO−CH2−O−R481を示す。
R481は,水素原子,又は−CO−CH3を示す。
R49は,酸素原子,又は=NHを示す。
R11が水素原子又はC1−5アルキル基であり,
R2が,R21であり,
R3が,
−CH2−S−CH2−CH2−,
−CH2−O−CH2−CH2−,
−O−CH2−CH2−CH2−,
−S−CH2−CH2−CH2−,
−CH2−O−CH2,又は
−CH2−S−CH2,
であり,
−R4が,
R41−R42であって,R41−R42が,式R5であるか,
R43であってR43が水素原子,−SO2−CF3,又は−SO2−NH2であるか,
R47であってR47がメチル基で示される化合物,及び
R1が式H2N(H2N)C=N−であり,
R2が,R21であり,
R3が,
−CH2−S−CH2−CH2−,又は
−CH2−CH2−CH2−CH2−,
であり,
R4が,
−R48であってR48が,−CO−CH2−O−R481であり,R481が水素原子で示される化合物を除く。
R1は,R13R14N(R15R16N)C=N−で示される基を示し,
−R2−は,−R21−〜−R23−のいずれかで示される基を示し,
−R3−は,−R31−又は−R36−R37−R38−で示される基を示し,
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示す。
R1は,(H2N)2C=N−で示される基を示し,
−R2−は,−R21−〜−R23−のいずれかで示される基を示し,
−R3−は,
−R31−又は−R36−R37−R38−で示される基を示し,
−R31−は,ブチレン基を示し,
−R36−は,メチレン基を示し,
−R37−は,−O−又は−S−を示し,
−R38−は,エチレン基を示し,
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示し,
−R41−は,−R411−で示される基を示し,
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示し,
R43は,−SO2−R431を示し,
R431は,アミノ基,又はC1−3ハロゲノアルキル基を示し,
R44は,窒素原子(N)を示し,
R45は,シアノ基(CN)を示し,
R46は,水素原子(H)を示す。
−R2−は,−R21−で示される基を示し,
−R3−は,ブチレン基を示し,
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示し,
−R41−は,−R411−で示される基を示し,
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示し,
R43は,−SO2−R431を示し,
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示し,
R44は,窒素原子を示し,
R45は,シアノ基を示し,
R46は,水素原子を示し,
R48は,−CO−CH2−O−R481を示し,
R481は,水素原子を示す。
−R2−は,−R21−で示される基を示し,
−R3−は,−R36−R37−R38−で示される基を示し,
−R31−は,ブチレン基を示し,
−R36−は,メチレン基を示し,
−R37−は,−O−を示し,
−R38−は,エチレン基を示し,
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示し,
−R41−は,−R411−で示される基を示し,
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示し,
R43は,−SO2−R431を示し,
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示し,
R44は,窒素原子を示し,
R45は,シアノ基を示し,
R46は,水素原子を示し,
R48は,−CO−CH2−O−R481を示し,
R481は,水素原子を示す。
−R2−は,−R22−で示される基を示し,
−R3−は,
−R36−R37−R38−で示される基を示し,
−R36−は,メチレン基を示し,
−R37−は,−O−又は−S−を示し,
−R38−は,エチレン基を示し,
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示し,
−R41−は,−R411−で示される基を示し,
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示し,
R43は,−SO2−R431を示し,
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示し,
R44は,窒素原子を示し,
R45は,シアノ基を示し,
R46は,水素原子を示し,
R48は,−CO−CH2−O−R481を示し,
R481は,水素原子を示す。
−R2−は,−R23−で示される基を示し,
−R3−は,
−R36−R37−R38−で示される基を示し,
−R36−は,メチレン基を示し,
−R37−は,−O−又は−S−を示し,
−R38−は,エチレン基を示し,
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示し,
−R41−は,−R411−で示される基を示し,
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示し,
R43は,−SO2−R431を示し,
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示し,
R44は,窒素原子を示し,
R45は,シアノ基を示し,
R46は,水素原子を示し,
R48は,−CO−CH2−O−R481を示し,
R481は,水素原子を示す。
R1は,水素原子,ハロゲン原子,アミノ基,ニトロ基,C1−5アルキル基,C1−3アルコキシ基,C1−3アルキルチオ基,C1−3ハロゲノアルキル基,C6−10アリール基,R11(R12)N−で示される基,又はR13R14N(R15R16N)C=N−で示される基を示す。
R31は,C1−5アルキル基を示す。
R32は,酸素原子(−O−),硫黄原子(−S−),又は−NH−を示す。
R33は,C1−5アルキル基を示す。
R34は,C1−5アルキル基を示す。
R35は,酸素原子(−O−),硫黄原子(−S−),又は−NH−を示す。
R36は,C1−5アルキル基を示す。
R37は,酸素原子(−O−),硫黄原子(−S−),又は−NH−を示す。
R38は,C1−5アルキル基を示す。
そして,R43は,水素原子,又は−SO2−R431を示す。
R431は,アミノ基,C1−3ハロゲノアルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
R44は,炭素原子,又は窒素原子を示す。
R45は,水素原子,シアノ基,又はニトロ基を示す。
R46は,水素原子又はC1−5アルキル基を示す。
R47は,C1−5アルキル基,又は−CO−R471を示す。
R471は,C1−5アルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
R48は,水素原子,C1−5アルキル基,又は−CO−CH2−O−R481を示す。
R481は,水素原子,又は−CO−CH3を示す。
R49は,酸素原子,又は=NHを示す。
−R4が,
R41−R42であって,R41−R42が,式R5であるか,
R43であってR43が水素原子,−SO2−CF3,又は−SO2−NH2であるか,
R47であってR47がメチル基で示される化合物。
R2が,R21である。
R3が,−CH2−S−CH2−CH2−,又は−CH2−CH2−CH2−CH2−である。
R4が,−R48であってR48が,−CO−CH2−O−R481であり,R481が水素原子で示される化合物。
R1は,R13R14N(R15R16N)C=N−で示される基を示す。
−R2−は,−R21−〜−R23−のいずれかで示される基を示す。
−R3−は,−R31−又は−R36−R37−R38−で示される基を示す。
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示す。
R1は,(H2N)2C=N−で示される基を示す。
−R2−は,−R21−〜−R23−のいずれかで示される基を示す。
−R3−は,
−R31−又は−R36−R37−R38−で示される基を示す。
−R31−は,ブチレン基を示す。
−R36−は,メチレン基を示す。
−R37−は,−O−又は−S−を示す。
−R38−は,エチレン基を示す。
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示す。
−R41−は,−R411−で示される基を示す。
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示す。
R43は,−SO2−R431を示す。
R431は,アミノ基,又はC1−3ハロゲノアルキル基を示す。
R44は,窒素原子(N)を示す。
R45は,シアノ基(CN)を示す。
R46は,水素原子(H)を示す。
−R2−は,−R21−で示される基を示す。
−R3−は,ブチレン基を示す。
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示す。
−R41−は,−R411−で示される基を示す。
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示す。
R43は,−SO2−R431を示す。
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示す。
R44は,窒素原子を示す。
R45は,シアノ基を示す。
R46は,水素原子を示す。
R48は,−CO−CH2−O−R481を示す。
R481は,水素原子を示す。
−R2−は,−R21−で示される基を示す。
−R3−は,−R36−R37−R38−で示される基を示す。
−R31−は,ブチレン基を示す。
−R36−は,メチレン基を示す。
−R37−は,−O−を示す。
−R38−は,エチレン基を示す。
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示す。
−R41−は,−R411−で示される基を示す。
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示す。
R43は,−SO2−R431を示す。
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示す。
R44は,窒素原子を示す。
R45は,シアノ基を示す。
R46は,水素原子を示す。
R48は,−CO−CH2−O−R481を示す。
R481は,水素原子を示す。
−R2−は,−R22−で示される基を示す。
−R3−は,
−R36−R37−R38−で示される基を示す。
−R36−は,メチレン基を示す。
−R37−は,−O−又は−S−を示す。
−R38−は,エチレン基を示す。
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示す。
−R41−は,−R411−で示される基を示す。
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示す。
R43は,−SO2−R431を示す。
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示す。
R44は,窒素原子を示す。
R45は,シアノ基を示す。
R46は,水素原子を示す。
R48は,−CO−CH2−O−R481を示す。
R481は,水素原子を示す。
−R2−は,−R23−で示される基を示す。
−R3−は,
−R36−R37−R38−で示される基を示す。
−R36−は,メチレン基を示す。
−R37−は,−O−又は−S−を示す。
−R38−は,エチレン基を示す。
−R4は,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,又は
−NHR48で示される基を示す。
−R41−は,−R411−で示される基を示す。
−R42−は,C7−10のアラルキル基を示す。
R43は,−SO2−R431を示す。
R431は,アミノ基,又はトリフルオロメチル基を示す。
R44は,窒素原子を示す。
R45は,シアノ基を示す。
R46は,水素原子を示す。
R48は,−CO−CH2−O−R481を示す。
R481は,水素原子を示す。
“アルキルスルホニル基”とは,アルキル基の1つの水素原子がスルホニル基により置換された1価の基をいう。C1−C4アルキルスルホニル基として,メチルスルホニル基,エチルスルホニル基,プロピルスルホニル基,イソプロピルスルホニル基,ブチルスルホニル基,イソブチルスルホニル基,sec−ブチルスルホニル基及びtert−ブチルスルホニル基があげられる。
R 1
R1は,
水素原子,ハロゲン原子,
アミノ基,ニトロ基,C1−5アルキル基,C1−3アルコキシ基,C1−3アルキルチオ基,
C1−3ハロゲノアルキル基,C6−10アリール基,
R11(R12)N−で示される基,又は
R13R14N(R15R16N)C=N−で示される基を示す。
水素原子,
ハロゲン原子,
ニトロ基,
C1−5アルキル基,
C1−3アルコキシ基,
C1−3アルキルチオ基,
C1−3ハロゲノアルキル基,又は
C6−10アリール基で示される基を示す。
R2は,チアゾール環を示す。
R3は,−R36−R37−R38−で示される基を示す。
R36は,C1−5アルキル基を示し,
R37は,酸素原子(=O),硫黄原子(=S),又は=NHで示される基を示し,
R38は,C1−5アルキル基を示す。
R4は,水素原子,ハロゲン原子,シアノ基,C1−3アルコキシ基,又は−N3で示される基を示す。
式(1−1)で示される化合物は,常法又はhuaxue yanjiu yu yingyong,2006,18(2),186−188で示されている手法を用いて得ることができる。式(1−2)で示される化合物は,例えば,常法又は特開2002−53566号公報に示されている手法を用いて得ることができる。
スキーム1(i)工程に用いられる反応溶媒の例は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒である。スキーム1(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,アセトン,エタノール,又はこれらの混合溶媒である。
スキーム1(i)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム1(i)工程に用いられる触媒の例は,脱水剤であるMgSO4である。
スキーム1(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム1(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは2〜24時間である。
スキーム1(i)工程では,原料化合物(1−1及び1−2)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌または還流することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置,還流は公知の還流装置により行うことができる。
式(1−4)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。または当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム1(ii)工程に用いられる反応溶媒の例は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒である。
スキーム1(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,エタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム1(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。
スキーム1(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜120℃である。
スキーム1(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは0.25時間〜12時間である。
スキーム1(ii)工程では,原料化合物(1−3),(1−4)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌または還流することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置,還流は公知の還流装置により行うことができる。
式(1−6)で示される化合物及び式(1−8)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。または当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム1(iii)工程に用いられる反応溶媒の例は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒である。
スキーム1(iii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒,ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒,ジメチルホルムアミド,アセトニトリル等の極性溶媒,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒,水,又はこれらの混合溶媒である。
スキーム1(iii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム1(iii)工程に用いられる触媒の例は,水酸化ナトリウム,トリエチルアミンである。
スキーム1(iii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは−50℃〜50℃である。
スキーム1(iii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは0.5時間〜12時間である。
スキーム1(iii)工程では,原料化合物(1−5,1−6または1−8)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,ベンゼン環,フラン環,又はピリジン環である。
R3は,−R36−R37−R38−で示される基を示し,
R36は,C1−5アルキル基を示し,
R37は,酸素原子(=O),硫黄原子(=S),又は=NHで示される基を示し,
R38は,C1−5アルキル基を示す。
R4は,水素原子,ハロゲン原子,シアノ基,C1−3アルコキシ基,又は−N3で示される基を示す。
式(2−2)で示される化合物は式(2−1)で示される化合物に,当業者に公知の文献で既知である方法でR1基を付加させればよい。式(2−1)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム2(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム2(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノールである。
スキーム2(i)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム2(i)工程に用いられる触媒の例は,水素化ホウ素ナトリウム,トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム,およびこれらに類するものである。
スキーム2(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム2(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは0.5時間〜12時間である。
スキーム2(i)工程では,原料化合物(2−2)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
(i)反応溶媒
スキーム2(ii)工程は,反応溶媒存在下に行われてもよい。スキーム2(ii)工程に用いられる反応溶媒の例は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。
スキーム2(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム2(ii)工程に用いられる触媒は,以下に限定されるものでないが,トリエチルアミン,ピリジンおよびこれらに類するものである。
スキーム2(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは−20〜100℃である。
スキーム2(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは0.25時間〜12時間である。
スキーム2(ii)工程では,原料化合物(2−3),ハロゲン化剤及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌または還流することが好ましい。好ましいハロゲン化剤は,以下に限定されるのでないが,SOCl2である。撹拌は公知の撹拌装置,還流は公知の還流装置により行うことができる。
この工程の反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,1−フェニル−1H−ピロール環を示す。
R3は,−R36−R37−R38−で示される基を示し,
R36は,C1−5アルキル基を示し,
R37は,酸素原子(=O),硫黄原子(=S),又は=NHで示される基を示し,
R38は,C1−5アルキル基を示す。
R4は,水素原子,ハロゲン原子,シアノ基,C1−3アルコキシ基,又は−N3で示される基を示す。
式(3−2)で示される化合物は式(3−1)で示される化合物に,当業者に公知の文献で既知である方法でR1基を付加させればよい。式(3−1)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム3(ii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。
スキーム3(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,エタノール,ジメチルホルムアミド又はこれらの混合溶媒である。
スキーム3(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。
スキーム3(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10℃〜150℃である。
スキーム3(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは12時間〜36時間である。
スキーム3(ii)工程では,原料化合物(3−2)のナトリウム塩を調整後,反応溶媒に塩化ベンジル及び触媒とともに溶解させ,反応温度下で加熱することが好ましい。加熱は公知の加熱装置により行うことができる。
このスキームの反応触媒等はスキーム2(i)と同じである。
このステップに関する反応触媒等はスキーム2(ii)と同じである。
このステップに関する反応触媒等はスキーム1(ii)と同じである。
このステップに関する反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,チアゾール環,ベンゼン環,フラン環,ピリジン環,又は1−フェニル−1H−ピロール環を示す。
R3は,−R31−で示される基を示し,
R31は,C1−5アルキル基を示す。
R4は,水素原子,ハロゲン原子,シアノ基,C1−3アルコキシ基,−N3で示される基を示す。
スキーム4(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム4(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド又はこれらの混合溶媒である。
スキーム4(i)工程に用いられる触媒の例は,NaN3(アジ化ナトリウム)である。
スキーム4(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは−20〜100℃である。
スキーム4(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは3時間〜24時間である。
スキーム4(i)工程では,原料化合物(2−4)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
(i)反応溶媒
スキーム4(ii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。
スキーム4(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,
テトラヒドロフラン,水,エーテル又はこれらの混合溶媒である。
スキーム4(ii)工程に用いられる触媒の例は,三価のリン酸化合物であるトリフェニルホスフィンである。
スキーム4(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム4(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは1時間〜24時間である。
スキーム4(ii)工程では,原料化合物(4−1)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
(i)反応溶媒
スキーム4(iii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム4(iii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム4(iii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。
スキーム4(iii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム4(iii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは0.5時間〜12時間である。
スキーム4(iii)工程では,原料化合物(4−2),グアニジン化合物(例えば,1,3−ビス(tert−ブトキシカルボニル−2−(トリフルオロメタンスルホニル)グアニジン)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
この工程における反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,−R32−R33−で示される基を示し,
R32は,酸素原子(=O),硫黄原子(=S),又は=NHで示される基を示し,
R33は,C1−5アルキル基を示す。
R4は,水素原子,ハロゲン原子,シアノ基,C1−3アルコキシ基,又は−N3で示される基を示す。
式(5−1)で示される化合物及び式(5−2)で示される化合物は,それぞれ市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。例えば,Synthesis;English;9;1984;765−766で示されている手法を用いて得ることが出来る。
スキーム5(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム5(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,ジメチルホルムアミド又はこれらの混合溶媒である。
スキーム5(i)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム5(i)工程に用いられる好ましい触媒の例は,AgCO3である。
スキーム5(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは100〜200℃である。
スキーム5(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは1時間〜10時間である。
スキーム5(i)工程では,原料化合物(5−1),(5−2)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
(i)反応溶媒
スキーム5(ii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム5(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール,ジクロロメタン,クロロホルム又はこれらの混合溶媒である。
スキーム5(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。
スキーム5(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは−50℃〜10℃である。
スキーム5(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましい時間は以下に示す通りである。
スキーム5(ii)工程では,原料化合物(5−3)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で1〜10時間塩化水素ガスでバブリングさせることが好ましい。バブリングは公知のバブリング装置により行うことができる。その後,5〜24時間静置させることがこのましい好ましい。
(i)反応溶媒
スキーム5(iii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム5(iii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム5(iii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム5(iii)工程に用いられる触媒の例は,NH4Clである。
スキーム5(iii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10℃〜100℃である。
スキーム5(iii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましい時間は0.5〜24時間である。
スキーム5(iii)工程では,原料化合物(5−4)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
このスキームの反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,チアゾール環を示す。
−R3−は,−R31−,−R32−R33−,−R34−R35−,又は−R36−R37−R38−で示される基を示し,
R31は,C1−5アルキル基を示し,
R32は,酸素原子(=O),硫黄原子(=S),又は=NHで示される基を示し,
R33は,C1−5アルキル基を示し,
R34は,C1−5アルキル基を示し,
R35は,酸素原子(=O),硫黄原子(=S),又は=NHで示される基を示し,
R36は,C1−5アルキル基を示し,
R37は,酸素原子(=O),硫黄原子(=S),又は=NHで示される基を示し,
R38は,C1−5アルキル基を示し,
R4は,−R41−R42で示される基を示し,
R41は,ベンゼン環を示し,
R42は,
水素原子,
ハロゲン原子,
C1−5アルキル基,
C1−3アルコキシ基,
C1−3アルキルチオ基,
C1−3ハロゲノアルキル基
C6−10アリール基又は,
C7−10のアラルキル基を示す。
式(6−1)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム6(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。
スキーム6(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,
テトラヒドロフラン又はこれらの混合溶媒である。
スキーム6(i)工程に用いられる触媒の例は,マグネシウムである。
スキーム6(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム6(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは1時間〜12時間である。
スキーム6(i)工程では,原料化合物(6−1)及び触媒を反応溶媒にゆっくりと加えて溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
式(6−3)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム6(ii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム6(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,テトラヒドロフラン又はこれらの混合溶媒である。
スキーム6(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム6(iv)工程に用いられる触媒の例は,CuBr,LiBrである。
スキーム6(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム6(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは1時間〜12時間である。
スキーム6(ii)工程では,原料化合物(6−2及び6−3)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
(i)反応溶媒
スキーム6(iii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム6(iii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,テトラヒドロフラン又はこれらの混合溶媒である。
スキーム6(iii)工程に用いられる触媒の例は,マグネシウムである。
スキーム6(iii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム6(iii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは1時間〜12時間である。
スキーム6(iii)工程では,原料化合物(6−4)及び触媒を反応溶媒にゆっくりと加えて溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
このスキームの反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
このスキームの反応触媒等はスキーム1(i)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,ベンゼン環,フラン環,ピリジン環,又は1−フェニル−1H−ピロール環を示す。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,スキーム6と同じである。
式(6−1)で示される化合物は,先に説明したとおり,市販されているものを適宜用いることができる。式(6a−1)で示される化合物は,当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,−R41−R42で示される基であり,
R41は,オキサゾール環を示し,
R42は,
水素原子,
ハロゲン原子,
C1−5アルキル基,
C1−3アルコキシ基,
C1−3アルキルチオ基,
C1−3ハロゲノアルキル基
C6−10アリール基又は,
C7−10のアラルキル基を示す。
式(7−1)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム7(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム7(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム7(i)工程に用いられる触媒の例は,ハロゲン元素である。
スキーム7(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム7(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは0.5時間〜12時間である。
スキーム7(i)工程では,原料化合物(7−1)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
式(7−3)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム7(ii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム7(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,エタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム7(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。
スキーム7(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよい。
スキーム7(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは24時間〜72時間である。
スキーム7(ii)工程では,原料化合物(7−2及び7−3)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で還流することが好ましい。還流は公知の還流装置により行うことができる。
この工程の反応触媒などはスキーム2(i)と同じである。
反応触媒などはスキーム2(ii)と同じである。
反応触媒などはスキーム1(iii)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,−R41−R42で示される基であり,
R41は,テトラヒドロピリジン環を示し,
R42は,
水素原子,
ハロゲン原子,
C1−5アルキル基,
C1−3アルコキシ基,
C1−3アルキルチオ基,
C1−3ハロゲノアルキル基
C6−10アリール基又は,
C7−10のアラルキル基を示す。
(i)反応溶媒
スキーム8(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム8(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム8(i)工程に用いられる触媒の例は,NaOH,CH3ONaである。
スキーム8(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10℃〜100℃である。
スキーム8(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは2時間〜24時間である。
スキーム8(i)工程では,原料化合物(6a−2),エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB;市販品)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
式(8−1)で示される化合物のC6H5CH2CH2-基は,当業者に公知の文献で既知である方法でR42基に置換することができる。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,−C(NH2)=NR43で示される基であり,
R43は,水素原子,又は−SO2−R431を示し,
R431は,アミノ基,C1−3ハロゲノアルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
この工程の反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
この工程の反応触媒等はスキーム5(ii)と同じである。
式(9−3)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム9(iii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム9(iii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム9(iii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム1(i)工程に用いられる触媒の例は,NH4Clである。
スキーム9(iii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム9(iii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは0.5時間〜24時間である。
スキーム9(iii)工程では,原料化合物(9−2及び9−3)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基であり,
R44は,炭素原子,又は窒素原子を示し,
R45は,水素原子,シアノ基,又はC1−5ニトロ基を示し,
R46は,水素原子,又はC1−5アルキル基を示す。
式(10−1)で示される化合物は,上述した方法により得ることができる。
この工程に関する反応触媒等はスキーム4(i)と同じである。
この工程に関する反応触媒等はスキーム4(ii)と同じである。
式(10−4)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。
スキーム10(iii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム10(iii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム10(iii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム10(iii)工程に用いられる触媒の例は,Et3Nである。
スキーム10(iii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム10(iii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは2時間〜24時間である。
スキーム10(iii)工程では,原料化合物(10−3),(10−4)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌または還流することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置,還流は公知の還流装置により行うことができる。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,−C(=O)NHR47で示される基であり,
R47は,C1−5アルキル基,又は−CO−R471を示し,
R471は,C1−5アルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
この工程の反応触媒等はスキーム5(iii)と同じである。
式(11−2)で示される化合物は,市販されているものを購入することにより入手できる。又は当業者に公知の文献で既知である方法と同様にして製造することができる。この工程における反応触媒等はスキーム1(iii)と同じである。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,−NHR48で示される基であり,
R48は,水素原子,C1−5アルキル基,又は−CO−CH2−O−R481を示し,
R481は,水素原子,又は−CO−CH3を示す。
式(12−1)で示される化合物は,上述した方法により製造することができる。
スキーム12(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム12(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,テトラヒドロフラン,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム12(i)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム12(i)工程に用いられる触媒の例は,Et3N,ピリジンである。
スキーム12(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは−20℃〜100℃である。
スキーム12(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは1時間〜72時間である。
スキーム12(i)工程では,原料化合物(10−3)及び(12−1)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
R 1
R1は,スキーム1と同じである。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,−N=C(NH2)−NHR50で示される基であり,
R50は,水素原子,又は−SO2−R501を示し,
R501は,アミノ基,C1−3ハロゲノアルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
式(13−1)で示される化合物は,常法又はChemische Berichte(1958),91,1339−41で示されている手法などを用いて得ることができる。
スキーム13(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム13(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,アセトニトリル,ジクロロメタン又はこれらの混合溶媒である。
スキーム13(i)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム13(i)工程に用いられる触媒の例は,トリエチルアミンである。
スキーム13(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは−100℃〜100℃である。
スキーム13(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは2時間〜24時間である。
スキーム13(i)工程では,原料化合物(13−1及びS,S−ジメチルイミノジチオカルボナートヒドロヨーシド)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
(i)反応溶媒
スキーム13(ii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム13(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,トルエン又はこれらの混合溶媒である。
スキーム13(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム13(ii)工程に用いられる触媒の例は,アンモニアである。
スキーム13(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10℃〜100℃である。
スキーム13(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは5分〜10時間である。
スキーム13(ii)工程では,反応温度下で原料化合物(13−2)及び触媒を反応溶媒に溶解させることが好ましい。
(i)反応溶媒
スキーム13(iii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム13(iii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,メタノール又はこれらの混合溶媒である。
スキーム13(iii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。
スキーム13(iii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは10〜100℃である。
スキーム13(iii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは2時間〜24時間である。
スキーム13(iii)工程では,原料化合物(13−3及び10−3)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で加熱することが好ましい。加熱は公知の加熱装置により行うことができる。
R1は,
R13R14N(R15R16N)C=N−で示される基を示し,
R11,R12,R13,R14,R15,及びR16は,同一でも異なってもよく,
水素原子,
ハロゲン原子,
ニトロ基,
C1−5アルキル基,
C1−3アルコキシ基,
C1−3アルキルチオ基,
C1−3ハロゲノアルキル基,
C6−10アリール基,又は
隣り合うR13,R15,窒素原子,及び炭素原子が環状に結合したイミダゾリジンを示す。
R2は,スキーム4と同じである。
R3は,スキーム6と同じである。
R4は,
水素原子,
ハロゲン原子,
シアノ基,
C1−3アルコキシ基,
−N3で示される基,
−R41−R42で示される基,
−C(NH2)=NR43で示される基,
−NHC(NH(R46))=R44R45で示される基,
−C(=O)NHR47で示される基,
−NHR48で示される基,
−C(OCH3)=R49で示される基,又は
−N=C(NH2)−NHR50で示される基を示す。
R42は,
水素原子,
ハロゲン原子,
C1−5アルキル基,
C1−3アルコキシ基,
C1−3アルキルチオ基,
C1−3ハロゲノアルキル基
C6−10アリール基又は,
C7−10のアラルキル基を示し,
R43は,水素原子,又は−SO2−R431を示し,
R431は,アミノ基,C1−3ハロゲノアルキル基,又はC6−10アリール基を示し,
R44は,炭素原子,又は窒素原子を示し,
R45は,水素原子,シアノ基,又はC1−5ニトロ基を示し,
R46は,水素原子,又はC1−5アルキル基を示し,
R47は,C1−5アルキル基,又は−CO−R471を示し,
R471は,C1−5アルキル基,又はC6−10アリール基を示し,
R48は,水素原子,C1−5アルキル基,又は−CO−CH2−O−R481を示し,
R481は,水素原子,又は−CO−CH3を示し,
R49は,酸素原子,又は=NHで示される基を示し,
R50は,水素原子,又は−SO2−R501を示し,
R501は,アミノ基,C1−3ハロゲノアルキル基,又はC6−10アリール基を示す。
式(14−1)で示される化合物は,上述した方法により製造することができる。
スキーム14(i)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム14(i)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,ジメチルホルムアミドである。
スキーム14(i)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム14(i)工程に用いられる触媒の例は,NaOH,CS2,CH3Iである。
スキーム14(i)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは−50℃〜50℃である。
スキーム14(i)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは1時間〜24時間である。
スキーム14(i)工程では,原料化合物(14−1)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
(i)反応溶媒
スキーム14(ii)工程に用いられる反応溶媒は,ジオキサン,テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒;メタノール,エタノール等のアルコール系溶媒;ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド,アセトニトリル,アセトン等の極性溶媒;ジクロロメタン,クロロホルム等のハロゲン系溶媒等;ベンゼン,トルエン等の炭化水素系溶媒;酢酸エチル,酢酸ブチル等のエステル系溶媒;水;及びこれらの混合溶媒があげられる。スキーム14(ii)工程に用いられる好ましい反応溶媒の例は,ジメチルホルムアミドである。
スキーム14(ii)工程は,触媒の存在下に行われてもよいし,触媒が存在しない状態で行われてもよい。スキーム1(i)工程に用いられる触媒の例は,エチレンジアミンである。
スキーム14(ii)工程における反応温度は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは50℃〜150℃である。
スキーム14(ii)工程における反応時間は,原料化合物,溶媒などに応じて調整すればよいが,好ましくは2時間〜24時間である。
スキーム14(ii)工程では,原料化合物(14−2)及び触媒を反応溶媒に溶解させ,反応温度下で撹拌することが好ましい。撹拌は公知の撹拌装置により行うことができる。
スキーム15は,式(A−1)の化合物から式(A−3)の化合物(グアニジン化合物)を得るための反応スキームである。
スキーム16は,式(A−3)の化合物から式(A−6)の化合物を得るための反応スキームである。
スキーム17は,式(A−6)の化合物から式(A−7)の化合物を得るための反応スキームである。
スキーム18は,R4が式(VI)で示される化合物を得るためのスキームである。
スキーム19は,R3が式(VIII)で示される化合物を得るためのスキームである。
スキーム20は,R4が式(IX)で示される化合物を得るためのスキームである。
a)US 4362736A;b)J.Med.Chem.2004,47,2935,Macromol.Rapid Commun.2006,27,1739;c)J.Org.Chem.1982,47,4327;J.Org.Chem.1998,63,2796;d)Tetrahedron Letters,1997,38,1065.J. Med. Chem. 1983,26, 140;e)J. Am. Chem.Soc 1959,81,2220;f)J. Am. Chem. Soc 1959, 81,4635.Macromol. Rapid Commun. 2006, 27, 1739; g)J. Org. Chem. 1982, 47, 4327.
スキーム21は,R4が式(VII)で示される化合物を得るためのスキームである。
a)J. Med. Chem. 1983,26, 140;b) J. Am. Chem.Soc 1959,81,2220;c) J. Am. Chem. Soc 1959, 81,4635.;d)Macromol. Rapid Commun. 2006, 27, 1739;J. Org. Chem. 1982, 47, 4327.
本発明の化合物の薬学的に許容される塩は,化合物を製造する過程においても生成される。この際に生成する塩を精製することで,化合物の薬学的に許容される塩を製造できる。また,化合物に含まれる水酸基は,例えばアルカリを加えることで容易にアルカリ塩に置換できる。このように,本発明の化合物を製造した後に酸やアルカリと作用させることで本発明の化合物の薬学的に許容される塩を生成できる。
本発明の化合物は,放置すると水和物を形成する。このため,例えば,本発明の化合物を製造した後,水分存在下に放置することで水和物を得ることができる。
OCT3蛋白質の存在量を確認したい生物組織や培養細胞,人工膜等に本発明の化合物等を有する検出剤水溶液を滴下する。すると,本発明の化合物6がOCT3蛋白質に結合するため,水溶液の本発明の化合物濃度が減少する。すなわち,水溶液における本発明の化合物の濃度を測定し,本発明の化合物の濃度が減少した場合,OCT3蛋白質が存在していることがわかる。OCT3蛋白質に対する抗体が市販されており,検出剤として利用することができる。しかしながら,抗体は高分子蛋白質であることから,熱に弱いため低温で保存する必要がある。また,抗体は高分子蛋白質であることから,長期保存が困難であり,製造費用が高価である。一方,本発明の化合物等は,熱に強く,常温で長期保存が可能で,化学合成により比較的安価に製造できる。
市販の5-クロロ吉草酸クロリド
a)シアナミド, エーテル, 0°C
b)グアニルチオウレア,アセトン,70°C
1,6−ジクロロヘキサン−2−オン(化合物2)の合成 [1]
水酸化カリウム(80g,1.43mol),クロロホルム(48g,0.41mol),およびヒドラジン(11.76g,85%,0.2mol)によって調整されたジアゾメタンのエーテル溶液200mlを,撹拌しながら,5−クロロ吉草酸クロリドのエーテル溶液30ml(6g,39mmol)に0℃で滴下し,溶液は同温下で2時間放置した。
溶液に,0.5時間の間塩化水素ガスを通過させた。溶液に1mol/L水酸化ナトリウムを100ml添加し,エーテル層を分離した。エーテルは,水で2回洗浄し,硫酸マグネシウムで乾燥し,蒸留により除去した。残渣を減圧下で蒸留し,1,6−ジクロロヘキサン−2−オン(4.8g,73.3%)を得た。
アセトン80mlを溶媒とした,1,6−ジクロロヘキサン−2−オン(4.7g,28mmol)とグアニルチオウレア(3.3g,28mmol)の混合液を撹拌し,75℃で一晩還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認し,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン /メタノール,50/1)により精製し,2−[4−(4−クロロブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(3.77g,58%)(化合物3)を得た。
M.W.:232,ESI−MS: 233(M+H).
1.i)US 4362736A;ii)J. Med. Chem.2004, 47, 2935
2−[4−(4−クロロブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(工程1の最終産物(工程1の化合物3))
a)アジ化ナトリウム,ジメチルスルホキシド,75°C
b)無水塩化水素,メタノール/クロロホルム
c)塩化アンモニウム,無水メタノール
2−[4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(化合物2)の合成 [1]
2−[4−(4−クロロブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(化合物1)(4.64g,20mmol)とシアン化ナトリウム(1.18g,24mmol)を,ジメチルスルホキシド30mlに加え,溶液を75℃で一晩加熱した。その後,減圧下で反応液を除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,50/1)を用いて精製し,2−[4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(4.05g,91%)(化合物2)を得た。
M.W.:223,ESI−MS:224(M+H).
無水メタノールおよびクロロホルム(10ml/20ml)を溶媒とした,2−[4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(化合物2)(0.45g,2mmol)溶液を0℃に冷却し,同じ温度に保ったまま,乾燥した塩化水素ガスを3時間吹き込み続けた。その後,混合物を0〜4℃に20時間保ち,次いで減圧化で濃縮し,イミド塩酸塩の結晶性固体を得た。その反応混合物を,過剰の炭酸カリウムを含む氷冷した水に加え,遊離イミド酸を得た。その混合溶液を濾過し,残渣をエタノールで洗浄して化合物3を得た。化合物3は5mlのメタノールに溶解させ,溶液に塩化アンモニウム(0.16g,3mmol)を添加した。反応混合物は室温下で12時間撹拌し,出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール/アンモニア一水和物,200/20/1)により精製し,化合物SR−2068(0.35g,73%)を得た。
M.W.:240,ESI―MS:241(M+H).
1.i)US 4362736A;ii)J. Med. Chem. 2004, 47, 2935
2.J. Med. Chem. 1983,26, 140.
エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB):市販品
SR−2068:5−[2−(ジアミノメチレンアミノ)チアゾール−4−イル]ペンタイミドアミド:工程2の最終産物
a)ナトリウムエトキシド,無水メタノール
SR−2076の合成 [1]
5−[2−(ジアミノメチレンアミノ)チアゾール−4−イル]ペンタイミドアミド(SR−2068)(0.48g,2mmol)とナトリウムエトキシド(0.34g,5mmol)を室温下で20mlの無水メタノールに加えた。その後,混合溶液にエチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB)(0.496g,2mmol)を加え,室温下で12時間撹拌し続けた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,50/1)により精製し,生成化合物SR−2076(0.43g,52%)を得た。
M.W.:410,ESI−MS:411(M+H).
1.i)J.Am.Chem.Soc. 1949,71; 616; ii)US 4362736A
b)無水塩化水素,メタノール/クロロホルム
b)トリフルオロメタンスルホンアミド,無水メタノール
2−[4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン
SR−2065の合成 [1]
工程2における化合物2である2−[4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(化合物1)(0.45g,2mmol)の無水メタノール/クロロホルム(10ml/20ml)溶液を0℃まで冷却した後,同温度下で乾燥塩化水素ガスを3時間吹き込み続けた。
その後,混合溶を0〜4℃に20時間保ち,次いで減圧化で濃縮し,イミド塩酸塩の結晶性固体を得た。その反応混合物を,過剰の炭酸カリウムを含む氷冷した水に加え,遊離イミド酸を得た。その混合溶液を濾過し,残渣をエタノールで洗浄して化合物2を得た。
化合物2は5mlのメタノールに溶解させ,溶液にトリフルオロメタンスルホンアミド(0.447g,3mmol)を添加した。反応混合物は室温下で12時間撹拌し,出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)により精製し,化合物SR−2065(0.27g,36%)を得た。
M.W.:372,ESI−MS:373(M+H).
1.i)US 4362736A;ii)J. Med. Chem. 2004, 47, 2935
b)トリフルオロメタンスルホンアミド,無水メタノール
2−[4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン
SR−2066の合成 [1]
工程2における化合物2である2−[4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(0.45g,2mmol)の無水メタノール/クロロホルム(10ml/20ml)溶液を0℃まで冷却した後,同温度下で乾燥塩化水素ガスを3時間吹き込み続けた。混合溶液は0〜4℃に20時間保たれた後,減圧化で濃縮し,イミド塩酸塩の結晶性固体を得た。その溶液を,過剰の炭酸カリウムを含む氷冷した水に加え,遊離イミド酸を得た。溶液を濾過し,残渣をエタノールで洗浄して化合物2を得た。化合物2は5mlのメタノールに溶解させ,溶液に硫酸ジアミド(0.288g,3mmol)を添加した。反応混合物は室温下で12時間撹拌し,出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール/アンモニア一水和物,200/20/1)により精製し,化合物SR−2066(0.43g,67%)を得た。
M.W.:319,ESI−MS:320(M+H).
1.i)US 4362736A;ii)J.Med.Chem.2004,47,2935
a)シアナミド(CH2N2),エーテル,0℃
b)グアニルチオウレア,アセトン,70℃
c)アジ化ナトリウム(NaN3),ジメチルスルホキシド(DMSO),70℃
d)トリフェニルホスフィン,テトラヒドロフラン/H2O
1,6−ジクロロヘキサン−2−オン(化合物2)の合成 [1]
水酸化カリウム(80g,1.43mol),クロロホルム(48g,0.41mol),およびヒドラジン(11.76g,85%,0.2mol)によって調整されたジアゾメタンのエーテル溶液200mlを,撹拌しながら,5−クロロ吉草酸クロリドのエーテル溶液30ml(6g,39mmol)に0℃で滴下し,溶液は同温下で2時間放置した。反応液に,0.5時間の間塩化水素ガスを通過させた。溶液に1mol/L水酸化ナトリウムを100ml添加し,エーテル層を分離した。エーテルは,水で2回洗浄し,硫酸マグネシウムで乾燥した後,蒸留により除去した。残渣を減圧下で蒸留し,1,6−ジクロロヘキサン−2−オン(4.8g,73.3%)(化合物2)を得た。
アセトン80mlを溶媒とした,1,6−ジクロロヘキサン−2−オン(4.7g,28mmol)とグアニルチオウレア(3.3g,28mmol)の混合液を撹拌し,75℃で一晩還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認し,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン /メタノール,50/1)により精製し,2−[4−(4−クロロブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(3.77g,58%)(化合物3)を得た。
M.W.:232,ESI−MS:233(M+H).
ジメチルスルホキシド30mlと,2−[4−(4−クロロブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(化合物3)(1.16g,5mmol),およびアジ化ナトリウム(0.36g,5.5mmol)を混合した後,一晩の間混合液を撹拌しつつ75℃に加熱し続けた。 出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認し,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン /メタノール,50/1)により精製し,2−[4−(4−アジドブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(1.17g,98%)(化合物4)を得た。
トリフェニルホスフィン(1.25g,4.8mmol)を,2−(4−(4−アジドブチル)チアゾール−2−イル)グアニジン(化合物4)(0.96g,4mmol)の30mlテトラヒドロフラン/H2O(容量%,2/1)溶液に加えた。反応溶液は室温下で4時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認し,溶媒を減圧下で除去した後,残渣にエタノールを加えて結晶化し,2−[4−(4−アミノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン(0.77g,90%)(化合物5)を得た。
M.W.:213;ESI−MS:214(M+H).
1.i)US 4362736A;ii)J.Med.Chem.2004,47,2935
2.i)Macromol.Rapid Commun.2006,27,1739;ii)J.Org.Chem.1982,47,4327;iii)J.Org.Chem.1998,63,2796;iv)Tetrahedron Letters,1997,38,1065.
a)3,3−ビス(メチルチオ)アクリロニトリル,トリエチルアミン,メタノール
b)アンモニア一水和物,メタノール,70℃
2−[4−(4−アミノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン
SR−2069の合成 [1]
10mlの無水メタノールと,工程6における化合物5である2−(4−(4−アミノブチル)チアゾール−2−イル)グアニジン[2](0.426g,2mmol),3,3−ビス(メチルチオ)アクリロニトリル(0.29g,2mmol),およびトリエチルアミン(0.404g,4mmol)の混合液を室温下,窒素大気中で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認し,溶媒を減圧下で除去した。集めた残渣をジエチルエーテルで洗浄し,乾燥して化合物2を得た。化合物2の5mlメタノール溶液に20mlのアンモニア水(28%)を加え,一晩中還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認し,溶媒を減圧下で除去した後,残渣をクロマトグラフィー(ジクロロメタン /メタノール,15/1)により精製し,SR−2069(0.33g,59%)を得た。
M.W.:280;ESI−MS:281(M+H).
1.i)J. Med. Chem. 1983,26, 140; ii)J. Am. Chem.Soc 1959,81,2220; iii)J. Am. Chem. Soc 1959, 81,4635.
2.i)Macromol. Rapid Commun. 2006, 27, 1739; ii)J. Org. Chem. 1982, 47, 4327.
a)2−クロロ−2−オキソ酢酸エチル,トリエチルアミン,N,N−ジメチルホルムアミド,0℃
b)1mol/L 水酸化ナトリウム水溶液
2−[4−(4−アミノブチル)チアゾール−2−イル]グアニジン
SR−2073 [1]
2−クロロ−2−オキソ酢酸エチル(0.136g,1mmol)を,0℃に保った工程6における化合物5である2−(4−(4−アミノブチル)チアゾール−2−イル)グアニジン[2](0.213g,1mmol)と(0.202g,2mmol)の無水N,N-−ジメチルホルムアミド15ml溶液に,0℃で滴下した。反応液を室温下で2時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,1mol/L 水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え,さらに一時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した後,残渣をクロマトグラフィー(ジクロロメタン /メタノール,20/1)により精製し,SR−2073(0.19g,70%)を得た。
M.W.:271;ESI−MS:272(M+H).
1.i)Chem. Pharm. Bull.1992, 40, 2062.
2.i)Macromol. Rapid Commun. 2006, 27, 1739; ii)J. Org. Chem. 1982,47, 4327;iii)J. Org. Chem.1998, 63, 2796; iv)Tetrahedron Letters, 1997, 38, 1065.
a)塩化チオニル,メタノール,40℃
b)水素化アルミニウムリチウム,テトラヒドロフラン
c)塩化チオニル
d)チオウレア,エタノール,70℃
e)3−ブロモプロピオニトリル,水酸化ナトリウム,0〜5℃
f)N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素,塩化水銀,N,N−ジメチルホルムアミド
g)乾燥塩化水素ガス,メタノール/クロロホルム,室温,12時間,メタノール
h)トリフルオロメタンスルホンアミド,無水メタノール
2−アミノイソニコチン酸
2−アミノイソニコチン酸メチル(化合物2)の合成 [1]
2−アミノイソニコチン酸(207g,1.5mol)のメタノール溶液(1.8L)を,50℃で塩化チオニル(238g,2mol)に滴下しつつ加えた。溶液は同温下でさらに5時間撹拌した。その後,溶媒を減圧下で除去し,残渣は,炭酸ナトリウムの飽和溶液を加えて,pH=9〜10の塩基性にした。混合溶液をジクロロメタン(3×300ml)を用いて抽出した後,有機層を集め,無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥した。溶媒を濃縮し,黄色の固体2−アミノイソニコチン酸メチル(189g, 83%)(化合物2)を得た。
水素化アルミニウムリチウム(115g,3mol)の無水テトラヒドロフラン溶液600mlを,アミノイソニコチン酸メチル(153g,1mol)の無水テトラヒドロフラン溶液200mlに対し,0℃で1時間以上,滴下しながら加えた。溶液は,室温下でさらに12時間以上撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,混合溶液に硫酸ナトリウム十水和物(590g,3.6mol)を加えた。室温下でさらに2時間以上撹拌した後,その溶液をセライト層によって濾過し,固形分をテトラヒドロフラン(3×200ml)で洗浄した。濾液を減圧下で濃縮し,残渣をクロマトグラフィー(ジクロロメタン /メタノール,30/1)により精製し,(2−アミノピリジン−4−イル)メタノール(33.4g,27%)(化合物3)を得た。
(2−アミノピリジン−4−イル)メタノール(31g,0.25mol)の塩化チオニル溶液110mlに,触媒としてピリジン4mlを加えた。溶液は75℃に保ち,8時間還流した。その後,減圧下で過剰の塩化チオニルを除去し,残渣をクロマトグラフィー(ジクロロメタン /メタノール,50/1)により精製し,4−(クロロメチル)ピリジン−2−アミン塩酸塩(33.8g,76%)(化合物4)を得た。
M.W.:179(hydrochloride);EI−MS:142(M+).
化合物4(26.7g,0.15mol)と,チオウレア(15.2g,0.2mol)のエタノール水溶液150mlを,80℃の窒素下で3時間撹拌した。室温で冷却したのち,溶液をろ過し,残渣をエタノールで洗浄した。95%エタノールを用いて結晶化し,化合物7(28.9g,76%)を得た。
エタノール/水(100ml/100ml)を溶媒とした,化合物5(25.4g,0.1mol)と3−ブロモプロピオニトリル(14.1g,0.1mol)の溶液を0℃まで冷却し,水酸化ナトリウム水溶液(80mlの水に対し16g)を滴下しつつ加えた。0℃で1時間,室温下で3時間撹拌した後,溶液をろ過し,残渣を水で洗浄した。エタノールを用いて結晶化し,3−[(2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ]プロピオニトリル(15.6g,80.8%)(化合物6)を得た。
室温下で,3−((2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ)プロピオニトリル(13.6g,70mmol),N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素(20.3g,70mmol),およびトリエチルアミン(35.5g,350mmol)の無水N,N-ジメチルホルムアミド溶液150mlに,塩化水銀(II)(19.2g,70mmol)を加え,同温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣をクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル,30/1)により精製し,2−{4−[(2−シアノエチルチオ)メチル]ピリジン−2−イル}−1,3−N,N‘−2−Boc−グアニジン(11.9g,39%)(化合物7)を得た。
M.W.: 435; ESI−MS: 436(M+H).
2−{4−[(2−シアノエチルチオ)メチル]ピリジン−2−イル}−1,3−N,N‘−2−Boc−グアニジン(2.18g,5mmol)(化合物7)の無水メタノール/クロロホルム溶液(10ml/20ml)を0℃まで冷却し,同温下で,乾燥塩化水素ガスを3時間吹き込み続けた。そして,溶液を0〜4℃に20時間保った後,減圧下で濃縮し,イミド塩酸塩の結晶を得た。反応液を,飽和量の炭酸カリウムを含む氷冷した水に加え,遊離イミド酸を得た。溶液を濾過し,残渣をエタノールで洗浄し,化合物8を得た。化合物8を10mlのメタノールに溶解し,トリフルオロメタンスルホンアミド(0.745g,5mmol)を溶液に加えた。反応液は室温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)を用いて精製し,SR2023(0.41g,21%)を得た。
1.Journal of Antibiotics,1991,44(10),1172
2.PCT Int. Appl.,2004101533, 2004
3.i)J.Med.Chem.2004,47,2935;b)WO 2005009986
4.i)J.Med.Chem.1987,30,1787;ii)J.Org.Chem. 2003,68,2290;iii)Bio.Med.Chem.Lett.2002,12,181;iv)Bio.Med.Chem.Lett.2002,12,185;v)Bio.Med.Chem.Lett.2004,14,3227.
5.US 4362736a
a)乾燥塩化水素ガス,メタノール/クロロホルム,室温,12時間
b)塩化アンモニウム,メタノール
c)ナトリウムエトキシド,エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB),メタノール
d)N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素,塩化水銀(II),N,N−ジメチルホルムアミド,室温
e)乾燥塩化水素ガス,メタノール/クロロホルム
3−[(2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ]プロピオニトリル(化合物1)
3−[(2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ]プロピオニトリル塩酸塩(化合物3)の合成 [1]
無水メタノール/クロロホルム(20ml/40ml)を溶媒とした,3−[(2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ]プロピオニトリル[2](1.93g,10mmol)(化合物1)の溶液を0℃まで冷却し,同温下で乾燥塩化水素ガスを3時間吹き込み続けた。その後,溶液を0〜4℃に保ったまま20時間置き,減圧下で濃縮し,イミド塩酸塩の結晶を得た。溶液を飽和量の炭酸カリウムを含む氷冷した水に加え,遊離イミド酸を得た。溶液を濾過し,残渣をエタノールで洗浄して化合物2を得た。化合物2を20mlのメタノールに溶解し,アンモニウム塩(0.8g,15mmol)を溶液に加えた。溶液を室温下で12時間撹拌し,出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール/アンモニア一水和物,200/20/1)を用いて精製し,3−[(2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ]プロピオニトリル塩酸塩(1.62g,76.8%)(化合物3)を得た。
M.W.:210;ESI―MS:211(M+H).
3−[(2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ]プロピオニトリル塩酸塩(1.47g,7mmol)(化合物3)とナトリウムエトキシド(1.19g,17.5mmol)を,室温下で無水メタノール50mlに加えた後,溶液にエチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート1.74g,7mmol)(EOPEB)を加え,室温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,50/1)を用いて精製し,化合物4(1.86g,70%)を得た。
M.W.:380;ESI−MS:381(M+H).
化合物4(1.52g,4mmol),N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素[4i](1.16g,4mmol),トリエチルアミン(2.02g,20mmol)を,室温下で無水N,N-ジメチルホルムアミド50mlに加えた後,溶液に塩化水銀(II)(1.09g,4mmol)を加え,室温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣はクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン,20/1)を用いて精製し,化合物5(1.25g,51%)を得た。
M.W.:622;ESI−MS:623(M+H).
化合物5(0.94g,1.5mmol)の無水メタノール/クロロホルム溶液(10ml/10ml)を0℃まで冷却し,同温下で乾燥塩化水素ガスを4時間吹き込み続けた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)を用いて精製し,SR−2219(0.50g,67%)を得た。
1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.17(s,3H);2.64(m, 4H);2.76(m,4H);3.34(br,5H,NH);3.82(S,2H); 7.02(S,1H);7.14〜7.29(m,6H),8.24(d,1H).
M.W.:495(hydrochloride);ESI−MS:423(M+H).
1.US 4362736a
2.工程9における化合物6
3.J.Am.Chem.Soc.1949,71
4.i)J.Med.Chem.1987,30,1787;ii)J. Org. Chem. 2003, 68, 2290;iii)Bio.Med.Chem.Lett.2002,12,181 iv)Bio. Med.Chem. Lett. 2002, 12, 185; v)Bio. Med. Chem. Lett. 2004, 14, 3227.;vi)Macromol. Rapid Commun. 2006, 27, 1739.
a)3−クロロ−N‘スルファモイルプロパンイミドアミド,エタノール,水酸化ナトリウム,0℃,12時間
b)N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素,塩化水銀(II),N,N-ジメチルホルムアミド
c)乾燥塩化水素ガス,メタノール/クロロホルム
(2−アミノピリジン−4−イル)カルバムイミドチオ酸メチル塩酸塩(化合物1)
3−[(2−アミノピリジン−4−イル)メチルチオ]−N‘−スルファモイルプロパンイミドアミド(化合物2)の合成 [1]
エタノール/水(100ml/100ml)を溶媒とした,(2−アミノピリジン−4−イル)カルバムイミドチオ酸メチル塩酸塩[2](2.54g,10mmol)(化合物1)と3−クロロ−N‘スルファモイルプロパンイミドアミド(1.85g,10mmol)の溶液を0℃まで冷却し,水酸化ナトリウム水溶液(10mlの水に対し2g)を滴下しつつ加えた。0℃で一時間,室温でさらに3時間撹拌した後,溶液を濾過し,残渣を水で洗浄し,エタノールを用いて粗精製物祖産物を結晶化した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,20/1)を用いて精製し,化合物2(2.22g,76.8%)を得た。
1H−NMR(d6−DMSO,200MHz):δ2.38(m,2H);2.62(m,2H);3.40(br,4,NH);3.61(s,2H);5.74(br,2H,NH);6.31(d,1H);6.47(br,1H);7.83(d,1H).
M.W.:289;ESI−MS:290(M+H).
化合物2(2.02g,7mmol),N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素[3i](2.03g,7mmol),そしてトリエチルアミン(0.71g,7mmol)を,室温下で無水N,N-ジメチルホルムアミド20mlに加え,次いで溶液に塩化水銀(1.92g,7mmol)を加えて同温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,50/1)を用いて精製し,化合物3(1.56g,42%)を得た。
M.W.:531;ESI−MS:532(M+H).
化合物3(1.06g,2mmol)の無水メタノール/クロロホルム溶液(10ml/10ml)を0℃まで冷却し,同温下で塩化水素ガスを4時間吹き込み続けた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)を用いて精製し,SR−2229(0.54g,66.8%)を得た。
M.W.:404(hydrochloride);ESI−MS:332(M+H).
1. i)J.Med.Chem.2004,47,2935;ii)WO 2005009986
2. 工程9における化合物5
3.i)J.Med.Chem.1987,30,1787;ii)J. Org.Chem. 2003, 68, 2290; iii) Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 181 iv) Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 185; v) Bio. Med. Chem. Lett. 2004, 14, 3227.
4.Macromol.Rapid Commun.2006,27,1739.
a)無水酢酸,炭酸水素ナトリウム,室温,12時間
b)過マンガン酸カリウム,80℃,4時間
c)塩化チオニル,メタノール,40℃
d)水素化アルミニウムリチウム,テトラヒドロフラン
e)塩化チオニル
f)チオウレア,エタノール,70℃
g)3−ブロモプロピオニトリル,水酸化ナトリウム,0〜5℃
h)乾燥塩化水素ガス,メタノール/クロロホルム,室温,12時間
i)塩化アンモニウム,メタノール
j)ナトリウムメトキシド,EOPEB,メタノール
k)N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素,塩化水銀(II),N,N-ジメチルホルムアミド,室温
l)乾燥塩化水素ガス,メタノール/クロロホルム
6−メチルピリジン−2−アミン
N−(6−メチルピリジン−2−イル)アセトアミド(化合物2)の合成 [1]
無水酢酸(245g,2.40mol)を,室温下で,6−メチルピリジン−2−アミン(化合物1)(216.3g,2.00mol)のジクロロメタン(2.3L)水溶液に滴下しながら加えた。溶液は室温で12時間撹拌し,その後20℃の水を1.15L加え,さらに10分撹拌した。ジクロロメタン(1.15L)を用いて水層を抽出し,有機層を集め,600mlの炭酸水素ナトリウム飽和水溶液を用いて洗浄した。無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し,溶媒を濃縮して黄色の固体(285g,95%)を得た。
1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ2.17(s,3H);2.44(s,3H);6.91(d,1H);7.59(t,1H);8.01(d,1H);8.58(s,1H).
N−(6−メチルピリジン−2−イル)アセトアミド(化合物2)(285g,1.90mol)水溶液2.85Lに,過マンガン酸カリウム(750.5,4.75mol)を3時間,80℃で少しずつ加え続けた。80℃に保ったまま3時間撹拌した後,溶液をセライト層によって濾過し,固形分を熱水(2×300ml)で洗浄した。濾液を減圧下で300mlまで濃縮し,pH=3〜3.5を示すまで6N(規定)塩酸で調整した。沈殿物を濾過して集め,乾燥して白色の固体を得た(171g,50%)。
6−アセトアミドピコリン酸(化合物3)(171g,0.95mol)のメタノール水溶液1.7Lに,50℃の塩化チオニル(170g,1.43mol)を滴下しつつ加えた。その後,溶液を同温に保ちつつ,5時間の間撹拌した。溶媒を減圧下で除去した後,残渣を,炭酸ナトリウムの飽和水溶液を用いてpH=9〜10を示すまで調整し,ジクロロメタン(3×650ml)を用いて抽出した。有機層を集め,無水硫酸ナトリウムを用いて乾燥し,濃縮して黄色の固体6−アミノピコリン酸メチル(115g,80%)(化合物4)を得た。
水素化アルミニウムリチウム(86g,2.25mol)の無水テトラヒドロフラン水溶液500mlに対し,6−アミノピコリン酸メチル(114g,0.75mol)(化合物4)の無水テトラヒドロフラン水溶液200mlを,0℃で1時間以上,滴下しつつ加えた。溶液は室温下で12時間の間,出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認するまで撹拌した。溶液に硫酸ナトリウム十水和物(442.8g,2.7mol)を加え,室温下で2時間撹拌した。溶液をセライト層によって濾過し,固形分をテトラヒドロフラン(2×200ml)で洗浄した。濾液を減圧下で濃縮し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)を用いて精製し,(6−メチルピリジン−2−イル)メタノール(29.8g,32%)(化合物5)を得た。
(6−メチルピリジン−2−イル)メタノール(化合物5)(24.8g,0.2mol)の塩化チオニル溶液100mlに,触媒として3mlのピリジンを加えた。溶液を75℃で8時間還流させ,減圧下で飽和分の塩化チオニルを除去した。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,50/1)を用いて精製し,化合物6(28.9g,81%)を得た。
6−(クロロメチル)ピリジン−2−アミン塩酸塩(26.7g,0.15mol)(化合物6)とチオウレア(15.2g,0.2mol)のエタノール溶液150mlを,3時間,窒素下で80℃に保ちつつ撹拌した。溶液を室温まで冷却した後,溶液を濾過し,残渣はエタノールで洗浄した。95%エタノールを加えて結晶化し,(6−アミノピリジン−2−イル)カルバムイミドチオ酸メチル塩酸塩(31.6g,83%)(化合物7)を得た。
(6−アミノピリジン−2−イル)カルバムイミドチオ酸メチル塩酸塩(25.4g,0.1mol)(化合物7)と3−ブロモプロピオニトリル(14.1g,0.1mol)のエタノール/水溶液(100ml/100ml)を0℃まで冷却し,水酸化ナトリウム水溶液(80mlの水に対し16g)を滴下しつつ加えた。0℃で1時間,さらに室温下で3時間撹拌した後に,溶液を濾過し,残渣は水で洗浄した。エタノールを加えて結晶化し,3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]プロピオニトリル(15.6g,81%)(化合物8)を得た。
3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]プロピオニトリル(1.93g,10mmol)(化合物8)の無水メタノール/クロロホルム溶液(20ml/40ml)を0℃に冷却し,同温下で乾燥塩化水素ガスを3時間吹き込み続けた。その後,溶液を20時間の間0〜4℃に保ち,減圧下で濃縮し,イミド塩酸塩の結晶を得た。溶液を飽和量の炭酸カリウムを含む氷冷した水に加え,遊離イミド酸を得た。溶液を濾過した後,残渣はエタノールで洗浄し,化合物9を得た。化合物9を20mlメタノールに溶解させ,塩化アンモニウム(0.8g,15mmol)を加えた。溶液を室温下で12時間撹拌した後,出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した。溶媒を減圧下で除去した後,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール/アンモニア一水和物,200/20/1)を用いて精製し,3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]プロパンイミドアミド塩酸塩(1.49g,70.6%)(化合物10)を得た。
3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]プロパンイミドアミド塩酸塩(1.47g,7mmol)(化合物10)とナトリウムエトキシド(1.19g,17.5mmol)の溶液を,室温下で,無水メタノール50mlに加えた。その後,溶液にエチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB)[8](1.74g,7mmol)を加え,同温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,50/1)を用いて精製し,2−{2−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]エチル}−6−メチル−5−フェネチルピリミジン−4(1H)−オン(1.81g,68%)(化合物11)を得た。
M.W.:380,ESI−MS:381(M+H).
2−{2−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]エチル}−6−メチル−5−フェネチルピリミジン−4(1H)−オン(1.52g,4mmol)(化合物11),N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素(1.16g,4mmol),トリエチルアミン(2.02g,20mmol)を無水N,N-ジメチルホルムアミド50mlに室温下で加え,その後塩化水銀(II)(1.09g,4mmol)を加えて同温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン,20/1)を用いて精製し,化合物12(1.06g,42.6%)を得た。
M.W.:622,ESI−MS:623(M+H).
化合物12(0.94g,1.5mmol)の無水メタノール/クロロホルム溶液(10ml/10ml)を0℃まで冷却し,同温下で乾燥塩化水素ガスを4時間吹き込み続けた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)を用いて精製し,化合物SR−2036(0.54,85%)を得た。
M.W.:422,ESI−MS:423(M+H).
1.Journal of Antibiotics, 1991, 44(10), 1172
2.PCT Int. Appl., 2004101533, 2004
3.i)J. Med. Chem. 2004, 47, 2935; ii) WO 2005009986
4.US 4362736a
5.J. Am. Chem. Soc. 1949, 71
6.i)J. Med. Chem. 1987, 30, 1787; ii) J. Org. Chem. 2003, 68, 2290; iii) Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 181 iv) Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 185; v) Bio. Med. Chem. Lett. 2004, 14, 3227.
7.Macromol. Rapid Commun. 2006, 27, 1739.
8.市販品
a)N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素,塩化水銀(II),N,N−ジメチルホルムアミド
b)乾燥塩化水素,メタノール/クロロホルム,12時間
c)トリフルオロメタンスルホンアミド,メタノール
3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]プロピオニトリル(化合物1)
化合物2の合成 [1]
3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]プロピオニトリル(化合物1)[2](1.93g,10mmol),N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素(2.9g,10mmol),そしてトリエチルアミン(5.05g,50mmol)を,無水N,N−ジメチルホルムアミド溶液100mlに室温下で加えた後,塩化水銀(II)(2.73g,10mmol)を加え,同温で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘキサン,30/1)を用いて精製し,化合物2(2.48g,57%)を得た。
M.W.:435,ESI−MS:436(M+H).
化合物2(2.18g,5mmol)の無水メタノール/クロロホルム溶液(10ml/20ml)を0℃まで冷却し,同温下で乾燥塩化水素ガスを3時間吹き込み続けた。溶液を20時間の間0〜4℃に保って放置し,その後,減圧下で濃縮してイミド塩酸塩の結晶を得た。溶液を飽和量の炭酸カリウムを含む氷冷した水に加え,遊離イミド酸を得た。溶液を濾過した後,残渣はエタノールで洗浄し,化合物3を得た。化合物3を10mlのメタノールに溶解した後,溶液にトリフルオロメタンスルホンアミド(0.745g,5mmol)を加えた。溶液は12時間,室温下で撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)を用いて精製し,SR−2022(0.52g,27%)を得た。
M.W.:384;ESI−MS:385(M+H).
1. i)J. Med. Chem. 1987, 30, 1787; ii)J. Org. Chem. 2003, 68, 2290; iii)Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 181 iv)Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 185; v)Bio. Med. Chem. Lett. 2004, 14, 3227.
2.工程12における化合物8
3.i)J. Med. Chem. 2004, 47, 2935; ii)US 4362736a
a)3−クロロ−N‘スルファモイルプロパンイミドアミド,エタノール,水酸化ナトリウム,12時間
b)N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素,塩化水銀(II),N,N−ジメチルホルムアミド
c)乾燥塩化水素ガス,メタノール/クロロホルム
(6−アミノピリジン−2−イル)カルバムイミドチオ酸メチル塩酸塩(化合物1)
3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]−N‘−スルファモイルプロパンイミドアミド(化合物2)の合成 [1]
エタノール/水(100ml/100ml)を溶媒とした,(6−アミノピリジン−2−イル)カルバムイミドチオ酸メチル塩酸塩[2](2.54g,10mmol)(化合物1)と3−クロロ−N‘スルファモイルプロパンイミドアミド(1.85g,10mmol)の溶液を0℃まで冷却し,それに水酸化ナトリウム水溶液(10mlの水に対し2g)を滴下しつつ加えた。0℃で1時間,その後室温で3時間撹拌した後,溶液を濾過し,残渣は水を用いて洗い,エタノールを加えて結晶化させ,粗精製物祖化合物を得た。残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,20/1)を用いて精製し,3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]−N‘−スルファモイルプロパンイミドアミド(2.07g,71.6%)(化合物2)を得た。
M.W.:289;ESI―MS:290(M+H).
工程12における化合物7である3−[(6−アミノピリジン−2−イル)メチルチオ]−N‘−スルファモイルプロパンイミドアミド(2.02g,7mmol),N,N‘−2−Boc−S−メチルイソチオ尿素(2.03g,7mmol),そしてトリエチルアミン(0.71g,7mmol)を,室温で無水N,N−ジメチルホルムアミド20mlに加え,その溶液に塩化水銀(II)(1.92g,7mmol)を加えて室温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,50/1)を用いて精製し,化合物3(1.56g,43%)を得た。
M.W.:531; ESI−MS:532(M+H).
無水メタノール/クロロホルム(10ml/10ml)を溶媒とした,化合物3(1.06g,2mmol)の溶液を0℃まで冷却し,同温下で乾燥塩化水素ガスを4時間吹き込み続けた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後,溶媒を減圧下で除去し,残渣はクロマトグラフィー(ジクロロメタン/メタノール,30/1)を用いて精製し,SR−2230(0.58g,71.8%)を得た。
1H−NMR−(CD3OD,300MHz):δ2.88〜2.92(m,4H);3.98(S,2H);4.98(br,10H,NH);6.91(m,1H);7.26(m,1H);7.87(m,1H).
M.W.:404(hydrochloride);ESI−MS:332(M+H).
1. i)J. Med. Chem. 2004, 47, 2935;ii)WO 2005009986
2.i)J. Med. Chem. 1987, 30, 1787; ii)J. Org. Chem. 2003, 68, 2290; iii) Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 181 iv)Bio. Med. Chem. Lett. 2002, 12, 185; v)Bio. Med. Chem. Lett. 2004, 14, 3227.
3.Macromol. Rapid Commun. 2006, 27, 1739.
対象化合物:
a)臭素、MeOH室温、2時間;b)エチル3−アミノ−3−オキソプロパノアート、EtOH、還流;c)NaBH4、MeOH;d)SOCl2、Et3N、DCM;e)NaOH、MeOH/H2O
1−ブロモ−4−フェニルブタン−2−オン(2)[1]:メタノール中ケトン1(4.52g、30mmol)240mlの溶液に、30mlのメタノールを溶媒とした中臭素(1.5ml、30mmol)の溶液を室温で加え、1つの溶液にした。その後、オレンジ色の反応混合物を室温にて2時間撹拌した。ケトン1が消費された後、0.3Mのチオ硫酸ナトリウム液(18ml)を加えることにより反応を停止させ、EA(450ml)で希釈した。その結果生じる混合物を、450mlの水で洗い、次に、有機相を減圧下で濃縮し、クロマトグラフィー(PE/EA、10/1)によって精製した残渣を得、それにより、化合物2(1.43g、21%)を得た。1H−NMR(CDCl3,400MHz):δ2.98(t,2H);3.02(t,2H);3.88(s,2H);7.19〜7.24(m,3H);7.18〜7.33(m,2H).M.W.:226,228)ESI−MS:227,229(M+H).
1.Bioorganic and Medicinal chemistry;2007,3225〜3234
2.J.Med.Chem.1971,1075〜1077
3.US4362736
4.SR3155に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)乾燥HCl、MeOH/CHCl3;b)c)CF3SO2NH2,乾燥MeOH
SR2216(OK−016)[1]:無水メタノール/クロロホルム(10ml/20ml)を溶媒とした中2−(4−((2−シアノエチルチオ)メチル)チアゾール−2−イル)グアニジン1[2](0.48g、2mmol)の溶液を、0℃まで冷却し、次いで、乾燥HClガスを、この温度下で3時間バブリングした。その後、0℃から4℃で20時間、混合物を静置させ、次いで、減圧下で濃縮して、結晶性固体のイミダート塩酸塩を得た。過剰の炭酸カリウムを含有する氷冷水に、反応混合物を加えることによって、遊離イミダートを得た。混合物をろ過し、残渣をEtOHによって洗浄して、化合物2を得た。この中間体を5mlのメタノール中に溶解し、トリフルオロメタンスルホンアミド(0.447g、3mmol)を溶液に加えた。反応混合物を室温で12時間撹拌し、出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、30/1)によって残渣を精製して、化合物SR2216(OK−016)を得た(0.27g、36%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.48(b,4H);3.57(b,2H);3.66(br,3H,NH);6.47(s,1H);6.85(br,3H,NH);13C−NMR(d6−DMSO,75MHz):27.9;31.2;35.7;104.8;147.6;157.1;157.2;172.6;175.4.M.W.:390;ESI−MS:391(M+H).
1.a)US4362736A;b)J.Med.Chem.2004,47,2935
2.SR3203に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)チオ尿素、EtOH、80℃、3時間;c)BrCH2CH2CN、EtOH、NaOH、0℃;d)乾燥HClガス、MeOH/CHCl3、0〜10℃;e)ベンゼンスルホンアミド、乾燥MeOH、室温、12時間
2−(5−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン(2)[1]:アセトン(600ml)を溶媒とした中のアミジノチオ尿素1(118g、1mol)の懸濁物は、1,3−ジクロロアセトン(126g、1mol)で処理した。室温で一晩撹拌した後に、固体をろ過し、アセトンで洗浄した。エタノールを加えて結晶化し,エタノールを結晶化して化合物2を得た(122g、54%)。1H−NMR(d6−DMSO,200MHz):δ3.44(br,4H,NH);4.76(s,2H);7.43(s,1H);8.41(br,1H,N3+H).M.W.:226(塩酸塩);ESI−MS:191(M+H).
1.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
2.WO2005009986
3.Yiyao Gongye(1987)18(6),250−2
4.US4362736A
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)2−アミノエチオール塩酸塩、EtONa、EtOH、0℃、室温;c)2−アセトキシ−アクチル塩化物(actylchloride)、Et3N、THF;d)NaOH、MeOH、H2O
2−(2−((2−(ジアミノメチレンアミノ)チアゾール−4−イル)メチルチオ)エチルアミノ)−2−オキソエチル酢酸塩(4)[1]THF(100ml)を溶媒とした中化合物3[2](1.82g、6mmol)およびEt3N5mlの溶液を、0℃で冷却した。次に、2−アセトキシ−アクチル塩化物(actylchloride)(0.983g、7.2mmol)を滴下した。室温で2時間撹拌後、溶媒を、減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、50/1)によって残渣を精製して、化合物4を得た(990mg、50%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.06(s,3H);3.08(m,2H);3.68(s,2H);4.50(s,2H);6.70(s,1H);7.62(br,2H),8.28(br,1H).
1.J.Med.Chem.1988,31,1479−1486
2.SR2044に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)HCl(g)、CHCl3/MeOH/H2O;b)CH3NH2、MeOH
メチル3−((2−(ジアミノメチレンアミノ)チアゾール−4−イル)メチルチオ)プロパノアート(2)[1]:クロロホルム/メタノール/H2O(20ml/10ml/5ml)中を溶媒とした2−(4−((2−シアノエチルチオ)メチル)チアゾール−2−イル)グアニジン1[2](0.48g、2mmol)の溶液を、0℃まで冷却し、次いで、HClガスを、この温度下で3時間バブリングした。その後、混合物を室温で20時間放置し、さらに、その後、減圧下で濃縮して製品原油(oil crude product)を得、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製してエステル化合物2を得た(0.48g、87.6%)。M.W.:274,ESI−MS:275(M+H).
1.US4362736A
2.SR3203に関する実施例の中で示される詳細な合成法
3.J.Med.Chem.2004,47,2935
対象化合物:
b)乾燥無水HCl、MeOH/CHCl3;b)NH4Cl、無水乾燥MeOH;c)CH3COCl、Et3N、DMF
SR2225(OK−025)[1]:化合物3[2](0.48g、2mmol)の溶液およびEt3N(0.51g、5mmol)を、0℃で20mlの無水DMFに加え、その後、塩化アセチル(0.24g、3mmol)を混合物へ加えた。また、反応混合物を、室温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、化合物SR2225(OK−025)を得た(0.37g、61%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.15(s,3H);2.73(m,4H);3.37(br,4H,NH);3.62(s,2H);6.60(s,1H);7.12(br,1H,NH).M.W.:301;ESI−MS:302(M+H).
1.a)J.Med.Chem.1983,26,140;b)J.Med.Chem.1990,33,1721;c)J.Am.Chem.Soc.1949,71;616
2.a)US 4362736A; b) J. Med. Chem. 2004, 47, 2935; c) SR3203に関する実施例の中で示される詳細な合成法; d) J. Med. Chem. 1983,26, 140; e) J. Med. Chem. 1990, 33, 1721; f) J. Am. Chem. Soc. 1949, 71, 616.; g) SR2076に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
c)乾燥無水HCl、MeOH/CHCl3;b)NH4Cl、無水乾燥MeOH;c)塩化ベンゾイル、Et3N、DMF
SR2226(OK−026)[1]:化合物3[2](0.48g、2mmol)の溶液およびEt3N(0.51g、5mmol)を、0℃で20mlの無水DMFに加え、その後、塩化ベンゾイル(0.42g、3mmol)を混合物へ加えた。また、反応混合物を、室温下で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、化合物SR2226(OK−026)を得た(0.43g、59%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.74(m,2H);3.01(m,2H);3.35(br,4H,NH);3.71(s,2H);6.84(s,1H);7.52(br,1H,NH);7.62(m,3H);7.92(m,2H).M.W.:363;ESI−MS:364(M+H).
1.a)J.Med.Chem.1983,26,140;b)J.Med.Chem.1990,33,1721;c)J.Am.Chem.Soc.1949,71;616
2.a)US 4362736A; b) J. Med. Chem. 2004, 47, 2935; c) SR3203に関する実施例の中で示される詳細な合成法; d) J. Med. Chem. 1983,26, 140; e) J. Med. Chem. 1990, 33, 1721; f) J. Am. Chem. Soc. 1949, 71, 616.; g) SR2076に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)2−アミノエチオール塩酸塩、EtONa、EtOH、0℃、室温;c)(E)−N−メチル−1−(メチルチオ)−2−ニトロエテンアミン(NaOH、Et3N)
2−(5−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン(2)[1]:アセトン(600ml)中のを溶媒としたアミジノチオ尿素1(118g、1mol)の懸濁物は、1,3−ジクロロアセトン(126g、1mol)で処理した。室温で一晩撹拌した後に、固体をろ過し、アセトンで洗浄し、エタノールを加えて結晶化してエタノールの結晶化によって化合物2を得た(122g、54%、Rf=0.4、DCM/メタノール、5/1)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ3.44(b,4H);4.76(s,2H);7.43(s,1H);8.41(b,1H).M.W.:226(塩酸塩);ESI−MS:191(M+H).
1.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
2.PCT Int.Appl.,2004069817,19 Aug 2004;Faming Zhuanli Shenqing Gongkai Shuomingshu,1962626,16 May 2007
対象化合物:
a)CH3NH2、MeOH
SR2204(OK−004)[1]:化合物2−(4−(4−クロロブチル)チアゾール−2−イル)グアニジン[2](0.46g、2mmol)を、メチルアミンの40%のメタノール溶液20mlに加えた。反応混合物を室温で48時間撹拌し、出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、20/1)によって残渣を精製して、化合物SR2204(OK−004)を得た(0.31g、68.3%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ1.57〜1.59(m,4H);2.48(m,2H);2.78(t,2H);3.59(br,4H,NH2);6.25(s,1H);6.83(br,1H,NH).M.W.:227;ESI−MS:228(M+H).
1.US4362736A
2.SR2071に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)CH2N2、エーテル、0℃ b)グアニルチオ尿素、アセトン、70℃ c)NaN3、DMSO、70℃ d)PPh3、THF/H2O e)1,3−ビス(tert−ブトキシカルボニル−2−(トリフルオロメタンスルホニル)グアニジン、乾燥MeOH
1,6−ジクロロヘキサン−2−オン(2)[1]:KOH(80g、1.43mol)から調製したジアゾメタンの200mlエーテル溶液に、クロロホルム(48g、0.41mol)、およびNH2NH2・H2O(11.76g、85%、0.2mol)を、0℃で、5−クロロバレリル塩化物(6g、39mmol)の30mlエーテル溶液を撹拌しながら、滴下し、溶液を、2時間、同じ温度で静置させた。反応溶液に塩化水素ガスを0.5時間吹き込み続けた。塩化水素ガスを、0.5時間反応溶液を通して届けた。溶液に、100mlの1M NaOHを加え、エーテル層を分離した。エーテルを、水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させ、蒸留によって除去した。残渣を減圧下で蒸留して、1,6−ジクロロヘキサン−2−オン2(4.8g、73.3%)を得た。
1.a)US4362736A;b)J.Med.Chem.2004,47,2935
2.a)Macromol.Rapid Commun.2006,27,1739;b)J.Org.Chem.1982,47,4327;c)J.Org.Chem.1998,63,2796;d)Tetrahedron Letters,1997,38,1065
3.a)Bull.Chem.Soc.Jpn.2009,82,1175;b)Chem.Pap.2007,61 507
対象化合物:
a)N−メチル−1−(メチルチオ)−2−ニトロエテンアミン、Et3N、MeOH
SR2072[1]:10ml乾燥の無水メタノールを溶媒とした中2−(4−(4−アミノブチル)チアゾール−2−イル)グアニジン[2](0.213g、1mmol)、N−メチル−1−(メチルチオ)−2−ニトロエテンアミン(0.148g、1mmol)、およびトリエチルアミン(0.202g、2mmol)の混合物を、窒素雰囲気下で、室温で12時間撹拌し、出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、20/1)によって残渣を精製して、化合物SR2072を得た(0.21g、67%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ1.61(br,4H);2.72(br,4H);3.08(br,3H);3.38(br,6H);6.31(s,1H);6.87(br,1H).13C−NMR(d6−DMSO,75MHz):δ25.7,28.1,28.6,31.1,39.9,95.0,103.3,151.7,156.3,156.5,173.0.;M.W.:313,ESI−MS:314(M+H).
1.a)J.Med.Chem.2004,47,2935;b)J.Med.Chem.1992,35,1102;c)J.Med.Chem.1992,35,3141
2.a)SR2071に関する実施例の中で示される詳細な合成法;b)Macromol.Rapid Commun.2006,27,1739;c)J.Org.Chem.1982,47,4327;d)J.Org.Chem.1998,63,2796;d)Tetrahedron Letters,1997,38,1065
対象化合物:
a)HCl(g)、CHCl3/MeOH/H2O;b)CH3NH2、MeOH
メチル5−(2−(ジアミノメチレンアミノ)チアゾール−4−イル)ペンタノアート(2)[1]:クロロホルム/メタノール/H2O(20ml/10ml/5ml)中を溶媒とした2−(4−(4−シアノブチル)チアゾール−2−イル)グアニジン1[2](0.45g、2mmol)の溶液を、0℃まで冷却し、次いで、乾燥HClガスを、この温度下で3時間バブリングした。その後、室温で20時間、混合物を静置させ、次いで、減圧下で濃縮して、粗精製物生成物を得た。クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、化合物2(0.43g、83%)を得た。M.W.:256,ESI−MS:257(M+H).
1.US4362736A
2.SR2068に関する実施例の中で示される詳細な合成法
3.J.Med.Chem.2004,47,2935
対象化合物:
a)4−フルオロフェネチルアミン、KI、DMF
SR3136:[1]:乾燥5mlの無水DMFを溶媒とした5ml中の、化合物2−(5−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン[2](塩酸塩、0.226g、1mmol)、4−フルオロフェネチルアミン(1.39g、10mmol)およびKI(触媒)の混合物を、窒素雰囲気下で、室温で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、化合物SR3136を得た(184mg、62.8%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.93−2.99(b,4H);3.85−3.95(br,6H);6.56(s,1H);6.92(br,1H),7.13(m,2H);7.25(m,2H).M.W.:293,ESI−MS:332(M+K).
1.J.Am.Chem.Soc.1988,110,5524
2.SR2044に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)Mg、THF、40℃、3時間;b)1,3−ジブロモプロパン、CuBr、LiBr、THF、0℃、3時間;c)Mg、THF、50℃、3時間;d)2−クロロ−N−メチルアセトアミド、トルエン/THF、0〜5℃;e)アミジノチオ尿素、50℃、12時間
(4−フルオロフェニル)臭化マグネシウム(2):乾燥無水THF(10ml)を溶媒とした中のMg(1.65g、68.75mmol)の混合物に、1−ブロモ−4−フルオロベンゼン(1.75g、10mmol)を、40℃で加えた。温度が55℃まで上昇したとき、それは反応が開始したことを意味し、THF(47ml)中を溶媒とした1−ブロモ−4−フルオロベンゼン(8.25g、47.15mmol)の溶液を、40℃の混合物にゆっくりと加えた。溶液を、外部加熱により40℃の温度に維持しながら、さらに1時間撹拌し、THF中でを溶媒とした(4−フルオロフェニル(flourophenyl))臭化マグネシウム(57.14mmol)溶液を得た。
1.Synthetic Communications,20(15),2349−51;1990
2.Synlett,(3),225−226;1996
3.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)4−フルオロベンゼンチオール、NaOH、NaH、室温;
SR3123[1]:20mlのH2O中のを溶媒とした化合物2[2](1.13g、5mmol)、4−フルオロベンゼンチオール(0.768g、6mmol)、およびNaOH(0.8g、20mmol)の混合物を、室温で1時間撹拌した。溶媒を除去し、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、100/1、Rf=0.5、DCM/メタノール、5/1)によって残渣を精製して、化合物SR3123を得た(847mg、60%)。1H−NMR(d6−DMSO,400MHz):δ2.66(m,2H);2.76(m,2H);3.58(s,2H);6.47(s,1H);6.81(br,2H),7.05(m,2H);7.21(m,2H).M.W.:282;ESI−MS:283(M+H).
1.J.Med.Chem.1984,27849−857
2.SR2044に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)DMF、NaN3、室温;c)THF/H2O、Ph3P、室温;d)Et3N、MeOH、メチルN’−スルファモイルカルバミミドチオアート(IV)、還流;e)NH3、THF;(MeO)2SO2、f)MeI、MeCN、室温;g)MeCN、Et3N、H2NSO2Cl;h)トルエン、NH3、還流;
2−(4−(アジドメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン(2):
25mlのDMF中を溶媒とした2−(4−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン塩酸塩1[1](3.66g、16mmol)およびNaN3(1.37g、21mmol)の溶液を、室温で一晩撹拌した。その後、DMFを、減圧下で除去し、化合物2(3.19g)を得た。得られた化合物を、更なる精製をせずに使用した。
THF/H2O(40ml/20ml)の中を溶媒とした化合物2(3.19g、16mmol)およびPh3P(5.09g、19mmol)の溶媒を、室温で一晩撹拌した。溶媒を、減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、5/1)によって残渣を精製して、化合物3(乾燥2.04g、2つの工程の収率74%)を得た。M.W.:171;ESI−MS:172.1(M+H).
ガス入口チューブ、撹拌器、および温度計と組み合わせたガス出口を備える、500mLの三ツ口フラスコ中に、乾燥無水THF(140mL)および二硫化炭素(16.7g、0.22mol)を入れるた。次いで、アンモニアを、連続撹拌しながら導入し、アンモニアの流れを、遅い流れがフラスコに残存するように調整したする。温度を40〜45℃に上昇させ、時折冷却することによってその温度に維持するした。1時間後、さらに熱が放出せず、温度が35℃まで低下したら、フラスコを真空にして(ロータリーエバポレータ)、一部溶解したアンモニアを除去したする。次いで、水(25mL)を加えて、白色の沈殿を溶解したする。THFおよび水性アンモニウムジチオカルバメート(ammonium dithiocarbamate)の得られた混合物に、硫酸ジメチル(25.2g、0.2mol)を、激しく撹拌しながら加えたる。添加(30分を必要とする)する間、混合物の温度を45〜50℃に上昇させ、時折冷却することによって、15分間、その温度に維持したする。次いで、濃水性(aqucous)アンモニア(5mL)を加えて、過剰の硫酸ジメチルを消失させ除去し、撹拌を15分間継続したする。上層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥したする(洗浄はしなかったい)。水層をEA(3×20mL)によって抽出し、有機相を合わせたる。溶液を水ポンプ真空中で濃縮し、溶媒の最終的な微量元素を、オイルポンプによって0.5〜1トールで除去して、ほぼ純粋なメチルジチオカルバメート(I)を残したす;収量:20g(93%、硫酸ジメチルについて計算)。
10mlのアセトニトリルを溶媒とした9.96gのヨウ化メチル(0.07mol、4.40ml)を、10mlのアセトニトリル中、5.00g(0.05mol)のメチルジチオカルバメートの溶液に加えた。反応混合物を室温にて一晩撹拌した。沈殿物を、ろ過し、少量のアセトニトリルで洗浄し、真空状態で乾燥させた。収量:10g。
S,S−ジメチルイミノジチオカルバメートヒドロヨ−ジドの1.1g(4mmol)を、三ツ口フラスコに入れ、30mlのアセトニトリルをこれに加えた。その結果生じる懸濁物を、不活性ガス(Ar)雰囲気下で0℃に冷却し、その後、トリエチルアミン0.45g(4mmol)を加えた。反応混合物を、0℃で15分撹拌した。5mlのアセトニトリル中を溶媒とした、0.62g(4mmol)のH2NSO2Cl[4]の溶液に続いて、トリエチルアミン(4mmol)の第2の部分をこの温度で加えた。その結果生じた溶液を、0℃で2時間撹拌し、ゆっくりと室温まで暖め、さらに10時間撹拌した。揮発性物質をすべて真空中で除去し、残渣を、5%のNa2SO3の溶液で処理した。沈殿物をろ過し、エーテルに溶解させ、MgSO4で乾燥させた。エーテルを、真空中で蒸発させ、その結果、無色の固体である化合物4(0.6g、収率75%の収率)を得た。
NH3を、60℃で30mlのトルエン中を溶媒とした0.60gのジチオカルボナート(III)の溶液にNH3を吹き込んだ。を通過させた。反応の終了をTLCによってモニター確認した。揮発性物質をすべて真空中で除去し、残渣を、トルエンとベンゼンの3:1比の混合物から結晶化して、浅黄色の結晶の化合物5を得た(0.4g、収率78%の収率)。
30mlの乾燥無水メタノールを溶媒とした中の化合物IV(メチルN’−スルファモイルカルバミミドチオアート)(0.4g、2.4mmol)および2−(4−(アミノメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン3(0.4g、2.4mmol)の混合物を、12時間窒素雰囲気下で加熱し、還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、3/1)によって残渣を精製して、化合物SR3154を得た(0.15g、24%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ3.76(s,2H);6.60(s,1H);6.89(t,NH).M.W.:292.05;ESI−MS:293(M+H).
1.SR2044に関する実施例の中で示される詳細な合成法
2.Synthesis,1985,948−949
3.Journal of Fluorine Chemistry 124(2003)151−158
4.SR3155に関する実施例の中で示される詳細な合成法
5.Chemische Berichte(1958),91,1339−41
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)チオ尿素、EtOH、80℃、3時間;c)NH2SO2Cl、CH3CN、0℃;d)HCO2H
2−(5−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン(2)[1]:アセトン(600ml)中のを溶媒としたアミジノチオ尿素1(118g、1mol)の懸濁物は、1,3−ジクロロアセトン(126g、1mol)で処理した。室温で一晩撹拌した後に、固体をろ過し、アセトンで洗浄し、エタノールを加えての結晶化してによって化合物2(122g、54%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ3.44(br,4H);4.76(s,2H);7.43(s,1H);8.41(br,1H).M.W.:190.01;ESI−MS:191(M+H).
ClSO2NCO(83g、0.586mol)を、27gの乾燥無水HCO2Hとともに5℃で滴下することによって処理した。その後、ガスの発生が終了するまで、混合物を室温で維持した。その後、混合物をベンゼンに溶解し、固体をろ過した。濾液を、減圧下で除去し、融点40℃の62gのスルファモイル塩化物4(92%)を得た。
50mLの乾燥無水CH3CNを溶媒とした中、(2−(ジアミノメチレンアミノ)チアゾール−5−イル)メチルカルバムイミドチオアート(3)(0.8g、3mmol)およびEt3N(0.6g、6mmol)の溶液を、窒素雰囲気下で−10℃で冷却した。その後、スルファモイル塩化物4(0.34g、3mmol)とEt3N(0.3g、3mmol)を、ゆっくりと同時に加えた。混合物を、−10℃の窒素雰囲気下で、室温で1時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、1/1)によって残渣を精製して、化合物SR3155を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ4.563(s,2H);7.321(s,1H);8.401(s,4H−NH);9.364(d,4H−NH);12.787(s,1H−NH).M.W.:309.01;ESI−MS:310(M+H).
1.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
2.WO2005009986
3.Chemische Berichte(1958),91,1339−41
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)チオ尿素、EtOH、80℃、3時間;c)CF3SO2Cl、DMF、0℃
SR3159:
15mlの乾燥無水DMF中、を溶媒とした(2−(ジアミノメチレンアミノ)チアゾール−5−イル)メチルカルバムイミドチオアート(3)[1](0.8g、3mmol)およびEt3N(0.6g、6mmol)の溶液を、窒素雰囲気下で−10℃で冷却した。その後、CF3SO2Cl(0.5g、3mmol)とEt3N(0.3g、3mmol)を、ゆっくりと同時に加えた。混合物を、−10℃の窒素雰囲気下で、室温で1時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、HPLC分離(MeOH:0.1%TFA=20:80〜80:20)によって残渣を精製して、SR3159(0.16g、15.7%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ4.54(s,2H);7.31(s,1H);8.37(s,2H);9.34(s,2H).M.W.:361.99;ESI−MS:363(M+H).
1.SR3155に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)DMF、NaN3、室温;c)THF/H2O、Ph3P、室温;d)Et3N、MeOH、還流;e)NH3、THF;(MeO)2SO2、f)MeI、MeCN、室温;g)CH2Cl2、Et3N、Tf2O;h)トルエン、NH3、還流
2−(5−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン塩酸塩(1)[1]:
アセトン(600ml)中のを溶媒としたアミジノチオ尿素(118g、1mol)の懸濁物は、1,3−ジクロロアセトン(126g、1mol)で処理した。室温で一晩撹拌した後に、固体をろ過し、アセトンで洗浄し、エタノールを加えての結晶化してによって化合物2(122g、54%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ3.44(br,4H);4.76(s,2H);7.43(s,1H);8.41(br,1H).M.W.:226;ESI−MS:191(M−HCl+H).
25mlのDMFの25mL中を溶媒とした化合物1(3.66g、16mmol)およびNaN3(1.37g、21mmol)をの溶液を、室温で一晩撹拌した。その後、溶媒を、減圧下で除去し、化合物2(3.19g)を得た。得られた化合物を、精製なしに、次の工程で使用した。
THF/H2O(40ml/20ml)中を溶媒とした化合物2(3.19g、16mmol)およびPh3P(5.09g、19mmol)の溶液を、室温で一晩撹拌した。その後、溶媒を、減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、5/1)によって残渣を精製して、化合物3(2.04g、2つの工程の収率74%)を得た。M.W.:171;ESI−MS:172.1(M+H).
ガス入口チューブ、撹拌器、および温度計と組み合わせたガス出口を備える、500mLの三ツ口フラスコ中に、乾燥無水THF(140mL)および二硫化炭素(16.7g、0.22mol)を入れたる。次いで、アンモニアを、連続撹拌しながら導入し、アンモニアの流れを、遅い流れがフラスコに残存するように調整したする。温度を40〜45℃に上昇させ、時折冷却することによってその温度に維持したする。1時間後、さらに熱が放出せず、温度が35℃まで低下したら、フラスコを真空にして(ロータリーエバポレータ)、一部溶解したアンモニアを除去するした。次いで、水(25mL)を加えて、白色の沈殿を溶解したする。THFおよび水性アンモニウムジチオカルバメート(ammonium dithiocarbamate)の得られた混合物に、硫酸ジメチル(25.2g、0.2mol)を、激しく撹拌しながら加えたる。添加(30分を必要とする)する間、混合物の温度を45〜50℃に上昇させ、時折冷却することによって、15分間、その温度に維持したする。次いで、濃水性(aqucous)アンモニア(5mlL)を加えて、過剰の硫酸ジメチルを消失させ除去し、撹拌を15分間撹拌継続したする。上層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥したする(洗浄しなかったい)。水層をEA(3×20mL)によって抽出し、有機相を合わせたる。溶液を水ポンプ真空中で濃縮し、溶媒の最終的な微量元素を、オイルポンプによって0.5〜1トールで除去して、ほぼ純粋なメチルジチオカルバメート(I)を得た残す;収量:20g(93%、硫酸ジメチルについて計算)。
9.96gのヨウ化メチル(0.07mol、4.40ml)を、10mlのアセトニトリル中5.00g(0.05mol)のメチルジチオカルバメートの溶液に加えた。反応混合物を室温にて一晩撹拌した。沈殿物を、ろ過し、少量のアセトニトリルで洗浄し、真空状態で乾燥させた。収量:10g。
11.00g(0.04mol)のS,S−ジメチルイミノジチオカルバメートヒドロヨ−ジドを、三ツ口フラスコに入れ、15mlのジクロロメタンを加えた。その結果生じた懸濁物を、4.47gのトリエチルアミン(6.16ml、0.04mol)の追加に続いて、不活性ガス(Ar)雰囲気で−20℃に冷却した。反応混合物を−20℃で15分撹拌し、−78℃に冷却した。5mlのジクロロメタン中を溶媒とした12.46g(7.43ml、0.04mol)のTf2Oの溶液に続いて、トリエチルアミン(0.04mol)の第2の部分をこの温度で加えた。その結果生じた溶液を、−78℃で1時間撹拌し、ゆっくりと室温まで暖め、さらに10時間撹拌した。揮発性物質をすべて真空中で除去し、残渣を、5%のNa2SO3の溶液で処理した。沈殿物をろ過し、エーテルに溶解させ、MgSO4で乾燥させた。エーテルを、真空中で蒸発させ、その結果、無色の固体である化合物4(9.50g、85%の収率)を得た。融点66〜67℃。
NH3を、60℃で3mlのトルエン中のを溶媒とした0.30gのジチオカルボナートIIIの溶液(60℃)にNH3を吹き込んだ。通過させた。反応の終了をTLCによってモニターした。揮発性物質をすべて真空中で除去し、残渣を、トルエンとベンゼンの3:1比の混合物から結晶化して、浅黄色の結晶、61〜63℃の融点の化合物5を得た(0.2g、81%の収率)。
10mlの乾燥無水メタノールを溶媒とした中の、化合物IV(0.2g、1mmol)および2−(4−(アミノメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン(3)(0.17g、1mmol)の混合物を、12時間窒素雰囲気下で加熱し、還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、10/1)によって残渣を精製して、化合物SR2232(OK−032)を得た(0.28g、85%)。M.W.345.03;ESI−MS:346.0(M+H).1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ4.26(s,2H);6.64(s,1H);δ7.38−7.96(br,6H).
1.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
2.Synthesis,1985,948−949
3.Journal of Fluorine Chemistry 124(2003)151−158
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、室温、12時間;b)DMF、NaN3、室温;c)THF/H2O、Ph3P、室温;d)NH2CN、130℃
2−(5−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン(1)[1]
アセトン(600ml)中のを溶媒としたアミジノチオ尿素1(118g、1mol)の懸濁物は、1,3−ジクロロアセトン(126g、1mol)で処理した。室温で一晩撹拌した後に、固体をろ過し、アセトンで洗浄し、エタノールを加えての結晶化してによって化合物2を得た(122g、54%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ3.44(br,4H);4.76(s,2H);7.43(s,1H);8.41(br,1H).M.W.:190;ESI−MS:191(M+H).
25mlのDMF25mLを溶媒とした中2−(4−(クロロメチル)チアゾール−2−イル)グアニジン塩酸塩1(3.66g、16mmol)およびNaN3(1.37g、21mmol)の溶液を、室温で一晩撹拌した。その後、DMFを、減圧下で除去し、化合物2を得た(3.19g)。
THF/H2O(40mL/20mL)中を溶媒とした化合物2(3.19g、16mmol)およびPh3P(5.09g、19mmol)の溶液を、室温で一晩撹拌した。その後、溶媒を、減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、5/1)によって残渣を精製して、化合物3(乾燥2.04mg、2つの工程の収率74%)を得た。M.W.:171.1;ESI−MS:172.1(M+H).
化合物3(0.194g、1.1mmol)およびNH2CN(0.191g、4.5mol)の混合物を溶融融解させ、Arの下で、130℃で15分間、迅速に撹拌した。その後、混合物を室温に冷却した。クロマトグラフィー(DCM/MeOH、5/1)によって残渣を精製して、SR2236(OK−036)(乾燥54mg、23%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.58(s,2H);7.34(s,1H).M.W.:213;ESI−MS:214.1(M+H)
1.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
対象化合物:
a)ベンジルアミン、170℃、3時間;b)4−クロロブチロニトリル、AgCO3、DMF、還流、3時間;c)乾燥HClガス、MeOH/DCM、0〜5℃;d)NH4Cl、MeOH、室温;e)CH3ONa;f)MeOH、Pd/C、H2、HCO2NH4、60℃;g)1,3−di−Boc−2−メチルイソチオ尿素、HgCl、Et3N、DMF;h)TFA/DCM
4−(ベンジルアミノ)ピリジン−2−オール(2)[1]:化合物1(50g、0.45mol)およびベンジルアミン(460ml、4.05mol)の混合物を、170℃で3時間撹拌した。次に、溶媒を減圧下で除去した。残渣は水で洗浄し、化合物2(45g、50%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ4.21(s,2H);5.03(s,1H);5.74(d,1H);6.98(d,1H);7.10(s,1H);7.25−7.35(m,5H).M.W.:199;ESI−MS:201(M+H).
1.Synthesis;English;9;1984;765−766
2.Synthesis,(16),2725−2728;2009
3.Journal of Medicinal Chemistry;English;30;10;1987;1787〜1793
4.Journal of the American Chemical Society;71;1949;616
5.Org.Lett.,2004,6,3675−3678;PCT Int.Appl.,2006095159,14 Sep 2006
対象化合物:
a)MeOH、NaBH4、室温、1時間;b)Et3N、SOCl2、室温、1時間;c)チオ尿素、EtOH、80℃;d)BrCH2CH2CN、EtOH−H2O、NaOH、0℃;e)乾燥HClガス、MeOH/DCM、0〜5℃;f)MeOH、NH4Cl、室温、1時間;g)乾燥THF、トリフルオロメタンスルホニル塩化物、Et3N、0〜5℃;h)MeOH、Pd/C、H2;i)シアナミド、80℃
(3−ニトロフェニル)メタノール(2):130mlのMeOH(130ml)中のを溶媒とした3−ニトロベンズアルデヒド1(15.11g、0.1mol)の懸濁物を、室温で1時間、NaBH4(2.4g、0.063mol)で処理した。その後、1000mlの水を混合物へ加えた。EA1500ml×3によって抽出し、その後、減圧下で濃縮して、精製をせずに化合物2(13.78g、90%)を得た。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ2.97(s,1H);4.78(s,2H);7.50(t,1H);7.66(d,1H);8.08(d,1H);8.19(s,1H).
1.US4362736
2.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
3.WO9840367
4.Chemical Papers,61(6),507−511;2007
対象化合物:
a)MeOH、NaBH4、室温、1時間;b)Et3N、SOCl2、室温、1時間;c)チオ尿素、EtOH、80℃;d)(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイルプロパンイミドアミド、EtOH−H2O、NaOH、0℃;e)MeOH、Pd/C、H2;f)シアナミド、80℃
(3−ニトロフェニル)メタノール(2):130mlのメタノールMeOHを溶媒とした(130ml)の中の3−ニトロベンズアルデヒド1(15.11g、0.1mol)の懸濁物を、室温で1時間、NaBH4(2.4g、0.063mol)で処理した。その後飽和炭酸カリウム溶液でこの反応を停止させた。溶媒を減圧下で除去し、粗化合物2を得た。得られた化合物を更なる精製をせずに直接使用した。1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ2.97(s,1H);4.78(s,2H);7.50(t,1H);7.66(d,1H);8.08(d,1H);8.19(s,1H).
1.US4362736
2.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
3.Chemical Papers,61(6),507−511;2007
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、12時間;b)チオ尿素、EtOH、80℃、3時間;c)BrCH2CH2CN、EtOH、NaOH、0℃;d)ベンゾイルイソチオシアネート、乾燥HClガス、MeOH/CHCl3、0〜10℃;e)K2CO3炭酸カリウム、乾燥無水MeOH、室温、12時間;f)CH3I、エタノール;g)ブタン−1−アミン、還流;h)乾燥無水HCl(g)、MeOH/CHCl3;i)NH4Cl、乾燥無水MeOH
4−(クロロメチル)チアゾール−2−アミン(1)[1]:アセトン(500ml)を溶媒とした中のチオ尿素(76g、1mol)の懸濁物は、1,3−ジクロロアセトン(126g、1mol)で処理した。室温で一晩撹拌した後に、固体をろ過し、アセトンで洗浄した。エタノールを加えて結晶化して化合物2(112g、61%)を得た。
1.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
2.WO2005009986
3.US4362736A
対象化合物:
a)DMF、NaOH、CS2、CH3I;b)DMF、エチレンジアミン;c)MeOH、DCM、HCl;d)NH4Cl、MeOH;e)エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB)、CH3ONa、MeOH
ジメチル4−((2−シアノエチルチオ)メチル)チアゾール−2−イルカルボンイミドジチオアート(2)[1]:6ml DMF中を溶媒とした化合物1(1g、5mmol)の懸濁液を、20M NaOH(0.22g、5.5mmol)によって10分間処理した。次いで、CS2(0.21g、2.75mmol)を反応容器に加えた。10分後、0.12g(3mmol)の20M NaOH(3mmol)および0.11g(1.5mnol)のCS2をさらに加え、溶液を、10分間を超えて撹拌した。20M NaOH(0.12g、3mmol)およびCS2(0.11g、1.5mmol)の第3の部分を、反応容器に加え、溶液を30分間撹拌した。0℃まで冷却した後、混合物を、CH3I(1.42g、10mmol)によって処理し、溶液を、2時間を超えて撹拌した。次いで、混合物をDCMによって抽出し、Na2SO4で乾燥した。そして、溶媒を減圧下で除去した。クロマトグラフィー(PE/EA、20/1)によって残渣を精製して、化合物2(0.38g、25%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,200MHz):δ2.77〜2.81(m,6H);2.97(t,2H);3.67(t,2H);4.69(s,2H);7.40(s,1H);M.W.:303;ESI−MS:304(M+H).
1.JACS,1996,6355−6369;Journal of the Chemical Society;1956;1644
2.Arzneimittel Forschung;German;35;3;1985;573〜577
3.Journal of Medicinal Chemistry;English;30;10;1987;1787〜1793
4.Journal of the American Chemical Society;71;1949;616
対象化合物:
a)DMF、NaOH、CS2、CH3I;b)DMF、エチレンジアミン;c)MeOH、DCM、HCl;d)NH4Cl、MeOH
ジメチル4−((2−シアノエチルチオ)メチル)チアゾール−2−イルカルボンイミドジチオアート(2)[1]:6mlの DMFを溶媒とした中化合物1[2](1g、5mmol)の懸濁液を、20M NaOH(0.22g、5.5mmol)によって10分間処理した。次いで、CS2(0.21g、2.75mmol)を反応容器に加えた。10分後に、さらに、20MのNaOH(0.12g、3mmol)およびCS2(0.11g、1.5mmol)を加え、溶液を10分を超える時間撹拌した。その後、20M NaOH(0.12g、3mmol)およびCS2(0.11g、1.5mmol)の第3の部分を反応容器に加え、溶液を30分間撹拌した。0℃で冷却後、混合物をCH3I(1.42g、10mmol)で処理し、溶液を2時間より長く撹拌した。混合物をDCMで抽出し、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(PE/EA、20/1)によって残渣を精製して、化合物2を得た(0.38g、25%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.77〜2.81(m,6H);2.97(t,2H);3.67(t,2H);4.69(s,2H);7.40(s,1H);M.W.:303;ESI−MS:304(M+H).
1.JACS,1996,6355−6369;Journal of the Chemical Society;1956;1644
2.SR3209に関する実施例の中で示される詳細な合成法
3.Arzneimittel Forschung;German;35;3;1985;573−577
4.Journal of Medicinal Chemistry;English;30;10;1987;1787−1793
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、b)チオ尿素、EtOH/H2O、80℃;BrCH2CH2CN/NaOH;c)乾燥HClガス、EtOH/CHCl3、0℃;NH3/MeOH;d)トリフルオロメタンスルホニル塩化物、クロロホルム、0℃、5時間;
化合物C[1]の調製
1lLのエチルエーテルを溶媒とした中イソブチルアミド(50g、0.57mol)、および五硫化リン(27g、0.12mol)の混合物を、室温で一晩撹拌した。混合物をろ過し、エチルエーテルを濃縮して、淡黄色油Aを得た(52.8g、90%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ1.08(d,6H);2.78(m,1H);9.08(d,2H);9.29(s,1H).
600mlのアセトンを溶媒とした中の2−メチルプロパンチオアミド(73g、0.71mol)および1,3−ジクロロプロパン−2−オン(90g、0.71mol)の溶液を、8時間還流させ、冷却しろ過して、化合物1(30g、25%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ1.40(d,6H);3.32(m,1H);4.68(s,2H);7.16(s,1H).
4−(クロロメチル)−2−イソプロピルチアゾール1(0.63g、3.6mmol)およびチオ尿素(0.27g、3.6mmol)の混合物を、10mlのエタノール(95%)に溶解させた。その混合物を5時間還流し、次に、5mlまで濃縮した。その後、5mlの水および0.72g(044ml、5.4mmol)の3−ブロモエチルシアニドを加えて、1つの溶液にした。混合物を0℃に冷却し、6mlのNaOH(2M)を滴下した。この温度で1時間撹拌し、混合物をEA(20ml×4)で抽出し、乾燥させてろ過した。溶媒を真空中で除去し、純粋でない生成物粗精製物2(0.25g、31%)を得た。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ1.35(d,6H);2.80(m,4H);3.32(m,1H);3.70(s,1H);7.10(s,1H).M.W.:226.36;ESI−MS:227(M+H).
化合物2(1.0g、4.4mmol)および乾燥無水エタノール(0.3g、6.6mmol)を、50mlの乾燥エチルエーテルに溶解させた。混合物を0℃に冷却し、乾燥塩化水素ガスをバブリングして溶液にした。3時間後、混合物を濃縮し、20mlの乾燥無水メタノール(methol)に溶解させた。再び0℃に冷却し、NH3ガスを混合物へと1時間バブリングした。その後、混合物を濃縮させ、クロマトグラフィーカラムによって精製して、3(620mg、58%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ1.31(d,6H);2.60(m,4H);3.34(m,1H);3.75(s,1H);7.04(s,1H),8.51(s,2H).;M.W:243.39;ESI−MS:244(M+H).
1.huaxue yanjiu yu yingyong,2006,18(2),186−188
2.hubei huagong,2000,5,19−20,
3.J.Org.Chem.1989,54,1256−1264
4.J.Org.Chem.1981,46,2455−2465
5.US4362736A
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、8時間;b)チオ尿素、EtOH、80℃、10時間、c(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイルプロパンイミドアミド
NaOH;
(2−イソプロピルチアゾール−4−イル)メチルカルバムイミドチオアート2[1]:4−(クロロメチル)−2−イソプロピルチアゾール1[3](6.3g、36mmol)およびチオ尿素(2.7g、36mmol)の混合物を、20mlのエタノール(95%)に溶解させた。反応混合物を3時間還流した。出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で濃縮した。残渣はエタノールで洗浄し、化合物2(7.2g、93.5%)を得た。
1.huaxue yanjiu yu yingyong,2006,18(2),186
2.a)hubei huagong,2000,5,19;b)J.Heter.Chem.,1986,23,577
3.a) huaxue yanjiu yu yingyong ,18(2),186-188,2006; b)hubei huagong,5,19-20,2000; c)J. Org. Chem. 1989, 54, 1256-1264; d)J. Org. Chem. 1981,46, 2455-2465; e) Journal, De Cat, Van Dormael, BSCBAG, Bulletin des Societes Chimiques Belges, 59, 1950, 573,583, ISSN: 0037-9646.; f) Journal, Allen et al., JOCEAH, Journal of Organic Chemistry, 24, 1959, 787,792.; g) Journal, Antaki, Petrow, JCSOA9, Journal of the Chemical Society, 1951, 551,554
対象化合物:
a)エチル3−オキソ−ブタノアート、NaOMe、還流、20時間;b)B、NaOMe、還流、2時間;
SR2011[2]:室温で20mlの無水メタノールを溶媒とした中3−(2−(ジメチルアミノ)チアゾール−4−イル)メチルチオプロパンイミドアミド1[3](0.5g、2mmol)およびMeONa(0.26g、0.48mmol)の溶液(室温)に、エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB)B(0.53g、2.4mmol)を加えた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示すまで、反応液をこの温度で12時間撹拌した。その後、溶媒を、減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、化合物SR2011(0.21g、25.3%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,400MHz):δ2.03(s,4H);2.64(d,3H);2.83(d,4H);3.05(s,6H);3.61(d,2H);6.63(s,1H);7.15−7.26(m,5H).M.W:414.5;ESI−MS:415(M+H).
1.a)J.Am.Chem.Soc.,1946,68(12),2492;b)J.Am.Chem.Soc.,1949,71(6),1922
2.a)Bulletin des Societes Chimiques Belges;1950,59;57;b)J.Org.Chem.1959,24,787;c)J.Chem.Soc.1951,551
3.a)SR2005に関する実施例の中で示される詳細な合成法b)J.Org.Chem.1989,54,1256−1264;c)J.Org.Chem.1981,46,2455−2465;d)US4362736A
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、アセトン、5時間;b)チオ尿素、EtOH、80℃、3時間;BrCH2CH2CN/NaOH;c)乾燥HClガス、EtOH/CHCl3、0℃;NH3/MeOH;d)トリフルオロメタンスルホニル塩化物、クロロホルム、5時間
3−((2−(ジメチルアミノ)チアゾール−4−イル)メチルチオ)プロパンニトリル2[2]:2−ジメチルアミノ−4−クロロメチル−チアゾール1(7g、39mmol)およびチオ尿素(3g、39mmol)の混合物を、100mlのエタノール(95%)に溶解させた。反応混合物を3時間還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で濃縮させ、溶媒の半分を除去し、3−ブロモプロパンニトリル(4g、2.4ml)を加えて1つの溶液にした。混合物を0℃まで冷却し、NaOH(2M、64ml)を溶液に滴下し、反応混合物をこの温度で1時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物をEA(4×50ml)で抽出し、有機層を乾燥させ、ろ過した。溶媒を真空中で除去して、油生成物を得た。そして、純粋でない粗精製物生成物をエタノールを用いてから結晶化して、化合物2を得た(2.6g、29%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.78(s,4H);3.05(s,6H);3.70(s,2H);6.48(s,1H).M.W:227.3;ESI−MS:228(M+H).
化合物2(0.62g、2.7mmol)および乾燥無水エタノール(0.23ml、4.1mmol)を、20mlの乾燥無水クロロホルムに溶解させた。混合物を0℃に冷却し、乾燥塩化水素ガスをバブリングして反応混合物にした。3時間後、混合物を濃縮し、20mlの乾燥無水メタノールに溶解させた。また、その後、混合物を0℃まで冷却し、アンモニアガスを、混合物へと1時間バブリングした。その後、溶媒を減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、25/1)によって残渣を精製して、化合物3を得た(470mg、71%)。M.W:244.3;ESI−MS:245(M+H)
1.huaxue yanjiu yu yingyong,2006,18(2),186−188
2.a)hubei huagong,2000,5,19−20;b)J.Heterocyclic Chem.,1986,23,577
3.a)J.Org.Chem.1989,54,1256−1264;b)J.Org.Chem.1981,46,2455−2465
4.US4362736A
対象化合物:
a)MeOH、NaBH4、室温、1時間;b)Et3N、SOCl2、室温、1時間;c)チオ尿素、EtOH、80℃;d)(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイルプロパンイミドアミド、EtOH−H2O、NaOH、0℃;e)MeOH、Pd/C、H2;f)シアナミド、80℃
(3−ニトロフェニル)メタノール(2):MeOH(130ml)を溶媒としたの中の3−ニトロベンズアルデヒド1(15.11g、0.1mol)の懸濁物を、室温で1時間、NaBH4(2.4g、0.063mol)で処理した。その後飽和炭酸カリウム溶液でこの反応を停止させた。溶媒を減圧下で除去し、粗化合物2を得た。得られた化合物を更なる精製をせずに直接使用した。1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ2.97(s,1H);4.78(s,2H);7.50(t,1H);7.66(d,1H);8.08(d,1H);8.19(s,1H).
1.US4362736
2.J.Med.Chem.2004,47,2935−2938
3.Chemical Papers,61(6),507−511;2007
対象化合物:
a)NaOH、エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB)、65℃
SR−3003[1]:
15mlのメタノールを溶媒とした中の3−(チアゾール−4−イルメチルチオ)プロパンイミドアミド1[2](1.1g、5.5mmol)およびエチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB[3](1.25g、5.3mmol)の溶液に、NaOH(1.5g、38mmol)を加えた。混合物を、65℃で0.5時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、白い固体の化合物SR3003を得た(550mg、27%)。1H−NMR(d6−DMSO,400MHz):δ1.95(s,2H);2.35(S,3H);2.43(m,2H);3.91(s,2H);7.10−7.25(m,5H);7.50(s,1H);9.04(s,1H);12.37(s,1H).13C−NMR(d6−DMSO,75MHz):162.4,159.6,156.6,154.2,128.3,125.8,120.9,115.9,34.0,30.3,28.4,27.6;M.W:371.5;ESI−MS:372(M+H).
1.a)Bulletin des Societes Chimiques Belges;1950,59;57;b)J.Org.Chem.1959,24,787;c)J.Chem.Soc.1951,551
2.SR3002に関する実施例の中で示される詳細な合成法
3.SR2011に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)BrCH2CH2CN、NaOH;b)HCl/CH3OH、NH3/CH3OH;c)CF3SO2Cl、DCM/CH3CN/THF、0℃、0.5時間
3−(チアゾール−4−イルメチルチオ)プロパンニトリル2[1]
30mlの混合溶剤(H2O/EtOH、2/1、v/v)を溶媒とした中チアゾール−4−イルメチルカルバムイミドチオアート1[2](5.5g、26.2mmol)および3−ブロモプロパンニトリル(3.5g、26.2mmol)の溶液に、11mlのNaOH(4M)を0℃未満で滴下した。反応混合物をこの温度で2時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィーカラム(DCM/MeOH、25/1)によって残渣を精製して、化合物2を得た(2.73g、55%)。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ2.62(m,2H);2.78(m,2H);3.68(s,2H);5.16(s,1H);6.35(s,1H).M.W:184.2;ESI−MS:185(M+H).
3−(チアゾール−4−イルメチルチオ)プロパンニトリル2(2.73g、14.8mmol)を20mlの乾燥無水クロロホルムおよび7.5mlの乾燥無水エタノールに溶解させた。混合物を0℃に冷却し、乾燥塩化水素ガスを導入した。3時間後、混合物を濃縮し、20mlの乾燥無水メタノールに溶解させた。また、その後、混合物を0℃まで冷却し、アンモニアガスを、混合物へと1時間導入した。溶媒を減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、25/1)によって残渣を精製して、化合物3を得た(2g,46%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.79(m,4H);3.60(s,2H);6.46(s,1H);7.02(s,1H);8.86(s,1H);9.25(s,1H).
30mlの溶媒(DCM/CH3CN/THF=2:5:7)を溶媒とした中3−(チアゾール−4−イルメチルチオ)プロパンイミドアミド3(0.5g、2.5mmol)、および0.3mlトリエチルアミンの溶液に、トリフルオロメタンスルホニル塩化物(0.7g、4.2mmol)を、0℃未満で滴下した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示すまで、反応液を室温で0.5時間撹拌した。溶媒を減圧下で除去し、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、50/1)によって残渣を精製して、化合物SR3002を得た(200mg、24.1%)。1H−NMR(CD3OD,400MHz):δ2.74(m,4H);3.92(s,2H);7.43(s,1H);8.95(s,1H).13C−NMR(CD3OD,75MHz):174.3,155.7,154.8,123.2,118.9,37.6,31.3,28.9;M.W:333.3;ESI−MS:334(M+H).
1.huaxue yanjiu yu yingyong,2006,18(2),186−188
2.SR3001に関する実施例の中で示される詳細な合成法
3.a)J.Org.Chem.1989,54,1256−1264;b)J.Org.Chem.1981,46,2455−2465
4.US4362736A
対象化合物:
a)P2S5、Et2O;b)CH2ClCOCH2Cl、アセトン;c)チオ尿素、EtOH、80℃、3時間;d)(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイル−プロパンイミドアミド、NaOH
メタンチオアミド1[1]
500mlエチルエーテルを溶媒とした中五硫化リン(133g、0.6mol)の懸濁液に、ホルムアミド(61ml、1.53mol)を室温で加えた。2時間撹拌した後、固形物をろ過し、エチルエーテルによって洗浄した。有機層を合わせ、溶媒を減圧下で除去して、黄色の油の化合物1を得た(50g、55%)。更なる精製をせずに、生成物を使用した。
400mlのアセトンを溶媒とした中のメタンチオアミド1(13g、0.21mol)および1,3−ジクロロアセトン(12.6g、0.1mol)の懸濁物を、75℃で5時間加熱した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で濃縮した。そして、クロマトグラフィーカラム(PE/EA、25/1)によって残渣を精製して、2を得た(10.76g、84%)。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ4.62(s,2H);7.30(s,1H);8.90(s,1H).
50mlのエタノールを溶媒とした中の4−(クロロメチル)チアゾール2(5.11g、38.4mmol)およびチオ尿素(2.9g、38.4mmol)の溶液を、2時間から3時間還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去し、黄色の油を得た。粗生成物をアセトンから結晶化して、化合物3を得た(6.16g、93%)。
30mlの混合溶剤(H2O/EtOH、2/1、v/v)を溶媒とした中チアゾール−4−イルメチルカルバムイミドチオアート3(1.5g、7.2mmol)および(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイルプロパンイミドアミド(1.46g、7.9mmol)の溶液に、8mlのNaOH(2M)を0℃未満で滴下した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認できるまで出発原料が残存しないことをTLCが示すまで、反応混合物をこの温度で2時間撹拌した。その後、溶媒を、減圧下で除去し、クロマトグラフィーカラム(DCM/MeOH、25/1)によって残渣を精製して、SR3001(600mg、46.5%)を得た。1H−NMR(CD3OD,300MHz):δ2.59(m,2H);2.59(m,2H);2.79(m,2H);3.83(s,2H);7.47(d,1H);8.96(s,1H);13C−NMR(CD3OD,75MHz):167.9,155.7,154.7,117.4,37.5,31.4,29.6.M.W:280.3;ESI−MS:303(M+Na).
1.huaxue yanjiu yu yingyong.2006,18(2),186
2.a)hubei huagong,2000,5,19−20,b)J.Heterocyclic Chem.,1986,23,577
対象化合物:
a)NaOH、エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB);
SR2239(OK−039)[1]:15mlメタノールを溶媒とした中3−((2−メチルチアゾール−4−イル)メチルチオ)プロパンイミドアミド1[2](0.5g、2.3mmol)、およびエチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタンノアート(EOPEB)(0.54g、2.3mmol)の溶液にNaOH(0.6g、15mmol)を加え、65℃で3時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、白い固体の化合物SR2239(OK−039)を得た(200mg、23%)。1H−NMR(CD3OD,300MHz):δ1.99(s,2H);2.64(s,2H);2.74(s,3H);2.85(s,3H);3.80(s,2H);7.12−7.22(m,6H);13C−NMR(CD3OD,75MHz):168.7,153.7,142.7,129.6,129.3,126.9,116.8,35.5,35.0,31.8,29.9,28.9,18.7.M.W:385.5;ESI−MS:408(M+Na).
1.a)J.Org.Chem.1989,54,1256−1264;b)J.Org.Chem.1981,46,2455−2465
2.SR2238(OK−038)に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、EtOH、還流;b)チオ尿素、EtOH、80℃,3時間;c)BrCH2CH2CN/NaOH;d)乾燥HClガス、MeOH/CHCl3、0℃;NH3/MeOH;d)トリフルオロメタンスルホニル塩化物、0℃;
3−((2−メチルチアゾール−4−イル)メチルチオ)プロパンニトリル3[1]:(2−メチルチアゾール−4−イル)メチルカルバムイミドチオアート2[2](2.6g、13.9mmol)および3−ブロモプロパンニトリル(1.58g、13.9mmol)の混合物を加えて、1つの溶液とした。混合物を0℃まで冷却し、NaOH(2M、35ml)を溶液に滴下し、反応混合物をこの温度で1時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物をEA(4×50ml)で抽出し、有機層を乾燥させ、ろ過した。溶媒を濃縮して、油生成物を得た。そして、純粋でない生成物粗精製物にをエタノールを加えてから結晶化して、化合物3を得た(1.5g、54.5%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.70(m,2H);2.74(m,2H);2.82(s,3H);3.70(s,2H);7.04(s,1H).
1.huaxue yanjiu yu yingyong,2006,18(2),186−188
2.SR2228(OK−028)に関する実施例の中で示される詳細な合成法
3.a)hubei huagong,2000,5,19−20;b)J.Heterocyclic Chem.,1986,23,577
4.a)J.Org.Chem.1989,54,1256−1264;b)J.Org.Chem.1981,46,2455−2465
対象化合物:
a)CH2ClCOCH2Cl、EtOH、還流;b)チオ尿素、EtOH、80℃、3時間;c)(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイルプロパンイミドアミド
NaOH;
4−(クロロメチル)−2−メチルチアゾール1[1]:150ml EtOHを溶媒とした中エタンチオアミド(15g、0.2mol)、および1,3−ジクロロプロパン−2−オン(25.4g、0.2mol)の溶液を、10時間還流した。出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。残渣をアセトンからを加えて結晶化して、化合物1を得た(14.7g、50%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.85(s,1H);4.70(s,2H);7.04(s,1H).
1.huaxue yanjiu yu yingyong.2006,18(2),186
2.a)hubei huagong,2000,5,19−20,b)J.Heterocyclic Chem.,1986,23,577
対象化合物:
a)NH3、THF、1.5時間;b)(CH3)2SO4、H2O;c)CH2ClCOCH2Cl、エタノール、3時間;d)チオ尿素、エタノール、80℃、5時間;e)BrCH2CH2CN/NaOH;f)乾燥HClガス、EtOH/CHCl3、0℃;NH3/MeOH;g)トリフルオロメタンスルホニル塩化物、クロロホルム、0℃、5時間
アンモニウムカルバモジチオアート2[1]:アンモニアガスを、70mlの乾燥無水THFを溶媒とした中CS2溶液(8ml、0.13mol)に注入し、このとき、温度を40〜50℃に上昇させた。1.5時間後、温度を室温に冷却した。その後、溶媒を減圧下で除去し、また、残渣を50mlの水に溶解させた。この溶液に、硫酸ジメチル(11ml、116mmol)を室温で滴下した。40分撹拌した後、10mlの水酸化アンモニウムを混合物へ加えた。反応混合物をさらに15分撹拌した。次に、混合物をDCM(3×20ml)で抽出した。有機相をMgSO4で乾燥させ、濃縮させて、生成物2(10g、71%)を得た。更なる精製をせずに、生成物を使用した。
1.Synthesis Communications,1985,948
2.huaxue yanjiu yu yingyong,2006,18(2),186
3.a)hubei huagong,2000,5,19;b)J.Heterocyclic Chem.,1986,23,577;c)J.Org.Chem.1989,54,1256−1264
4.J.Org.Chem.1981,46,2455
5.US4362736A
対象化合物:
a)NH3、THF、1.5時間;b)(CH3)2SO4、H2O;c)CH2ClCOCH2Cl、エタノール、3時間;d)チオ尿素、エタノール、80℃、5時間;e)(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイルプロパンイミドアミド、NaOH
(2−(メチルチオ)チアゾール−4−イル)メチルカルバムイミドチオアート塩酸塩4[1]:4−(クロロメチル)−2−(メチルチオ)チアゾール3[2](2.0g、11mmol)およびチオ尿素(0.9g、12mmol)を、60mlのエタノールに溶解させた。次に、混合物を5時間還流した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物を冷却しろ過した。固体を収集し、エタノール(3×20ml)で洗浄して生成物4(2g、71%)を得た。
30mlの混合溶剤(H2O/EtOH、2/1、v/v)を溶媒とした中、化合物4(2.0g、7.8mmol)および(Z)−3−クロロ−N’−スルファモイルプロパンイミドアミド(1.6g、9.1mmol)の溶液を、0℃まで冷却した。次に、20mlのNaOH(2M)を溶液に滴下した。反応混合物をこの温度で2時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を除去し、粗生成物を得た。クロマトグラフィーカラム(DCM/MeOH、25/1)によって残渣を精製して、SR2227(OK−027)(0.95g、38%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.65(m,2H);3.42(s,3H);3.59(s,2H);3.78(s,2H);6.23(s,1H);6.51(s,1H);7.33(s,1H);7.38(s,1H);8.26(s,1H).13C−NMR(d6−DMSO,75MHz):166.1,165.0,153.5,115.6,36.2,30.5,28.0,16.3;M.W.:326.4;ESI−MS:327(M+H).
1.huaxue yanjiu yu yingyong.2006,18(2),186
2.SR3012に関する実施例の中で示される詳細な合成法
3.a)hubei huagong,2000,5,19−20,b)J.Heterocyclic Chem.,1986,23,577
対象化合物:
a)Ac2O、HNO3、2時間、−30℃;b)NaBH4、THF/H2O、室温、30分;c)SOCl2、室温;d)Et3N;e)MeOH、DCM、乾燥HClガス、室温;f)MeOH、NH4Cl、室温、12時間;g)NaOH、45℃
5−ニトロフラン−2−カルバルデヒド(2)[1][2]
13mLの硝酸(68%)を、83mlの無水酢酸に15〜25℃の間でゆっくり加え、迅速に撹拌した。添加が完了した後、ニトロ化試薬を、−30℃まで前もって冷却した無水酢酸(100ml)を溶媒とした中5−ニトロフランフラン−2−カルバルデヒド(1)(9.6g、0.1mol)の溶液にゆっくりと加えた。出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物を氷水に注ぎ込み、エチルアセテートで抽出した。有機層を乾燥させ、クロマトグラフィー(PE/DCM、3/1)によって精製して、化合物2(3.1g、22%)を得た。
30mlのTHFを溶媒とした中の化合物2(4.24g、0.03mol)の溶液を、室温で撹拌した。その後、NaBH4(0.3g、0.06mol)を数回加えた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物を30mlの水に注ぎ込み、DCMで抽出した。有機層を真空中で乾燥除去して、化合物3を得た(3.5g、81.5%)。
5mLのSOCl2を溶媒とした中化合物3(3.5g、25mmol)の溶液を、室温で撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶液に氷を加えた。DCMで抽出し、次に有機層を真空中で乾燥除去した。クロマトグラフィー(PE/DCM、10/1)によって残渣を精製して、化合物4(2.8g、71%)を得た。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ4.598(s,2H);6.628(d,1H);7.280(d,1H).
NaOH溶液(11.3M、1.71g/5.6mLのH2O)を、内部温度を25℃未満に維持しつつ、窒素雰囲気下、40mlLのH2Oを溶媒とした中2−シアノエチルカルバムイミドチオアートの溶液(4g、0.031mol)にゆっくり注入した。反応液を45℃で45分間加熱し、次に、20℃まで冷却した。その後、pHが6になるまで、6MのH2SO4溶液を窒素下でゆっくりと加えた。その混合物はインジェクタによる窒素下のジクロロメタンで抽出された。
化合物7を、窒素雰囲気下で、0℃で化合物4(1.6g、10mmol)の溶液に注入した。次に、1.1gのEt3Nを加えた。反応混合物を0℃で1時間撹拌し、室温でもう1時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(PE/EA、120/1)によって残渣を精製して、化合物5を得た(68g、32%)。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ2.681(t,2H);2.900(t,1H);3.881(s,2H);6.527(d,1H);7.278(d,1H).
無水メタノール/ジクロロメタン(1ml/5ml)を溶媒とした中化合物5(0.58g、2.7mmol)の溶液を、0〜10℃に冷却し、次いで、乾燥HClガスを、この温度下で6時間バブリングした。過剰の炭酸カリウム(0.6g)を含む氷冷水に、反応混合物を加えることによって、遊離イミダートを得た。溶液を(DCM:MeOH=3:1)によって抽出した。有機層をMgSO4で乾燥し、次いで、溶液を真空中で除去して、化合物6を得た(0.59g、88%)。
5mlの乾燥無水メタノールを溶媒とした中化合物6(0.59g、0.0024mol)およびNH4Cl(0.56g、3.6mmol)の混合物を、窒素雰囲気下で、室温で12時間撹拌した。出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/メタノール、20/1)によって残渣を精製して、化合物SR2233(OK−033)を得た。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ2.799(t,2H);2.856(t,2H);4.083(s,2H);6.912(d,1H);7.669(d,1H);8.903(s,2H);9.384(s,2H).M.W.:229;ESI−MS:230(M+H).
1.JACS,82,3588−3598,1960
2.JACS,11,282−285,1968
3.Organic Syntheses,Coll.Vol.10,p.234(2004);Vol.77,p.186(2000)
対象化合物:
a)Ac2O、HNO3、2時間、−30℃;b)i:Na、EtOH、THF、室温、20分、ii:塩化ベンジル、DMF、90℃、36時間;c)NaBH4、THF/H2O、室温、30分;d)SOCl2、室温;e)i:2−シアノエチルカルバムイミドチオアート、NaOH、45℃、ii:Et3N;f)MeOH、DCM、乾燥HClガス、−10℃;g)MeOH、NH4Cl、室温、12時間
5−ニトロ−1H−ピロール−2−カルバルデヒド(2)[1][2]:
19mLの硝酸(68%)を、126mlの無水酢酸に15〜25℃の間でゆっくり加え、迅速に撹拌した。添加が完了した後、ニトロ化試薬を、−30℃まで前もって冷却した無水酢酸(150ml)を溶媒とした中1H−ピロール−2−カルバルデヒド(1)(15g、0.158mol)の溶液にゆっくりと加えた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物を氷水に注ぎ込み、エチルアセテートで抽出した。有機層を真空中で乾燥除去した。クロマトグラフィー(PE/DCM、3/1)によって残渣を精製して、化合物2(4.6g、21%)を得た。1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ6.98(d,1H);7.14(d,1H);9.78(s,1H).
5−ニトロ−1H−ピロール−2−カルバルデヒドのナトリウム塩を、83.5mlの乾燥無水THFを溶媒とした中の49mmolのNaOEt(1.13gのナトリウムおよび50mLのEtOH)および4.6g(33mmol)の5−ニトロ−1H−ピロール−2−カルバルデヒド(2)から調製した。反応を、室温で20分間進行(proseed)させ、乾燥ナトリウム(sodim)塩を、65℃、真空中で溶媒を除去することによって、単離した。80mLのDMFを溶媒とした中の塩を、41mlのDMFを溶媒とした中の8.3gの塩化ベンジル(66mmol)で急速に処理した。その混合物をN2下で、90℃で21時間加熱した。DMFを、減圧下で除去し、そして、クロマトグラフィー(PE/EA、100/1)によって精製した残渣を得、それにより、化合物3(4.5g、60%)を得た。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ6.16(s,2H);6.99(d,2H);7.18(d,2H);7.19(d,1H);7.27(m,1H);7.33(d,1H);9.83(s,1H).
NaBH4(0.69g、0.018mol)を、THF/H2O(40mL/20mL)を溶媒とした中の化合物3(3.44g、0.015mol)の溶液に室温で加えた。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物を20mlの水に注ぎ込み、エチルアセテートで抽出した。有機層を真空中で乾燥除去して、粗化合物4を得た(3.48g)。得られた化合物を、更なる精製なしに、次の工程で使用した。M.W.:232;ESI−MS:233.1(M+H),255.1(M+Na).
15mlのSOCl2を溶媒とした中の化合物4(3.48g、0.015mol)の溶液を、室温で撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、混合物を氷水に注ぎ込み、エチルアセテートで抽出した。溶媒を、減圧下で除去し、クロマトグラフィー(PE/EA、120/1)によって残渣を精製して、化合物5(2.04g、2つの工程の収率55%)を得た。1H−NMR(CDCl3,200MHz):δ4.50(s,2H);5.77(s,2H);6.98(d,1H);6.99(d,1H);7.25−7.35(m,5H).
3−メルカプトプロパンニトリル[4]を、窒素雰囲気下で、0℃で化合物5(2.34g、9mmol)の溶液に注入した。次に、1.04gのEt3Nを加えた。反応化合物を、0℃で1時間撹拌し、その後、室温で一晩撹拌した。溶媒を、減圧下で除去し、そして、クロマトグラフィー(PE/EA、120/1)によって精製した残渣を得、それにより、化合物6(2.58g、92%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.70(t,4H);3.74(s,2H);5.78(s,2H);6.27(d,1H);6.95(d,1H);7.26−7.33(m,5H).
無水メタノール/ジクロロメタン(1ml/18ml)を溶媒とした中化合物6(1.66g、0.0055mol)の溶液を、0〜10℃に冷却し、次いで、乾燥HClガスを、この温度下で6時間バブリングした。その後、溶媒を減圧下で除去し、混合物を、氷で冷却したK2CO3水溶液へ加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層をMgSO4で乾燥させ、真空中で乾燥するまで蒸発させ、化合物7(1.84g)を得た。更なる精製をせずに、得られた化合物を次の工程で使用した。
30mlの乾燥メタノールを溶媒とした中の化合物7(1.84g、5.5mmol)およびNH4Cl(0.885g、16.5mmol)の混合物を、窒素雰囲気下で、室温で12時間撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(DCM/MeOH、50/1)によって残渣を精製して、化合物SR2234(OK−034)を得た(0.948g、2つの工程54%)。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ2.75(t,4H);3.98(s,2H);5.67(s,2H);6.52(d,1H);6.92(d,1H);6.95−7.36(m,5H),8.77(s,1H),9.19(s,2H).M.W.:318;ESI−MS:319.1(M+H)
1.JACS,82,3588−3598,1960
2.JACS,11,282−285,1968
3.Organic Syntheses,Coll.Vol.10,p.234(2004);Vol.77,p.186(2000)
4.SR2233(OK−033)に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)エチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB)、Na、MeOH
SR2235(OK−035):
(ナトリウム0.036gおよびMeOH6.2mLからの)6.2mlLのNaOMe/MeOHを溶媒とした中、SR2234(OK−034)[1](0.5g、1.6mmol)およびエチル3−オキソ−2−(2−フェニルエチル)ブタノアート(EOPEB)(0.368g、1.6mmol)の溶液を、窒素雰囲気下、室温で一晩撹拌した。出発物質の消失を薄層クロマトグラフィー(TLC)により確認した後出発原料が残存しないことをTLCが示したら、溶媒を減圧下で除去した。そして、クロマトグラフィー(PE/DCM、3/1)によって残渣を精製して、化合物SR2235(OK−035)を得た(128mg、17%)。1H−NMR(CDCl3,300MHz):δ2.16(s,3H);2.77(t,2H);2.84(t,2H);2.94(t,2H);3.48(t,2H);3.70(s,2H);6.26(d,1H);6.88(d,1H);7.15−7.26(m,10H).M.W.:487.6;ESI−MS:489.2(M+H).
1.SR2023に関する実施例の中で示される詳細な合成法
対象化合物:
a)ベンジルアミン、170℃、3時間;b)4−クロロブチロニトリル、AgCO3、DMF、還流、3時間;c)乾燥HClガス、MeOH/DCM、0〜5℃;d)NH4Cl、MeOH、室温;e)DCM/アセトニトリル、トリフルオロメタンスルホニル塩化物、Et3N、0〜5℃
4−(ベンジルアミノ)ピリジン−2−オール(2)[1]:ベンジルアミン(460ml、4.05mol)を溶媒とした中の化合物1(50g、0.45mol)の溶液を、170℃で3時間還流した。次に、溶媒を減圧下で除去し、残渣を水で洗浄して化合物2(45g、50%)を得た。1H−NMR(d6−DMSO,300MHz):δ4.21(s,2H);5.03(s,1H);5.74(d,1H);6.98(d,1H);7.10(s,1H);7.25−7.35(m,5H).M.W.:200;ESI−MS:201(M+H).
DMFを溶媒とした中化合物2(1g、5mmol)、4−クロロブチロニトリル(1.03g、10mmol)、およびAgCO3(2.7g、10mol)の溶液を、150℃で3時間撹拌し、次いで、溶媒を減圧下で除去した。そして、残渣をPE/EA=1/1から結晶化して、化合物3を得た(0.4g、30%)。1H−NMR(CDCl3、300MHz):δ2.09(m,2H);2.51(t,2H);4.33(m,4H);4.50(br,1H);5.86(d,1H);6.17(m,1H);7.29−7.36(m,5H);7.76(d,1H).M.W.:267;ESI−MS:268(M+H).
1.Synthesis;English;9;1984;765−766
2.Synthesis,(16),2725−2728;2009
3.Journal of Medicinal Chemistry;English;30;10;1987;1787−1793
4.US4362736
“OCT3阻害剤の投与により,自発運動活性が亢進し,見かけ上無動行動が抑制されている(抗うつ作用がない)”という可能性を排除するため,先行文献(Kitaichi. et al, Neurosci Lett. 2005 Jul 1-8;382(1-2):195-200)と同様にして,OCT3阻害剤の投与前後の自発運動活性を測定する。
Claims (3)
- 下記式(a)で示される部分を含む化合物,その薬学的に許容される塩,又はその薬学的に許容される溶媒和物を有効成分として含む有機カチオントランスポーター3の活性阻害剤。
(式(a)中,R 2 は下記式(II),式(III),又は式(IV)で示される基であり,式(II),式(III),及び式(IV)において,記号(*)はR 2 に隣接する窒素原子との結合部分を示し,
前記式(a)で示される部分を含む化合物は,下記式SR-2076,SR-2065,SR-2073,SR-2066,SR-2069,SR-2045,SR-2219,SR-2023,SR-2229,SR-2036,SR-2022,SR-2230,SR-2051,SR-3137,SR-2216,SR-3203,SR-2203,SR-2225,SR-2226,SR-2068,SR-2071,SR-2072,SR-2075,SR-3131,SR-3123,及びSR-2232のいずれかの構造を有する。
- 請求項1記載の有機カチオントランスポーター3の活性阻害剤を有効成分として含む有機カチオントランスポーター3の検出剤。
- 請求項1記載の有機カチオントランスポーター3の活性阻害剤を有効成分として含む,うつ病及びうつ様症状の治療剤であって,前記うつ病及びうつ様症状は,身体的抑うつ,単極性うつ,心因性機能的疾患,非定形うつ,気分変調症,双極性感情病,季節性うつ,持続性気分障害を含むうつ病及びうつ様症状の治療剤。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013139807 | 2013-07-03 | ||
JP2013139807 | 2013-07-03 | ||
PCT/JP2014/067441 WO2015002150A1 (ja) | 2013-07-03 | 2014-06-30 | 新規化合物,有機カチオントランスポーター3の検出剤及び活性阻害剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2015002150A1 JPWO2015002150A1 (ja) | 2017-02-23 |
JP6378179B2 true JP6378179B2 (ja) | 2018-08-22 |
Family
ID=52143725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015525210A Active JP6378179B2 (ja) | 2013-07-03 | 2014-06-30 | 新規化合物,有機カチオントランスポーター3の検出剤及び活性阻害剤 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9745274B2 (ja) |
EP (1) | EP3018125B1 (ja) |
JP (1) | JP6378179B2 (ja) |
WO (1) | WO2015002150A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106117160B (zh) * | 2016-08-26 | 2019-02-05 | 浙江野风药业股份有限公司 | 一种3-[(2-胍基-4-噻唑)甲基硫基]丙亚氨酸甲酯的制备方法 |
KR102622644B1 (ko) | 2017-10-04 | 2024-01-10 | 바이엘 악티엔게젤샤프트 | 해충 방제제로서의 헤테로시클릭 화합물의 유도체 |
ES2925914T3 (es) | 2018-03-12 | 2022-10-20 | Bayer Ag | Derivados heterocíclicos condensados como plaguicidas |
AU2019254499A1 (en) | 2018-04-20 | 2020-12-03 | Bayer Aktiengesellschaft | Heterocyclene derivatives as pest control agents |
CN110835314A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-02-25 | 孟宪锋 | 硫代甲酰胺及其制备方法和应用 |
CN110845378A (zh) * | 2019-11-25 | 2020-02-28 | 孟宪锋 | 硫代甲酰胺及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GR62452B (en) | 1977-04-20 | 1979-04-12 | Ici Ltd | Preparation process of guanidine derivatives |
PH16099A (en) | 1979-03-06 | 1983-06-24 | Yamanouchi Pharma Co Ltd | Guanidinothiazole compounds,process for preparing them and medical composition containing them |
JPS6056143B2 (ja) * | 1979-08-02 | 1985-12-09 | 山之内製薬株式会社 | アミジン誘導体ならびにその製造法 |
JPS55118476A (en) | 1979-03-06 | 1980-09-11 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | Novel amidine derivative and its preparation |
JPS56122368A (en) * | 1980-02-29 | 1981-09-25 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | Guanidinothiazole compound and its preparation |
JPS5754177A (ja) | 1980-09-19 | 1982-03-31 | Teikoku Hormone Mfg Co Ltd | Chikanchiazoorujudotai |
ZA821307B (en) | 1981-03-18 | 1983-01-26 | Ici Plc | Heterocyclic derivatives |
JPS58140088A (ja) | 1982-02-15 | 1983-08-19 | Yamanouchi Pharmaceut Co Ltd | 新規なピリミジン誘導体及びその製造法 |
JPS5942361A (ja) * | 1982-09-03 | 1984-03-08 | Toa Eiyou Kagaku Kogyo Kk | 新規チオエ−テル誘導体 |
JP2779403B2 (ja) | 1988-11-29 | 1998-07-23 | 日本バイエルアグロケム株式会社 | 殺虫性ニトロ化合物 |
JP2546003B2 (ja) | 1988-12-27 | 1996-10-23 | 武田薬品工業株式会社 | グアニジン誘導体、その製造法及び殺虫剤 |
JPH0674249B2 (ja) | 1990-04-05 | 1994-09-21 | アグロカネショウ株式会社 | 置換ニトログアニジン類の製造法 |
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WO2009134877A2 (en) | 2008-04-29 | 2009-11-05 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Therapeutics for treatment resistant mental disorders |
-
2014
- 2014-06-30 JP JP2015525210A patent/JP6378179B2/ja active Active
- 2014-06-30 EP EP14819450.9A patent/EP3018125B1/en active Active
- 2014-06-30 US US14/902,005 patent/US9745274B2/en active Active
- 2014-06-30 WO PCT/JP2014/067441 patent/WO2015002150A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3018125A4 (en) | 2016-11-30 |
EP3018125A1 (en) | 2016-05-11 |
WO2015002150A1 (ja) | 2015-01-08 |
US20160318886A1 (en) | 2016-11-03 |
EP3018125B1 (en) | 2020-08-05 |
JPWO2015002150A1 (ja) | 2017-02-23 |
US9745274B2 (en) | 2017-08-29 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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