JP6365062B2 - 露光装置および露光方法 - Google Patents
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Description
本適用例の露光装置は、被露光物を保持する保持部と、
前記被露光物の第1主面側に位置し、第1方向に走査する第1露光光を前記被露光物に入射する第1露光光入射部と、
前記被露光物の前記第1主面の反対側である第2主面側に位置し、第2方向に走査する第2露光光を前記被露光物に入射する第2露光光入射部と、
前記保持部、前記第1露光光入射部、および前記第2露光光入射部を、前記第1方向と前記第2方向に交差する第3方向に相対的に移動させる移動手段と、を有し、
前記第1露光光は、前記第1主面の法線方向に対して前記第3方向の一方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、
前記第2露光光は、前記第2主面の法線方向に対して前記第3方向の他方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、
前記第3方向は、前記第1露光光および前記第2露光光に対する前記被露光物の傾きに沿った方向であることを特徴とする。
これにより、より多くの面を同時(同一工程中)に露光することができ、効率的な露光が可能な露光装置を提供することができる。
本適用例の露光装置では、前記被露光物は、前記第1主面と前記第2主面に接続する側面を有し、
前記第1露光光によって、前記第1主面と前記側面の第1部分が露光され、
前記第2露光光によって、前記第2主面と前記側面の第2部分が露光されることが好ましい。
これにより、より多くの面を同時に露光することができる。
本適用例の露光装置では、前記第1部分と前記第2部分の少なくとも一方には、互いに法線方向が異なる複数の面が含まれていることが好ましい。
これにより、さらに多くの面を同時に露光することができる。
本適用例の露光装置では、前記第2方向は、前記第1方向に沿っていることが好ましい。
このように、第1露光光の走査方向と第2露光光の操作方法とを合わせることで、例えば、露光パターンを決定するプログラム等の作成が容易となる。
本適用例の露光装置では、前記第1露光光の走査中心軸と前記第2露光光の走査中心軸は、同一直線上に沿っていることが好ましい。
このように設定することで、第1露光光および第2露光光の光軸の調整を行い易くなる。
本適用例の露光装置では、前記第1露光光と前記第2露光光の少なくとも一方の前記入射角を調整することができる入射角調整手段を有することが好ましい。
これにより、より精度よく被露光基板を露光することができる。
本適用例の露光方法は、第1方向に走査する第1露光光を被露光物の第1主面側から入射し、第2方向に走査する第2露光光を前記第1主面の反対側である第2主面側から入射し、前記第1露光光および前記第2露光光の入射位置を前記第1方向と前記第2方向に交差する第3方向に移動させることで、前記被露光物を露光する工程を含み、
前記工程では、前記第1露光光は、前記第1主面の法線方向に対して前記第3方向の一方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、前記第2露光光は、前記第2主面の法線方向に対して前記第3方向の他方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、
前記第3方向は、前記第1露光光および前記第2露光光に対する前記被露光物の傾きに沿った方向であることを特徴とする。
これにより、より多くの面を同時(同一工程中)に露光することができ、効率的な露光が可能となる。
本適用例の露光方法では、前記被露光物は、前記第1主面と前記第2主面に接続する側面を有し、
前記第1露光光は、前記第1主面と前記側面の第1部分を露光し、
前記第2露光光は、前記第2主面と前記側面の第2部分を露光することが好ましい。
これにより、より多くの面を同時に露光することができる。
まず、本発明の露光方法および露光装置の第1実施形態について説明する。
図1に示す露光装置100は、被露光基板(被露光物)200を露光するのに用いられる露光装置である。このような露光装置100は、保持した被露光基板200を移動させる保持ユニット110と、被露光基板200に対して、表面(第1主面)側からレーザー光(露光光)LL1を入射する第1露光光入射ユニット(第1露光光入射部)120Aと、被露光基板200に対して裏面(第2主面)側からレーザー光(露光光)LL2を入射する第2露光光入射ユニット(第2露光光入射部)120Bと、を有しており、被露光基板200を表面側および裏面側から同時に露光することのできる両面露光型の露光装置である。
第1露光光入射ユニット120Aは、レーザー光LL1を出射するレーザー光源130Aと、レーザー光源130Aの駆動を制御するレーザー光源制御部140Aと、レーザー光LL1を光学補正する光学レンズ系150Aと、レーザー光LLを走査するポリゴンミラー160Aと、ミラー170Aと、を有している。
第2露光光入射ユニット120Bは、レーザー光LL2を出射するレーザー光源130Bと、レーザー光源130Bの駆動を制御するレーザー光源制御部140Bと、レーザー光LL2を光学補正する光学レンズ系150Bと、レーザー光LL2を走査するポリゴンミラー160Bと、ミラー170Bと、を有している。このような第2露光光入射ユニット120Bは、上述した第1露光光入射ユニット120Aと同様の構成である。そのため、第2露光光入射ユニット120Bの詳細な説明は、省略する。
保持ユニット110は、被露光基板200を保持した状態で、レーザー光LL1、LL2の走査方向(主走査方向)に交差(直交)する方向(第3方向。副走査方向)に移動することができる。したがって、保持ユニット110を副走査方向に移動させつつ、レーザー光LL1、LL2を主走査方向に走査することで、保持ユニット110に保持された被露光基板200に対して2次元的にレーザー光LL1、LL2が入射し、これにより、被露光基板200を所定パターンで露光することができる。
次に、露光装置100を用いた被露光基板200の露光方法について説明する。
このような被露光基板200は、露光装置100によって次のように露光される。
被露光基板200の露光方法は、レーザー光LL1によって表面201および側面203上のレジスト膜Rを露光し、レーザー光LL2によって裏面202および側面205上のレジスト膜Rを露光する第1露光工程と、レーザー光LL1によって側面204上のレジスト膜Rを露光し、レーザー光LL2によって側面206上のレジスト膜Rを露光する第2露光工程と、を含んでいる。
まず、被露光基板200を用意し、用意した被露光基板200を保持ユニット110で保持する。次に、必要に応じて、保持ユニット110を軸J1まわりに回転させ、側面203、205の向き合う方向(離間方向)を副走査方向と一致させる。また、必要に応じて、保持ユニット110を軸J2まわりに傾斜させて、表面201および側面203に対するレーザー光LL1の入射角θinがそれぞれ約45°(表面201と側面203のなす角θの半分。すなわちθ/2)となり、裏面202および側面205に対するレーザー光LL2の入射角θinがそれぞれ約45°(裏面202と側面205のなす角θの半分。すなわちθ/2)となるように被露光基板200の姿勢を調整する。すなわち、表面201の法線方向L201に対して副走査方向前方側(一方側)へ約45°傾斜した入射角でレーザー光LL1が被露光基板200に入射すると共に、裏面202の法線方向L202に対して副走査方向後方側(他方側)へ約45°傾斜した入射角でレーザー光LL2が被露光基板200に入射するように、被露光基板200の姿勢を調整する。
まず、第1露光工程と同様に、例えば、保持ユニット110を軸J1まわりに90°回転させて、被露光基板200の側面204、206の向き合う方向(離間方向)を副走査方向と一致させる。また、必要に応じて、保持ユニット110を軸J2まわりに傾斜させて、側面204に対するレーザー光LL1の入射角θinが約45°となり、側面206に対するレーザー光LL2の入射角θinが約45°となるように被露光基板200の姿勢を調整する。
また、被露光基板200は、次のような露光方法によっても露光することができる。被露光基板200の露光方法は、レーザー光LL1によって表面201および側面203、204上のレジスト膜Rを露光し、レーザー光LL2によって裏面202および側面205、206上のレジスト膜Rを露光する露光工程を含んでいる。
まず、被露光基板200を用意し、用意した被露光基板200を保持ユニット110で保持する。次に、必要に応じて、保持ユニット110を軸J1まわりに回転させ、例えば、側面203、204の間の角と側面205、206の間の角とを結ぶ対角線の延在方向を副走査方向と一致させる。また、必要に応じて、保持ユニット110を軸J2まわりに傾斜させて、表面201の法線方向L201に対して副走査方向前方側へ傾斜した入射角でレーザー光LL1が被露光基板200に入射し、裏面202の法線方向L202に対して副走査方向後方側へ傾斜した入射角でレーザー光LL2が被露光基板200に入射するように、被露光基板200の姿勢を調整する。
図7は、製造物の一例としての振動素子を示し、(a)が平面図、(b)が同図(a)中のB−B線断面図である。図8は、図7に示す振動素子が有する励振電極のパターニング方法を説明する断面図である。
図9は、製造物の一例としての波長可変フィルターを示す断面図である。
図10は、製造物の一例としての発光素子を示す断面図である。図11は、図10中のC−C線断面図である。
図12は、製造物の一例としてのインクジェットヘッドを示す断面図である。
図13は、製造物の一例としてのメタルマスクを有する基材を示す断面図である。図14は、図13に示すメタルマスクの製造方法を示す断面図である。
110……保持ユニット
120A……第1露光光入射ユニット
120B……第2露光光入射ユニット
130A、130B……レーザー光源
140A、140B……レーザー光源制御部
150A、150B……光学レンズ系
151……コリメーターレンズ
152……第1ズームレンズ
153……第2ズームレンズ
154……第1シリンドリカルレンズ
155……fθレンズ
156……第2シリンドリカルレンズ
160A、160B……ポリゴンミラー
161……反射面
170A、170B……ミラー
200……被露光基板
201……表面
202……裏面
203、204、205、206……側面
210……基板
500……振動素子
510……基部
520、530……振動腕
521、531……貫通孔
541、542……励振電極
600……波長可変フィルター
610……固定基板
611……反射膜設置部
620……可動基板
621……保持部
622……可動部
630……固定反射膜
640……可動反射膜
650……静電アクチュエーター
651……固定電極
652……可動電極
653……引出配線
654……引出配線
700……発光素子
702……基板
704……第1クラッド層
706……活性層
708……第2クラッド層
709……コンタクト層
712……第1電極
714……第2電極
720……絶縁部
722……柱状部
730……光出射部
731……第1側面
732……第2側面
733……第3側面
741、742……貫通孔
750……利得領域群
751……第1利得領域
752……第2利得領域
753……第3利得領域
800……インクジェットヘッド
810……積層基板
811……ノズル基板
812……流路形成基板
813……振動板
814……リザーバー形成基板
815……コンプライアンス基板
820……圧電素子
830……配線形成部
831、832……傾斜面
833……上面
839……配線
840……ICパッケージ
890……圧力発生室
891……吐出口
900……基材
910……メタルマスク
920……シード層
930……めっき層
G1……ギャップ
I……インク
J、J1、J2……軸
L201、L202……法線方向
LL1、LL2……レーザー光
L……光
M……金属膜
R……レジスト膜
RM……レジストマスク
θin……入射角
Claims (8)
- 被露光物を保持する保持部と、
前記被露光物の第1主面側に位置し、第1方向に走査する第1露光光を前記被露光物に入射する第1露光光入射部と、
前記被露光物の前記第1主面の反対側である第2主面側に位置し、第2方向に走査する第2露光光を前記被露光物に入射する第2露光光入射部と、
前記保持部、前記第1露光光入射部、および前記第2露光光入射部を、前記第1方向と前記第2方向に交差する第3方向に相対的に移動させる移動手段と、を有し、
前記第1露光光は、前記第1主面の法線方向に対して前記第3方向の一方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、
前記第2露光光は、前記第2主面の法線方向に対して前記第3方向の他方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、
前記第3方向は、前記第1露光光および前記第2露光光に対する前記被露光物の傾きに沿った方向であることを特徴とする露光装置。 - 前記被露光物は、前記第1主面と前記第2主面に接続する側面を有し、
前記第1露光光によって、前記第1主面と前記側面の第1部分が露光され、
前記第2露光光によって、前記第2主面と前記側面の第2部分が露光される請求項1に記載の露光装置。 - 前記第1部分と前記第2部分の少なくとも一方には、互いに法線方向が異なる複数の面が含まれている請求項2に記載の露光装置。
- 前記第2方向は、前記第1方向に沿っている請求項1ないし3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1露光光の走査中心軸と前記第2露光光の走査中心軸は、同一直線上に沿っている請求項1ないし4のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記第1露光光と前記第2露光光の少なくとも一方の前記入射角を調整することができる入射角調整手段を有する請求項1ないし5のいずれか1項に記載の露光装置。
- 第1方向に走査する第1露光光を被露光物の第1主面側から入射し、第2方向に走査する第2露光光を前記第1主面の反対側である第2主面側から入射し、前記第1露光光および前記第2露光光の入射位置を前記第1方向と前記第2方向に交差する第3方向に移動させることで、前記被露光物を露光する工程を含み、
前記工程では、前記第1露光光は、前記第1主面の法線方向に対して前記第3方向の一方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、前記第2露光光は、前記第2主面の法線方向に対して前記第3方向の他方側に傾いた方向から前記被露光物に入射し、
前記第3方向は、前記第1露光光および前記第2露光光に対する前記被露光物の傾きに沿った方向であることを特徴とする露光方法。 - 前記被露光物は、前記第1主面と前記第2主面に接続する側面を有し、
前記第1露光光は、前記第1主面と前記側面の第1部分を露光し、
前記第2露光光は、前記第2主面と前記側面の第2部分を露光する請求項7に記載の露光方法。
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