JP6355515B2 - 光照射装置及び光照射方法 - Google Patents
光照射装置及び光照射方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6355515B2 JP6355515B2 JP2014206373A JP2014206373A JP6355515B2 JP 6355515 B2 JP6355515 B2 JP 6355515B2 JP 2014206373 A JP2014206373 A JP 2014206373A JP 2014206373 A JP2014206373 A JP 2014206373A JP 6355515 B2 JP6355515 B2 JP 6355515B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- pattern
- phase
- reference point
- bessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 24
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 claims description 20
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 29
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 15
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 238000000572 ellipsometry Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Description
図10及び図11は、上記実施形態の第1変形例を示す図である。図10(a)は第1パターンを示しており、図10(b)はこの第1パターンによって実現されるベッセル光Lbの照射領域P1を示している。また、図11(a)は第1パターンと第2パターンとが重畳された位相パターンを示しており、図11(b)はこの位相パターンによって実現されるベッセル光Lbの照射領域P2と上記照射領域P1との位置関係を示している。
図12は、上記実施形態の第2変形例を示す図である。本変形例のベッセル光照射装置1Bは、上述した実施形態のベッセル光照射装置1Aの構成に加えて、高屈折率媒体(固浸レンズ)40を更に備えている。高屈折率媒体40は、円錐状の側面41と、平坦な底面42とを有する。そして、高屈折率媒体40は、その中心軸線が対物レンズ30の光軸32と一致するように、対物レンズ30と対象物Bとの間に配置される。側面41はベッセル光Lbの進行方向(図中の矢印A3)に対して垂直であり、ベッセル光Lbの進行方向A3と底面42の法線との成す角θは、底面42に接する媒質(例えば対象物B)と高屈折率媒体40との屈折率差によって規定される全反射臨界角よりも大きい。従って、側面41から入射し、底面42に達したベッセル光Lbは、底面42において全反射される。本変形例のように、対物レンズ30と対象物Bとの間に高屈折率媒体40が配置されることにより、ベッセル光照射装置1Bを全反射照明装置として適用することができる。
Claims (6)
- ベッセル光を対象物に照射する装置であって、
光を出力する光源と、
前記光を変調して変調光を出力する位相変調型の空間光変調器と、
前記変調光を前記ベッセル光に変換して前記対象物に照射する対物レンズと、
を備え、
前記対物レンズがフーリエ変換レンズであり、
前記空間光変調器に呈示される位相パターンが、
或る基準点周りに回転対称な位相分布を有することにより前記対物レンズの瞳面に前記変調光を集束させる第1パターンと、
前記第1パターンに重畳され、前記基準点から延びる放射方向において位相値が一定であり、前記基準点を中心とする周方向において連続的な位相変化を有する第2パターンと、
を含む、光照射装置。 - 前記第1パターンがトロイダルパターンである、請求項1に記載の光照射装置。
- 前記位相パターンが前記基準点を複数含んでおり、
前記第2パターンにおいて、各基準点を中心とする位相変化は各基準点毎に個別に設定されている、請求項1または2に記載の光照射装置。 - ベッセル光を対象物に照射する方法であって、
位相変調型の空間光変調器を用いて、光を変調して変調光を出力するステップと、
フーリエ変換レンズである対物レンズを用いて、前記変調光を前記ベッセル光に変換して前記対象物に照射するステップと、を備え、
前記空間光変調器に呈示される位相パターンが、
或る基準点周りに回転対称な位相分布を有することにより前記対物レンズの瞳面に前記変調光を集束させる第1パターンと、
前記第1パターンに重畳され、前記基準点から延びる放射方向において位相値が一定であり、前記基準点を中心とする周方向において連続的な位相変化を有する第2パターンと、
を含む、光照射方法。 - 前記第1パターンがトロイダルパターンである、請求項4に記載の光照射方法。
- 前記位相パターンが前記基準点を複数含んでおり、
前記第2パターンにおいて、各基準点を中心とする位相変化は各基準点毎に個別に設定されている、請求項4または5に記載の光照射方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014206373A JP6355515B2 (ja) | 2014-10-07 | 2014-10-07 | 光照射装置及び光照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014206373A JP6355515B2 (ja) | 2014-10-07 | 2014-10-07 | 光照射装置及び光照射方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016075810A JP2016075810A (ja) | 2016-05-12 |
JP6355515B2 true JP6355515B2 (ja) | 2018-07-11 |
Family
ID=55951371
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014206373A Active JP6355515B2 (ja) | 2014-10-07 | 2014-10-07 | 光照射装置及び光照射方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6355515B2 (ja) |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04171415A (ja) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Nikon Corp | 長焦点深度高分解能照射光学系 |
JPH10227992A (ja) * | 1997-02-15 | 1998-08-25 | Canon Inc | ベッセルビーム発生方法及びそれを用いた光走査装置 |
JP3350442B2 (ja) * | 1998-04-09 | 2002-11-25 | 科学技術振興事業団 | 顕微鏡システム |
JP3920487B2 (ja) * | 1999-02-25 | 2007-05-30 | 株式会社リコー | 光走査装置 |
JP2004138906A (ja) * | 2002-10-18 | 2004-05-13 | Hamamatsu Photonics Kk | 光ピンセット装置 |
JP4647965B2 (ja) * | 2004-10-22 | 2011-03-09 | 株式会社リコー | レーザ加工方法及びレーザ加工装置及びにこれよって作製された構造体 |
US7330255B2 (en) * | 2004-12-09 | 2008-02-12 | University Of Chicago | Total internal reflection fluorescence apparatus |
JP4483793B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2010-06-16 | セイコーエプソン株式会社 | 微細構造体の製造方法及び製造装置 |
US8749793B2 (en) * | 2011-01-28 | 2014-06-10 | Bwt Property, Inc. | Apparatus and methods for performing Raman spectroscopy in scattering medium |
WO2014117079A1 (en) * | 2013-01-25 | 2014-07-31 | The Trustees Of Columbia University In The City Of New York | Depth of field 3d imaging slm microscope |
-
2014
- 2014-10-07 JP JP2014206373A patent/JP6355515B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2016075810A (ja) | 2016-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20180161923A1 (en) | Light modulation control method, control program, control device and laser beam irradiation device | |
CN105103028B (zh) | 成像光学***、照明装置和观察装置 | |
KR102377421B1 (ko) | 스캔 거울과 트랜슬레이션 스테이지를 사용한 플라잉 오버 빔 패턴 스캐닝 홀로그램 현미경 장치 | |
KR102018412B1 (ko) | 광조사 장치 | |
KR101985995B1 (ko) | 위상 변조 방법 및 위상 변조 장치 | |
US20130120563A1 (en) | Image generation device | |
Laskin et al. | Imaging techniques with refractive beam shaping optics | |
US20130100283A1 (en) | Image generation device | |
US9310595B2 (en) | Super-resolution microscope | |
CN108351503B (zh) | 图像取得装置、图像取得方法以及空间光调制单元 | |
JP2010058128A (ja) | レーザ光照射装置およびレーザ光照射方法 | |
US20200137365A1 (en) | Light control device | |
KR20200087781A (ko) | 광 발생 장치, 광 발생 장치를 구비하는 노광 장치, 노광 시스템, 광 발생 방법, 및 노광 포토 레지스트 제조 방법 | |
US9915815B2 (en) | Total internal reflection light illumination device | |
US20200150423A1 (en) | Aberration correction method and optical device | |
JP6355515B2 (ja) | 光照射装置及び光照射方法 | |
JP5322765B2 (ja) | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 | |
JP2011064892A (ja) | 空間光変調装置、及び、それを備えたレーザ照明装置、レーザ顕微鏡 | |
Kenny et al. | Adaptive optimisation of a generalised phase contrast beam shaping system | |
JPWO2009057210A1 (ja) | ホログラム記録装置 | |
JP5973777B2 (ja) | レーザー走査顕微鏡装置 | |
KR102655822B1 (ko) | 공간 변조 스캐너와 트랜슬레이션 스테이지를 사용한 플라잉 오버 빔 패턴 스캐닝 홀로그램 현미경 장치 | |
JP6259491B2 (ja) | 光照射装置、顕微鏡装置、レーザ加工装置、及び光照射方法 | |
KR102655817B1 (ko) | 공간 변조 스캔을 이용한 플라잉 오버 빔 패턴 스캐닝 홀로그램 현미경 장치 | |
Li et al. | Phase Aberration Compensation for Resolution Enhancement in Digital Holographic Microscopy under Structured Illumination |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180530 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180612 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6355515 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |