JP6360051B2 - 光学距離測定システムを備えるマイクロリソグラフィー用の投影露光装置 - Google Patents
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Description
10 投影露光装置
12 レチクル
14 基板
16 露光放射線源
18 露光放射線
20 照射光学ユニット
22 投影レンズ
26 ミラー素子
27 ミラー面
28 ミラーユニット
30 距離測定システム
31 放射デバイス
32 第1の周波数コム発生器
34 第2の周波数コム発生器
35 比較放射
36 測定放射
36a 入射測定放射
36b 入射方向に平行に反射し返される測定放射
36c 進行する測定放射
36e 個々の測定放射
38 ビームスプリッター
40 基準素子
42 重ね合わせ素子
43 検知デバイス
44 プローブ素子
44a 第1の反射部
44b 第2の反射部
46 使用面
48 測定放射導入領域
50 測定放射源
130 距離測定システム
132 周波数コム発生器
140 基準素子
152 光共振器
154 共振ミラー
155 共振ミラー
156 調整可能放射源
158 入力結合放射
160 結合デバイス
162 ビームスプリッター
164 周波数測定デバイス
230 距離測定システム
231 照射デバイス
232 周波数コム発生器
236 測定放射
240 基準素子
266 レトロリフレクター
268 干渉計
Claims (22)
- 露光ビーム路を形成する複数の光学素子(M1−M6)と、
少なくとも1つの前記光学素子(M1−M6)と、基準素子(40,140,240)との間の距離を測定する距離測定システム(30,130,230)と、を備え、
前記距離測定システムは、周波数コム発生器(32,132,232)を備え、前記周波数コム発生器(32,132,232)は、コム状の周波数スペクトルで測定放射(36,236)を発生するよう構成され、
複数の前記光学素子(M1−M6)にわたって延在する測定ビーム路が形成されることを特徴とするマイクロリソグラフィー用の投影露光装置。 - 露光ビーム路を形成する複数の光学素子(M1−M6)と、
前記複数の光学素子(M1−M6)の少なくとも1つと、基準素子(40,140,240)との間の距離を測定する距離測定システム(30,130,230)と、を備え、
前記距離測定システムは、周波数コム発生器(32,132,232)を備え、前記周波数コム発生器(32,132,232)は、コム状の周波数スペクトルで測定放射(36,236)を発生するよう構成され、
測定されるべき前記少なくとも1つの光学素子(M1−M6)はプローブ素子(44)を備え、前記プローブ素子は、入射する測定放射(36a)の一部(36b)を入射方向に反射し、前記光学素子(M1−M6)のさらなる1つに前記入射する測定放射のさらなる一部(36c)を反射するよう構成されることを特徴とするマイクロリソグラフィー用の投影露光装置。 - 露光ビーム路を形成する複数の光学素子(M1−M6)と、
前記複数の光学素子(M1−M6)の少なくとも1つと、基準素子(40,140,240)との間の距離を測定する距離測定システム(30,130,230)と、を備え、
前記距離測定システムは、周波数コム発生器(32,132,232)を備え、前記周波数コム発生器(32,132,232)は、コム状の周波数スペクトルで測定放射(36,236)を発生するよう構成され、
前記露光ビーム路は、露光放射を導くよう構成され、前記測定された少なくとも1つの光学素子は、前記露光放射用のミラー面、および前記測定された少なくとも1つの光学素子の周縁部に前記ミラー面側で配置されたプローブ素子(44)を含むことを特徴とするマイクロリソグラフィー用の投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(30,130,230)は、前記光学素子の複数の測定位置について、前記少なくとも1つの光学素子(M1−M6)と前記基準素子(40,140,240)との間の距離を測定するよう構成され、
評価デバイスをさらに備え、前記評価デバイスは、前記測定から、複数の自由度で基準素子に関する光学素子の位置を決定するよう構成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(30,130,230)は、前記少なくとも1つの光学素子(M1−M6)の振動挙動をモニタするよう構成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記周波数コム発生器(32,132,232)は、パルスフェムト秒レーザーを含むことを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記周波数コム発生器(32)は、コム状の周波数コムを用いてパルス測定放射(36)を発生するよう構成され、前記距離測定システム(30)は、さらなる周波数コム発生器(34)を備え、前記周波数コム発生器(34)は、コム状の周波数スペクトルを同様に用いてパルス比較放射(35)を発生させるよう構成され、前記比較放射(35)のパルス繰り返し数は測定放射(36)のパルス繰り返し数とは異なることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項7に記載の投影露光装置において、
前記基準素子(40)は、前記測定放射(36)から基準放射を分岐するよう構成され、前記距離測定システム(30)は、さらに、
前記測定放射(36)で測定されるべき前記少なくとも1つの光学素子を照射する照射デバイス(31)と、
比較放射(35)を、前記基準放射(41)及び前記少なくとも1つの照射された光学素子(M1−M6)との相互作用後の前記測定放射(36)と重ね合わせる重ね合わせ素子(42)と、
前記重ね合わせの時間的な強度プロファイルを記録し、前記照射された素子(M1−M6)と前記基準素子(40)との間の距離を決定するよう構成される検知デバイス(43)と、を備える投影露光装置。 - 請求項8に記載の投影露光装置において、
前記検知デバイス(43)は、さらに、前記基準放射(41)と、前記測定放射(36)との間の伝播時間の差を決定し、そこから前記照射された素子(M1−M6)と前記基準素子(40)との間の前記距離の概略値を決定するよう構成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1に記載の投影露光装置において、
前記測定ビーム路は、作用を受けた各光学素子で、測定放射(36)の各部分(36b)が前記距離測定システム(30)の方に反射し返されるよう、複数の前記光学素子(M1−M6)にわたって延在することを特徴とする投影露光装置。 - 請求項2又は3に記載の投影露光装置において、
作用を受けた各光学素子で、測定放射(36)の各部分(36b)が前記距離測定システム(30)の方に反射し返されるよう、複数の前記光学素子(M1−M6)にわたって延在する測定ビーム路が形成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1または3に記載の投影露光装置において、
測定される前記少なくとも1つの光学素子(M1−M6)はプローブ素子(44)を備え、前記プローブ素子は、入射する測定放射(36a)の一部(36b)を入射方向に反射し、前記光学素子(M1−M6)のさらなる1つに入射する測定放射のさらなる一部(36c)を反射するよう構成された投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(30)は、複数の測定照射源(50)を有する照射デバイスをさらに備え、個々の前記測定照射源(50)は、異なる位置でそれぞれ前記測定放射(36)を用いて、測定される前記少なくとも1つの光学素子(M1−M6)を照射するよう配置されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(130)は、前記基準素子(140)と測定される前記光学素子(M)との間に配置された光共振器(152)を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項14に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(130)は、波長調整可能な放射源(156)、及び結合デバイス(160)を備え、前記結合デバイスは、前記調整可能な放射源(156)の光周波数を、前記光共振器(152)の共振周波数に結合するよう構成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項15に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(130)は、周波数測定デバイス(164)をさらに備え、前記周波数測定デバイス(164)は、前記周波数コム発生器(132)を備え、前記調整可能な放射源(156)の光周波数を測定するよう構成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(230)は、
少なくとも2つの、コム状の周波数スペクトルの光学周波数を有する測定放射(236)で測定されるべき前記少なくとも1つの光学素子に照射する照射デバイス(231)と、
多波長干渉計によって測定されるべき前記光学素子との相互作用後に前記測定放射(236)を評価するよう構成されている干渉計(268)と、を備えることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項17に記載の投影露光装置において、
前記距離測定システム(230)は、波長走査干渉法を行うよう構成されることを特徴とする投影露光装置。 - 請求項1乃至3のいずれか一項に記載の投影露光装置において、
EUV照射を用いて動作するよう構成されることを特徴とする投影露光装置。 - 露光ビーム路を形成する複数の光学素子(M1−M6)を備えるマイクロリソグラフィー用の投影露光装置(10)における距離測定方法において、
コム状の周波数スペクトルを用いて測定放射(36,136)を発生させるステップと、
前記コム状の周波数スペクトルでの放射(36,136)を用いて前記投影露光装置(10)における、少なくとも1つの前記光学素子(M1−M6)と基準素子(40,140,240)との間の距離を、複数の前記光学素子(M1−M6)にわたって延在する測定ビーム路を形成することによって測定するステップと、を含む距離測定方法。 - 露光ビーム路を形成する複数の光学素子(M1−M6)と、基準素子(40,140,240)と、少なくとも1つの前記光学素子(M1−M6)と基準素子(40,140,240)との間の距離を測定する距離測定システム(30,130,230)とを備えるマイクロリソグラフィー用の投影露光装置(10)における距離測定方法において、
コム状の周波数スペクトルを用いて測定放射(36,136)を発生するステップと、
入射する測定放射(36a)の一部(36b)を入射方向に反射するステップと、
前記光学素子(M1−M6)のさらなる1つに前記入射する測定放射のさらなる一部(36c)を反射するステップと、
前記コム状の周波数スペクトルでの放射(36,136)を用いて前記投影露光装置(10)における、少なくとも1つの前記光学素子(M1−M6)と基準素子(40,140,240)との間の距離を測定するステップと、を含む距離測定方法。 - 露光ビーム路を形成する複数の光学素子(M1−M6)を備えるマイクロリソグラフィー用の投影露光装置(10)における距離測定方法において、
コム状の周波数スペクトルを用いて測定放射(36,136)を発生するステップと、
前記コム状の周波数スペクトルでの放射(36,136)を用いて前記投影露光装置(10)における、少なくとも1つの前記光学素子(M1−M6)と基準素子(40,140,240)との間の距離を測定するステップと、を含み、
前記測定された少なくとも1つの光学素子は、露光放射線用のミラー面、および前記測定された少なくとも1つの光学素子の周縁部に前記ミラー面側で配置されたプローブ素子(44)を有する距離測定方法。
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